JPH0470360B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0470360B2 JPH0470360B2 JP29782688A JP29782688A JPH0470360B2 JP H0470360 B2 JPH0470360 B2 JP H0470360B2 JP 29782688 A JP29782688 A JP 29782688A JP 29782688 A JP29782688 A JP 29782688A JP H0470360 B2 JPH0470360 B2 JP H0470360B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- freon
- cleaning solvent
- weight
- solvent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/26—Cleaning or polishing of the conductive pattern
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Description
〔産業上の利用分野〕
本発明は、洗浄力に優れかつ安定性の良いフツ
素系混合溶剤から成る洗浄溶剤、特にプリント基
板のフラツクスやゴミの除去および脱脂などに適
した洗浄溶剤に関するものである。 〔従来の技術〕 フツ素系溶剤は不燃性、低毒性、低腐食性等の
利点があるため、洗浄溶剤として脱脂等の分野、
特にプリント基板のフラツクスやゴミの除去、脱
脂などの分野で広く使われている。例えば１，
１，２−トリクロロ−１，２，２−トリフルオロ
エタン（以下、フロン113と略記する場合がある）
に洗浄力を増加させる目的でエタノール、ニトロ
メタンあるいはメタノールを加えた共沸混合物
は、プリント基板のフラツクス除去用の洗浄溶剤
として使用されている（特開昭50−80983号、特
開昭51−44575号）。しかし、近年フロン113に代
る洗浄溶剤が望まれている。 ところが、フロン113に匹敵する代替物はない
ため、フロン113をベースとした混合物が注目さ
れるようになつた。このような混合物として、フ
ロン113とジメトキシメタン（以下、DMMと略
記する場合がある）から成る洗浄溶剤が提案され
ている（英国特許No.1307631、独特許No.2133853）。 しかし、この洗浄溶剤はフロン113とDMMの
沸点差が小さいため、任意の比で混合しても液相
と気相の組成のずれが小さいという利点はある
が、プリント基板のように、金属が共存する場
合、安定性が著しく悪く、容易に分解し、腐食性
のガスを発生しやすいという欠点がある。 〔発明が解決しようとする課題〕 本発明の目的は、上記問題点を解決するため、
フロン113の量を少なくすることができ、しかも
洗浄力および安定性に優れた洗浄溶剤を提供する
ことである。 〔課題を解決するための手段〕 本発明は、１，１，２−トリクロロ−１，２，
２−トリフルオロエタンとジメトキシメタンとか
ら成る混合溶剤に、ニトロアルカン、２−メチル
フラン、プロピレンオキサイドおよびエポキシブ
タンから選ばれる１種以上の安定剤を添加するこ
とを特徴とする洗浄溶剤である。 本発明の洗浄溶剤の主成分である１，１，２−
トリクロロ−１，２，２−トリフルオロエタン
（CC2Ｆ−CCF2：フロン113）とジメトキシ
メタン（CH3Ｏ−CH2−OCH3：DMM）との混
合割合は、重量比で10：90ないし90：10の範囲、
好ましくは30：70ないし70：30の範囲である。フ
ロン113の割合が10重量部未満になると、エラス
トマーの膨潤が大きくなり過ぎる傾向があり、好
ましくない。また、フロン113の割合が90重量部
を超える場合は、フロン113の使用量を少なくし
ようとする本来の目的に合わなくなる傾向があ
る。 本発明で使用する安定剤は、ニトロアルカン、
２−メチルフラン、プロピレンオキサイドおよび
エポキシブタンの中から選ばれる１種もしくは複
数のものである。これらの中ではニトロアルカ
ン、２−メチルフラン、プロピレンオキサイドが
好ましい。ニトロアルカン類としては、ニトロメ
タン、ニトロエタン、１−ニトロプロパンなどが
例示できる。 上記安定剤の添加量は、フロン113とDMMの
混合溶剤に対して0.01〜５重量％、好ましくは
0.1〜１重量％である。安定剤の添加量が0.01重
量％未満の場合は安定剤の効果が小さいため、洗
浄溶剤の安定性が充分ではない。また５重量％を
超えると、洗浄後に被洗浄物に安定剤が残留する
心配がある。 本発明の洗浄溶剤は、フロン113とDMMを前
記混合割合で混合し、これに上記安定剤を上記添
加割合で添加することにより製造できる。本発明
の洗浄溶剤には、必要により他の溶剤、添加剤等
を配合することができる。 このようにして得られた洗浄溶剤は、一般の洗
浄の目的に使用できるが、特にプリント基板のフ
ラツクスや、ゴミの除去あるいは脱脂等に適して
いる。 本発明の洗浄溶剤による洗浄方法は、浸漬法、
スプレー法のほか、蒸気洗浄法、あるいはこれら
の組合せなど、従来よりこの種の洗浄溶剤の洗浄
方法として採用されている方法が採用でき、この
場合加熱、超音波照射等を行うこともできる。 〔発明の効果〕 本発明によれば、１，１，２−トリクロロ−
１，２，２−トリフルオロエタンとジメトキシメ
タンとの混合溶剤に特定の安定剤を添加したの
で、１，１，２−トリクロロ−１，２，２−トリ
フルオロエタンの量を少なくすることができ、し
かも洗浄力および安定性に優れ、金属が共存する
場合でも分解することなく、腐食性のガスが発生
しない洗浄溶剤を得ることができる。 〔実施例〕 次に本発明の実施例について説明する。 実施例 １ フロン113とDMMの混合割合が90／10（重量
比）である混合溶剤99.5重量％に表１に示す安定
剤を各々0.5重量％添加して試験溶液を得た。こ
の試験溶液中の水分量を測定したところ50ppmで
あつた。 この試験溶液４ｇを内径11mmのガラス管に入
れ、８mmｗ×60mm×１mmｔの鉄片、アルミニウ
ム片、および亜鉛片を浸漬して封管した。これを
100℃で４日間貯蔵した後、ガラス管の先端を切
断し、試験溶液を脱イオン水と混合してバブリン
グし、バブリング後水相を濾紙を通して50mlのメ
スフラスコに入れた、また上記ガラス管内に脱イ
オン水３〜５mlを入れ数回洗浄し、この洗浄水も
前記メスフラスコに集め、水を加えて全量を50ml
とした。この溶液中の塩素イオン濃度をイオンク
ロマトグラフイーで測定した。結果を表１に示
す。
素系混合溶剤から成る洗浄溶剤、特にプリント基
板のフラツクスやゴミの除去および脱脂などに適
した洗浄溶剤に関するものである。 〔従来の技術〕 フツ素系溶剤は不燃性、低毒性、低腐食性等の
利点があるため、洗浄溶剤として脱脂等の分野、
特にプリント基板のフラツクスやゴミの除去、脱
脂などの分野で広く使われている。例えば１，
１，２−トリクロロ−１，２，２−トリフルオロ
エタン（以下、フロン113と略記する場合がある）
に洗浄力を増加させる目的でエタノール、ニトロ
メタンあるいはメタノールを加えた共沸混合物
は、プリント基板のフラツクス除去用の洗浄溶剤
として使用されている（特開昭50−80983号、特
開昭51−44575号）。しかし、近年フロン113に代
る洗浄溶剤が望まれている。 ところが、フロン113に匹敵する代替物はない
ため、フロン113をベースとした混合物が注目さ
れるようになつた。このような混合物として、フ
ロン113とジメトキシメタン（以下、DMMと略
記する場合がある）から成る洗浄溶剤が提案され
ている（英国特許No.1307631、独特許No.2133853）。 しかし、この洗浄溶剤はフロン113とDMMの
沸点差が小さいため、任意の比で混合しても液相
と気相の組成のずれが小さいという利点はある
が、プリント基板のように、金属が共存する場
合、安定性が著しく悪く、容易に分解し、腐食性
のガスを発生しやすいという欠点がある。 〔発明が解決しようとする課題〕 本発明の目的は、上記問題点を解決するため、
フロン113の量を少なくすることができ、しかも
洗浄力および安定性に優れた洗浄溶剤を提供する
ことである。 〔課題を解決するための手段〕 本発明は、１，１，２−トリクロロ−１，２，
２−トリフルオロエタンとジメトキシメタンとか
ら成る混合溶剤に、ニトロアルカン、２−メチル
フラン、プロピレンオキサイドおよびエポキシブ
タンから選ばれる１種以上の安定剤を添加するこ
とを特徴とする洗浄溶剤である。 本発明の洗浄溶剤の主成分である１，１，２−
トリクロロ−１，２，２−トリフルオロエタン
（CC2Ｆ−CCF2：フロン113）とジメトキシ
メタン（CH3Ｏ−CH2−OCH3：DMM）との混
合割合は、重量比で10：90ないし90：10の範囲、
好ましくは30：70ないし70：30の範囲である。フ
ロン113の割合が10重量部未満になると、エラス
トマーの膨潤が大きくなり過ぎる傾向があり、好
ましくない。また、フロン113の割合が90重量部
を超える場合は、フロン113の使用量を少なくし
ようとする本来の目的に合わなくなる傾向があ
る。 本発明で使用する安定剤は、ニトロアルカン、
２−メチルフラン、プロピレンオキサイドおよび
エポキシブタンの中から選ばれる１種もしくは複
数のものである。これらの中ではニトロアルカ
ン、２−メチルフラン、プロピレンオキサイドが
好ましい。ニトロアルカン類としては、ニトロメ
タン、ニトロエタン、１−ニトロプロパンなどが
例示できる。 上記安定剤の添加量は、フロン113とDMMの
混合溶剤に対して0.01〜５重量％、好ましくは
0.1〜１重量％である。安定剤の添加量が0.01重
量％未満の場合は安定剤の効果が小さいため、洗
浄溶剤の安定性が充分ではない。また５重量％を
超えると、洗浄後に被洗浄物に安定剤が残留する
心配がある。 本発明の洗浄溶剤は、フロン113とDMMを前
記混合割合で混合し、これに上記安定剤を上記添
加割合で添加することにより製造できる。本発明
の洗浄溶剤には、必要により他の溶剤、添加剤等
を配合することができる。 このようにして得られた洗浄溶剤は、一般の洗
浄の目的に使用できるが、特にプリント基板のフ
ラツクスや、ゴミの除去あるいは脱脂等に適して
いる。 本発明の洗浄溶剤による洗浄方法は、浸漬法、
スプレー法のほか、蒸気洗浄法、あるいはこれら
の組合せなど、従来よりこの種の洗浄溶剤の洗浄
方法として採用されている方法が採用でき、この
場合加熱、超音波照射等を行うこともできる。 〔発明の効果〕 本発明によれば、１，１，２−トリクロロ−
１，２，２−トリフルオロエタンとジメトキシメ
タンとの混合溶剤に特定の安定剤を添加したの
で、１，１，２−トリクロロ−１，２，２−トリ
フルオロエタンの量を少なくすることができ、し
かも洗浄力および安定性に優れ、金属が共存する
場合でも分解することなく、腐食性のガスが発生
しない洗浄溶剤を得ることができる。 〔実施例〕 次に本発明の実施例について説明する。 実施例 １ フロン113とDMMの混合割合が90／10（重量
比）である混合溶剤99.5重量％に表１に示す安定
剤を各々0.5重量％添加して試験溶液を得た。こ
の試験溶液中の水分量を測定したところ50ppmで
あつた。 この試験溶液４ｇを内径11mmのガラス管に入
れ、８mmｗ×60mm×１mmｔの鉄片、アルミニウ
ム片、および亜鉛片を浸漬して封管した。これを
100℃で４日間貯蔵した後、ガラス管の先端を切
断し、試験溶液を脱イオン水と混合してバブリン
グし、バブリング後水相を濾紙を通して50mlのメ
スフラスコに入れた、また上記ガラス管内に脱イ
オン水３〜５mlを入れ数回洗浄し、この洗浄水も
前記メスフラスコに集め、水を加えて全量を50ml
とした。この溶液中の塩素イオン濃度をイオンク
ロマトグラフイーで測定した。結果を表１に示
す。
【表】
表１から分るように、水分が少ない場合にはジ
エチルアミンを除き、いずれの安定剤も安定化効
果は高い。 実施例 ２ フロン113とDMMの混合割合が90／10（重量
比）である混合溶剤99.5重量％、および表１に示
した0.5重量％の安定剤から成る試験溶液に水を
添加して実施例１と同様なテストを行なつた。な
お、試験溶液中の水分量は580ppmであつた。結
果を表２に示す。
エチルアミンを除き、いずれの安定剤も安定化効
果は高い。 実施例 ２ フロン113とDMMの混合割合が90／10（重量
比）である混合溶剤99.5重量％、および表１に示
した0.5重量％の安定剤から成る試験溶液に水を
添加して実施例１と同様なテストを行なつた。な
お、試験溶液中の水分量は580ppmであつた。結
果を表２に示す。
【表】
表２から分るように、水分が多い場合でも、ニ
トロメタン、２−メチルフラン、プロピレンオキ
サイド、エポキシブタンの安定剤としての効果は
大きい。 実施例 ３ 一辺が45mm四方のプリント基板に表３に示す各
種フラツクスを各々60μ均一に塗布した。この
基板をいつたん100℃まで予備加熱した後、260℃
の溶融ハンダ槽で2ft／minの速度でハンダ付し
た。一時間室温で静置した後、フロン113／
DMM／ニトロメタン＝89.5／10／0.5（重量％）
からなる洗浄溶剤で洗浄した。洗浄工程は沸騰浸
漬30秒、超音波洗浄60秒、蒸気洗浄30秒で行つ
た。洗浄後、プリント基板上に残つたイオン性残
渣をオメガメータ（ケンコ社製、商標）で測定し
た（実施例）。 また、フロン113／エタノール／ニトロメタン
＝95.7／3.8／0.5（重量％）からなる洗浄溶剤を用
いて、上記と同様にしてイオン性残渣を測定した
（比較例）。 結果を表３に示す。なお、表中の値は、MIL
規格値に対する％で示した。
トロメタン、２−メチルフラン、プロピレンオキ
サイド、エポキシブタンの安定剤としての効果は
大きい。 実施例 ３ 一辺が45mm四方のプリント基板に表３に示す各
種フラツクスを各々60μ均一に塗布した。この
基板をいつたん100℃まで予備加熱した後、260℃
の溶融ハンダ槽で2ft／minの速度でハンダ付し
た。一時間室温で静置した後、フロン113／
DMM／ニトロメタン＝89.5／10／0.5（重量％）
からなる洗浄溶剤で洗浄した。洗浄工程は沸騰浸
漬30秒、超音波洗浄60秒、蒸気洗浄30秒で行つ
た。洗浄後、プリント基板上に残つたイオン性残
渣をオメガメータ（ケンコ社製、商標）で測定し
た（実施例）。 また、フロン113／エタノール／ニトロメタン
＝95.7／3.8／0.5（重量％）からなる洗浄溶剤を用
いて、上記と同様にしてイオン性残渣を測定した
（比較例）。 結果を表３に示す。なお、表中の値は、MIL
規格値に対する％で示した。
【表】
実施例 ４
フロン113／DMM／ニトロメタン＝89.35／
10.17／0.48（重量％）から成る洗浄溶剤を二槽式
洗浄機に仕込み、経過時間に対する沸騰槽および
第２槽の組成変化をガスクロマトグラフイーで測
定した。結果を表４に示す。
10.17／0.48（重量％）から成る洗浄溶剤を二槽式
洗浄機に仕込み、経過時間に対する沸騰槽および
第２槽の組成変化をガスクロマトグラフイーで測
定した。結果を表４に示す。
【表】
【表】
表４から分るように、いずれの槽も組成変化は
極めて小さかつた。
極めて小さかつた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ １，１，２−トリクロロ−１，２，２−トリ
フルオロエタンとジメトキシメタンとから成る混
合溶剤に、ニトロアルカン、２−メチルフラン、
プロピレンオキサイドおよびエポキシブタンから
選ばれる１種以上の安定剤を添加することを特徴
とする洗浄溶剤。 ２ １，１，２−トリクロロ−１，２，２−トリ
フルオロエタンとジメトキシメタンとの混合割合
が重量比で10：90ないし90：10である請求項１記
載の洗浄溶剤。 ３ 安定剤の添加量は混合溶剤に対して0.01ない
し５重量％である請求項１記載の洗浄溶剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29782688A JPH02145698A (ja) | 1988-11-25 | 1988-11-25 | 洗浄溶剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29782688A JPH02145698A (ja) | 1988-11-25 | 1988-11-25 | 洗浄溶剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02145698A JPH02145698A (ja) | 1990-06-05 |
| JPH0470360B2 true JPH0470360B2 (ja) | 1992-11-10 |
Family
ID=17851660
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29782688A Granted JPH02145698A (ja) | 1988-11-25 | 1988-11-25 | 洗浄溶剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02145698A (ja) |
-
1988
- 1988-11-25 JP JP29782688A patent/JPH02145698A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02145698A (ja) | 1990-06-05 |
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