JPH047808B2 - - Google Patents
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- JPH047808B2 JPH047808B2 JP59021538A JP2153884A JPH047808B2 JP H047808 B2 JPH047808 B2 JP H047808B2 JP 59021538 A JP59021538 A JP 59021538A JP 2153884 A JP2153884 A JP 2153884A JP H047808 B2 JPH047808 B2 JP H047808B2
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- JP
- Japan
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- light
- defect
- photoelectric conversion
- conversion means
- lens
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/002—Recording, reproducing or erasing systems characterised by the shape or form of the carrier
- G11B7/0037—Recording, reproducing or erasing systems characterised by the shape or form of the carrier with discs
- G11B7/00375—Recording, reproducing or erasing systems characterised by the shape or form of the carrier with discs arrangements for detection of physical defects, e.g. of recording layer
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は例えばビデオデイスクの案内溝のよ
うに、基本パターンが略規則的に配列されている
パターンの欠陥を検出するもので、特に測定面に
歪や面かぶれがある場合でも検査可能とするよう
にした欠陥検査装置に関するものである。
うに、基本パターンが略規則的に配列されている
パターンの欠陥を検出するもので、特に測定面に
歪や面かぶれがある場合でも検査可能とするよう
にした欠陥検査装置に関するものである。
従来、上記のようなパターンの検査には、レー
ザ光を照射して、その回折光より検査する装置が
本発明者らによつて提案されている。（特開昭57
−187604号公報）。しかし、従来の装置において
は被測定面が、傾いていたり、歪んでいると、そ
れだけで欠陥となつてしまう場合があつたり、逆
に欠陥があつても検出出来ない場合があるなどの
欠点を有していた。
ザ光を照射して、その回折光より検査する装置が
本発明者らによつて提案されている。（特開昭57
−187604号公報）。しかし、従来の装置において
は被測定面が、傾いていたり、歪んでいると、そ
れだけで欠陥となつてしまう場合があつたり、逆
に欠陥があつても検出出来ない場合があるなどの
欠点を有していた。
この発明は上記の欠点を除去し、被測定面の傾
きや、面ぶれに影響されずに欠陥を検出すること
のできる欠陥検査装置を提供することを目的とす
る。
きや、面ぶれに影響されずに欠陥を検出すること
のできる欠陥検査装置を提供することを目的とす
る。
この発明は、被検体からの反射光又は、回折光
等を受光分析して被検体の欠陥部を検出する欠陥
検出装置において、同一被検体上の異なる点から
の光に対応した出力値の差を取つた後に、所定の
処理を施すことを特徴とする。
等を受光分析して被検体の欠陥部を検出する欠陥
検出装置において、同一被検体上の異なる点から
の光に対応した出力値の差を取つた後に、所定の
処理を施すことを特徴とする。
すなわち、近接する複数の部分より回折する光
で第ｎ次回折光と第ｎ＋１次回折光との間に回折
する光をレンズで受け、このレンズにより複数の
検出器に再結像させる。次にこの複数の検出器の
出力値の差を取ることで表面の傾きの影響を除い
て、欠陥検出を行う。さらにその差信号の高域周
波数成分よりキズやホコリ等の欠陥検出を行い、
低域周波数成分よりピツチムラやミゾ幅のムラ等
の欠陥を検出する。
で第ｎ次回折光と第ｎ＋１次回折光との間に回折
する光をレンズで受け、このレンズにより複数の
検出器に再結像させる。次にこの複数の検出器の
出力値の差を取ることで表面の傾きの影響を除い
て、欠陥検出を行う。さらにその差信号の高域周
波数成分よりキズやホコリ等の欠陥検出を行い、
低域周波数成分よりピツチムラやミゾ幅のムラ等
の欠陥を検出する。
上記の欠陥検出方法においては、近接する微小
複数の部分からの回折光を同一の光学系を通して
複数の検出器で信号を検出している。この上記の
近接する微小な複数の部分間での面の傾変動はほ
とんどなく、同一の傾きと考えられる。そこでこ
の微小な複数の部分からの面の傾きによる出力信
号への影響は同一となる。したがつてこれらの出
力信号の差分をとればこの共通な部分の信号成分
は０となり、傾きの影響を除くことが可能とな
る。
複数の部分からの回折光を同一の光学系を通して
複数の検出器で信号を検出している。この上記の
近接する微小な複数の部分間での面の傾変動はほ
とんどなく、同一の傾きと考えられる。そこでこ
の微小な複数の部分からの面の傾きによる出力信
号への影響は同一となる。したがつてこれらの出
力信号の差分をとればこの共通な部分の信号成分
は０となり、傾きの影響を除くことが可能とな
る。
以下、図面を参照してこの発明の一実施例を説
明する。第１図において、１は基本パターンを規
則的に配列した被検体で、図示例では比較的単純
な基本パターンである多数の溝を規則的に配列し
たビデオ・デイスクである。２はこのビデイオ・
デイスク１を回転させる回転駆動装置で、この装
置２は回転モータ２ａとモータ２ａの回転軸に設
けられたビデオ・デイスク１を着脱可能に保持さ
せる保持部２ｂとにより構成されている。この回
転駆動装置２の側方に路コヒーレントな光例えば
HeNeレーザ装置よりなるレーザ光源３を配設す
る。この光源３から発射されたレーザ光Ｒを、ミ
ラー４で反射させて、前記ビデイオ・デイスク１
の規則パターンに照射させる。
明する。第１図において、１は基本パターンを規
則的に配列した被検体で、図示例では比較的単純
な基本パターンである多数の溝を規則的に配列し
たビデオ・デイスクである。２はこのビデイオ・
デイスク１を回転させる回転駆動装置で、この装
置２は回転モータ２ａとモータ２ａの回転軸に設
けられたビデオ・デイスク１を着脱可能に保持さ
せる保持部２ｂとにより構成されている。この回
転駆動装置２の側方に路コヒーレントな光例えば
HeNeレーザ装置よりなるレーザ光源３を配設す
る。この光源３から発射されたレーザ光Ｒを、ミ
ラー４で反射させて、前記ビデイオ・デイスク１
の規則パターンに照射させる。
このとき、ビデイオ・デイスク１の規則パター
ンにレーザ光Ｒを照射して得られる規則パターン
による回折光は、強め合い、整数次回折光に集中
する。また規則パターンからずれた欠陥部の回折
光は強め合わず、例えば凹凸の欠損、ゴミなどの
ような弧立した欠陥部から発生する回折光は全体
に広がる。
ンにレーザ光Ｒを照射して得られる規則パターン
による回折光は、強め合い、整数次回折光に集中
する。また規則パターンからずれた欠陥部の回折
光は強め合わず、例えば凹凸の欠損、ゴミなどの
ような弧立した欠陥部から発生する回折光は全体
に広がる。
このことから、レーザ光Ｒを規則パターンに照
射して得られる回折パターンの中の第ｎ次回折光
と第ｎ＋１次回折光、例えば第０次回折光５ａと
第１次回折光５ｂとの間にビデイオ・デイスク１
の欠陥部により発生した回折光６を受光する対物
レンズ７を配設する。この対物レンズ７により受
光された回折光６はピンホール８を介して光電変
換器９に再結像される。この回折光６は、光電変
換器９により光量に応じた電気信号に変換され
る。
射して得られる回折パターンの中の第ｎ次回折光
と第ｎ＋１次回折光、例えば第０次回折光５ａと
第１次回折光５ｂとの間にビデイオ・デイスク１
の欠陥部により発生した回折光６を受光する対物
レンズ７を配設する。この対物レンズ７により受
光された回折光６はピンホール８を介して光電変
換器９に再結像される。この回折光６は、光電変
換器９により光量に応じた電気信号に変換され
る。
一方、ハーフミラー１０により反射された光は
ピンホール８′を介して光電変換器９′に再結像さ
れ光変換器９′により電気信号に変換される。そ
こでこれら２つの光変換器９，９′からの電気信
号を差動増幅器１１に入力しその差分を出力す
る。なおこのときのピンホール８と８′との関係
は光デイスク面上で第２図に示されたようになつ
ている。この差分を取つた電気信号はアナログデ
ジタル変換器１２によりデジタル信号に変換され
た後、信号処理計算機（CPU）１３に送られる。
この信号をCPU１３で高域周波数成分と低域周
波数成分とに分離し、さらにそれぞれ分離された
信号に対して所定の値以上のものを欠陥としてい
き値処理され高域周波数成分からの出力はゴミ欠
陥として低周波数成分からの欠陥はムラ欠陥とし
て区別して表示部１４に表示される。ここで１５
は回転モータ２ａを回転させながら一周分検査ご
とにビデイオ・デイスク１を平均移動させるパル
スモータである。このパルスモータ１５に信号を
繰返して送り回転駆動装置２を順次平行移動させ
ることによりビデイオ・デイスク１の規則パター
ンの全面を検査することができる。ここに用いら
れる被検体は第３図に示すように基板１ａ上に多
数の溝１ｂを規則的に配列したビデイオ・デイス
ク１であり、溝の幅寸法をａ、深さ寸法をｈ、ピ
ツチ寸法をｐとし一部の溝に欠陥（例えば規則パ
ターン上からτだけはずれたピツチムラ）がある
ものとする。
ピンホール８′を介して光電変換器９′に再結像さ
れ光変換器９′により電気信号に変換される。そ
こでこれら２つの光変換器９，９′からの電気信
号を差動増幅器１１に入力しその差分を出力す
る。なおこのときのピンホール８と８′との関係
は光デイスク面上で第２図に示されたようになつ
ている。この差分を取つた電気信号はアナログデ
ジタル変換器１２によりデジタル信号に変換され
た後、信号処理計算機（CPU）１３に送られる。
この信号をCPU１３で高域周波数成分と低域周
波数成分とに分離し、さらにそれぞれ分離された
信号に対して所定の値以上のものを欠陥としてい
き値処理され高域周波数成分からの出力はゴミ欠
陥として低周波数成分からの欠陥はムラ欠陥とし
て区別して表示部１４に表示される。ここで１５
は回転モータ２ａを回転させながら一周分検査ご
とにビデイオ・デイスク１を平均移動させるパル
スモータである。このパルスモータ１５に信号を
繰返して送り回転駆動装置２を順次平行移動させ
ることによりビデイオ・デイスク１の規則パター
ンの全面を検査することができる。ここに用いら
れる被検体は第３図に示すように基板１ａ上に多
数の溝１ｂを規則的に配列したビデイオ・デイス
ク１であり、溝の幅寸法をａ、深さ寸法をｈ、ピ
ツチ寸法をｐとし一部の溝に欠陥（例えば規則パ
ターン上からτだけはずれたピツチムラ）がある
ものとする。
このときピンホール面８，８′で観測した光の
輝点は欠陥によるものとして考えられ、その光量
は対物レンズ７の遠視野座標をζ0とし、対物レン
ズ７の開口が充分に小さいものとすれば特開昭57
−187604号公報と同様の解析により次式で与えら
れる。
輝点は欠陥によるものとして考えられ、その光量
は対物レンズ７の遠視野座標をζ0とし、対物レン
ズ７の開口が充分に小さいものとすれば特開昭57
−187604号公報と同様の解析により次式で与えら
れる。
Ｉ＝｜Ｇ（ζ0）｜2
＝８／π2ζ0 2sin2（πτξ0）sin2（πζ0）
×｛１−cos（4h／λπ）｝ ……(1)
またゴミ、キズなどによる弧立欠陥がある場合
にも前述と同様に結像面で観測した光の輝点は欠
陥によるものとして考えられ、その光量は対物
レンズ７の遠視野座標をζ0、欠陥の大きさをｄと
し、対物レンズ７の開口が充分に小さいものとす
れば次式により与えられる。
にも前述と同様に結像面で観測した光の輝点は欠
陥によるものとして考えられ、その光量は対物
レンズ７の遠視野座標をζ0、欠陥の大きさをｄと
し、対物レンズ７の開口が充分に小さいものとす
れば次式により与えられる。
この第(1)，(2)式から欠陥の大きさを求めること
ができる。しかしながら、実際の検査においては
欠陥の大きさ正確に知る必要はなく、ある大きさ
以上の欠陥の個数を求めることのほうが重要視さ
れる。このため第(1)，(2)式によりいき値をあらか
じめ求めておいて比較すれば良い。
ができる。しかしながら、実際の検査においては
欠陥の大きさ正確に知る必要はなく、ある大きさ
以上の欠陥の個数を求めることのほうが重要視さ
れる。このため第(1)，(2)式によりいき値をあらか
じめ求めておいて比較すれば良い。
次に測定面が傾いた場合を含めてこのようすを
図でより詳細に説明する。第４図のａは欠陥のあ
る入力パターンを示している。この場合には傾き
がないとする。第４図のｂはこのときの回折光の
分布を示している。実線４０は欠陥のないパター
ンからの回折光の分布であり、一点破線４１はピ
ツチムラの欠陥部からの回折光分布であり、また
破線４２はゴミ・キズ欠陥からの回折光分布であ
る。レンズの中心軸がζ0であるレンズ７により再
結像を行うと、第４図のｃに示されたような欠陥
出力パターンが得られる。ここで４３は欠陥出力
であり、４４は欠陥のないパターンからの光であ
る。このような場合には、単に一定レベルで比較
することにより容易に欠陥検出が可能となる。
図でより詳細に説明する。第４図のａは欠陥のあ
る入力パターンを示している。この場合には傾き
がないとする。第４図のｂはこのときの回折光の
分布を示している。実線４０は欠陥のないパター
ンからの回折光の分布であり、一点破線４１はピ
ツチムラの欠陥部からの回折光分布であり、また
破線４２はゴミ・キズ欠陥からの回折光分布であ
る。レンズの中心軸がζ0であるレンズ７により再
結像を行うと、第４図のｃに示されたような欠陥
出力パターンが得られる。ここで４３は欠陥出力
であり、４４は欠陥のないパターンからの光であ
る。このような場合には、単に一定レベルで比較
することにより容易に欠陥検出が可能となる。
しかしながら、第５図に示されたように光デイ
スク１面がθkだけ傾いた場合には前記のように
容易に検出することは出来ない。この場合には第
５図により回折光分布は2θkだけシフトする。こ
のときの欠陥検出のようすを、第４図と同様にし
て第６図に示す。第６図のａは第４図のａと同じ
入力パターンであるが、ただし面がθkだけ傾い
ている。
スク１面がθkだけ傾いた場合には前記のように
容易に検出することは出来ない。この場合には第
５図により回折光分布は2θkだけシフトする。こ
のときの欠陥検出のようすを、第４図と同様にし
て第６図に示す。第６図のａは第４図のａと同じ
入力パターンであるが、ただし面がθkだけ傾い
ている。
このとき回折光分布は第６図のｂとなり、第４
図のｂに対して、2θk相当分だけシフトしてい
る。するとレンズ７の中心位置と回折光分布の関
係が図のようになり、欠陥のないパターンからの
回折光４０を多く通過するようになり、その結
果、再結像パターンは第６図のｃのようになる。
ここで６０は欠陥出力であり、６１は欠陥のない
部分からのフイルタリング出力である。この出力
６１は光デイスク１の面の傾きθkが変化すると、
大きく変化する。したがつて単に一定レベルでい
き値を決めて検出することは不可能となる。たと
えばいき値を小さく設定すると、欠陥がなくても
欠陥と判定されたり、又逆にいき値レベルを高く
設定すると小さな欠陥を検出することが出来なく
なることがある。
図のｂに対して、2θk相当分だけシフトしてい
る。するとレンズ７の中心位置と回折光分布の関
係が図のようになり、欠陥のないパターンからの
回折光４０を多く通過するようになり、その結
果、再結像パターンは第６図のｃのようになる。
ここで６０は欠陥出力であり、６１は欠陥のない
部分からのフイルタリング出力である。この出力
６１は光デイスク１の面の傾きθkが変化すると、
大きく変化する。したがつて単に一定レベルでい
き値を決めて検出することは不可能となる。たと
えばいき値を小さく設定すると、欠陥がなくても
欠陥と判定されたり、又逆にいき値レベルを高く
設定すると小さな欠陥を検出することが出来なく
なることがある。
そこで第６図のｄに示されたように２個のピン
ホール８，８′と２個の検出器９，９′を設けて、
それらの出力を差動増幅器１１に入れる。すると
欠陥のない部分からのフイルタリング出力である
６１は近接する部分では同一レベルの出力である
のでキヤンセルされ、ほぼ欠陥のみが第６図のｄ
のように出力される。この状態で第４図のｃと同
様となるので一定レベルで比較することにより欠
陥検出することが可能となる。
ホール８，８′と２個の検出器９，９′を設けて、
それらの出力を差動増幅器１１に入れる。すると
欠陥のない部分からのフイルタリング出力である
６１は近接する部分では同一レベルの出力である
のでキヤンセルされ、ほぼ欠陥のみが第６図のｄ
のように出力される。この状態で第４図のｃと同
様となるので一定レベルで比較することにより欠
陥検出することが可能となる。
このようにして、測定面の小さな傾きの変化に
対しては影響をあまり受けずに欠陥検出すること
が可能となる。
対しては影響をあまり受けずに欠陥検出すること
が可能となる。
先の実施例では２つの検出器９，９′の出力を
差動増幅器１１に入れ、その出力をＡ／Ｄ変換器
１２によりデジタル信号に変換した後、CPU１
３に入力し、CPUの内部で高域周波数成分と低
域周波数成分とに分離したが、第７図では差動増
幅器１１の出力信号をローパスフイルタ７１によ
り低域周波数成分を検出し、ハイパスフイルタ７
２によつて高域周波数成分を検出する。これらの
信号をアナログマルチプレクサー７３に入力し
て、CPU１３より切替信号を受けて、両者を切
替えて、その切替えた信号をＡ／Ｄ変換器１２に
入力しデジタル信号に変換し、CPU１３に入力
する。このようにすることにより高速に処理する
ことが可能となる。
差動増幅器１１に入れ、その出力をＡ／Ｄ変換器
１２によりデジタル信号に変換した後、CPU１
３に入力し、CPUの内部で高域周波数成分と低
域周波数成分とに分離したが、第７図では差動増
幅器１１の出力信号をローパスフイルタ７１によ
り低域周波数成分を検出し、ハイパスフイルタ７
２によつて高域周波数成分を検出する。これらの
信号をアナログマルチプレクサー７３に入力し
て、CPU１３より切替信号を受けて、両者を切
替えて、その切替えた信号をＡ／Ｄ変換器１２に
入力しデジタル信号に変換し、CPU１３に入力
する。このようにすることにより高速に処理する
ことが可能となる。
第１図はこの発明の一実施例を示す図、第２図
は２つのピンホール８，８′の相対位置を示す図、
第３図は実施例に用いられる被検体の一部分を拡
大して示す断面図、第４図はフイルタリングによ
り欠陥検出されることを説明する図、第５図は被
検体が傾いた時の光路を示す図、第６図は被検体
が傾いた時にも欠陥検出されることを説明する
図、第７図は他の実施例の一例で、回路により高
域周波数成分と低域周波数成分とに分離する回路
を示す図である。 １……ビイデオ・デイスク、２……回転駆動装
置、３……レーザ光源、４……ミラー、５……回
折光、６……欠陥の回折光、７……レンズ、８，
８′……ピンホール、９，９′……検出器、１０…
…ハーフミラー、１１……差動増幅器、１２……
Ａ／Ｄ変換器、１３……CPU、１４……表示装
置、１５……水平移動装置。
は２つのピンホール８，８′の相対位置を示す図、
第３図は実施例に用いられる被検体の一部分を拡
大して示す断面図、第４図はフイルタリングによ
り欠陥検出されることを説明する図、第５図は被
検体が傾いた時の光路を示す図、第６図は被検体
が傾いた時にも欠陥検出されることを説明する
図、第７図は他の実施例の一例で、回路により高
域周波数成分と低域周波数成分とに分離する回路
を示す図である。 １……ビイデオ・デイスク、２……回転駆動装
置、３……レーザ光源、４……ミラー、５……回
折光、６……欠陥の回折光、７……レンズ、８，
８′……ピンホール、９，９′……検出器、１０…
…ハーフミラー、１１……差動増幅器、１２……
Ａ／Ｄ変換器、１３……CPU、１４……表示装
置、１５……水平移動装置。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 基本パターンが規則的に配列された被検体の
基本パターンに略コヒーレントな光を照射する光
源と、前記基本パターンのピツチ、前記光源から
発生される光の波長、前記被検体の測定面と前記
照射される光の入射光軸とのなす角とから定まる
第１次回折光方向と前記光源から照射される光が
被検体から反射される第０次回折光方向との間に
設けられるレンズと、このレンズにより再結像さ
れた光を被検体の再結像面で電気信号に変換する
光電変換手段とを具備した欠陥検査装置におい
て、前記被検体の複数の部分より発生する回折光
を、レンズを介して複数個の光電変換手段に結像
し、被検体の前記レンズの再結像面に互いに隣接
して配置された複数個の光電変換手段により電気
信号に変換し、この複数個の光電変換手段の出力
信号の差により欠陥を検出することを特徴とする
欠陥検査装置。 ２ 光電変換手段の出力信号から得られる信号に
おいて、高域周波数成分と低域周波数成分とに分
離し、これらの成分により、欠陥の種類の判別を
することを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
の欠陥検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2153884A JPS60166809A (ja) | 1984-02-10 | 1984-02-10 | 欠陥検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2153884A JPS60166809A (ja) | 1984-02-10 | 1984-02-10 | 欠陥検査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60166809A JPS60166809A (ja) | 1985-08-30 |
| JPH047808B2 true JPH047808B2 (ja) | 1992-02-13 |
Family
ID=12057741
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2153884A Granted JPS60166809A (ja) | 1984-02-10 | 1984-02-10 | 欠陥検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60166809A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU2006315202A1 (en) | 2005-11-10 | 2007-05-24 | Checkflix, Inc. | Apparatus and method for analysis of optical storage media |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51112183A (en) * | 1974-08-12 | 1976-10-04 | Mitsubishi Electric Corp | Diffraction pattern detector |
| JPS5414789A (en) * | 1977-07-05 | 1979-02-03 | Mitsubishi Electric Corp | Surface inspecting apparatus |
| DE3118646A1 (de) * | 1981-05-11 | 1982-12-02 | Ernst Leitz Wetzlar Gmbh, 6330 Wetzlar | Verfahren und einrichtung zum automatischen ermitteln von fehlern in flaechenhaften mustern |
| JPS58108423U (ja) * | 1982-11-11 | 1983-07-23 | 富士通株式会社 | パタ−ンの特徴抽出装置 |
-
1984
- 1984-02-10 JP JP2153884A patent/JPS60166809A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60166809A (ja) | 1985-08-30 |
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