JPH044531B2 - - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はロータリーエンコーダ用磁気デイスク
の製造方法に関し、特に、スパタリング蒸着法に
よりデイスク状基板上に均一な厚みの磁性薄膜を
形成するロータリーエンコーダ用磁気デイスクの
製造方法に関するものである。[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a method for manufacturing a magnetic disk for a rotary encoder, and in particular, a method for manufacturing a magnetic disk for a rotary encoder, in which a magnetic thin film of uniform thickness is formed on a disk-shaped substrate by a sputtering deposition method. The present invention relates to a method of manufacturing a magnetic disk.
従来のロータリーエンコーダ用の磁気デイスク
には、磁性粉を円板状に焼結加工にするか、磁性
合金を円板状に加工するかして、磁気デイスク2
1の全体を磁性材料で構成し、第4図a,bのよ
うに、磁気デイスク21の側面、または表面周縁
部に所定の間隔に着磁して磁気パターン23を形
成したものが知られている。
Conventional magnetic disks for rotary encoders are made by sintering magnetic powder into a disk shape or by processing a magnetic alloy into a disk shape.
1 is made entirely of a magnetic material, and as shown in FIGS. 4a and 4b, a magnetic disk 21 has magnetic patterns 23 formed by magnetizing the side surface or the periphery of the surface at predetermined intervals, as shown in FIGS. There is.
しかしながら、一般に磁性材料は高価であると
ともに硬度が大きく加工しにくい材料であるた
め、前記磁気デイスク21の全体を磁性材料で形
成した前記のものにあつては、高価となるととも
に、製造が困難で量産性に乏しいという問題点を
有していた。 However, since magnetic materials are generally expensive, hard and difficult to process, the magnetic disk 21 made entirely of magnetic material is expensive and difficult to manufacture. The problem was that it was not suitable for mass production.
これに対し、アルミニウム等の加工が容易な材
料で円板状のデイスク状基板22を形成し、この
デイスク状基板22に、サマリウムコバルトやネ
オジウム等の稀土類元素を主成分とした磁性粉を
樹脂バインダーに混入した磁性塗料24を塗設し
て磁気デイスク21を形成し、この磁性塗料24
を塗設した磁気デイスク21の側面、または表面
周縁部に、第5図a,bに示すように所定の間隔
に着磁して磁気パターン23を形成したものが知
られている。 On the other hand, a disk-shaped substrate 22 is formed of a material that is easy to process, such as aluminum, and a magnetic powder containing rare earth elements such as samarium cobalt and neodymium as a main component is applied to the disk-shaped substrate 22. A magnetic paint 24 mixed in a binder is applied to form a magnetic disk 21, and this magnetic paint 24 is coated to form a magnetic disk 21.
It is known that magnetic patterns 23 are formed on the side surface or peripheral edge of the surface of a magnetic disk 21 coated with a magnetic disk 21 by magnetizing it at predetermined intervals as shown in FIGS. 5a and 5b.
上記のようにデイスク状基板22の表面に磁性
塗料24を塗設した磁気デイスク21にあつて
は、全体を磁性材料で形成するものに比べて、安
価で加工性にもすぐれている利点を有している反
面、前記樹脂バインダー中に磁性粉を混入した磁
性塗料24から形成される磁性層が高温に弱く温
度特性が悪くなるという問題点を有していた。 As described above, the magnetic disk 21 in which the magnetic paint 24 is coated on the surface of the disk-shaped substrate 22 has the advantage that it is cheaper and has better workability than a disk made entirely of magnetic material. However, there is a problem in that the magnetic layer formed from the magnetic paint 24 in which magnetic powder is mixed into the resin binder is sensitive to high temperatures and has poor temperature characteristics.
そして、上記のそれぞれのもつ問題点を解消す
るために、スパタリング蒸着によつて、強磁性材
料の磁性薄膜をデイスク状基板表面に設ける方法
に着目して検討を加えた。 In order to solve each of the above-mentioned problems, we focused on a method of forming a magnetic thin film of ferromagnetic material on the surface of a disk-shaped substrate by sputtering deposition.
上記スパタリング蒸着法は、基板と磁性薄膜と
の付着力が大きく、また、強磁性材料の合金をそ
の合金成分を大きく変化させることなく基板上に
付着させることができる利点を有する方法であ
り、本発明者等は、スパタリング蒸着法の中でも
イオンの生成効率にすぐれたマグネトロンスパタ
リング法を検討し、中でも最も一般的な平板型
(プレーナ型)について検討を加えた。 The above-mentioned sputtering vapor deposition method has the advantage that the adhesion force between the substrate and the magnetic thin film is large and that the alloy of ferromagnetic materials can be deposited on the substrate without significantly changing the alloy composition. The inventors investigated the magnetron sputtering method, which has excellent ion generation efficiency among sputtering vapor deposition methods, and investigated the most common type among them, the planar type.
平板型のマグネトロンスパタリング法にあつて
は、第6図a,bに示すように構成されていて、
第6図aにはターゲツト33に非磁性材料を使用
した場合の作用を示し、第6図bにはターゲツト
33に強磁性材料を使用した場合の作用について
示してある。 In the flat plate type magnetron sputtering method, the structure is as shown in FIGS. 6a and 6b,
FIG. 6a shows the effect when a non-magnetic material is used for the target 33, and FIG. 6b shows the effect when a ferromagnetic material is used for the target 33.
まず、第6図aに示されるものにあつては、非
磁性材料からなるターゲツト33の下面に、ター
ゲツト33の上面側に磁力線35がアーチを形成
するようにS極とN極とが所定の間隔を有する磁
石34を配設し、前記ターゲツト33の上方から
下方に垂直に電場37を形成するようにセツトし
て、アルゴン等の放電ガス38の雰囲気下におい
て、ターゲツト33から生成される電子を前記磁
力線35が示す磁場36の内部に効率よく捕捉
し、この電子によつて前記放電ガス38を電離し
て形成する正イオンの生成効率を向上し、多重の
正イオンをターゲツト33に衝突させてスパタリ
ング蒸着するものである。 First, in the case shown in FIG. 6a, the S pole and the N pole are arranged on the lower surface of the target 33 made of a non-magnetic material so that the magnetic lines of force 35 form an arch on the upper surface side of the target 33. Magnets 34 are arranged at intervals and set to form an electric field 37 vertically from above to below the target 33, and in an atmosphere of a discharge gas 38 such as argon, electrons generated from the target 33 are The positive ions that are efficiently trapped inside the magnetic field 36 indicated by the magnetic lines of force 35 and ionize the discharge gas 38 by the electrons are improved in production efficiency, and multiple positive ions are made to collide with the target 33. It is deposited by sputtering.
一方、第6図bに示すターゲツト33として強
磁性材料を用いたものの場合には、ターゲツト3
3の下面に設けた磁石34とターゲツト33との
間で磁気回路がシヨートして、ターゲツト33の
上面に磁場36が形成されないため、上記のよう
なターゲツト33から生成される電子を捕捉でき
ず、スパタリング蒸着による磁性薄膜の生成効率
が悪いとともに、ターゲツト33で反射された電
子が基板上に一端形成された磁性薄膜に衝突して
磁性薄膜を破損してしまい、ロータリーエンコー
ダ用磁気デイスクの製造方法には適用できないも
のであつた。 On the other hand, in the case where a ferromagnetic material is used as the target 33 shown in FIG.
Since the magnetic circuit is shot between the magnet 34 provided on the lower surface of the target 33 and the magnetic field 36 is not formed on the upper surface of the target 33, the electrons generated from the target 33 as described above cannot be captured. The production efficiency of the magnetic thin film by sputtering deposition is poor, and the electrons reflected by the target 33 collide with the magnetic thin film formed on the substrate, damaging the magnetic thin film. was not applicable.
本発明は上記のようなもののもつ従来のものの
もつ問題点を解決したものであつて、磁気デイス
ク全体を磁性材料で構成するよりも加工性にすぐ
れ、温度特性が良好で安価に製造できるととも
に、強磁性材料をターゲツトとしたスパタリング
蒸着法によつて均一な厚みの磁性薄膜を形成し、
均一で高品質な磁性薄膜を有すつ製品を大量生産
することができるロータリーエンコーダ用磁気デ
イスクの製造方法を提供することを目的としてい
る。 The present invention solves the problems of the conventional disks as described above, and has superior workability, better temperature characteristics, and can be manufactured at a lower cost than when the entire magnetic disk is made of magnetic material. A magnetic thin film with a uniform thickness is formed by sputtering deposition using a ferromagnetic material as a target.
The object of the present invention is to provide a method for manufacturing a magnetic disk for a rotary encoder, which allows mass production of products having a uniform and high-quality magnetic thin film.
上記の目的を達成するために本発明は、所定の
間隔で対向して配設される一対の強磁性材料から
なるターゲツト間に、磁場と電場とを同時に作用
させてスパタリング蒸着する対向ターゲツト式ス
パタリング装置の、前記ターゲツト間の側方に、
複数のデイスク状基板をその中心が一方の軸心
(X軸)上に位置させて詰み重ねて略円柱体を形
成し、前記略円柱体を、前記一方の軸心(X軸)
を中心として回転させるとともに、前記一方の軸
心(X軸)を通り、ターゲツト間に伸びる軸を他
方の軸心(Y軸)として、その他方の軸心(Y
軸)を中心として回転させ、さらに、前記他方の
軸心(Y軸)を偏心回転させながらスパタリング
蒸着する手段を有している。
In order to achieve the above object, the present invention provides a facing target sputtering method in which a magnetic field and an electric field are simultaneously applied between a pair of targets made of ferromagnetic materials that are disposed facing each other at a predetermined interval to perform sputtering deposition. on the side of the device between the targets;
A plurality of disk-shaped substrates are stacked one on top of the other with their centers located on one axis (X-axis) to form a substantially cylindrical body, and the substantially cylindrical body is aligned with the one axis (X-axis).
At the same time, the axis passing through the one axis (X axis) and extending between the targets is set as the other axis (Y axis), and the other axis (Y axis) is rotated.
It has means for performing sputtering deposition while rotating the other axis (Y-axis) eccentrically.
本発明は上記の手段を採用したことにより、複
数のデイスク状基板上の少なくとも側面に同時に
強磁性材料の磁性薄膜を形成できるとともに、こ
の複数のデイスク状基板上に同時に形成される磁
性薄膜が均一な厚みに形成されることとなる。
By employing the above-mentioned means, the present invention can simultaneously form magnetic thin films of ferromagnetic material on at least the side surfaces of a plurality of disk-shaped substrates, and the magnetic thin films simultaneously formed on the plurality of disk-shaped substrates are uniform. It is formed to have a certain thickness.
以下、図面に示す本発明の実施例について説明
する。
Embodiments of the present invention shown in the drawings will be described below.
第1図a,b,cには本発明によるロータリー
エンコーダ用磁気デイスクの製造方法に用いる対
向ターゲツト式スパタリング装置が示されてい
て、この装置は、図示しない真空槽の内部に、
FeCrCo合金等の強磁性材料からなる一対のター
ゲツト3,3を所定の間隔で上下方向に対向して
配設するとともに、この対向する一対のターゲツ
ト3,3の表面にそれぞれ垂直な磁力線5を有す
る磁場6を形成するように、前記各ターゲツト
3,3の対向面の反対側に一対の磁石4,4がそ
れぞれ配設されている。 FIGS. 1a, b, and c show an opposed target sputtering device used in the method of manufacturing a magnetic disk for a rotary encoder according to the present invention.
A pair of targets 3, 3 made of a ferromagnetic material such as FeCrCo alloy are disposed vertically opposite each other at a predetermined interval, and magnetic lines of force 5 are perpendicular to the surfaces of the pair of opposing targets 3, 3, respectively. A pair of magnets 4, 4 are disposed on opposite sides of the opposing surfaces of the targets 3, 3, respectively, so as to form a magnetic field 6.
また、前記ターゲツト3,3間の側方には、第
1図a,bに示すようにアルミニウム等の加工性
が良好な材料を円板状に形成したデイスク状基板
2の複数枚(図面では15枚)を、それぞれ所定の
間隔をおいてその中心が一方の軸心(以下、X軸
という)上に位置させて詰み重ね、その複数のデ
イスク状基板2全体で略円柱体2´を形成し、こ
の略円柱体2′を、前記X軸を中心として回転可
能とするとともに、前記X軸を通り、ターゲツト
3,3間に伸びる軸を他方の軸心(以下、Y軸と
いう)を中心として回転可能とし、さらに、前記
Y軸を、第1図cに示すようなY軸の軌跡を描く
ように偏心回転が可能なようになつている。 Furthermore, on the sides between the targets 3 and 3, as shown in FIGS. (15 sheets) are stacked one on top of the other at a predetermined interval with their centers located on one axis (hereinafter referred to as the This substantially cylindrical body 2' is made rotatable around the X-axis, and an axis passing through the X-axis and extending between the targets 3 and 3 is centered around the other axis (hereinafter referred to as the Y-axis). Furthermore, the Y-axis can be eccentrically rotated so as to draw a trajectory of the Y-axis as shown in FIG. 1c.
また、このデイスク状基板2の前記ターゲツト
3,3の反対側には前記デイスク状基板2の加熱
用のランプヒータ9が配設され、さらに、全体を
図示しない真空ポンプにより減圧して放電ガス8
雰囲気を形成可能とするとともに、前記一対のタ
ーゲツト3,3間に矢印の方向に電場7を形成し
てスパタリング蒸着が可能となつている。 Further, a lamp heater 9 for heating the disk-shaped substrate 2 is disposed on the opposite side of the disk-shaped substrate 2 from the targets 3, 3, and the entire body is depressurized by a vacuum pump (not shown) to discharge a discharge gas 8.
It is possible to form an atmosphere and to form an electric field 7 between the pair of targets 3 in the direction of the arrow to perform sputtering deposition.
前記上記デイスク状基板2は、アルミニウム等
の非磁性材料であつても、磁性材料であつてもよ
く安価で加工し易い材料を適宜に選択することが
できる。 The disk-shaped substrate 2 may be made of a non-magnetic material such as aluminum or a magnetic material, and a material that is inexpensive and easy to process can be appropriately selected.
次に、上記のものの作用について説明する。 Next, the operation of the above will be explained.
上記のように構成した対向ターゲツト式スパタ
リング装置において、装置内を図示しない真空ポ
ンプにより所定の減圧状態とするとともに、放電
ガス8雰囲気とし、さらに、前記ターゲツト3,
3間に磁場6と電場7を同時に作用するようにセ
ツトし、スパタリングを開始すると、まず、前記
ターゲツト3,3から電子10が放出され、この
電子10は前記磁場6と電場7とによつて前記タ
ーゲツト3,3間に効率よく捕捉されて閉じ込め
られるとともに、前記磁力線5の回りをサイクロ
イド運動しながら前記ターゲツト3,3を往復運
動し、放電ガス8を電離して多くの正イオンを生
成し、この正インオンが前記ターゲツト3,3に
衝突して強磁性材料からなるターゲツト3,3か
ら薄膜形成原子を生成する。 In the facing target type sputtering apparatus configured as described above, the inside of the apparatus is brought into a predetermined reduced pressure state by a vacuum pump (not shown), a discharge gas 8 atmosphere is created, and the target 3,
When sputtering is started by setting the magnetic field 6 and the electric field 7 to act simultaneously between the targets 3 and 3, electrons 10 are first emitted from the targets 3, and these electrons 10 are emitted by the magnetic field 6 and the electric field 7. It is efficiently captured and confined between the targets 3, 3, and moves the targets 3, 3 in a cycloidal motion around the magnetic lines of force 5, ionizing the discharge gas 8 and generating many positive ions. The positive ions collide with the targets 3, 3 to generate thin film forming atoms from the targets 3, 3 made of ferromagnetic material.
一方、前記ターゲツト3,3間の側方には、15
枚のデイスク状基板2で形成する略円柱体2′が、
前記X軸を中心として回転するとともに、前記Y
軸を中心として回転し、さらに前記Y軸が偏心回
転しているので、前記一対のターゲツト3,3か
ら出た強磁性材料からなる薄膜形成原子が、前記
15枚のデイスク状基板2の各側面および各表面周
縁部に均一に付着し、第2図に示すように15枚の
デイスク状基板2上に強磁性材料からなる磁性薄
膜12が均一な厚みで同時に形成され、高品質な
磁気デイスク1が一度に大量に製造されることと
なる。 On the other hand, on the side between the targets 3 and 3, 15
A substantially cylindrical body 2' formed of two disc-shaped substrates 2 is
While rotating around the X axis, the Y
Since the target rotates around the axis and the Y-axis rotates eccentrically, the atoms forming the thin film made of ferromagnetic material coming out of the pair of targets 3, 3 are
The magnetic thin film 12 made of a ferromagnetic material is uniformly adhered to each side surface and the peripheral edge of each surface of the 15 disk-shaped substrates 2, as shown in FIG. A large number of high-quality magnetic disks 1 can be manufactured at the same time.
そして、上記で得られた磁気デイスク1の磁性
薄膜12に第3図a,b,cに示すように所定の
着磁ピツチを有する磁気パターン11を形成して
ロータリーエンコーダとして利用することができ
る。 Then, a magnetic pattern 11 having a predetermined magnetization pitch is formed on the magnetic thin film 12 of the magnetic disk 1 obtained above, as shown in FIGS. 3a, b, and c, so that it can be used as a rotary encoder.
上記第3図aに示すものは、磁気デイスク1の
側面と表面周縁部の両方の磁性薄膜12に着磁し
たものであり、第3図bに示すものは、磁気デイ
スク1の側面の磁性薄膜12のみに着磁したもの
であり、第3図cに示すものは、磁気デイスク1
の表面周縁部の磁性薄膜12のみに着磁したもの
であり、本発明の方法においては、いずれのもの
を採用することもできる。 The one shown in FIG. 3a above has the magnetic thin film 12 on both the side surface and the peripheral edge of the magnetic disk 1 magnetized, and the one shown in FIG. 3b has the magnetic thin film 12 on the side surface of the magnetic disk 1 magnetized. The one shown in FIG.
Only the magnetic thin film 12 at the peripheral edge of the surface of the magnetic thin film 12 is magnetized, and any of these can be employed in the method of the present invention.
本発明は上記の方法を用いたことにより、デイ
スク状基板2として安価で加工性のよい適宜いの
材料を選択できるので全体コストを下げることが
できるとともに、樹脂バインダーを用いないので
温度特性の良好なものが得られ、さらに、平板型
スパタリングに比べて、スパタリング蒸着の効率
を向上でき、複数のデイスク状基板に同時に均一
な厚みの磁性薄膜を形成できて高品質なロータリ
ーエンコーダ製品を大量に製造できることにな
る。 By using the method described above, the present invention can select an appropriate material that is inexpensive and has good workability for the disk-shaped substrate 2, thereby reducing the overall cost, and since no resin binder is used, it has good temperature characteristics. In addition, compared to flat plate sputtering, the efficiency of sputtering deposition can be improved, and magnetic thin films of uniform thickness can be formed on multiple disk-shaped substrates at the same time, making it possible to mass produce high-quality rotary encoder products. It will be possible.
本発明は上記のような手段としたことにより、
平板型スパタリングに比べて、スパタリング蒸着
の効率を向上でき、複数のデイスク状基板上に同
時に均一な厚みの磁性薄膜を形成できて高品質の
磁気デイスクを量産できるとともに、デイスク状
基板として安価で加工性のよい適宜の材料を選択
できるので全体のコストを下げることができ、樹
脂バインダーを用いないので温度特性の良好な磁
気デイスクが得られるなどのすぐれた効果を有す
るものである。
By adopting the above-mentioned means, the present invention has the following features:
Compared to flat plate sputtering, the efficiency of sputtering deposition can be improved, and magnetic thin films of uniform thickness can be formed on multiple disc-shaped substrates at the same time, making it possible to mass produce high-quality magnetic discs, and processing the disc-shaped substrates at low cost. Since an appropriate material with good properties can be selected, the overall cost can be reduced, and since a resin binder is not used, a magnetic disk with good temperature characteristics can be obtained.
第1図a,b,cは本発明によるロータリーエ
ンコーダ用磁気デイスクの製造方法に用いる対向
ターゲツト式スパタリング装置を示し、第1図a
は概略説明図、第1図bは第1図aのA−A線で
切断して矢視方向に見た図、第1図cは第1図a
のB方向から見た説明図、第2図は本発明により
製造された磁気デイスクの斜視図、第3図a,
b,cはそれぞれ第2図の磁気デイスクに異なる
タイプの磁気パターンを着磁した磁気デイスクの
斜視図、第4図a,bは従来の一製造方法によつ
て製造された磁気デイスクに異なるタイプの磁気
パターンを着磁した磁気デイスクの斜視図、第5
図a,bは従来の他の製造方法によつて製造され
た磁気デイスクに異なるタイプの磁気パターンを
着磁した磁気デイスクの斜視図、第6図a,bは
従来のスパタリング装置の作用説明図を示し、第
6図aはターゲツトとして非磁性材料を用いたと
きの作用を示す説明図、第6図bはターゲツトと
して磁性材料を用いたときの作用を示す説明図で
ある。
1,21……磁気デイスク、2,22……デイ
スク状基板、2′……略円柱体、3,33……タ
ーゲツト、4,34……磁石、5,35……磁力
線、6,36……磁場、7,37……電場、8,
38……放電ガス、9……ランプヒータ、10…
…電子、11,23……磁気パターン、12……
磁性薄膜、24……磁性塗料、X軸……一方の軸
心、Y軸……他方の軸心。
Figures 1a, b, and c show an opposed target sputtering device used in the method of manufacturing a magnetic disk for a rotary encoder according to the present invention;
is a schematic explanatory drawing, FIG. 1b is a view taken along line A-A in FIG. 1a and seen in the arrow direction, FIG. 1c is a diagram showing FIG. 1a
FIG. 2 is a perspective view of a magnetic disk manufactured according to the present invention, FIG. 3 a,
b and c are perspective views of magnetic disks in which different types of magnetic patterns are magnetized to the magnetic disk in Fig. 2, and Fig. 4 a and b are perspective views of different types of magnetic disks manufactured by one conventional manufacturing method. 5th perspective view of a magnetic disk magnetized with a magnetic pattern of
Figures a and b are perspective views of magnetic disks manufactured by other conventional manufacturing methods and magnetized with different types of magnetic patterns, and Figures 6 a and b are explanatory diagrams of the operation of a conventional sputtering device. FIG. 6a is an explanatory view showing the effect when a non-magnetic material is used as the target, and FIG. 6b is an explanatory view showing the effect when a magnetic material is used as the target. 1, 21... Magnetic disk, 2, 22... Disc-shaped substrate, 2'... Approximately cylindrical body, 3, 33... Target, 4, 34... Magnet, 5, 35... Lines of magnetic force, 6, 36... ...Magnetic field, 7,37...Electric field, 8,
38...Discharge gas, 9...Lamp heater, 10...
...electron, 11,23...magnetic pattern, 12...
Magnetic thin film, 24...magnetic paint, X axis...one axis, Y axis...the other axis.
Claims (1)
一対の強磁性材料からなるターゲツト間に、磁場
と電場とを同時に作用させてスパタリング蒸着す
る対向ターゲツト式スパタリング装置の、前記タ
ーゲツト間の側方に、複数のデイスク状基板をそ
の中心が一方の軸心(X軸)上に位置させて積み
重ねて略円柱体を形成し、前記略円柱体を、前記
一方の軸心(X軸)を中心として回転させるとと
もに、前記一方の軸心(X軸)を通り、ターゲツ
ト間に伸びる軸を他方の軸心(Y軸)として、そ
の他方の軸心(Y軸)を中心として回転させ、さ
らに、前記他方の軸心(Y軸)を偏心回転させな
がらスパタリング蒸着することを特徴とするロー
タリーエンコーダ用磁気デイスクの製造方法。1. The side between the targets of a facing target sputtering apparatus that performs sputtering deposition by simultaneously applying a magnetic field and an electric field between a pair of targets made of ferromagnetic materials arranged vertically opposite each other at a predetermined interval. On the other hand, a plurality of disk-shaped substrates are stacked with their centers located on one axis (X-axis) to form a substantially cylindrical body, and the substantially cylindrical body is stacked with the center thereof positioned on one axis (X-axis). At the same time, the axis passing through the one axis (X axis) and extending between the targets is set as the other axis (Y axis), and the target is rotated around the other axis (Y axis), and . A method for manufacturing a magnetic disk for a rotary encoder, characterized in that sputtering deposition is performed while eccentrically rotating the other axis (Y-axis).
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32387088A JPH02168429A (en) | 1988-12-22 | 1988-12-22 | Manufacture of magnetic disk for rotary encoder |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32387088A JPH02168429A (en) | 1988-12-22 | 1988-12-22 | Manufacture of magnetic disk for rotary encoder |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02168429A JPH02168429A (en) | 1990-06-28 |
| JPH044531B2 true JPH044531B2 (en) | 1992-01-28 |
Family
ID=18159513
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32387088A Granted JPH02168429A (en) | 1988-12-22 | 1988-12-22 | Manufacture of magnetic disk for rotary encoder |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02168429A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104236499A (en) * | 2014-10-15 | 2014-12-24 | 厦门大学 | Automatic measurement method for railway on basis of point cloud data |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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-
1988
- 1988-12-22 JP JP32387088A patent/JPH02168429A/en active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104236499A (en) * | 2014-10-15 | 2014-12-24 | 厦门大学 | Automatic measurement method for railway on basis of point cloud data |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02168429A (en) | 1990-06-28 |
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