JPH0473294B2 - - Google Patents
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- JPH0473294B2 JPH0473294B2 JP57174808A JP17480882A JPH0473294B2 JP H0473294 B2 JPH0473294 B2 JP H0473294B2 JP 57174808 A JP57174808 A JP 57174808A JP 17480882 A JP17480882 A JP 17480882A JP H0473294 B2 JPH0473294 B2 JP H0473294B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- base
- sample
- exhaust hole
- holding
- exhaust
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P95/00—Generic processes or apparatus for manufacture or treatments not covered by the other groups of this subclass
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、試料の傾きを補正するためのθテー
ブルを備えた試料保持用テーブル装置の改良に関
する。
ブルを備えた試料保持用テーブル装置の改良に関
する。
ICの製造において、マスターマスク或いはレ
チクルにパターン断線等の欠陥が存在すると、所
望する半導体素子を得ることができず、歩留り低
下の原因となる。このため、従来マスターマスク
やレチクル等のパターン欠陥を自動的に検査する
パターン欠陥検査装置が用いられている。この装
置では、マスターマスクやレチクル等の試料をテ
ーブル上に固定保持し、このテーブルをＸ方向及
びＹ方向に移動すると共にθ方向に回動し、基準
マーク等に対する試料の位置及び傾きを補正した
のち、所望の検査が行われる。
チクルにパターン断線等の欠陥が存在すると、所
望する半導体素子を得ることができず、歩留り低
下の原因となる。このため、従来マスターマスク
やレチクル等のパターン欠陥を自動的に検査する
パターン欠陥検査装置が用いられている。この装
置では、マスターマスクやレチクル等の試料をテ
ーブル上に固定保持し、このテーブルをＸ方向及
びＹ方向に移動すると共にθ方向に回動し、基準
マーク等に対する試料の位置及び傾きを補正した
のち、所望の検査が行われる。
第１図及び第２図はこの種の装置に用いられる
試料保持用テーブル装置の概略構成を示すもの
で、第１図は平面図、第２図は第１図の矢視Ａ−
Ａ断面図である。Ｘ−Ｙテーブル１上には、試料
２を固定保持したθテーブル３が載置されてい
る。θテーブル３は、予圧バネ４及び押えローラ
５によりＸ−Ｙテーブル１上に支持され、Ｘ−Ｙ
テーブル１上の案内面でのすべり摩擦によつて固
定されている。また、Ｘ−Ｙテーブル１上にはモ
ータ６及びマイクロメータヘツド９からなる駆動
部が設けられ、この駆動部によりθテーブル３が
回動せられるものとなつている。そして、Ｘ−Ｙ
テーブル１の移動により試料２の位置が規定さ
れ、θテーブル３の回動により試料２の傾きが補
正されるものとなつている。
試料保持用テーブル装置の概略構成を示すもの
で、第１図は平面図、第２図は第１図の矢視Ａ−
Ａ断面図である。Ｘ−Ｙテーブル１上には、試料
２を固定保持したθテーブル３が載置されてい
る。θテーブル３は、予圧バネ４及び押えローラ
５によりＸ−Ｙテーブル１上に支持され、Ｘ−Ｙ
テーブル１上の案内面でのすべり摩擦によつて固
定されている。また、Ｘ−Ｙテーブル１上にはモ
ータ６及びマイクロメータヘツド９からなる駆動
部が設けられ、この駆動部によりθテーブル３が
回動せられるものとなつている。そして、Ｘ−Ｙ
テーブル１の移動により試料２の位置が規定さ
れ、θテーブル３の回動により試料２の傾きが補
正されるものとなつている。
ところで、このような従来のテーブル装置にあ
つては、θテーブル３の高い位置決め精度と、位
置決め後の高い安定性とを同時に得ることができ
ないと云う問題があつた。すなわち、θテーブル
３の高い位置決め精度を出すためには前記案内面
での摩擦係数を極めて小さくしなければならな
ず、一方位置決め後の高い安定性を得るには案内
面での摩擦係数が大きい程望ましい。前記した押
えローラ５によるθテーブル３の保持では、固定
時及び回動時における案内面での摩擦係数は一定
である。このため、θテーブル３の位置決め精度
或いは位置決め後の安定性のいずれかを儀牲にし
ているのが現状である。したがつて、このような
テーブル装置をパターン欠陥検査装置に用いた場
合、位置決め誤差やＸ−Ｙテーブルの移動に伴う
θテーブル３のすべり等によつて、試料の傾き誤
差が発生し、検査精度の低下を招くことになる。
なお、上記した問題はパターン欠陥検査用のテー
ブル装置に限らず、試料の傾きを補正する必要の
ある各種のテーブル装置についても云えることで
ある。
つては、θテーブル３の高い位置決め精度と、位
置決め後の高い安定性とを同時に得ることができ
ないと云う問題があつた。すなわち、θテーブル
３の高い位置決め精度を出すためには前記案内面
での摩擦係数を極めて小さくしなければならな
ず、一方位置決め後の高い安定性を得るには案内
面での摩擦係数が大きい程望ましい。前記した押
えローラ５によるθテーブル３の保持では、固定
時及び回動時における案内面での摩擦係数は一定
である。このため、θテーブル３の位置決め精度
或いは位置決め後の安定性のいずれかを儀牲にし
ているのが現状である。したがつて、このような
テーブル装置をパターン欠陥検査装置に用いた場
合、位置決め誤差やＸ−Ｙテーブルの移動に伴う
θテーブル３のすべり等によつて、試料の傾き誤
差が発生し、検査精度の低下を招くことになる。
なお、上記した問題はパターン欠陥検査用のテー
ブル装置に限らず、試料の傾きを補正する必要の
ある各種のテーブル装置についても云えることで
ある。
本発明の目的は、θテーブルの高い位置決め精
度及び位置決め後の高い安定性を得ることがで
き、パターン欠陥検査装置の検査精度向上等に寄
与し得る試料保持用テーブル装置を提供すること
にある。
度及び位置決め後の高い安定性を得ることがで
き、パターン欠陥検査装置の検査精度向上等に寄
与し得る試料保持用テーブル装置を提供すること
にある。
本発明の骨子は、圧縮気体によるテーブルの浮
上作用と真空チヤツクとを利用し、θテーブルの
案内面での摩擦係数を固定時と回動時とで可変す
ることにある。
上作用と真空チヤツクとを利用し、θテーブルの
案内面での摩擦係数を固定時と回動時とで可変す
ることにある。
すなわち本発明は、試料を固定保持するθテー
ブルをベース上に載置してなり、かつθテーブル
をベース上に固定する機能及びθテーブルを回動
せしめる機能を備えた試料保持用テーブル装置に
おいて、上記ベースにこのベース内を貫通し該ベ
ースのθテーブルとの接触部に開口する給排気孔
を設け、θテーブルの固定時には上記給排気孔を
真空引きしてθテーブルをベース上に真空チヤツ
クし、θテーブルの回動時には上記給排気孔に圧
縮気体を導入してθテーブルを浮上させるように
したものである。
ブルをベース上に載置してなり、かつθテーブル
をベース上に固定する機能及びθテーブルを回動
せしめる機能を備えた試料保持用テーブル装置に
おいて、上記ベースにこのベース内を貫通し該ベ
ースのθテーブルとの接触部に開口する給排気孔
を設け、θテーブルの固定時には上記給排気孔を
真空引きしてθテーブルをベース上に真空チヤツ
クし、θテーブルの回動時には上記給排気孔に圧
縮気体を導入してθテーブルを浮上させるように
したものである。
本発明によれば、θテーブルの回動時にはこの
テーブルを浮上させることにより極めて小さな摩
擦力でθテーブルをベース上に保持できるので、
ステイツクスリツプ等のないスムーズな動きでθ
テーブルを回動することができる。このため、θ
テーブルの位置決め精度の向上をはかり得、試料
の傾き補正を高精度に行うことができる。また、
θテーブルの固定時には真空チヤツクの真空力に
より極めて大きな摩擦力でθテーブルをベース上
に固定保持できるので、ベースの移動停止に伴う
加減速度による慣性力に対してθテーブルが動く
のを確実に防止することができる。つまり、θテ
ーブルの位置合わせ後の安定性の向上をはかり得
る。また、パターン欠陥検査装置等には、オート
フオカスのための空気ライン及び真空チヤツクの
ための真空ラインが使用されており、本発明をこ
の種の装置に適用した場合ベース内の給排気孔へ
の空気導入若しくは真空引きに上記各ラインを共
用できる等の効果がある。
テーブルを浮上させることにより極めて小さな摩
擦力でθテーブルをベース上に保持できるので、
ステイツクスリツプ等のないスムーズな動きでθ
テーブルを回動することができる。このため、θ
テーブルの位置決め精度の向上をはかり得、試料
の傾き補正を高精度に行うことができる。また、
θテーブルの固定時には真空チヤツクの真空力に
より極めて大きな摩擦力でθテーブルをベース上
に固定保持できるので、ベースの移動停止に伴う
加減速度による慣性力に対してθテーブルが動く
のを確実に防止することができる。つまり、θテ
ーブルの位置合わせ後の安定性の向上をはかり得
る。また、パターン欠陥検査装置等には、オート
フオカスのための空気ライン及び真空チヤツクの
ための真空ラインが使用されており、本発明をこ
の種の装置に適用した場合ベース内の給排気孔へ
の空気導入若しくは真空引きに上記各ラインを共
用できる等の効果がある。
第３図及び第４図はそれぞれ本発明の一実施例
の概略構成を示すもので、第３図は平面図、第４
図は第３図の矢視Ｂ−Ｂ断面図である。図中１１
は中央部を切欠されたベースであり、このベース
１１上にはθテーブル１２が載置されている。ベ
ース１１の内部には給排気用の透孔（給排気孔）
１３が設けられており、この給排気孔１３はベー
ス１１上面の上記θテーブル１２との接触部で４
個所開口し、さらにベース１１の側面で開口して
いる。ベース１１上面のθテーブル１２との接触
部には上記開口１３を含む凹部１４が形成されて
いる。そして、給排気口１３はベース１１の側面
開口から圧縮空気を導入され、或いは真空引きさ
れるものとなつている。θテーブル１２は円板体
の中央部を矩形状に切欠してなるもので、θテー
ブル１２にはその上面及び側面で開口する排気孔
１５が設けられている。そして、排気孔１５をθ
テーブル１２の側面開口から真空引きすることに
より、θテーブル１２上に試料１６が真空チヤツ
クされるものとなつている。
の概略構成を示すもので、第３図は平面図、第４
図は第３図の矢視Ｂ−Ｂ断面図である。図中１１
は中央部を切欠されたベースであり、このベース
１１上にはθテーブル１２が載置されている。ベ
ース１１の内部には給排気用の透孔（給排気孔）
１３が設けられており、この給排気孔１３はベー
ス１１上面の上記θテーブル１２との接触部で４
個所開口し、さらにベース１１の側面で開口して
いる。ベース１１上面のθテーブル１２との接触
部には上記開口１３を含む凹部１４が形成されて
いる。そして、給排気口１３はベース１１の側面
開口から圧縮空気を導入され、或いは真空引きさ
れるものとなつている。θテーブル１２は円板体
の中央部を矩形状に切欠してなるもので、θテー
ブル１２にはその上面及び側面で開口する排気孔
１５が設けられている。そして、排気孔１５をθ
テーブル１２の側面開口から真空引きすることに
より、θテーブル１２上に試料１６が真空チヤツ
クされるものとなつている。
一方、ベース１１の上面には、前記θテーブル
１２を案内保持する４個の案内部１７及びθテー
ブル１２を回動する駆動部１８がそれぞれ設けら
れている。案内部１７は第５図に第３図の矢視Ｃ
−Ｃ断面を示す如く固定軸１９、ステンレス鋼の
押えローラ２０、予圧バネ２１及びナツト２２等
からなるものであり、押えローラ２０がθテーブ
ル１２の側面に当接されてθテーブル１２がベー
ス１１上に保持されている。駆動部１８はパルス
モータ２３及びこのモータ２３の回転を直進運動
に変換するマイクロメータヘツド２４等からなる
もので、上記マイクロメータヘツド２４はθテー
ブル１２の側面に取着されたアーム２５に当接さ
れている。そして、このマイクロメータヘツド２
４の伸縮により、θテーブル１２は回動するもの
となつている。なお、図中２６はモータ２３とマ
イクロメータヘツド２４とを連結するためのカツ
プリング、２７はマイクロメータヘツド２４とア
ーム２５とを当接状態に保持するバネを示してい
る。
１２を案内保持する４個の案内部１７及びθテー
ブル１２を回動する駆動部１８がそれぞれ設けら
れている。案内部１７は第５図に第３図の矢視Ｃ
−Ｃ断面を示す如く固定軸１９、ステンレス鋼の
押えローラ２０、予圧バネ２１及びナツト２２等
からなるものであり、押えローラ２０がθテーブ
ル１２の側面に当接されてθテーブル１２がベー
ス１１上に保持されている。駆動部１８はパルス
モータ２３及びこのモータ２３の回転を直進運動
に変換するマイクロメータヘツド２４等からなる
もので、上記マイクロメータヘツド２４はθテー
ブル１２の側面に取着されたアーム２５に当接さ
れている。そして、このマイクロメータヘツド２
４の伸縮により、θテーブル１２は回動するもの
となつている。なお、図中２６はモータ２３とマ
イクロメータヘツド２４とを連結するためのカツ
プリング、２７はマイクロメータヘツド２４とア
ーム２５とを当接状態に保持するバネを示してい
る。
このような構成であれば、θテーブル１２の位
置合わせ時に前記給排気孔１３に圧縮空気を導入
することにより、θテーブル１２とベース１１と
の間に空気膜が形成され、θテーブル１２は僅か
に浮上することになる。したがつて、θテーブル
１２とベース１１との摩擦は極めて小さくなり、
駆動部１８によるθテーブル１２の回動をスムー
ズに行うことができる。このため、θテーブル１
２の位置決めを高精度に行うことができ、試料１
６の傾きを確実に補正することができる。また、
θテーブル１２の位置決め終了後には、前記給排
気孔１３を真空引きすることにより、θテーブル
１２がベース１１上に真空チヤツクされることに
なる。したがつて、θテーブル１２とベース１１
との摩擦を極めて大きくすることができ、ベース
１１の移動停止に伴う加減速度による慣性力に対
してもθテーブル１２が動く等の不都合は生じな
い。このため、θテーブル１２の位置合わせ後の
安定性向上をはかり得る。また、従来装置に比し
て、給排気孔１３を付加するのみの簡易な構造で
実現し得る等の利点もある。
置合わせ時に前記給排気孔１３に圧縮空気を導入
することにより、θテーブル１２とベース１１と
の間に空気膜が形成され、θテーブル１２は僅か
に浮上することになる。したがつて、θテーブル
１２とベース１１との摩擦は極めて小さくなり、
駆動部１８によるθテーブル１２の回動をスムー
ズに行うことができる。このため、θテーブル１
２の位置決めを高精度に行うことができ、試料１
６の傾きを確実に補正することができる。また、
θテーブル１２の位置決め終了後には、前記給排
気孔１３を真空引きすることにより、θテーブル
１２がベース１１上に真空チヤツクされることに
なる。したがつて、θテーブル１２とベース１１
との摩擦を極めて大きくすることができ、ベース
１１の移動停止に伴う加減速度による慣性力に対
してもθテーブル１２が動く等の不都合は生じな
い。このため、θテーブル１２の位置合わせ後の
安定性向上をはかり得る。また、従来装置に比し
て、給排気孔１３を付加するのみの簡易な構造で
実現し得る等の利点もある。
第６図は本発明をパターン欠陥検査装置に適用
した他の実施例を示す概略構成図である。なお、
第３図及び第４図と同一部分には同一符号を付し
て、その詳しい説明は省略する。この実施例で
は、前記ベース１１に設けた給排気孔１３及びθ
テーブル１２に設けた排気孔１５の側面開口はそ
れぞれ１個所とした。また、試料１６としてはレ
チクルを用いた。さらに、ベース１１は図に於い
て簡略して示したがＸ方向（紙面左右方向）に移
動可能なＸテーブル上にＹ方向（紙面左右方向）
に移動可能なＹテーブルを載置した、所謂Ｘ−Ｙ
テーブルで構成されたものとする。
した他の実施例を示す概略構成図である。なお、
第３図及び第４図と同一部分には同一符号を付し
て、その詳しい説明は省略する。この実施例で
は、前記ベース１１に設けた給排気孔１３及びθ
テーブル１２に設けた排気孔１５の側面開口はそ
れぞれ１個所とした。また、試料１６としてはレ
チクルを用いた。さらに、ベース１１は図に於い
て簡略して示したがＸ方向（紙面左右方向）に移
動可能なＸテーブル上にＹ方向（紙面左右方向）
に移動可能なＹテーブルを載置した、所謂Ｘ−Ｙ
テーブルで構成されたものとする。
レチクル１６の上方には、対物レンズ３１及び
光検出素子３２等を備えた光学鏡筒３３が配置さ
れ、この光学鏡筒３３は弾性部材３４を介して固
定端に固定されている。さらに、光学鏡筒３３は
モータ３５、ウオーム３６、ウオームホイール３
７及びネジ３８等からなる駆動機構により上下動
されるものとなつている。光学鏡筒３３の下部に
は空気の導入孔３９及び導出孔４０が設けられ、
導入孔３９には圧力センサ４１を備えた空気室４
２を介して圧縮空気ボンベ４３から圧縮空気が導
入されている。空気室４２の入口には絞り５０が
設けられている。そして、上記導入孔３９、導出
孔４０、空気室４１及び圧力センサ４２等からな
る、所謂空気マイクロメータによりレチクル１６
と光学鏡筒３３の下面との距離が検出されるもの
となつている。
光検出素子３２等を備えた光学鏡筒３３が配置さ
れ、この光学鏡筒３３は弾性部材３４を介して固
定端に固定されている。さらに、光学鏡筒３３は
モータ３５、ウオーム３６、ウオームホイール３
７及びネジ３８等からなる駆動機構により上下動
されるものとなつている。光学鏡筒３３の下部に
は空気の導入孔３９及び導出孔４０が設けられ、
導入孔３９には圧力センサ４１を備えた空気室４
２を介して圧縮空気ボンベ４３から圧縮空気が導
入されている。空気室４２の入口には絞り５０が
設けられている。そして、上記導入孔３９、導出
孔４０、空気室４１及び圧力センサ４２等からな
る、所謂空気マイクロメータによりレチクル１６
と光学鏡筒３３の下面との距離が検出されるもの
となつている。
一方、前記Ｘ−Ｙテーブル１１の給排気孔１３
には電磁バルブ４４を介して前記圧縮空気ボンベ
４３が接続されると共に、電磁バルブ４５を介し
て真空ポンプ４６に接続されている。また前記θ
テーブル１２の排気孔１５には電磁バルブ４７を
介して上記真空ポンプ４６が接続されている。な
お、図中４８は光源、４９は集光レンズを示して
いる。
には電磁バルブ４４を介して前記圧縮空気ボンベ
４３が接続されると共に、電磁バルブ４５を介し
て真空ポンプ４６に接続されている。また前記θ
テーブル１２の排気孔１５には電磁バルブ４７を
介して上記真空ポンプ４６が接続されている。な
お、図中４８は光源、４９は集光レンズを示して
いる。
このように構成されたパターン欠陥検査装置で
は、まずＸ−Ｙテーブル１１及びθテーブル１２
の移動によりレチクル１６の位置及び傾きが補正
される。すなわち、Ｘ−Ｙテーブル１１をＸ方向
及びＹ方向に移動したのち電磁バルブ４４，４７
を開き、電磁バルブ４５を閉じた状態でレチクル
１６をθテーブル１２上に固定保持すると共に、
θテーブル１２を浮上させる。そして、先の実施
例と同様にしてθテーブル１２を回動し、レチク
ル１２の傾きを補正する。レチクル１６の傾きが
補正されたのちは、前記電磁バルブ４４を閉じ、
電磁バルブ４５を開く。これによりθテーブル１
２はＸ−Ｙテーブル１１上に真空チヤツクされる
ことになる。これ以降は通常の操作によりパター
ン欠陥検査が行われる。すなわち、レチクル１６
上に光源４８からの光をスポツト照射し、その透
過光を対物レンズ３１により光検出素子３２の受
光面に結像することによつて、レチクル１６上の
パターンが検査される。そして、レチクル１６に
反り等の上下動がある場合、この変位を前記空気
マイクロメータにて検出し、前記駆動機構により
光学鏡筒３３を上下動することによつて、レチク
ル１６の反り等に追従して自動焦点合わせが行わ
れる。
は、まずＸ−Ｙテーブル１１及びθテーブル１２
の移動によりレチクル１６の位置及び傾きが補正
される。すなわち、Ｘ−Ｙテーブル１１をＸ方向
及びＹ方向に移動したのち電磁バルブ４４，４７
を開き、電磁バルブ４５を閉じた状態でレチクル
１６をθテーブル１２上に固定保持すると共に、
θテーブル１２を浮上させる。そして、先の実施
例と同様にしてθテーブル１２を回動し、レチク
ル１２の傾きを補正する。レチクル１６の傾きが
補正されたのちは、前記電磁バルブ４４を閉じ、
電磁バルブ４５を開く。これによりθテーブル１
２はＸ−Ｙテーブル１１上に真空チヤツクされる
ことになる。これ以降は通常の操作によりパター
ン欠陥検査が行われる。すなわち、レチクル１６
上に光源４８からの光をスポツト照射し、その透
過光を対物レンズ３１により光検出素子３２の受
光面に結像することによつて、レチクル１６上の
パターンが検査される。そして、レチクル１６に
反り等の上下動がある場合、この変位を前記空気
マイクロメータにて検出し、前記駆動機構により
光学鏡筒３３を上下動することによつて、レチク
ル１６の反り等に追従して自動焦点合わせが行わ
れる。
したがつて、レチクル１６に反り等の上下動が
あつてもパターン検査を精度良く行うことができ
る。また、レチクル１６の傾きを補正する場合θ
テーブル１２を浮上させることにより、さらにＸ
−Ｙテーブル１１を移動する場合このテーブル１
１上にθテーブル１２を真空チヤツクすることに
より、先の実施例と同様にθテーブル１２の位置
決め精度及び位置決め後の安定性の向上を共に達
成することができる。また、本実施例では、θテ
ーブル１２の回動時に給排気孔１３に空気を挿入
するために格別の空気ライン等を設ける必要はな
く、パターン欠陥検査装置に通常用いられている
空気マイクロメータに空気を導入するための圧縮
空気ボンベ４３を共用することができる。同様
に、θテーブル１２の固定時に給排気孔１３を真
空引きするために格別の真空ライン等を設ける必
要なく、レチクル１６の真空チヤツクのための真
空ポンプ４６を共用することができる。
あつてもパターン検査を精度良く行うことができ
る。また、レチクル１６の傾きを補正する場合θ
テーブル１２を浮上させることにより、さらにＸ
−Ｙテーブル１１を移動する場合このテーブル１
１上にθテーブル１２を真空チヤツクすることに
より、先の実施例と同様にθテーブル１２の位置
決め精度及び位置決め後の安定性の向上を共に達
成することができる。また、本実施例では、θテ
ーブル１２の回動時に給排気孔１３に空気を挿入
するために格別の空気ライン等を設ける必要はな
く、パターン欠陥検査装置に通常用いられている
空気マイクロメータに空気を導入するための圧縮
空気ボンベ４３を共用することができる。同様
に、θテーブル１２の固定時に給排気孔１３を真
空引きするために格別の真空ライン等を設ける必
要なく、レチクル１６の真空チヤツクのための真
空ポンプ４６を共用することができる。
なお、本発明は上述した各実施例に限定される
ものではない。例えば、前記案内部としては、前
記θテーブルの側面に当接し該テーブルをベース
上に案内保持できるものであればよく、第７図に
示す如き構成としてもよい。又、テーブルを軸を
中心として回動させる機構であつてもよい。さら
に、前記ベースに設けた給排気孔の個数やベース
上面での開口の個数等は、仕様に応じて適宜定め
ればよい。さらに、θテーブルによる試料の固定
保持は真空チヤツクに限るものではなく、固定部
材を用いたり、静電チヤツクを用いてもよい。ま
た、θテーブルの形状や大きさ等は、仕様に応じ
て適宜変更可能である。さらに、第６図の実施例
に於いて、鏡筒３３及びその支持部材等をテーブ
ル１２の下方に配置し、光源４８や集光レンズ４
９をテーブル１２の上方に配置し上下逆としても
よい。そして、本発明はパターン欠陥検査用に限
らず、試料の傾きを補正する必要のある各種のテ
ーブル装置に適用することが可能である。その
他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々変形
して実施することができる。
ものではない。例えば、前記案内部としては、前
記θテーブルの側面に当接し該テーブルをベース
上に案内保持できるものであればよく、第７図に
示す如き構成としてもよい。又、テーブルを軸を
中心として回動させる機構であつてもよい。さら
に、前記ベースに設けた給排気孔の個数やベース
上面での開口の個数等は、仕様に応じて適宜定め
ればよい。さらに、θテーブルによる試料の固定
保持は真空チヤツクに限るものではなく、固定部
材を用いたり、静電チヤツクを用いてもよい。ま
た、θテーブルの形状や大きさ等は、仕様に応じ
て適宜変更可能である。さらに、第６図の実施例
に於いて、鏡筒３３及びその支持部材等をテーブ
ル１２の下方に配置し、光源４８や集光レンズ４
９をテーブル１２の上方に配置し上下逆としても
よい。そして、本発明はパターン欠陥検査用に限
らず、試料の傾きを補正する必要のある各種のテ
ーブル装置に適用することが可能である。その
他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々変形
して実施することができる。
第１図は従来の試料保持用テーブル装置の概略
構成を示す平面図、第２図は第１図の矢視Ａ−Ａ
断面を示す図、第３図は本発明の一実施例の概略
構成を示す平面図、第４図は第３図の矢視Ｂ−Ｂ
断面を示す図、第５図は第３図の矢視Ｃ−Ｃ断面
を示す図、第６図は本発明をパターン転写装置に
適用した他の実施例を示す概略構成図、第７図は
変形例を説明するための断面図である。 １１…ベース（Ｘ−Ｙステージ）、１２…θテ
ーブル、１３…給排気孔、１４…凹部、１５…排
気孔、１６…試料（レチクル）、１７…案内部、
１８…駆動部、４３…圧縮空気ボンベ、４４，４
５，４７…電磁バルブ、４６…真空ポンプ。
構成を示す平面図、第２図は第１図の矢視Ａ−Ａ
断面を示す図、第３図は本発明の一実施例の概略
構成を示す平面図、第４図は第３図の矢視Ｂ−Ｂ
断面を示す図、第５図は第３図の矢視Ｃ−Ｃ断面
を示す図、第６図は本発明をパターン転写装置に
適用した他の実施例を示す概略構成図、第７図は
変形例を説明するための断面図である。 １１…ベース（Ｘ−Ｙステージ）、１２…θテ
ーブル、１３…給排気孔、１４…凹部、１５…排
気孔、１６…試料（レチクル）、１７…案内部、
１８…駆動部、４３…圧縮空気ボンベ、４４，４
５，４７…電磁バルブ、４６…真空ポンプ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ベース上に載置され試料を固定保持するテー
ブルと、前記ベースに設けられ前記テーブルの周
辺部の少なくとも一箇所を押圧して該テーブルを
回動方向に案内保持する案内部と、前記ベース上
に設けられ前記テーブルを回動せしめる回動駆動
部と、前記ベース内を貫通して設けられ該ベース
の前記テーブルとの接触部に開口する吸排気孔と
を具備し、前記テーブルの固定時には前記吸排気
孔を真空引きして上記テーブルを真空チヤツク
し、かつ前記テーブルの回動時には前記吸排気孔
に圧縮気体を導入して上記テーブルを浮上せしめ
ることを特徴とする試料保持用テーブル装置。 ２ 前記ベースは、Ｘ方向に移動可能なＸテーブ
ル及びこのＸテーブル上に載置されたＹ方向に移
動可能なＹテーブルからなるものであることを特
徴とする特許請求の範囲第１項記載の試料保持用
テーブル装置。 ３ 前記テーブルは前記試料を固定保持するため
の排気孔を備えたものであり、この排気孔は前記
ベースに設けられた吸排気孔と共に同一の真空ポ
ンプに接続されたものであることを特徴とする特
許請求の範囲第１項記載の試料保持用テーブル装
置。 ４ ベース上に載置され試料を固定保持する円板
状のテーブルと、前記ベースに設けられ前記テー
ブルの周辺部を中心方向及びベース側に押圧して
該テーブルを回動方向に案内保持する案内部と、
前記ベース上に設けられ前記テーブルを回動せし
める回動駆動部と、前記ベース内を貫通して設け
られ該ベースの前記テーブルとの接触部で且つ前
記テーブルの周辺近傍位置に開口する吸排気孔と
を具備し、前記テーブルの固定時には前記吸排気
孔を真空引きして前記テーブルを真空チヤツク
し、かつ前記テーブルの回動時には前記吸排気孔
に圧縮気体を導入して上記テーブルを浮上せしめ
ることを特徴とする試料保持用テーブル装置。 ５ 前記ベースは、Ｘ方向に移動可能なＸテーブ
ル及びこのＸテーブル上に載置されたＹ方向に移
動可能なＹテーブルからなるものであることを特
徴とする特許請求の範囲第３項記載の試料保持用
テーブル装置。 ６ 前記テーブルは前記試料を固定保持するため
の排気孔を備えたものであり、この排気孔は前記
ベースに設けられた吸排気孔と共に同一の真空ポ
ンプに接続されたものであることを特徴とする特
許請求の範囲第３項記載の試料保持用テーブル装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57174808A JPS5963727A (ja) | 1982-10-05 | 1982-10-05 | 試料保持用テ−ブル装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57174808A JPS5963727A (ja) | 1982-10-05 | 1982-10-05 | 試料保持用テ−ブル装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5963727A JPS5963727A (ja) | 1984-04-11 |
| JPH0473294B2 true JPH0473294B2 (ja) | 1992-11-20 |
Family
ID=15985021
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57174808A Granted JPS5963727A (ja) | 1982-10-05 | 1982-10-05 | 試料保持用テ−ブル装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5963727A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0715137Y2 (ja) * | 1989-06-30 | 1995-04-10 | ソニー株式会社 | ウエハー保持装置 |
| JP4606956B2 (ja) * | 2005-07-11 | 2011-01-05 | 住友重機械工業株式会社 | ステージ装置 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5066174A (ja) * | 1973-10-12 | 1975-06-04 | ||
| JPS54762U (ja) * | 1977-06-06 | 1979-01-06 | ||
| JPS5435652U (ja) * | 1977-08-15 | 1979-03-08 | ||
| JPS5687318A (en) * | 1979-12-18 | 1981-07-15 | Toshiba Corp | Finely movable table |
-
1982
- 1982-10-05 JP JP57174808A patent/JPS5963727A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5963727A (ja) | 1984-04-11 |
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