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JPH0473294B2 - - Google Patents
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JPH0473294B2 - - Google Patents

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JPH0473294B2
JPH0473294B2 JP57174808A JP17480882A JPH0473294B2 JP H0473294 B2 JPH0473294 B2 JP H0473294B2 JP 57174808 A JP57174808 A JP 57174808A JP 17480882 A JP17480882 A JP 17480882A JP H0473294 B2 JPH0473294 B2 JP H0473294B2
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JP
Japan
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base
sample
exhaust hole
holding
exhaust
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JP57174808A
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Kazuyoshi Sugihara
Tooru Tojo
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Toshiba Corp
Original Assignee
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10PGENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P95/00Generic processes or apparatus for manufacture or treatments not covered by the other groups of this subclass

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、試料の傾きを補正するためのθテー
ブルを備えた試料保持用テーブル装置の改良に関
する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field of the Invention] The present invention relates to an improvement of a sample holding table device equipped with a θ table for correcting the inclination of a sample.

〔発明の技術的背景とその問題点〕[Technical background of the invention and its problems]

ICの製造において、マスターマスク或いはレ
チクルにパターン断線等の欠陥が存在すると、所
望する半導体素子を得ることができず、歩留り低
下の原因となる。このため、従来マスターマスク
やレチクル等のパターン欠陥を自動的に検査する
パターン欠陥検査装置が用いられている。この装
置では、マスターマスクやレチクル等の試料をテ
ーブル上に固定保持し、このテーブルをX方向及
びY方向に移動すると共にθ方向に回動し、基準
マーク等に対する試料の位置及び傾きを補正した
のち、所望の検査が行われる。
In IC manufacturing, if a master mask or reticle has a defect such as a pattern breakage, a desired semiconductor element cannot be obtained, resulting in a decrease in yield. For this reason, pattern defect inspection apparatuses have conventionally been used that automatically inspect pattern defects in master masks, reticles, and the like. In this device, a sample such as a master mask or reticle is fixedly held on a table, and this table is moved in the X and Y directions and rotated in the θ direction to correct the position and tilt of the sample relative to reference marks, etc. Afterwards, desired inspections are performed.

第1図及び第2図はこの種の装置に用いられる
試料保持用テーブル装置の概略構成を示すもの
で、第1図は平面図、第2図は第1図の矢視A−
A断面図である。X−Yテーブル1上には、試料
2を固定保持したθテーブル3が載置されてい
る。θテーブル3は、予圧バネ4及び押えローラ
5によりX−Yテーブル1上に支持され、X−Y
テーブル1上の案内面でのすべり摩擦によつて固
定されている。また、X−Yテーブル1上にはモ
ータ6及びマイクロメータヘツド9からなる駆動
部が設けられ、この駆動部によりθテーブル3が
回動せられるものとなつている。そして、X−Y
テーブル1の移動により試料2の位置が規定さ
れ、θテーブル3の回動により試料2の傾きが補
正されるものとなつている。
1 and 2 schematically show the structure of a sample holding table device used in this type of apparatus. FIG. 1 is a plan view, and FIG.
It is an A sectional view. A θ table 3 on which a sample 2 is fixedly held is placed on the XY table 1 . The θ table 3 is supported on the X-Y table 1 by a preload spring 4 and a presser roller 5, and
It is fixed by sliding friction on the guide surface on the table 1. Further, a driving section consisting of a motor 6 and a micrometer head 9 is provided on the X-Y table 1, and the .theta. table 3 can be rotated by this driving section. And X-Y
The position of the sample 2 is defined by the movement of the table 1, and the tilt of the sample 2 is corrected by the rotation of the θ table 3.

ところで、このような従来のテーブル装置にあ
つては、θテーブル3の高い位置決め精度と、位
置決め後の高い安定性とを同時に得ることができ
ないと云う問題があつた。すなわち、θテーブル
3の高い位置決め精度を出すためには前記案内面
での摩擦係数を極めて小さくしなければならな
ず、一方位置決め後の高い安定性を得るには案内
面での摩擦係数が大きい程望ましい。前記した押
えローラ5によるθテーブル3の保持では、固定
時及び回動時における案内面での摩擦係数は一定
である。このため、θテーブル3の位置決め精度
或いは位置決め後の安定性のいずれかを儀牲にし
ているのが現状である。したがつて、このような
テーブル装置をパターン欠陥検査装置に用いた場
合、位置決め誤差やX−Yテーブルの移動に伴う
θテーブル3のすべり等によつて、試料の傾き誤
差が発生し、検査精度の低下を招くことになる。
なお、上記した問題はパターン欠陥検査用のテー
ブル装置に限らず、試料の傾きを補正する必要の
ある各種のテーブル装置についても云えることで
ある。
However, such a conventional table device has a problem in that it is not possible to simultaneously obtain high positioning accuracy of the θ table 3 and high stability after positioning. That is, in order to achieve high positioning accuracy of the θ table 3, the coefficient of friction on the guide surface must be extremely small, and on the other hand, in order to obtain high stability after positioning, the coefficient of friction on the guide surface must be large. It is desirable. When the θ table 3 is held by the presser roller 5 described above, the coefficient of friction on the guide surface is constant when it is fixed and when it is rotated. For this reason, the current situation is that either the positioning accuracy of the θ table 3 or the stability after positioning is sacrificed. Therefore, when such a table device is used in a pattern defect inspection device, an error in the tilt of the sample occurs due to positioning errors and slippage of the θ table 3 due to the movement of the X-Y table, which impairs inspection accuracy. This will lead to a decrease in
Note that the above-mentioned problem is not limited to table devices for pattern defect inspection, but also applies to various table devices that require correction of the inclination of a sample.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明の目的は、θテーブルの高い位置決め精
度及び位置決め後の高い安定性を得ることがで
き、パターン欠陥検査装置の検査精度向上等に寄
与し得る試料保持用テーブル装置を提供すること
にある。
An object of the present invention is to provide a sample holding table device that can obtain high positioning accuracy of a θ table and high stability after positioning, and can contribute to improving the inspection accuracy of a pattern defect inspection device.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本発明の骨子は、圧縮気体によるテーブルの浮
上作用と真空チヤツクとを利用し、θテーブルの
案内面での摩擦係数を固定時と回動時とで可変す
ることにある。
The gist of the present invention is to utilize the floating effect of the table by compressed gas and the vacuum chuck to vary the coefficient of friction on the guide surface of the θ table between when it is fixed and when it is rotated.

すなわち本発明は、試料を固定保持するθテー
ブルをベース上に載置してなり、かつθテーブル
をベース上に固定する機能及びθテーブルを回動
せしめる機能を備えた試料保持用テーブル装置に
おいて、上記ベースにこのベース内を貫通し該ベ
ースのθテーブルとの接触部に開口する給排気孔
を設け、θテーブルの固定時には上記給排気孔を
真空引きしてθテーブルをベース上に真空チヤツ
クし、θテーブルの回動時には上記給排気孔に圧
縮気体を導入してθテーブルを浮上させるように
したものである。
That is, the present invention provides a sample holding table device which includes a θ table for fixedly holding a sample placed on a base, and has a function of fixing the θ table on the base and a function of rotating the θ table. The base is provided with a supply and exhaust hole that penetrates through the base and opens at the contact part of the base with the θ table, and when the θ table is fixed, the supply and exhaust hole is evacuated to place the θ table on the base. When the .theta. table is rotated, compressed gas is introduced into the air supply/exhaust hole to float the .theta. table.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明によれば、θテーブルの回動時にはこの
テーブルを浮上させることにより極めて小さな摩
擦力でθテーブルをベース上に保持できるので、
ステイツクスリツプ等のないスムーズな動きでθ
テーブルを回動することができる。このため、θ
テーブルの位置決め精度の向上をはかり得、試料
の傾き補正を高精度に行うことができる。また、
θテーブルの固定時には真空チヤツクの真空力に
より極めて大きな摩擦力でθテーブルをベース上
に固定保持できるので、ベースの移動停止に伴う
加減速度による慣性力に対してθテーブルが動く
のを確実に防止することができる。つまり、θテ
ーブルの位置合わせ後の安定性の向上をはかり得
る。また、パターン欠陥検査装置等には、オート
フオカスのための空気ライン及び真空チヤツクの
ための真空ラインが使用されており、本発明をこ
の種の装置に適用した場合ベース内の給排気孔へ
の空気導入若しくは真空引きに上記各ラインを共
用できる等の効果がある。
According to the present invention, when the θ table is rotated, the θ table can be held on the base with extremely small frictional force by floating the table.
θ with smooth movement without stick slip etc.
The table can be rotated. For this reason, θ
The positioning accuracy of the table can be improved, and the tilt of the sample can be corrected with high precision. Also,
When fixing the θ table, the vacuum force of the vacuum chuck allows the θ table to be fixed and held on the base with an extremely large frictional force, which reliably prevents the θ table from moving due to the inertial force caused by the acceleration/deceleration that occurs when the base stops moving. can do. In other words, it is possible to improve the stability after alignment of the θ table. In addition, pattern defect inspection equipment uses an air line for autofocus and a vacuum line for a vacuum chuck, and if the present invention is applied to this type of equipment, air to the air supply/exhaust hole in the base is used. This has the advantage that each of the above lines can be used in common for introduction or vacuuming.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

第3図及び第4図はそれぞれ本発明の一実施例
の概略構成を示すもので、第3図は平面図、第4
図は第3図の矢視B−B断面図である。図中11
は中央部を切欠されたベースであり、このベース
11上にはθテーブル12が載置されている。ベ
ース11の内部には給排気用の透孔(給排気孔)
13が設けられており、この給排気孔13はベー
ス11上面の上記θテーブル12との接触部で4
個所開口し、さらにベース11の側面で開口して
いる。ベース11上面のθテーブル12との接触
部には上記開口13を含む凹部14が形成されて
いる。そして、給排気口13はベース11の側面
開口から圧縮空気を導入され、或いは真空引きさ
れるものとなつている。θテーブル12は円板体
の中央部を矩形状に切欠してなるもので、θテー
ブル12にはその上面及び側面で開口する排気孔
15が設けられている。そして、排気孔15をθ
テーブル12の側面開口から真空引きすることに
より、θテーブル12上に試料16が真空チヤツ
クされるものとなつている。
3 and 4 each show a schematic configuration of an embodiment of the present invention, with FIG. 3 being a plan view and FIG.
The figure is a sectional view taken along the line BB in FIG. 3. 11 in the diagram
is a base with a notch in the center, and a θ table 12 is placed on this base 11. Inside the base 11 is a through hole for air supply and exhaust (air supply and exhaust hole).
13 is provided, and this air supply/exhaust hole 13 is connected to the θ table 12 on the upper surface of the base 11.
There are openings at several locations, and further openings at the side surfaces of the base 11. A recessed portion 14 including the opening 13 is formed in the upper surface of the base 11 at a contact portion with the θ table 12 . Compressed air is introduced into the air supply/exhaust port 13 from a side opening of the base 11, or the air is evacuated. The θ table 12 is formed by cutting out a rectangular central portion of a disc body, and the θ table 12 is provided with exhaust holes 15 that open at the top and side surfaces thereof. Then, the exhaust hole 15 is set to θ
By drawing a vacuum through the side opening of the table 12, the sample 16 is vacuum chucked onto the θ table 12.

一方、ベース11の上面には、前記θテーブル
12を案内保持する4個の案内部17及びθテー
ブル12を回動する駆動部18がそれぞれ設けら
れている。案内部17は第5図に第3図の矢視C
−C断面を示す如く固定軸19、ステンレス鋼の
押えローラ20、予圧バネ21及びナツト22等
からなるものであり、押えローラ20がθテーブ
ル12の側面に当接されてθテーブル12がベー
ス11上に保持されている。駆動部18はパルス
モータ23及びこのモータ23の回転を直進運動
に変換するマイクロメータヘツド24等からなる
もので、上記マイクロメータヘツド24はθテー
ブル12の側面に取着されたアーム25に当接さ
れている。そして、このマイクロメータヘツド2
4の伸縮により、θテーブル12は回動するもの
となつている。なお、図中26はモータ23とマ
イクロメータヘツド24とを連結するためのカツ
プリング、27はマイクロメータヘツド24とア
ーム25とを当接状態に保持するバネを示してい
る。
On the other hand, on the upper surface of the base 11, four guide sections 17 for guiding and holding the .theta. table 12 and a drive section 18 for rotating the .theta. table 12 are provided, respectively. The guide portion 17 is shown in FIG. 5 in the direction of arrow C in FIG.
As shown in the -C cross section, it consists of a fixed shaft 19, a press roller 20 made of stainless steel, a preload spring 21, a nut 22, etc., and the press roller 20 is in contact with the side surface of the θ table 12, and the θ table 12 is attached to the base 11. held on top. The drive unit 18 consists of a pulse motor 23 and a micrometer head 24 that converts the rotation of this motor 23 into linear motion. has been done. And this micrometer head 2
4, the θ table 12 rotates. In the figure, reference numeral 26 indicates a coupling for connecting the motor 23 and the micrometer head 24, and reference numeral 27 indicates a spring that holds the micrometer head 24 and the arm 25 in contact with each other.

このような構成であれば、θテーブル12の位
置合わせ時に前記給排気孔13に圧縮空気を導入
することにより、θテーブル12とベース11と
の間に空気膜が形成され、θテーブル12は僅か
に浮上することになる。したがつて、θテーブル
12とベース11との摩擦は極めて小さくなり、
駆動部18によるθテーブル12の回動をスムー
ズに行うことができる。このため、θテーブル1
2の位置決めを高精度に行うことができ、試料1
6の傾きを確実に補正することができる。また、
θテーブル12の位置決め終了後には、前記給排
気孔13を真空引きすることにより、θテーブル
12がベース11上に真空チヤツクされることに
なる。したがつて、θテーブル12とベース11
との摩擦を極めて大きくすることができ、ベース
11の移動停止に伴う加減速度による慣性力に対
してもθテーブル12が動く等の不都合は生じな
い。このため、θテーブル12の位置合わせ後の
安定性向上をはかり得る。また、従来装置に比し
て、給排気孔13を付加するのみの簡易な構造で
実現し得る等の利点もある。
With such a configuration, by introducing compressed air into the supply/exhaust hole 13 when aligning the θ table 12, an air film is formed between the θ table 12 and the base 11, and the θ table 12 is slightly It will surface. Therefore, the friction between the θ table 12 and the base 11 becomes extremely small.
The θ table 12 can be smoothly rotated by the drive unit 18. Therefore, θ table 1
2 can be positioned with high precision, and sample 1 can be positioned with high precision.
6 can be reliably corrected. Also,
After the positioning of the .theta. table 12 is completed, the .theta. table 12 is vacuum-chucked onto the base 11 by evacuating the air supply/exhaust hole 13. Therefore, the θ table 12 and the base 11
The friction between the θ table 12 and the θ table 12 can be made extremely large, and problems such as movement of the θ table 12 will not occur even with the inertial force caused by the acceleration/deceleration caused by the stoppage of the movement of the base 11. Therefore, the stability of the θ table 12 after alignment can be improved. Further, compared to conventional devices, there is an advantage that it can be realized with a simple structure that only requires adding the supply/exhaust hole 13.

第6図は本発明をパターン欠陥検査装置に適用
した他の実施例を示す概略構成図である。なお、
第3図及び第4図と同一部分には同一符号を付し
て、その詳しい説明は省略する。この実施例で
は、前記ベース11に設けた給排気孔13及びθ
テーブル12に設けた排気孔15の側面開口はそ
れぞれ1個所とした。また、試料16としてはレ
チクルを用いた。さらに、ベース11は図に於い
て簡略して示したがX方向(紙面左右方向)に移
動可能なXテーブル上にY方向(紙面左右方向)
に移動可能なYテーブルを載置した、所謂X−Y
テーブルで構成されたものとする。
FIG. 6 is a schematic configuration diagram showing another embodiment in which the present invention is applied to a pattern defect inspection apparatus. In addition,
The same parts as in FIGS. 3 and 4 are given the same reference numerals, and detailed explanation thereof will be omitted. In this embodiment, the air supply/exhaust hole 13 provided in the base 11 and θ
Each of the exhaust holes 15 provided in the table 12 had one side opening. Further, as the sample 16, a reticle was used. Furthermore, although the base 11 is shown simply in the figure, it is placed on an X table that is movable in the X direction (horizontal direction in the paper) in the Y direction (horizontal direction in the paper).
The so-called X-Y
It is assumed that it consists of a table.

レチクル16の上方には、対物レンズ31及び
光検出素子32等を備えた光学鏡筒33が配置さ
れ、この光学鏡筒33は弾性部材34を介して固
定端に固定されている。さらに、光学鏡筒33は
モータ35、ウオーム36、ウオームホイール3
7及びネジ38等からなる駆動機構により上下動
されるものとなつている。光学鏡筒33の下部に
は空気の導入孔39及び導出孔40が設けられ、
導入孔39には圧力センサ41を備えた空気室4
2を介して圧縮空気ボンベ43から圧縮空気が導
入されている。空気室42の入口には絞り50が
設けられている。そして、上記導入孔39、導出
孔40、空気室41及び圧力センサ42等からな
る、所謂空気マイクロメータによりレチクル16
と光学鏡筒33の下面との距離が検出されるもの
となつている。
An optical lens barrel 33 equipped with an objective lens 31, a photodetector element 32, etc. is arranged above the reticle 16, and this optical lens barrel 33 is fixed to a fixed end via an elastic member 34. Furthermore, the optical lens barrel 33 includes a motor 35, a worm 36, and a worm wheel 3.
7 and a screw 38, etc., to move it up and down. An air introduction hole 39 and an air outlet hole 40 are provided at the bottom of the optical barrel 33,
The introduction hole 39 has an air chamber 4 equipped with a pressure sensor 41.
Compressed air is introduced from a compressed air cylinder 43 via 2. A throttle 50 is provided at the entrance of the air chamber 42. Then, the reticle 16 is measured by a so-called air micrometer consisting of the introduction hole 39, the outlet hole 40, the air chamber 41, the pressure sensor 42, etc.
The distance between the optical lens barrel 33 and the lower surface of the optical lens barrel 33 is detected.

一方、前記X−Yテーブル11の給排気孔13
には電磁バルブ44を介して前記圧縮空気ボンベ
43が接続されると共に、電磁バルブ45を介し
て真空ポンプ46に接続されている。また前記θ
テーブル12の排気孔15には電磁バルブ47を
介して上記真空ポンプ46が接続されている。な
お、図中48は光源、49は集光レンズを示して
いる。
On the other hand, the supply/exhaust hole 13 of the X-Y table 11
The compressed air cylinder 43 is connected via an electromagnetic valve 44, and the vacuum pump 46 is connected via an electromagnetic valve 45. Also, the above θ
The vacuum pump 46 is connected to the exhaust hole 15 of the table 12 via an electromagnetic valve 47. In addition, in the figure, 48 indicates a light source, and 49 indicates a condensing lens.

このように構成されたパターン欠陥検査装置で
は、まずX−Yテーブル11及びθテーブル12
の移動によりレチクル16の位置及び傾きが補正
される。すなわち、X−Yテーブル11をX方向
及びY方向に移動したのち電磁バルブ44,47
を開き、電磁バルブ45を閉じた状態でレチクル
16をθテーブル12上に固定保持すると共に、
θテーブル12を浮上させる。そして、先の実施
例と同様にしてθテーブル12を回動し、レチク
ル12の傾きを補正する。レチクル16の傾きが
補正されたのちは、前記電磁バルブ44を閉じ、
電磁バルブ45を開く。これによりθテーブル1
2はX−Yテーブル11上に真空チヤツクされる
ことになる。これ以降は通常の操作によりパター
ン欠陥検査が行われる。すなわち、レチクル16
上に光源48からの光をスポツト照射し、その透
過光を対物レンズ31により光検出素子32の受
光面に結像することによつて、レチクル16上の
パターンが検査される。そして、レチクル16に
反り等の上下動がある場合、この変位を前記空気
マイクロメータにて検出し、前記駆動機構により
光学鏡筒33を上下動することによつて、レチク
ル16の反り等に追従して自動焦点合わせが行わ
れる。
In the pattern defect inspection apparatus configured in this way, first, the X-Y table 11 and the θ table 12 are
The position and inclination of the reticle 16 are corrected by the movement of the reticle 16 . That is, after moving the X-Y table 11 in the X direction and the Y direction, the electromagnetic valves 44 and 47
is opened and the reticle 16 is fixedly held on the θ table 12 with the electromagnetic valve 45 closed.
The θ table 12 is floated. Then, as in the previous embodiment, the θ table 12 is rotated to correct the inclination of the reticle 12. After the inclination of the reticle 16 is corrected, close the electromagnetic valve 44,
Open the electromagnetic valve 45. As a result, θ table 1
2 will be vacuum chucked onto the X-Y table 11. After this, pattern defect inspection is performed through normal operations. That is, the reticle 16
The pattern on the reticle 16 is inspected by spot-irradiating light from a light source 48 onto the reticle 16 and focusing the transmitted light on the light receiving surface of the photodetecting element 32 using the objective lens 31. If the reticle 16 has vertical movement such as warpage, this displacement is detected by the air micrometer, and the optical lens barrel 33 is moved up and down by the drive mechanism to follow the warp or the like of the reticle 16. automatic focusing is performed.

したがつて、レチクル16に反り等の上下動が
あつてもパターン検査を精度良く行うことができ
る。また、レチクル16の傾きを補正する場合θ
テーブル12を浮上させることにより、さらにX
−Yテーブル11を移動する場合このテーブル1
1上にθテーブル12を真空チヤツクすることに
より、先の実施例と同様にθテーブル12の位置
決め精度及び位置決め後の安定性の向上を共に達
成することができる。また、本実施例では、θテ
ーブル12の回動時に給排気孔13に空気を挿入
するために格別の空気ライン等を設ける必要はな
く、パターン欠陥検査装置に通常用いられている
空気マイクロメータに空気を導入するための圧縮
空気ボンベ43を共用することができる。同様
に、θテーブル12の固定時に給排気孔13を真
空引きするために格別の真空ライン等を設ける必
要なく、レチクル16の真空チヤツクのための真
空ポンプ46を共用することができる。
Therefore, even if the reticle 16 undergoes vertical movement such as warping, pattern inspection can be performed with high accuracy. In addition, when correcting the inclination of the reticle 16, θ
By levitating the table 12, further
- When moving Y table 11, this table 1
By vacuum chucking the θ table 12 on the θ table 1, it is possible to improve both the positioning accuracy of the θ table 12 and the stability after positioning, as in the previous embodiment. Further, in this embodiment, there is no need to provide a special air line or the like to insert air into the air supply/exhaust hole 13 when the θ table 12 rotates, and an air micrometer normally used in pattern defect inspection equipment can be used. A compressed air cylinder 43 for introducing air can be shared. Similarly, the vacuum pump 46 for the vacuum chuck of the reticle 16 can be shared, without the need to provide a special vacuum line or the like to evacuate the supply/exhaust hole 13 when the θ table 12 is fixed.

なお、本発明は上述した各実施例に限定される
ものではない。例えば、前記案内部としては、前
記θテーブルの側面に当接し該テーブルをベース
上に案内保持できるものであればよく、第7図に
示す如き構成としてもよい。又、テーブルを軸を
中心として回動させる機構であつてもよい。さら
に、前記ベースに設けた給排気孔の個数やベース
上面での開口の個数等は、仕様に応じて適宜定め
ればよい。さらに、θテーブルによる試料の固定
保持は真空チヤツクに限るものではなく、固定部
材を用いたり、静電チヤツクを用いてもよい。ま
た、θテーブルの形状や大きさ等は、仕様に応じ
て適宜変更可能である。さらに、第6図の実施例
に於いて、鏡筒33及びその支持部材等をテーブ
ル12の下方に配置し、光源48や集光レンズ4
9をテーブル12の上方に配置し上下逆としても
よい。そして、本発明はパターン欠陥検査用に限
らず、試料の傾きを補正する必要のある各種のテ
ーブル装置に適用することが可能である。その
他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々変形
して実施することができる。
Note that the present invention is not limited to the embodiments described above. For example, the guide portion may be of any type as long as it can come into contact with the side surface of the θ table and guide and hold the table on the base, and may have a configuration as shown in FIG. 7. Alternatively, it may be a mechanism that rotates the table around an axis. Furthermore, the number of supply and exhaust holes provided in the base, the number of openings on the top surface of the base, etc. may be determined as appropriate according to specifications. Further, the fixing and holding of the sample by the θ table is not limited to a vacuum chuck, and a fixing member or an electrostatic chuck may also be used. Further, the shape, size, etc. of the θ table can be changed as appropriate according to specifications. Furthermore, in the embodiment shown in FIG.
9 may be placed above the table 12 and upside down. The present invention is not limited to pattern defect inspection, but can be applied to various table devices that require correction of sample inclination. In addition, various modifications can be made without departing from the gist of the present invention.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は従来の試料保持用テーブル装置の概略
構成を示す平面図、第2図は第1図の矢視A−A
断面を示す図、第3図は本発明の一実施例の概略
構成を示す平面図、第4図は第3図の矢視B−B
断面を示す図、第5図は第3図の矢視C−C断面
を示す図、第6図は本発明をパターン転写装置に
適用した他の実施例を示す概略構成図、第7図は
変形例を説明するための断面図である。 11…ベース(X−Yステージ)、12…θテ
ーブル、13…給排気孔、14…凹部、15…排
気孔、16…試料(レチクル)、17…案内部、
18…駆動部、43…圧縮空気ボンベ、44,4
5,47…電磁バルブ、46…真空ポンプ。
Fig. 1 is a plan view showing a schematic configuration of a conventional sample holding table device, and Fig. 2 is a view taken along arrow A-A in Fig. 1.
3 is a plan view showing a schematic configuration of an embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a view taken along arrow B-B in FIG. 3.
5 is a cross-sectional view taken along the line CC in FIG. 3, FIG. 6 is a schematic configuration diagram showing another embodiment in which the present invention is applied to a pattern transfer device, and FIG. It is a sectional view for explaining a modification. 11...base (X-Y stage), 12...θ table, 13...supply/exhaust hole, 14...recess, 15...exhaust hole, 16...sample (reticle), 17...guide section,
18... Drive unit, 43... Compressed air cylinder, 44, 4
5, 47... Solenoid valve, 46... Vacuum pump.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 ベース上に載置され試料を固定保持するテー
ブルと、前記ベースに設けられ前記テーブルの周
辺部の少なくとも一箇所を押圧して該テーブルを
回動方向に案内保持する案内部と、前記ベース上
に設けられ前記テーブルを回動せしめる回動駆動
部と、前記ベース内を貫通して設けられ該ベース
の前記テーブルとの接触部に開口する吸排気孔と
を具備し、前記テーブルの固定時には前記吸排気
孔を真空引きして上記テーブルを真空チヤツク
し、かつ前記テーブルの回動時には前記吸排気孔
に圧縮気体を導入して上記テーブルを浮上せしめ
ることを特徴とする試料保持用テーブル装置。 2 前記ベースは、X方向に移動可能なXテーブ
ル及びこのXテーブル上に載置されたY方向に移
動可能なYテーブルからなるものであることを特
徴とする特許請求の範囲第1項記載の試料保持用
テーブル装置。 3 前記テーブルは前記試料を固定保持するため
の排気孔を備えたものであり、この排気孔は前記
ベースに設けられた吸排気孔と共に同一の真空ポ
ンプに接続されたものであることを特徴とする特
許請求の範囲第1項記載の試料保持用テーブル装
置。 4 ベース上に載置され試料を固定保持する円板
状のテーブルと、前記ベースに設けられ前記テー
ブルの周辺部を中心方向及びベース側に押圧して
該テーブルを回動方向に案内保持する案内部と、
前記ベース上に設けられ前記テーブルを回動せし
める回動駆動部と、前記ベース内を貫通して設け
られ該ベースの前記テーブルとの接触部で且つ前
記テーブルの周辺近傍位置に開口する吸排気孔と
を具備し、前記テーブルの固定時には前記吸排気
孔を真空引きして前記テーブルを真空チヤツク
し、かつ前記テーブルの回動時には前記吸排気孔
に圧縮気体を導入して上記テーブルを浮上せしめ
ることを特徴とする試料保持用テーブル装置。 5 前記ベースは、X方向に移動可能なXテーブ
ル及びこのXテーブル上に載置されたY方向に移
動可能なYテーブルからなるものであることを特
徴とする特許請求の範囲第3項記載の試料保持用
テーブル装置。 6 前記テーブルは前記試料を固定保持するため
の排気孔を備えたものであり、この排気孔は前記
ベースに設けられた吸排気孔と共に同一の真空ポ
ンプに接続されたものであることを特徴とする特
許請求の範囲第3項記載の試料保持用テーブル装
置。
[Scope of Claims] 1. A table placed on a base to fixedly hold a sample; and a guide provided on the base to guide and hold the table in a rotational direction by pressing at least one point on the periphery of the table. a rotation drive unit provided on the base to rotate the table; and an intake/exhaust hole provided through the base and opened at a contact portion of the base with the table; A sample holding table characterized in that when the table is fixed, the table is vacuum-chucked by evacuating the suction and exhaust holes, and when the table is rotated, compressed gas is introduced into the suction and exhaust holes to levitate the table. Device. 2. The base according to claim 1, wherein the base includes an X table movable in the X direction and a Y table placed on the X table and movable in the Y direction. Table device for holding samples. 3. The table is equipped with an exhaust hole for fixing and holding the sample, and the exhaust hole is connected to the same vacuum pump as the intake and exhaust holes provided in the base. A sample holding table device according to claim 1. 4. A disc-shaped table placed on a base to fixedly hold the sample, and a guide provided on the base to guide and hold the table in the rotating direction by pressing the peripheral part of the table toward the center and toward the base. Department and
a rotation drive unit provided on the base to rotate the table; and an intake/exhaust hole provided through the base and opened at a contact portion of the base with the table and near the periphery of the table. characterized in that when the table is fixed, the table is vacuum-chucked by evacuating the suction and exhaust holes, and when the table is rotated, compressed gas is introduced into the suction and exhaust holes to levitate the table. A table device for holding samples. 5. The base according to claim 3, wherein the base comprises an X table movable in the X direction and a Y table placed on the X table and movable in the Y direction. Table device for holding samples. 6. The table is equipped with an exhaust hole for fixing and holding the sample, and the exhaust hole is connected to the same vacuum pump as the intake and exhaust holes provided in the base. A sample holding table device according to claim 3.
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