JPH0455214B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0455214B2 JPH0455214B2 JP58107873A JP10787383A JPH0455214B2 JP H0455214 B2 JPH0455214 B2 JP H0455214B2 JP 58107873 A JP58107873 A JP 58107873A JP 10787383 A JP10787383 A JP 10787383A JP H0455214 B2 JPH0455214 B2 JP H0455214B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- seal
- vacuum
- roll
- sealing
- case
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は可撓性の被処理物、例えばプラスチツ
ク成形品を真空処理室内で連続的に表面処理をす
る真空連続処理装置に関するものである。
ク成形品を真空処理室内で連続的に表面処理をす
る真空連続処理装置に関するものである。
従来、プラスチツク成形品など可撓性の被処理
物を真空処理室内で連続的に表面処理するもの
に、特開昭57−195745号公報に記載のように真空
処理室の側方に予備真空室が段階的に真空度を下
げるために設けられたものがあり、この予備真空
室は、被処理室の搬送方向に並置するシールロー
ルと、このシールロールを囲むケースと、このケ
ースと前記シールロールとの間をシールし、かつ
支持部材に一体的に取付けられたシール部材を備
えている。
物を真空処理室内で連続的に表面処理するもの
に、特開昭57−195745号公報に記載のように真空
処理室の側方に予備真空室が段階的に真空度を下
げるために設けられたものがあり、この予備真空
室は、被処理室の搬送方向に並置するシールロー
ルと、このシールロールを囲むケースと、このケ
ースと前記シールロールとの間をシールし、かつ
支持部材に一体的に取付けられたシール部材を備
えている。
また、特開昭57−73025号公報記載のように、
大気側と真空側との圧力差により、シール部材の
押付量が変化するようにしたものがある。
大気側と真空側との圧力差により、シール部材の
押付量が変化するようにしたものがある。
しかしながら、特開昭57−195745号公報記載の
シール部材は、シールロールとの押付量の調整を
行う場合には、その都度、ケースを分解して行う
必要があつた。このため、作業能率が悪かつた。
また、シール部材が取外し自在な構造でなく、こ
のため摩耗して取換える必要が生じた場合にも上
記と同様の問題を有していた。また、特開昭57−
73025号公報記載のものでは、圧力差が小さいと
きはシールが不充分となるという問題があつた。
シール部材は、シールロールとの押付量の調整を
行う場合には、その都度、ケースを分解して行う
必要があつた。このため、作業能率が悪かつた。
また、シール部材が取外し自在な構造でなく、こ
のため摩耗して取換える必要が生じた場合にも上
記と同様の問題を有していた。また、特開昭57−
73025号公報記載のものでは、圧力差が小さいと
きはシールが不充分となるという問題があつた。
本発明の目的は、シール部材の押付量が圧力差
とは無関係に調整自在な、また取外し(交換)
が、自在な真空連続処理装置を提供することにあ
る。
とは無関係に調整自在な、また取外し(交換)
が、自在な真空連続処理装置を提供することにあ
る。
上記目的は、真空処理室の側方に配置する予備
真空室と、この予備真空室内に相隣接して被処理
物を搬送するシールロールと、このシールロール
を囲むケースと、このケースと前記シールロール
との間をシールするシール部材とを備える真空連
続処理装置において、前記シール部材をケースに
対して移動可能に取付けることによつて、このシ
ール部材の前記シールロール方向への取付位置を
調整可能にし、前記シール部材のシールロールに
対する押付量を調整自在にすることによつて、達
成される。
真空室と、この予備真空室内に相隣接して被処理
物を搬送するシールロールと、このシールロール
を囲むケースと、このケースと前記シールロール
との間をシールするシール部材とを備える真空連
続処理装置において、前記シール部材をケースに
対して移動可能に取付けることによつて、このシ
ール部材の前記シールロール方向への取付位置を
調整可能にし、前記シール部材のシールロールに
対する押付量を調整自在にすることによつて、達
成される。
また上記目的は、前記シール部材をケースに対
して移動可能に取り付けることによつて、このシ
ール部材の前記シールロール方向への取付位置を
調整可能にし、前記シール部材のシールロールに
対する押付量を調整自在にすると共に取外し自在
に取付けることによつて、達成される。
して移動可能に取り付けることによつて、このシ
ール部材の前記シールロール方向への取付位置を
調整可能にし、前記シール部材のシールロールに
対する押付量を調整自在にすると共に取外し自在
に取付けることによつて、達成される。
シール部材が摩耗した場合、シール部材をケー
スに対して上下方向又は横方向が移動して取付位
置を調整し、また摩耗量の大きいときは取外して
交換する。
スに対して上下方向又は横方向が移動して取付位
置を調整し、また摩耗量の大きいときは取外して
交換する。
以下本発明の一実施例をプラズマ処理装置に適
用した場合の実施例について図面により説明す
る。
用した場合の実施例について図面により説明す
る。
第1図および第2図において、1はプラスチツ
クフイルム例えば塩化ビニール系樹脂フイルムの
ように可撓性の被処理物Fを真空状態で連続的に
プラズマ処理する真空処理室、2は真空処理室1
の前方側に複数個配置される予備真空室、3は真
空処理室1の後方側に複数個配置される予備真空
室で、前記真空処理室1内はこれに接続する真空
ポンプ4により10-2トール程度の真空圧力に保持
するように排気管5を介して真空排気される。
クフイルム例えば塩化ビニール系樹脂フイルムの
ように可撓性の被処理物Fを真空状態で連続的に
プラズマ処理する真空処理室、2は真空処理室1
の前方側に複数個配置される予備真空室、3は真
空処理室1の後方側に複数個配置される予備真空
室で、前記真空処理室1内はこれに接続する真空
ポンプ4により10-2トール程度の真空圧力に保持
するように排気管5を介して真空排気される。
前記予備真空室2,3内はこれに接続する真空
ポンプ6により前記真空処理室1内の真空圧力に
より若干高く、かつ大気圧より段階的に減じる真
空圧力に保持するように排気管7を介して真空排
気される。
ポンプ6により前記真空処理室1内の真空圧力に
より若干高く、かつ大気圧より段階的に減じる真
空圧力に保持するように排気管7を介して真空排
気される。
処理される被処理物Fは巻出装置8より前方側
の予備真空室2を経て真空処理室1へ送られ、そ
こでプラズマ処理された後、さらに後方側の予備
真空室3を経て巻取装置9で巻取られる。10は
駆動用モータで、この駆動用モータ10はライン
シヤフト11および無段変速機12,13,1
4,15を介して真空処理室1、予備真空室2,
3、巻取装置9へ駆動力を伝達し、真空処理室
1、予備真空室2,3および巻取装置9の各駆動
系の回転速度は前記無段変速機12,13,1
4,15により適宜調整される。
の予備真空室2を経て真空処理室1へ送られ、そ
こでプラズマ処理された後、さらに後方側の予備
真空室3を経て巻取装置9で巻取られる。10は
駆動用モータで、この駆動用モータ10はライン
シヤフト11および無段変速機12,13,1
4,15を介して真空処理室1、予備真空室2,
3、巻取装置9へ駆動力を伝達し、真空処理室
1、予備真空室2,3および巻取装置9の各駆動
系の回転速度は前記無段変速機12,13,1
4,15により適宜調整される。
第3図及び第4図は前記予備真空室2,3の主
要部を示すもので、上シールロール16は表面に
ゴムなどの弾性材18が一体的に焼着されてお
り、下シールロール17は表面に硬質のクロムニ
ツケル層が施されている。19,20はケース2
1にボルトなどにより支持部材22,23を介し
て取外し自在(容易)に支持され、かつ上下シー
ルロール16,17の上下方向の外周面に対する
部材で、このシール部材19,20は前記ケース
21に対して移動可能(例えばボルトの締付量調
整、座金の調整)に取付けることによつてこのシ
ール部材19,20の前記シールロール16,1
7方向への取付位置を調整自在にし、前記シール
部材19,20のシールロール16,17に対し
て押付量を調整自在にしている。24,25は上
下シールロール16,17の両端側に接するサイ
ドピースで、このサイドピース24,25はシー
ル16,17と接する側にはフツソ樹脂膜27が
焼着されており、このサイドピース24,25は
軸受ハウジング28を介して支持されている。
要部を示すもので、上シールロール16は表面に
ゴムなどの弾性材18が一体的に焼着されてお
り、下シールロール17は表面に硬質のクロムニ
ツケル層が施されている。19,20はケース2
1にボルトなどにより支持部材22,23を介し
て取外し自在(容易)に支持され、かつ上下シー
ルロール16,17の上下方向の外周面に対する
部材で、このシール部材19,20は前記ケース
21に対して移動可能(例えばボルトの締付量調
整、座金の調整)に取付けることによつてこのシ
ール部材19,20の前記シールロール16,1
7方向への取付位置を調整自在にし、前記シール
部材19,20のシールロール16,17に対し
て押付量を調整自在にしている。24,25は上
下シールロール16,17の両端側に接するサイ
ドピースで、このサイドピース24,25はシー
ル16,17と接する側にはフツソ樹脂膜27が
焼着されており、このサイドピース24,25は
軸受ハウジング28を介して支持されている。
このようにシール部材19,20をケース21
に対して移動可能に取付けることによつてシール
部材19,20が摩耗した場合には、支持部材2
2,23をケース21に対して下方又は上方へ移
動してその取付位置を調整するか、摩耗量が大き
いときはシール部材19,20をケース21から
取外して交換する。
に対して移動可能に取付けることによつてシール
部材19,20が摩耗した場合には、支持部材2
2,23をケース21に対して下方又は上方へ移
動してその取付位置を調整するか、摩耗量が大き
いときはシール部材19,20をケース21から
取外して交換する。
第5図は本発明の他の実施例を示すもので、上
シール部材19を上シールロール16の横方向に
配置したものである。
シール部材19を上シールロール16の横方向に
配置したものである。
このようにシール部材を配設することにより、
シール部材の取付位置の調整が可能となると共
に、取外しがさらに容易になる。
シール部材の取付位置の調整が可能となると共
に、取外しがさらに容易になる。
また、被処理物Fが厚くなり、上シールロール
16を上方向へ移動した場合でもシール部材19
はシールロール16に接触する恐れがないため、
シール部材19の破損や上下シールロールとケー
スとの軸方向のシール性の低下を防止することが
できる。
16を上方向へ移動した場合でもシール部材19
はシールロール16に接触する恐れがないため、
シール部材19の破損や上下シールロールとケー
スとの軸方向のシール性の低下を防止することが
できる。
なお、上記実施例は2個の相隣接するシールロ
ールの場合について説明してあるが、シールロー
ルを例えば3本を隣接させたものでも同様にして
実施することができる。
ールの場合について説明してあるが、シールロー
ルを例えば3本を隣接させたものでも同様にして
実施することができる。
本発明によれば、シール部材の交換が容易にで
き、またシール部材のシールロール方向への押付
量調整が自在な真空連続処理装置が得られる。
き、またシール部材のシールロール方向への押付
量調整が自在な真空連続処理装置が得られる。
第1図および第2図は本発明の真空連続処理装
置の一実施例を示すもので、第1図は正面図、第
2図は第1図の平面図、第3図は本発明装置にお
ける予備真空室の要部を示す拡大図、第4図は第
3図の4−4の線矢視図、第5図は本発明装置に
おける他の実施例を示し、第4図に相当する図で
ある。 1……真空処理室、2,3……予備真空室、1
9,20……シール部材。
置の一実施例を示すもので、第1図は正面図、第
2図は第1図の平面図、第3図は本発明装置にお
ける予備真空室の要部を示す拡大図、第4図は第
3図の4−4の線矢視図、第5図は本発明装置に
おける他の実施例を示し、第4図に相当する図で
ある。 1……真空処理室、2,3……予備真空室、1
9,20……シール部材。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 真空処理室の側方に配置する予備真空室とこ
の予備真空室内に相隣接して被処理物を搬送する
シールロールと、このシールロールを囲むケース
と、このケースと前記シールロールとの間をシー
ルするシール部材とを備える真空連続処理装置に
おいて、前記シール部材をケースに対して移動可
能に取付けることによつて、このシール部材の前
記シールロール方向への取付位置を調整可能に
し、前記シール部材のシールロールに対する押付
量を調整自在にすることを特徴とする真空連続処
理装置。 2 特許請求の範囲第1項記載の真空連続処理装
置において、前記シール部材をケースに対して移
動可能に取付けることによつて、このシール部材
の前記シールロール方向への取付位置を調整可能
にし、前記シール部材のシールロールに対する押
付量を調整自在にすると共に取外し自在に取付け
ることを特徴とする真空連続処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10787383A JPS60944A (ja) | 1983-06-17 | 1983-06-17 | 真空連続処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10787383A JPS60944A (ja) | 1983-06-17 | 1983-06-17 | 真空連続処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60944A JPS60944A (ja) | 1985-01-07 |
| JPH0455214B2 true JPH0455214B2 (ja) | 1992-09-02 |
Family
ID=14470249
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10787383A Granted JPS60944A (ja) | 1983-06-17 | 1983-06-17 | 真空連続処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60944A (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5773025A (en) * | 1980-10-27 | 1982-05-07 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Apparatus for continuous vacuum treatment |
| JPS57195745A (en) * | 1981-05-29 | 1982-12-01 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Sealing device in continuous vacuum treatment apparatus |
-
1983
- 1983-06-17 JP JP10787383A patent/JPS60944A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60944A (ja) | 1985-01-07 |
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