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JPH0479485B2 - - Google Patents
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JPH0479485B2 - - Google Patents

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JPH0479485B2
JPH0479485B2 JP5365785A JP5365785A JPH0479485B2 JP H0479485 B2 JPH0479485 B2 JP H0479485B2 JP 5365785 A JP5365785 A JP 5365785A JP 5365785 A JP5365785 A JP 5365785A JP H0479485 B2 JPH0479485 B2 JP H0479485B2
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JP
Japan
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mos transistor
connection point
controlled
transistor
conductivity type
Prior art date
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JP5365785A
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Japanese (ja)
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JPS61212916A (en
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Takahiko Urai
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NEC Corp
Original Assignee
Nippon Electric Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は半導体回路で構成する電流制御回路
に利用する。この発明はMOSトランジスタを一
つの抵抗器として利用し、このMOSトランジス
タを流れる電流を所望の値に制御する回路として
利用する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention is applied to a current control circuit composed of a semiconductor circuit. The present invention uses a MOS transistor as a resistor, and uses it as a circuit that controls the current flowing through this MOS transistor to a desired value.

この発明は、MOSトランジスタに流れるドレ
イン電流を制御するためにそのMOSトランジス
タの制御用ゲート電圧を発生する回路に関する。
本発明はMOSトランジスタに流れる電流を精度
よく制御できるようにするものである。
The present invention relates to a circuit that generates a control gate voltage for a MOS transistor in order to control the drain current flowing through the MOS transistor.
The present invention enables accurate control of the current flowing through a MOS transistor.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来から、半導体回路では一つのMOSトラン
ジスタを第2図に示すように接続して、一つの抵
抗器として利用し、電位供給源VDDから信号線S
に流れる電流を所望の値に制御する技術が知られ
ている。すなわち、そのMOSトランジスタとし
てPチヤンネルMOSトランジスタQIを利用し、
そのソースとゲートを接続したデイプレツシヨン
型トランジスタを用い、このMOSトランジスタ
QIを流れる電流値を、このMOSトランジスタQI
のチヤンネル幅Wとチヤンネル長Lおよびその製
造条件により設定するものである。
Conventionally, in semiconductor circuits, one MOS transistor is connected as shown in Figure 2 and used as one resistor, and a signal line S is connected from a potential supply source V DD to a signal line S.
Techniques are known for controlling the current flowing through the device to a desired value. That is, using a P channel MOS transistor Q I as the MOS transistor,
This MOS transistor uses a depletion type transistor whose source and gate are connected.
The value of the current flowing through Q I is determined by this MOS transistor Q I
It is determined by the channel width W and channel length L and the manufacturing conditions thereof.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

しかし、デイプレツシヨン型トランジスタをこ
のように利用すると、流すべき電流の値を小さく
する、すなわち、PチヤンネルMOSトランジス
タの抵抗を大きくするには、このMOSトランジ
スタのために大きな面積をとり、チヤンネル幅W
とチヤンネル長Lの比率W/Lをチヤンネル長を
大きくしてW/L≪1とすることが必要であつ
た。またこのように設計すると、製造過程の拡張
等のばらつきによつて、このPチヤンネルMOS
トランジスタの特性が変化するため、これを流れ
る電流もその影響を受けて製品が均一にならない
問題があつた。
However, when a depletion type transistor is used in this way, in order to reduce the value of the current to flow, that is, to increase the resistance of the P-channel MOS transistor, a large area is required for this MOS transistor, and the channel width W
It was necessary to increase the ratio W/L of the channel length and the channel length L so that W/L≪1. Furthermore, with this design, due to variations in manufacturing process expansion, this P-channel MOS
Since the characteristics of the transistor change, the current flowing through it is also affected by this, causing the problem that the product is not uniform.

本発明は、上述の欠点を解決するもので、全体
として占有面積が小さく、しかも製造過程に多少
のばらつきがあつても、MOSトランジスタに流
れる電流を精度より均一に制御できるMOSトラ
ンジスタの制御電圧発生回路を提供することを目
的にする。
The present invention solves the above-mentioned drawbacks.The present invention has a small footprint as a whole, and even if there are slight variations in the manufacturing process, it is possible to generate a control voltage for a MOS transistor that can control the current flowing through the MOS transistor more accurately and uniformly. The purpose is to provide circuits.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明は、電位供給源VDDと信号線Sとの間に
ドレインおよびソースが接続され、被制御MOS
トランジスタQIのゲートに制御電圧を供給する
回路である。
In the present invention, the drain and source are connected between the potential supply source V DD and the signal line S, and the controlled MOS
This circuit supplies a control voltage to the gate of transistor QI .

すなわち本発明は、電位供給源VDDと第1の接
続点Bとの間にドレインおよびソースが並列に接
続され、かつそのゲートが全て上記第1の接続点
Bに接続され、上記被制御MOSトランジスタQI
と同一導電型であり、そのチヤンネル幅とチヤン
ネル長との比が互いにほぼ等しく設定された複数
n個のMOSトランジスタQ1……Qoと、上記第1
の接続点Bと第2の接続点Cとの間に接続される
負荷トランジスタQLと、上記第2の接続点Cと
接地電位との間に接続され、その導電型が上記被
制御MOSトランジスタQIと反対導電型であるカ
ツトオフ用MOSトランジスタQC1と、上記電位供
給源と上記第1の接続点Bとの間に接続され、上
記被制御MOSトランジスタQIと同一導電型であ
る別のカツトオフ用MOSトランジスタQC2とを備
え、上記被制御MOSトランジスタQIのゲートに
上記第1の接続点Bの電位が上記制御電圧として
供給されることを特徴とする。
That is, in the present invention, the drain and source are connected in parallel between the potential supply source V DD and the first connection point B, and the gates thereof are all connected to the first connection point B, and the controlled MOS Transistor Q I
a plurality of n MOS transistors Q 1 ...Q o , which are of the same conductivity type and whose ratios of channel width and channel length are set to be approximately equal to each other;
A load transistor Q L is connected between the connection point B and the second connection point C, and the load transistor Q L is connected between the second connection point C and the ground potential, and its conductivity type is that of the controlled MOS transistor. A cut-off MOS transistor QC1 is of the opposite conductivity type to QI , and another MOS transistor QC1 is connected between the potential supply source and the first connection point B and is of the same conductivity type as the controlled MOS transistor QI . A cut-off MOS transistor Q C2 is provided, and the potential at the first connection point B is supplied to the gate of the controlled MOS transistor Q I as the control voltage.

上記負荷トランジスタQLは、そのゲートが前
記第2の接続点Cに接続されるデイプレツシヨン
型であり、上記被制御MOSトランジスタQIと反
対導電型のMOSトランジスタとすることが望ま
しい。
The load transistor Q L is a depletion type MOS transistor whose gate is connected to the second connection point C, and is preferably a MOS transistor of a conductivity type opposite to that of the controlled MOS transistor Q I.

〔作用〕[Effect]

上記複数n個のMOSトランジスタを被制御
MOSトランジスタと同一の導電型で、そのチヤ
ンネル幅とチヤンネル長との比が互いにほぼ等し
くなるように設定すると、上記複数n個の各
MOSトランジスタに流れる電流は負荷トランジ
スタQLに流れる電流のほぼ1/nにすることが
できる。そしてこのnの値を選ぶことにより、被
制御MOSトランジスタQIのゲートに供給される
電圧を設定することができるから、占有面積が体
さくし、しかも製造過程に多少のばらつきがあつ
ても、被制御MOSトランジスタQIに流れる電流
が精度よく均一に制御できる。
The above n MOS transistors are controlled
If the conductivity type is the same as that of the MOS transistor, and the channel width and channel length ratios are set to be approximately equal to each other, each of the plurality of n
The current flowing through the MOS transistor can be made approximately 1/n of the current flowing through the load transistor QL . By selecting the value of n, it is possible to set the voltage supplied to the gate of the controlled MOS transistor QI . The current flowing through the control MOS transistor Q I can be controlled accurately and uniformly.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の一実施例について図面を参照し
て説明する。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第1図はその構成を示すもので、電位供給源
VDDと接続点Bとの間に並列接続され、かつそれ
ぞれのゲートが全て接続点Bに接続されたn個の
PチヤンネルMOSトランジスタQ1,Q2……Qo
と、接続点Bと接続点Cとの間に接続され、かつ
そのゲートが接続点Cに接続されたnチヤンネル
デイプレツシヨン型トランジスタQLと、接続点
Cと接地電位VSSとの間に接続され、カツトオフ
信号Aでゲート制御されるnチヤンネルMOSト
ランジスタQC1と、電位供給源VDDと接続点Bと
の間に接続され、カツトオフ信号Aでゲート制御
されるPチヤンネルMOSトランジスタQC2とを含
む。この接続点Bの電圧により、電位供給源VDD
と信号線との間に接続された被制御MOSトラン
ジスタQIを制御する。ここで複数nのMOSトラ
ンジスタQ1,Q2……Qoと被制御MOSトランジス
タQIは同型(デイメンジヨンおよび特性が同じ)
のPチヤンネルMOSトランジスタである。
Figure 1 shows its configuration.
n P-channel MOS transistors Q 1 , Q 2 ... Q o connected in parallel between V DD and connection point B, and with their respective gates all connected to connection point B.
, an n-channel depletion transistor Q L connected between connection points B and C, and whose gate is connected to connection point C, and between connection point C and ground potential V SS an n-channel MOS transistor Q C1 connected to the gate and controlled by the cut-off signal A, and a P-channel MOS transistor Q C2 connected between the potential supply source V DD and the connection point B and controlled by the cut-off signal A. including. Due to the voltage at this connection point B, the potential supply source V DD
A controlled MOS transistor Q I connected between the signal line and the signal line is controlled. Here, a plurality of n MOS transistors Q 1 , Q 2 ...Q o and the controlled MOS transistor Q I are of the same type (same dimension and characteristics)
This is a P-channel MOS transistor.

上記のような構成において、カツトオフ信号に
“H”レベルを与えた場合、カツトオフ用MOSト
ランジスタQC1はオン、QC2はオフして、回路電
流が流れる。この電流は負荷トランジスタQL
よつて決まり、回路の構成上、トランジスタQ1
Q2……Qoのそれぞれには、QLに流れる電流のn
分の1が流れることになる。さらに、Q1,Q2
…QoとQIは同型であり、ゲート入力が両方とも
Bであるために等しい電流が流れるはずである。
カツトオフ信号としては“L”レベルを与える場
合、カツトオフ用MOSトランジスタQC1はオフ、
QC2はオンしてBの電位をVDDにする。このとき
QIがオフして、電流はどの経路にも流れなくな
る。
In the above configuration, when the cut-off signal is given an "H" level, the cut-off MOS transistor Q C1 is turned on, and the cut-off MOS transistor Q C2 is turned off, so that a circuit current flows. This current is determined by the load transistor Q L , and due to the circuit configuration, the transistors Q 1 ,
Q 2 ...each of Q o has n of the current flowing through Q L
1/1 will flow. Furthermore, Q 1 , Q 2
...Q o and Q I are of the same type, and since both gate inputs are B, equal currents should flow.
When applying the "L" level as the cutoff signal, the cutoff MOS transistor Q C1 is turned off.
Q C2 turns on and the potential of B becomes V DD . At this time
Q I turns off and current no longer flows in any path.

一般にMOSトランジスタはデイメンジヨン
W/L(チヤンネル幅/チヤンネル長)≒1のと
き占有面積は最も小さくなる。W/L≒1の場
合、第1図のQIや第2図のQIのようなデイプレ
ツシヨン型トランジスタに流れる電流は数100μA
のオーダーである。従つて、信号線Sにはそれよ
りもずつと小さい電流を流したい場合、従来の第
2図のトランジスタQIのチヤンネル長Lを非常
に大きくしなければならず、これは、この部分の
占有面積を増大させることを意味する。これに対
して、本発明の場合、nの値を選ぶことができる
ためにQIのデイメンジヨンをW/L≒1として、
LまたはWを極端に大きくしなくてもトランジス
タQIに小さな電流を、流すことが可能である。
Generally, a MOS transistor occupies the smallest area when dimension W/L (channel width/channel length)≈1. When W/L≒1, the current flowing through a depletion type transistor like Q I in Figure 1 and Q I in Figure 2 is several 100 μA.
This is the order. Therefore, if it is desired to flow a smaller current into the signal line S, the channel length L of the conventional transistor QI shown in FIG. It means increasing the area. On the other hand, in the case of the present invention, since the value of n can be selected, the dimension of Q I is set as W/L≒1,
It is possible to cause a small current to flow through the transistor Q I without making L or W extremely large.

これらにより、本発明の回路ではこの部分の占
める面積を減少させることができる。さらに
MOSトランジスタの電流が流れる信号線Sが多
数本存在する場合、本発明ではBの電位をつくる
部分(QI以外のトランジスタ全部)は1組でよ
く、QIだけが複数個になるため、その効果は顕
著に現れる。
As a result, in the circuit of the present invention, the area occupied by this portion can be reduced. moreover
In the case where there are many signal lines S through which currents of MOS transistors flow, in the present invention, only one set is required for the part that creates the potential of B (all transistors other than Q I ), and only Q I requires a plurality of wires. The effect is noticeable.

また、回路の構成上、製造上のばらつきに対し
ても、ほとんど影響を受けず、正確な電流制御が
可能になる。
Furthermore, it is hardly affected by variations in circuit configuration or manufacturing, and accurate current control becomes possible.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように、本発明によれば、接続点
Bの電位を同型のトランジスタの数nにより設定
できるから、この接続点Bにゲートが接続される
被制御MOSトランジスタに流れる電流を精度よ
くかつ小さい値まで制御できる。またそのトラン
ジスタの占有面積を小さく抑えることができる。
As explained above, according to the present invention, since the potential of the connection point B can be set by the number n of transistors of the same type, the current flowing through the controlled MOS transistor whose gate is connected to the connection point B can be controlled accurately and Can be controlled down to small values. Further, the area occupied by the transistor can be kept small.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の一実施例MOSトランジスタ
の制御電圧発生回路の回路図。第2図は従来例の
MOSトランジスタの接続回路図。 VDD……電位供給源、VSS……接地電位、QI
…MOSトランジスタ、Q1,Q2……Qo……Pチヤ
ンネルMOSトランジスタ、QL……nチヤンネル
デイプレツシヨン型負荷トランジスタ、QC1
QC2……カツトオフ用MOSトランジスタ、A……
カツトオフ信号、B,C……接続点、S……信号
線。
FIG. 1 is a circuit diagram of a control voltage generation circuit for a MOS transistor according to an embodiment of the present invention. Figure 2 shows the conventional example.
Connection circuit diagram of MOS transistor. V DD ... Potential supply source, V SS ... Ground potential, Q I ...
...MOS transistor, Q 1 , Q 2 ...Q o ...P channel MOS transistor, Q L ...N channel depletion type load transistor, Q C1 ,
Q C2 ...Cut-off MOS transistor, A...
Cut-off signal, B, C... connection point, S... signal line.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 電位供給源VDDと信号線Sとの間にドレイン
およびソースが接続され、被制御MOSトランジ
スタQIのゲートに制御電圧を供給する制御電圧
発生回路において、 電位供給源VDDと第1の接続点Bとの間にドレ
インおよびソースが並列に接続され、かつそのゲ
ートが全て上記第1の接続点Bに接続され、上記
被制御MOSトランジスタQIと同一導電型であり、
そのチヤンネル幅とチヤンネル長との比が互いに
ほぼ等しく設定された複数n個のMOSトランジ
スタQ1……Qoと、 上記第1の接続点Bと第2の接続点Cとの間に
接続される負荷トランジスタQLと、 上記第2の接続点Cと接地電位との間に接続さ
れ、その導電型が上記被制御MOSトランジスタ
QIと反対導電型であるカツトオフ用MOSトラン
ジスタQC1と、 上記電位供給源VDDと上記第1の接続点Bとの
間に接続され、上記被制御MOSトランジスタQI
と同一導電型である別のカツトオフ用MOSトラ
ンジスタQC2と を備え、 上記被制御MOSトランジスタQIのゲートに上
記第1の接続点Bの電位が上記制御電圧として供
給され、 上記負荷トランジスタQLは、そのゲートが前
記第2の接続点Cに接続されるデイプレツシヨン
型であり、上記被制御MOSトランジスタQIと反
対導電型のMOSトランジスタからなる ことを特徴とするMOSトランジスタの制御電圧
発生回路。
[Claims] 1. In a control voltage generation circuit whose drain and source are connected between a potential supply source VDD and a signal line S and which supplies a control voltage to the gate of a controlled MOS transistor QI , the potential supply source comprises: The drain and source are connected in parallel between V DD and the first connection point B, and the gates thereof are all connected to the first connection point B, and are of the same conductivity type as the controlled MOS transistor Q I. can be,
A plurality of n MOS transistors Q 1 ...Q o whose ratios of channel width and channel length are set to be approximately equal to each other are connected between the first connection point B and the second connection point C. A load transistor Q L is connected between the second connection point C and the ground potential, and its conductivity type is that of the controlled MOS transistor.
A cut-off MOS transistor Q C1 having a conductivity type opposite to Q I ; and a controlled MOS transistor Q C1 connected between the potential supply source V DD and the first connection point B ;
and another cut-off MOS transistor QC2 of the same conductivity type as the control MOS transistor QI, the potential of the first connection point B is supplied as the control voltage to the gate of the controlled MOS transistor QI , and the load transistor QL 1. A control voltage generation circuit for a MOS transistor, characterized in that the gate thereof is a depletion type MOS transistor connected to the second connection point C , and is comprised of a MOS transistor of a conductivity type opposite to that of the controlled MOS transistor QI.
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