JPH043674B2 - - Google Patents
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- JPH043674B2 JPH043674B2 JP24281883A JP24281883A JPH043674B2 JP H043674 B2 JPH043674 B2 JP H043674B2 JP 24281883 A JP24281883 A JP 24281883A JP 24281883 A JP24281883 A JP 24281883A JP H043674 B2 JPH043674 B2 JP H043674B2
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- printed wiring
- flexible printed
- heat
- wiring board
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- Structure Of Printed Boards (AREA)
- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
従来フレキシブル印刷配線板としては、ポリエ
ステルフイルムあるいはポリイミドフイルムに接
着剤を介して銅箔をラミネートしたものが用いら
れていた。しかしながら特にポリイミドフイルム
を用いたフレキシブル印刷配線板においては、接
着剤の耐熱性、吸湿性、離燃性によつてフレキシ
ブル印刷配線板の特性が決定されてしまい、ポリ
イミドフイルムが本来有している優れた耐熱性を
十分に発揮できていないという状況である。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Conventionally, flexible printed wiring boards have been made of polyester films or polyimide films laminated with copper foil via an adhesive. However, especially in flexible printed wiring boards using polyimide film, the characteristics of the flexible printed wiring board are determined by the heat resistance, moisture absorption, and flammability of the adhesive, and the inherent superiority of polyimide film is The situation is that the heat resistance is not fully demonstrated.
そこで上記欠点を改良するために、銅箔に直接
ポリイミドワニスあるいはポリアミド酸ワニスを
塗布した後熱処理する方法が試みられたがカール
したり耐折性が不十分であつたりして満足できる
結果が得られていない。 In order to improve the above-mentioned drawbacks, attempts have been made to apply polyimide varnish or polyamic acid varnish directly to the copper foil and then heat treat it, but the results were not satisfactory, with curling and insufficient bending durability. It has not been done.
本発明は接着剤を使用しないことによつて耐熱
性、難燃性に優れたフレキシブル印刷配線板を提
供するものである。 The present invention provides a flexible printed wiring board with excellent heat resistance and flame retardancy by not using an adhesive.
すなわち本発明は耐熱性樹脂ワニス(A)をキヤリ
ヤー上に流延塗布して製造した、溶剤を完全には
とばしていないグリーンフイルム上に、非プロト
ン性溶剤に可溶なPd塩を含有する耐熱性樹脂ワ
ニス(B)を流延塗布し、加熱した後Pd塩含有樹脂
層をエツチングすることによつて回路を形成する
ことを特徴とする可撓性印刷配線板の製造法に関
する。 That is, the present invention is a heat-resistant resin varnish containing a Pd salt soluble in an aprotic solvent on a green film produced by casting a heat-resistant resin varnish (A) on a carrier and in which the solvent is not completely blown off. The present invention relates to a method for manufacturing a flexible printed wiring board, characterized in that a circuit is formed by casting a flexible resin varnish (B), heating it, and then etching the Pd salt-containing resin layer.
本発明に用いる耐熱性樹脂としてはイミド基あ
るいはイミド基の前駆体であるアミド酸構造を有
するものが望ましく、これらの例としてはポリイ
ミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド等
あるいはこれらの前駆体であるポリアミド酸があ
けられるが、ポリイミドあるいはその前駆体であ
るポリアミド酸が特に望ましい。 The heat-resistant resin used in the present invention is preferably one having an amic acid structure which is an imide group or a precursor of an imide group, and examples thereof include polyimide, polyamideimide, polyetherimide, etc., or polyamide which is a precursor of these. Although acids can be used, polyimide or its precursor polyamic acid is particularly desirable.
耐熱性樹脂ワニス(A)、(B)は同一でも異なつてい
てもよいが、耐熱性樹脂ワニス(B)はポリアミド酸
であることが望ましい。 The heat-resistant resin varnishes (A) and (B) may be the same or different, but it is desirable that the heat-resistant resin varnish (B) is polyamic acid.
非プロトン性極性溶剤に可溶なPd塩としては
Li2PdCl4、Pd(S(CH3)2)2Cl2、Pd(S
(CH2CH3)2)2Cl2、Na2PdCl4、PdCl2等が例示さ
れるがLi2PdCl4、Pd(S(CH3)2)2Cl2が望ましい。
Pd塩の濃度は要求される電導度に応じて適宜決
定されるが、通常固形分に対してPd濃度は10重
量%以下さらには5重量%以下で十分である。 As a Pd salt soluble in aprotic polar solvents,
Li 2 PdCl 4 , Pd(S(CH 3 ) 2 ) 2 Cl 2 , Pd(S
(CH 2 CH 3 ) 2 ) 2 Cl 2 , Na 2 PdCl 4 , PdCl 2 and the like are exemplified, but Li 2 PdCl 4 and Pd(S(CH 3 ) 2 ) 2 Cl 2 are preferable.
The concentration of Pd salt is appropriately determined depending on the required conductivity, but it is usually sufficient for the Pd concentration to be 10% by weight or less, further 5% by weight or less, based on the solid content.
耐熱性樹脂ワニス(A)、(B)を流延塗布後加熱乾燥
して製造したグリーンフイルムの乾燥程度は指触
乾燥状態まで乾燥するのが望ましい。 It is desirable that the green film produced by casting heat-resistant resin varnishes (A) and (B) and then heating and drying is dry to the touch.
耐熱性樹脂ワニス(A)、(B)より製造したフイルム
の各層の厚さは目的、用途によつて自由に調整し
うるが通常は1〜50μ程度が好ましい。 The thickness of each layer of the film produced from the heat-resistant resin varnishes (A) and (B) can be freely adjusted depending on the purpose and use, but is usually preferably about 1 to 50 microns.
上記の方法によつて製造した複合フイルムはキ
ヤリヤ付のまま、あるいはキヤリヤよりはがした
後、残溶媒の除去及び閉環のために加熱処理を行
なう。加熱処理を行なう。加熱処理の温度はポリ
アミド酸の閉環が起る温度以上であればよいが、
200℃以上が望ましく、300℃以上がさらに望まし
い。 The composite film produced by the above method is heat-treated to remove residual solvent and to close the ring, either with the carrier attached or after being peeled off from the carrier. Perform heat treatment. The temperature of the heat treatment may be at least the temperature at which ring closure of the polyamic acid occurs, but
A temperature of 200°C or higher is desirable, and a temperature of 300°C or higher is even more desirable.
回路形成の方法は熱処理して得た複合ポリイミ
ドフイルムの両面にエツチングレジストをラミネ
ートした後、Pd含有層側に紫外線等の照射によ
つて回路を描いた後塩酸等の酸でエツチングした
後ヒドラジンまたはアルカリでエツチングするか
あるいはドライエツチングによつて回路となる
Pd含有層を残す。 The circuit formation method is to laminate etching resist on both sides of a composite polyimide film obtained by heat treatment, draw a circuit on the Pd-containing layer side by irradiating it with ultraviolet rays, etching it with an acid such as hydrochloric acid, and then applying hydrazine or hydrazine. A circuit is formed by etching with alkali or dry etching.
Leave a Pd-containing layer.
本発明の方法によつて得たフレキシブル印刷配
線板は、さらに無電解メツキあるいは電気メツキ
ほどこして導電性を向上させてもよい。 The flexible printed wiring board obtained by the method of the present invention may be further subjected to electroless plating or electroplating to improve its conductivity.
以上、実施例により本発明をさらに詳しく説明
するが、本発明はこれら実施例に限定されるもの
ではない。 The present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
実施例 1
ピロメリツト酸二無水物とジアミノジフエニル
エーテルとより得た樹脂分15%のポリアミド酸の
ジメチルアセトアミドワニスをアプリケータを用
いてガラス板上に流延塗布した後、100℃で15分
間乾燥してグリーンフイルムを得た。Example 1 A polyamic acid dimethylacetamide varnish with a resin content of 15% obtained from pyromellitic dianhydride and diaminodiphenyl ether was cast onto a glass plate using an applicator, and then dried at 100°C for 15 minutes. and got a green film.
ベンゾフエノンテトラカルボン酸二無水物とジ
アミノジフエニルエーテルとより得た樹脂分20%
のポリアミド酸のジメチルアセトアミドワニス中
にPd(S(CH3)2)Cl2をPd濃度5重量%になる様
に混合して得たワニスを前記グリーンフイルム上
に流延塗布した後、100℃、15分間乾燥した。 20% resin obtained from benzophenonetetracarboxylic dianhydride and diaminodiphenyl ether
A varnish obtained by mixing Pd(S(CH 3 ) 2 ) Cl 2 in dimethylacetamide varnish of polyamic acid at a Pd concentration of 5% by weight was cast onto the green film, and then heated at 100°C. , dried for 15 minutes.
得られた複合フイルムをガラス板上よりはずし
た後、金属枠に固定し、200℃30分、300℃30分間
熱処理して複合ポリイミドフイルムを得た。 The obtained composite film was removed from the glass plate, fixed on a metal frame, and heat treated at 200°C for 30 minutes and at 300°C for 30 minutes to obtain a composite polyimide film.
複合ポリイミドフイルムの両面にエツチングレ
ジストをラミネートした後、Pd含有層側にフオ
トマスクを重ねて、紫外線照射した後現像した。
塩酸水溶液でエツチングした後さらにヒドラジン
水溶液を用いてエツチングを行ない、回路を形成
することによつてフレキシブル印刷配線板を得
た。 After laminating etching resist on both sides of the composite polyimide film, a photomask was placed on the Pd-containing layer side, and the film was exposed to ultraviolet light and developed.
A flexible printed wiring board was obtained by etching with an aqueous hydrochloric acid solution and further etching with an aqueous hydrazine solution to form a circuit.
得られたフレキシブル印刷配線板の回路部の体
積抵抗率は105Ωcm以下であり、はんだ耐熱性は
300℃以上であり、またMIT法による耐折性は
500回以上であつた。 The volume resistivity of the circuit part of the obtained flexible printed wiring board was less than 10 5 Ωcm, and the soldering heat resistance was
300℃ or more, and the folding durability according to the MIT method is
It was over 500 times.
比較例 1
実施例1によつて得たグリーンフイルムをガラ
ス板上よりはがし、金属枠に固定して200℃30分
間熱処理してポリイミドフイルムを得た。Comparative Example 1 The green film obtained in Example 1 was peeled off from a glass plate, fixed on a metal frame, and heat treated at 200°C for 30 minutes to obtain a polyimide film.
このフイルムにエポキシ系接着剤を用いて銅箔
をラミネートした後、エツチングによつて回路加
工して得たフレキシブル印刷配線板のはんだ耐熱
性は300℃以下であり、耐折性は200回以下であつ
た。 This film is laminated with copper foil using an epoxy adhesive, and then etched to form a circuit.The resulting flexible printed wiring board has a soldering heat resistance of 300°C or less, and a folding resistance of 200 times or less. It was hot.
実施例 2
ピロメリツト酸二無水物とジアミノジフエニル
エーテルとより得た樹脂分15%のポリアミド酸の
ジメチルアセトアミドワニスをアプリケータを用
いてガラス板上に流延塗布した後、100℃で15分
間乾燥してグリーンフイルムを得た。Example 2 A polyamic acid dimethylacetamide varnish with a resin content of 15% obtained from pyromellitic dianhydride and diaminodiphenyl ether was cast onto a glass plate using an applicator, and then dried at 100°C for 15 minutes. and got a green film.
ベンゾフエノンテトラカルボン酸二無水物とジ
アミノジフエニルエーテルをより得た樹脂分20%
のポリアミド酸のジメチルアセトアミドワニス中
にLi2PdCl4をPd濃度5重量%になる様に混合し
て得たワニスを前記グリーンフイルム上に流延塗
布した後、100℃、15分間乾燥した。 20% resin obtained from benzophenonetetracarboxylic dianhydride and diaminodiphenyl ether
A varnish obtained by mixing Li 2 PdCl 4 in dimethylacetamide varnish of polyamic acid at a Pd concentration of 5% by weight was cast onto the green film and dried at 100° C. for 15 minutes.
得られた複合フイルムをガラス板上よりはずし
た後、金属枠に固定し、200℃30分、300℃30分間
熱処理して複合ポリイミドフイルムを得た。 The obtained composite film was removed from the glass plate, fixed on a metal frame, and heat treated at 200°C for 30 minutes and at 300°C for 30 minutes to obtain a composite polyimide film.
複合ポリイミドフイルムの両面にエツチングレ
ジストをラミネートした後、Pd含有層側にフオ
トマスクを重ねて、紫外線照射した後、現像し
た。アルゴンイオンビームを用いてエツチングを
行ない、回路を形成することによつてフレキシブ
ル印刷配線板を得た。 After laminating etching resist on both sides of the composite polyimide film, a photomask was placed on the Pd-containing layer side, irradiated with ultraviolet rays, and then developed. A flexible printed wiring board was obtained by etching using an argon ion beam and forming a circuit.
得られたフレキシブル印刷配線板の回路部の体
積抵抗率は5.0×106Ωcmであり、はんだ耐熱性は
300℃以上であり、またMIT法による耐折性は
500回以上であつた。 The volume resistivity of the circuit part of the obtained flexible printed wiring board was 5.0×10 6 Ωcm, and the soldering heat resistance was
300℃ or more, and the folding durability according to the MIT method is
It was over 500 times.
実施例 3
ピロメリツト酸二無水物及びベンゾフエノンテ
トラカルボン酸二無水物とジアミノジフエニルエ
ーテルとより得た樹脂分10%のポリイミドのP−
クロルフエノールワニスをアプリケータを用いて
ガラス板上に流延塗布した後、100℃で30分間乾
燥してグリーンフイルムを得た。Example 3 P- of polyimide with a resin content of 10% obtained from pyromellitic dianhydride, benzophenonetetracarboxylic dianhydride, and diaminodiphenyl ether
Chlorphenol varnish was cast onto a glass plate using an applicator, and then dried at 100°C for 30 minutes to obtain a green film.
ベンゾフエノンテトラカルボン酸二無水物とジ
アミノジフエニルケトンとより得た樹脂分20%の
ポリアミド酸のジメチルアセトアミドワニス中に
Pd(S(CH3)2)2Cl2をPd濃度5重量%になる様に
混合して得たワニスを前記グリーンフイルム上に
流延塗布した後、100℃、15分間乾燥した。 In dimethylacetamide varnish of polyamic acid with a resin content of 20% obtained from benzophenone tetracarboxylic dianhydride and diaminodiphenyl ketone.
A varnish obtained by mixing Pd(S(CH 3 ) 2 ) 2 Cl 2 to a Pd concentration of 5% by weight was cast onto the green film and dried at 100° C. for 15 minutes.
得られた複合フイルムをガラス板上よりはずし
た後、金属枠に固定し、200℃30分、300℃30分間
熱処理して複合ポリイミドフイルムを得た。 The obtained composite film was removed from the glass plate, fixed on a metal frame, and heat treated at 200°C for 30 minutes and at 300°C for 30 minutes to obtain a composite polyimide film.
複合ポリイミドフイルムの両面にエツチングレ
ジストをラミネートした後、Pd含有層側にフオ
トマスクを重ねて、紫外線照射した後、現像し
た。塩酸水溶液でエツチングした後さらにヒドラ
ジン水溶液を用いてエツチングを行ない回路を形
成することによつてフレキシブル印刷配線板を得
た。 After laminating etching resist on both sides of the composite polyimide film, a photomask was placed on the Pd-containing layer side, irradiated with ultraviolet rays, and then developed. A flexible printed wiring board was obtained by etching with an aqueous hydrochloric acid solution and then etching with an aqueous hydrazine solution to form a circuit.
得られたフレキシブル印刷配線板の回路部の体
積抵抗率は4.2×107Ωcmであり、はんだ耐熱性は
300℃以上であり、またMIT法による耐折性は
500回以上であつた。 The volume resistivity of the circuit part of the obtained flexible printed wiring board was 4.2×10 7 Ωcm, and the soldering heat resistance was
300℃ or more, and the folding durability according to the MIT method is
It was over 500 times.
実施例 4
ピロメリツト酸二無水物とジアミノジフエニル
エーテルとより た樹脂分15%のポリアミド酸の
ジメチルアセトアミドワニスをアプリケータを用
いてガラス板上に流延塗布した後、100℃で15分
間乾燥してグリーンフイルムを得た。Example 4 A polyamic acid dimethylacetamide varnish containing pyromellitic dianhydride and diaminodiphenyl ether with a resin content of 15% was cast onto a glass plate using an applicator, and then dried at 100°C for 15 minutes. I got a green film.
ピロメリツト酸二無水物とジアミノジフエニル
カルビノールとより得た樹脂分20%のポリアミド
酸のジメチルアセトアミドワニスにLi2PdCl4を
Pd濃度5重量%になる様に混合して得たワニス
を前記グリーンフイルム上に流延塗布した後、
100℃、15分間乾燥した。 Add Li 2 PdCl 4 to dimethylacetamide varnish of polyamic acid with a resin content of 20% obtained from pyromellitic dianhydride and diaminodiphenyl carbinol.
After casting a varnish obtained by mixing the Pd concentration to 5% by weight on the green film,
It was dried at 100°C for 15 minutes.
得られた複合フイルムをガラス板上よりはずし
た後、金属枠に固定し、200℃30分、300℃30分間
熱処理して複合ポリイミドフイルムを得た。 The obtained composite film was removed from the glass plate, fixed on a metal frame, and heat treated at 200°C for 30 minutes and at 300°C for 30 minutes to obtain a composite polyimide film.
複合ポリイミドフイルムの両面にエツチングレ
ジストをラミネートした後、Pd含有層側にフオ
トマスクを重ねて、紫外線照射した後、現像し
た。塩酸水溶液でエツチングした後さらにKOH
水溶液を用いてエツチングを行ない、回路を形成
することによつてフレキシブル印刷配線板を得
た。 After laminating etching resist on both sides of the composite polyimide film, a photomask was placed on the Pd-containing layer side, irradiated with ultraviolet rays, and then developed. After etching with hydrochloric acid aqueous solution, further KOH
A flexible printed wiring board was obtained by etching using an aqueous solution and forming a circuit.
得られたフレキシブル印刷配線板の回路部の体
積抵抗率は5.2×1011Ωcmであり、はんだ耐熱性
は300℃以上であり、またMIT法による耐折性は
500回以上であつた。 The volume resistivity of the circuit part of the obtained flexible printed wiring board was 5.2 × 10 11 Ωcm, the soldering heat resistance was 300°C or higher, and the folding durability according to the MIT method was 5.2 × 10 11 Ωcm.
It was over 500 times.
Claims (1)
布して製造した、溶剤を完全にはとばしていない
グリーンフイルム上に非プロトニ性極性溶剤に可
溶なPd塩を含有する耐熱性樹脂ワニス(B)を流延
塗布し、加熱した後、Pd塩含有樹脂層をエツチ
ングすることによつて回路を形成することを特徴
とする可撓性印刷配線板の製造法。 2 耐熱性樹脂ワニス(A)、(B)がポリアミド酸ワニ
スであることを特徴とする特許請求の範囲第1項
記載の可撓性印刷配線板の製造法。 3 耐熱性樹脂ワニス(A)がポリイミドワニスであ
ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
可撓性印刷配線板の製造法。 4 非プロトン性極性溶媒に可溶なPd塩が
Li2PdCl4あるいはPd(S(CH3)2)2Cl2であること
を特徴とする特許請求の範囲第1項、第2項又は
第3項記載の可撓性印刷配線板の製造法。[Claims] 1. A Pd salt soluble in an aprotonic polar solvent is placed on a green film produced by casting a heat-resistant resin varnish (A) on a carrier and on which the solvent has not been completely blown off. A method for producing a flexible printed wiring board, characterized in that a circuit is formed by casting a heat-resistant resin varnish (B) containing the Pd salt, heating it, and then etching the Pd salt-containing resin layer. 2. The method for producing a flexible printed wiring board according to claim 1, wherein the heat-resistant resin varnishes (A) and (B) are polyamic acid varnishes. 3. The method for producing a flexible printed wiring board according to claim 1, wherein the heat-resistant resin varnish (A) is a polyimide varnish. 4 Pd salts soluble in aprotic polar solvents
The method for producing a flexible printed wiring board according to claim 1, 2 or 3, characterized in that the material is Li 2 PdCl 4 or Pd(S(CH 3 ) 2 ) 2 Cl 2 .
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24281883A JPS60133786A (en) | 1983-12-21 | 1983-12-21 | Method of producing flexible printed circuit board |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24281883A JPS60133786A (en) | 1983-12-21 | 1983-12-21 | Method of producing flexible printed circuit board |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60133786A JPS60133786A (en) | 1985-07-16 |
| JPH043674B2 true JPH043674B2 (en) | 1992-01-23 |
Family
ID=17094744
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24281883A Granted JPS60133786A (en) | 1983-12-21 | 1983-12-21 | Method of producing flexible printed circuit board |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60133786A (en) |
-
1983
- 1983-12-21 JP JP24281883A patent/JPS60133786A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60133786A (en) | 1985-07-16 |
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