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JPH0465903B2 - - Google Patents
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JPH0465903B2 - - Google Patents

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JPH0465903B2
JPH0465903B2 JP27888087A JP27888087A JPH0465903B2 JP H0465903 B2 JPH0465903 B2 JP H0465903B2 JP 27888087 A JP27888087 A JP 27888087A JP 27888087 A JP27888087 A JP 27888087A JP H0465903 B2 JPH0465903 B2 JP H0465903B2
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JP
Japan
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workpiece
gear
revolution
rotation
motor
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Ken Namekawa
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Nihon Kentetsu Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 <産業上の利用分野> 本発明は、所要のワークピースに真空蒸着によ
つて薄膜を形成するのに利用される薄膜蒸着装置
に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION <Industrial Application Field> The present invention relates to a thin film deposition apparatus used for forming a thin film on a desired workpiece by vacuum deposition.

<従来の技術> 薄膜蒸着装置としてはワークピース回転方式の
ものが良く知られている。例えば、蒸発源に対し
て回転可能に設けた軸(又はテーブル)の周囲に
ワークピースホルダを配置し、該ホルダに保持さ
せたワークピースを回転させることで蒸発源に対
して同一面が常に対面した状態で蒸着を行う方式
の治具を備えた、所謂公転式蒸着装置がある。又
上記方式に加えて更にワークピースホルダ自体
も、上記回転軸に設けた駆動ギアに噛合する従動
ギアを設けて、遊星運動により該従動ギアと直結
した上記ホルダを回転せしめ、即ち、自公転方式
の治具装置を備えた蒸着装置が知られている。
<Prior Art> A workpiece rotation system is well known as a thin film deposition apparatus. For example, by placing a workpiece holder around a shaft (or table) that is rotatable relative to the evaporation source, and rotating the workpiece held in the holder, the same surface always faces the evaporation source. There is a so-called revolution type vapor deposition apparatus that is equipped with a jig that performs vapor deposition in a state where the vapor deposition is performed. In addition to the above method, the workpiece holder itself is also provided with a driven gear that meshes with the drive gear provided on the rotating shaft, and the holder directly connected to the driven gear is rotated by planetary motion. A vapor deposition apparatus equipped with a jig device is known.

<発明が解決しようとする問題点> 上記公転方式の蒸着装置はワークピースの蒸発
源に対する向きが一方向で固定であるので、薄膜
はワークピースの蒸発源対向面のみしか形成する
ことができない問題があり、又自公転方式は上記
公転方式の問題を解決して回転面全面の蒸着が可
能という効果があり、且つ夫々上記機能に限りワ
ークピースの条件に応じた使い分けができるもの
の、上記両方式では、ワークピースの条件等によ
りある方向面のみ成膜させない加工を必要とする
場合や所要の面、部分のみ効果的な成膜を行わせ
るといつた要求がある場合にはワークピースホル
ダの位置決めをその都度調整したり、特殊な付加
治具を準備し利用するといつた煩雑な作業を要
し、対応が困難で効率が悪く、その解決が望まれ
ているものであつた。
<Problems to be Solved by the Invention> In the above-mentioned revolution type vapor deposition apparatus, the direction of the workpiece relative to the evaporation source is fixed in one direction, so a thin film can only be formed on the surface of the workpiece facing the evaporation source. In addition, the revolution method solves the problem of the revolution method described above and has the effect of being able to deposit the entire surface of the rotating surface.Although each of the above functions can be used depending on the conditions of the workpiece, both of the above methods Now, if the conditions of the workpiece require processing that does not allow film formation only on a certain direction, or if there is a request to form a film effectively only on a required surface or part, it is necessary to position the workpiece holder. This requires complicated work, such as adjusting each time and preparing and using special additional jigs, making it difficult to handle and inefficient, and a solution to this problem is desired.

本発明は上記問題点に鑑みて提供されたもの
で、上記従来の公転方式、自公転方式の機能はも
とより、自公転方式の自転と公転の回転比を任意
に可変できるとともに、ホルダの公転時における
蒸発源に対する向き方向、角度も任意に可変設定
できる様にすることを目的とするものである。
The present invention has been provided in view of the above-mentioned problems.In addition to the functions of the conventional revolution method and auto-revolution method, it is also possible to arbitrarily vary the rotation ratio between the rotation and revolution of the auto-revolution method, and when the holder revolves. The purpose of this invention is to enable the direction and angle of the evaporation source to be arbitrarily set variably.

<問題点を解決するための手段> 上記目的を達成する為本発明は、蒸発源に対し
て自公転できる様に構成されたワークピース取付
治具を備えた薄膜蒸着装置において、蒸発源を設
けた基台の周囲を回動可能に治具テーブルを設
け、該テーブルを回動駆動する制御用第一モータ
を備えるとともに、リングギアを上記基台及び治
具テーブルに対し同心回転自在に設けて、該リン
グギアに制御要第二モータで駆動する駆動ギアと
上記治具テーブルに対し回転自在に支持された適
宜数のワークピースホルダの回転軸に設けられた
従動ギアを歯合させて構成したものである。
<Means for Solving the Problems> In order to achieve the above object, the present invention provides a thin film deposition apparatus equipped with a workpiece mounting jig configured to rotate around the evaporation source. A jig table is provided to be rotatable around the base, a first motor for controlling the table is provided, and a ring gear is provided to be rotatable concentrically with respect to the base and the jig table. The ring gear is configured by meshing a drive gear driven by a second motor that requires control and a driven gear provided on the rotation shafts of an appropriate number of workpiece holders rotatably supported with respect to the jig table. It is something.

<作用> 公転のみで利用する場合は、制御用第一モータ
の駆動で治具テーブルを回動させるとともに、リ
ングギアを上記テーブルの回動に同期して回転さ
せるべく、制御用第二モータを噛合する歯車比に
応じた回転数に設定して駆動せしめれば、ワーク
ピースホルダに保持されてワークピースは蒸発源
に対し常に同一面を対向させた姿勢で、即ち公転
駆動とすることができる。又、従来の如く自公転
させる場合には、制御用第二モータを停止せし
め、第一モータのみを駆動して治具テーブルを回
動させると、該テーブルに対して回転自在に支持
されているワークピースホルダの回転軸はその従
動ギアがリングギアに噛合しているので、回転停
止のリングギアにラツクピニオンギアの如き作用
により相対的に回転しながら噛合移動し、自転す
るので、即ち自公転駆動とすることができる。こ
の自転を公転に対し回転数比可変する場合は、上
記自公転駆動に際し、制御用第二モータを所要の
回転数に制御すれば、リングギアが設定数で回転
するので、相対的にワークピースホルダ回転が変
速されて動作することになる。
<Function> When using only for revolution, the jig table is rotated by driving the first control motor, and the second control motor is driven to rotate the ring gear in synchronization with the rotation of the table. By setting and driving the rotation speed according to the meshing gear ratio, the workpiece can be held in the workpiece holder and always have the same surface facing the evaporation source, that is, it can be driven in revolution. . In addition, when rotating and revolving as in the past, the second control motor is stopped and only the first motor is driven to rotate the jig table, so that the jig table is rotatably supported by the table. The rotating shaft of the workpiece holder has a driven gear that meshes with the ring gear, so it moves while rotating relative to the ring gear that has stopped rotating due to the action of a rack and pinion gear. It can be driven. If you want to vary the rotation speed ratio of this rotation to the revolution, if you control the second control motor to the required rotation speed during the above-mentioned rotation and revolution drive, the ring gear will rotate at the set speed, so the workpiece will be relatively The holder rotation is changed in speed and operates.

更に、又ワークピースの蒸着面を蒸発源に対し
所要角度に変角する場合は、ホルダへワークピー
スを保持させ、制御用第二モータを駆動させて上
記所要角度に変角せしめた後、制御用第一モータ
及び第二モータを上記公転駆動と同様に駆動せし
めればよく、これにより任意角度設定によるワー
クピースの対応面蒸着が可能となり、所要面毎の
蒸着ができることになる。
Furthermore, when changing the angle of the evaporation surface of the workpiece to a required angle with respect to the evaporation source, the workpiece is held in the holder, the second control motor is driven to change the angle to the required angle, and then the control The first motor and the second motor may be driven in the same manner as the above-mentioned revolution drive, and this makes it possible to perform vapor deposition on the corresponding surface of the workpiece by setting an arbitrary angle, and to perform vapor deposition on each required surface.

<実施例> 以下本発明の好適な実施例を図面に基づき説明
する。
<Example> Hereinafter, preferred examples of the present invention will be described based on the drawings.

第1図は本発明実施例に係る蒸着装置の構成を
示す側面図であり、第2図は第1図の平面図であ
る。
FIG. 1 is a side view showing the configuration of a vapor deposition apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a plan view of FIG. 1.

図において、1は蒸着装置の外殻であり、その
底部中央部には円板形の基台2が設けられ、該基
台2を利用して蒸発熱源としてのヒータ装置及び
被蒸着発物の溜皿(図示せず)等で構成された蒸
発源3が外殻1内に設置されている。4は外殻1
内で基台2の周辺に中空円板状に配設された治具
テーブルであり、該テーブルは後述する構成等に
より基台2に対し回動可能に設けられているもの
である。該治具テーブル4の上面には、その幅中
央円周上に適宜間隔でワークピースホルダ5が該
ホルダ軸5aを回転可能にして立設支持されてい
る。5bは各ワークピースホルダ5の上部を相互
に支持固定するアームである。又、治具テーブル
4の下面にはその外周の一部を段付きとして該段
付き外周に歯車を形成してテーブルギア6とし、
該ギア6に噛合する駆動ギア7に同軸連結とした
プーリ8と制御用モータ9をベルトで連結して、
上記治具テーブル4を制御用第一モータ9で回動
制御する様にしている。この制御用第一モータ9
の形式は、回転出力固定型或いはパルスモータ等
回転数可変型のモータ等任意のものが利用でき
る。
In the figure, 1 is the outer shell of the vapor deposition apparatus, and a disk-shaped base 2 is provided at the center of the bottom of the shell. An evaporation source 3 composed of a reservoir (not shown) or the like is installed inside the outer shell 1. 4 is outer shell 1
This is a jig table disposed in the shape of a hollow disk around the base 2, and the table is rotatably provided with respect to the base 2 by a structure described later. On the upper surface of the jig table 4, workpiece holders 5 are erected and supported at appropriate intervals on the circumference at the center of its width, with the holder shaft 5a being rotatable. 5b is an arm that supports and fixes the upper portions of each workpiece holder 5 to each other. Further, a part of the outer periphery of the lower surface of the jig table 4 is stepped, and a gear is formed on the stepped outer periphery to form a table gear 6.
A pulley 8 coaxially connected to a drive gear 7 meshing with the gear 6 and a control motor 9 are connected by a belt,
The rotation of the jig table 4 is controlled by a first control motor 9. This control first motor 9
Any type of motor can be used, such as a fixed rotational output type or a variable rotational speed type motor such as a pulse motor.

10は上記ホルダ軸5aの端部に取付けられた
従動ギアであり、対する駆動ギア11とはギア1
2を介して連結され、駆動ギア11に同軸連結と
したプーリ13と上記第一モータと同様機能の制
御用モータ14をベルトで連結して、上記従動ギ
ア10を制御用第二モータ14で回動制御する様
にしている。
10 is a driven gear attached to the end of the holder shaft 5a, and the driving gear 11 is the gear 1.
A pulley 13 coaxially connected to the drive gear 11 and a control motor 14 having the same function as the first motor are connected by a belt, and the driven gear 10 is rotated by the second control motor 14. I am trying to control the movement.

即ち従動ギア10の回転によりワークピースホ
ルダ5が治具テーブル4上で回動する。しかして
上記リングギア12は、基台2の外周部に前記治
具テーブル4と同様に回転可能に配設されてお
り、図例では基台2の外周を段付きとしてその段
座にベアリング15を介して支持されている。該
リングギア12はその外周面を歯車構成としてい
るものであつて、該歯車部に上記の如くホルダ軸
5aの従動ギア10と制御用第二モータ14によ
り回転制御される駆動ギア11が噛合しているも
のである。又図例の場合は、リングギア12の上
面部に治具テーブル4の一部(内周側)がベアリ
ング16を介して位置しており、これらの構成で
治具テーブル4とリングギア12は基台2に対し
て同心回転するとともに相互にも夫々独立して回
転することができる様になつている。
That is, the workpiece holder 5 rotates on the jig table 4 due to the rotation of the driven gear 10. The ring gear 12 is rotatably disposed on the outer periphery of the base 2 in the same manner as the jig table 4, and in the illustrated example, the outer periphery of the base 2 is stepped and bearings 15 are provided on the stepped seat. Supported through. The ring gear 12 has a geared outer peripheral surface, and the driving gear 11 whose rotation is controlled by the driven gear 10 of the holder shaft 5a and the second control motor 14 meshes with the geared part as described above. It is something that In the case of the illustrated example, a part (inner circumferential side) of the jig table 4 is located on the upper surface of the ring gear 12 via a bearing 16, and with these configurations, the jig table 4 and the ring gear 12 are It is designed so that it can rotate concentrically with respect to the base 2 and also rotate independently of each other.

上記構成において、蒸着成膜を要する所要のワ
ークピース(図示せず)をワークピースホルダ5
に保持させて蒸着加工を行う場合、先ず治具テー
ブル4の回転と上記ホルダ5の回転による所謂自
公転でのワークピース全面図の蒸着作業は、制御
用第二モータ14の駆動を停止させたまま制御用
第一モータ9を駆動させる。そうすると、上記第
二モータ14が停止しているのでリングギア12
は回転駆動せずに静止したままであるので、上記
第一モータ9の駆動により駆動ギア7を介して回
動を始める治具テーブル4の回動でリングギア1
2に噛合している従動ギア10が回転し、従つて
同軸連結であるホルダ軸5aが治具テーブル4に
対して回動することになり、即ちワークピースホ
ルダ5は治具テーブル4上で自転しながら公転す
ることになる。
In the above configuration, a required workpiece (not shown) that requires vapor deposition is placed on the workpiece holder 5.
When vapor deposition is performed while the workpiece is held in place, first, the second control motor 14 is stopped to perform vapor deposition on the entire surface of the workpiece in so-called rotation and revolution by rotating the jig table 4 and rotating the holder 5. The first control motor 9 is then driven. Then, since the second motor 14 is stopped, the ring gear 12
Since the ring gear 1 remains stationary without being rotated, the ring gear 1 is rotated by the rotation of the jig table 4, which starts rotating via the drive gear 7 by the drive of the first motor 9.
The driven gear 10 meshing with the holder 2 rotates, and the holder shaft 5a, which is coaxially connected, rotates relative to the jig table 4. In other words, the workpiece holder 5 rotates on the jig table 4. It will revolve while doing so.

上記第二モータ14を停止しているときの自転
と公転の比は上記各ギア部のギア比で所定値に固
定されたものとなるが、ワークピースの条件によ
り自転比を変更して行う必要が生じた場合には、
上記駆動に際し制御用第二モータ14を上記条件
に応じた回転数に設定して駆動する。そうすると
この第二モータ14の回転駆動によりリングギア
12が基台2に対し回転することになり、従つて
ホルダ軸5aの従動ギア10は前述の自公転の場
合に比べリングギア12の回転に対応した分だけ
その自転速度を変更せしめられて回転することに
なる。
When the second motor 14 is stopped, the ratio of rotation to revolution is fixed to a predetermined value by the gear ratio of each gear part, but it is necessary to change the rotation ratio depending on the conditions of the workpiece. If this occurs,
During the above driving, the second control motor 14 is set to a rotation speed according to the above conditions and driven. Then, the ring gear 12 will rotate with respect to the base 2 due to the rotational drive of the second motor 14, and therefore the driven gear 10 of the holder shaft 5a will correspond to the rotation of the ring gear 12 compared to the case of rotation and revolution described above. The rotation speed will be changed by that amount, and it will rotate.

上記第二モータ14を正逆転可能タイプとすれ
ば、ワークピースホルダ5の回転方向も任意に変
えることができる。
If the second motor 14 is of a type capable of forward and reverse rotation, the direction of rotation of the workpiece holder 5 can also be changed arbitrarily.

次に、ワークピースホルダを固定とした公転の
みによる運転を行う場合は、制御用第一モータ9
と第二モータ14を駆動させるのであるが、この
場合には治具テーブル4とリングギア12の回転
方向及び回転数を同一に設定制御する。するとワ
ークピースホルダ5は、蒸発源3に対し常に同一
面を対向して回転移動することになり、即ち公転
駆動とすることができる。
Next, when operating only by revolution with the workpiece holder fixed, the first control motor 9
The second motor 14 is driven. In this case, the rotation direction and rotation speed of the jig table 4 and the ring gear 12 are set and controlled to be the same. Then, the workpiece holder 5 rotates while always facing the same plane with respect to the evaporation source 3, that is, it can be driven to revolve.

しかしてこの公転駆動において、ワークピース
の他の一部面も蒸着する必要がある場合には、従
来の方法によればワークピースホルダ5の向き、
ワークピースの向き等を改めて治具等により設定
し直す必要があつたが、本発明の実施例では上記
公転駆動による作業の後、公転中に若しくは一旦
停止せしめて、次いで制御用第二モータ14の回
転を制御して、即ち公転中であれば治具テーブル
4との上記同期回転を所要量丈ずらしてワークピ
ースホルダ5を所要角度変角せしめた後、再び治
具テーブルと同期回転させ、又一旦停止の場合で
あれば停止後に上記第二モータ14を駆動させて
ワークピースホルダ5を所要角度変角せしめ、次
いで上記第一、第二モータ9,14を夫々駆動し
てリングギア12と治具テーブル4を上記同期回
転に制御すればよい。これにより同一ワークピー
スの蒸着面が全面でなく二面部以上ある場合に両
モータ9,14の制御のみで順次任意に蒸着面変
更設定ができることになる。
However, in the revolving drive of the lever, if it is necessary to deposit other surfaces of the workpiece as well, according to the conventional method, the orientation of the workpiece holder 5,
Although it was necessary to set the orientation of the workpiece again using a jig or the like, in the embodiment of the present invention, after the work by the above-mentioned revolution drive, it is stopped during revolution or once, and then the second control motor 14 , i.e., if it is revolving, the synchronous rotation with the jig table 4 is shifted by a required length to change the angle of the workpiece holder 5 to a required angle, and then the workpiece holder 5 is rotated synchronously with the jig table again. In the case of a temporary stop, after the stop, the second motor 14 is driven to change the workpiece holder 5 to the required angle, and then the first and second motors 9 and 14 are respectively driven to rotate the ring gear 12 and the workpiece holder 5. The jig table 4 may be controlled to rotate synchronously. As a result, when the same workpiece has two or more evaporation surfaces instead of the entire surface, it is possible to sequentially and arbitrarily change the evaporation surface only by controlling both motors 9 and 14.

尚、上記実施例においては、リングギア12及
び治具テーブル4の自転駆動にギア噛合を利用し
たものを説明したが、特に治具テーブル4の駆動
は上記構成に限らず、例えばテーブルギア6と駆
動ギア7を離間して両ギア間にギアベルトを掛架
して駆動するといつた構成にすることもできる。
又、第一、第二モータ9,14はプーリ8,13
との連結形式のみでなく、対応するギア7,11
の軸に直結したダイレクトドライブも可能であ
る。
In the above embodiment, gear meshing is used to drive the ring gear 12 and the jig table 4 to rotate, but the drive of the jig table 4 is not limited to the above configuration, and for example, the drive of the jig table 4 is not limited to the above configuration. It is also possible to adopt a configuration in which the drive gear 7 is separated and a gear belt is hung between both gears for driving.
In addition, the first and second motors 9 and 14 are connected to pulleys 8 and 13.
Not only the connection type but also the corresponding gears 7 and 11.
Direct drive is also possible by connecting directly to the shaft.

<発明の効果> 以上述べてきた様に本発明にれば、ワークピー
スホルダの自転機構と、該ホルダを支持する治具
テーブルの回転機構を、夫々に駆動制御モータを
設けて両機構を相互に関連せしめると共に独立し
た駆動も可能としたので、ワークピースの蒸着条
件に応じて、公転、自公転比固定、自公転比可
変、公転時の蒸着面変更等の設定が任意にでき、
即ち本発明装置を蒸着条件に対しては汎用的に、
又作業は専用的にして各種のワークピースに対応
することができ、経済性、実用性に優れた装置と
して提供することができる。
<Effects of the Invention> As described above, according to the present invention, drive control motors are provided for the rotation mechanism of the workpiece holder and the rotation mechanism of the jig table that supports the holder, respectively, so that the two mechanisms can be mutually operated. Since it is possible to drive independently while also being related to the workpiece, settings such as revolution, fixed revolution/revolution ratio, variable revolution/revolution ratio, and change of the deposition surface during revolution can be made according to the deposition conditions of the workpiece.
In other words, the apparatus of the present invention can be used in general for vapor deposition conditions.
Further, the work can be done exclusively for various types of workpieces, and the apparatus can be provided as a highly economical and practical device.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

図は、本発明の好適な実施例を示すもので、第
1図は、蒸着装置の構成を示す側面図、第2図は
第1図の平面図である。 尚、図中1は外殻、2は基台、3は蒸発源、4
は治具テーブル、5はワークピースホルダ、6は
テーブルギア、7は駆動ギア、9は制御用第一モ
ータ、10は従動ギア、11は駆動ギア、12は
リングギア、14は制御用第二モータである。
The drawings show a preferred embodiment of the present invention, and FIG. 1 is a side view showing the configuration of a vapor deposition apparatus, and FIG. 2 is a plan view of FIG. 1. In the figure, 1 is the outer shell, 2 is the base, 3 is the evaporation source, and 4
is a jig table, 5 is a workpiece holder, 6 is a table gear, 7 is a drive gear, 9 is a first motor for control, 10 is a driven gear, 11 is a drive gear, 12 is a ring gear, 14 is a second control motor It's a motor.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 蒸発源に対して自公転できる様に構成された
ワークピース取付治具を備えた薄膜蒸着装置にお
いて、 蒸発源を設けた基台の周囲を回動可能に治具テ
ーブルを設け、該テーブルを回動駆動する制御用
第一モータを備えるとともに、リングギアを上記
基台及び治具テーブルに対し同心回転自在に設け
て、該リングギアに制御用第二モータで駆動する
駆動ギアと上記治具テーブルに対し回転自在に支
持された適宜数のワークピースホルダの回転軸に
設けられた従動ギアを噛合させて構成したことを
特徴とする薄膜蒸着装置。
[Scope of Claims] 1. In a thin film deposition apparatus equipped with a workpiece mounting jig configured to rotate around and around an evaporation source, the jig table is rotatable around a base provided with an evaporation source. and a first control motor for rotationally driving the table, a ring gear rotatable concentrically with respect to the base and the jig table, and a second control motor drives the ring gear. 1. A thin film deposition apparatus characterized in that a drive gear is meshed with driven gears provided on rotational shafts of an appropriate number of workpiece holders rotatably supported with respect to the jig table.
JP27888087A 1987-11-04 1987-11-04 Vapor deposition device for thin film Granted JPH01123069A (en)

Priority Applications (1)

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