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JPH0520838B2 - - Google Patents
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JPH0520838B2 - - Google Patents

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JPH0520838B2
JPH0520838B2 JP60159346A JP15934685A JPH0520838B2 JP H0520838 B2 JPH0520838 B2 JP H0520838B2 JP 60159346 A JP60159346 A JP 60159346A JP 15934685 A JP15934685 A JP 15934685A JP H0520838 B2 JPH0520838 B2 JP H0520838B2
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circuit
node
capacitor
voltage
word line
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JP60159346A
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Kazutaka Nogami
Takayasu Sakurai
Hidetake Fujii
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Toshiba Corp
Original Assignee
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】 [発明の技術分野] この発明は、電圧昇圧回路が設けられ、メモリ
セルの選択時にはこの電圧昇圧回路で電源電圧よ
りも高められた電圧をメモリセルの選択線に供給
するようにした半導体記憶装置に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Technical Field of the Invention] The present invention is provided with a voltage booster circuit, and when a memory cell is selected, the voltage booster circuit supplies a voltage higher than a power supply voltage to a selection line of the memory cell. The present invention relates to a semiconductor memory device configured to do so.

[発明の技術的背景] 半導体記憶装置、特にダイナミツクRAM(ラ
ンダムアクセスメモリ)では、動作速度の高速
化、データの読み出しマージンを高めるため、メ
モリセルの書き込み電圧を電源電圧に十分近付け
る、等の理由により、電圧昇圧回路を設けて電源
電圧以上に昇圧された電圧を選択されたワード線
に出力するようなものがある。
[Technical Background of the Invention] In semiconductor memory devices, especially dynamic RAM (random access memory), it is necessary to bring the write voltage of memory cells sufficiently close to the power supply voltage in order to increase the operating speed and increase the data read margin. Therefore, there is a device that provides a voltage booster circuit and outputs a voltage boosted to a level higher than the power supply voltage to a selected word line.

このような電圧昇圧回路が設けられた従来の半
導体記憶装置の構成を第7図のブロツク図に示
す。図において、10は例えばそれぞれ選択用の
MOSトランジスタとデータ記憶用のキヤパシタ
からなる複数のダイナミツク型メモリセルが設け
られたメモリセルアレイである。このメモリセル
アレイ10内に設けられているメモリセルは複数
のワード線11のいずれかに接続されており、そ
のワード線が駆動されるとこれに接続された全て
のメモリセルが同時に選択されるようになつてい
る。12はアドレス信号に応じて上記ワード線1
1を選択するロウデコーダである。ロウデコーダ
12には電圧昇圧回路13で電源電圧以上に昇圧
された出力信号OUTが供給されており、このロ
ウデコーダ12はアドレス信号に応じて選択した
ワード線11をこの信号OUTで駆動する。上記
電圧昇圧回路13には入力信号INとしてRAS(ロ
ウアドレス・ストローブ信号)やオートリフレツ
シユ動作のための制御信号等が供給されており、
電圧昇圧回路13は入力信号INのレベルが変化
した際に電源電圧以上に昇圧された信号OUTを
出力する。また図示していないが、上記メモリセ
ルアレイ10内のメモリセルは各一対のビツト線
を介して各ワード線単位でセンスアツプ回路に接
続され、さらにこのセンスアンプ回路はカラムデ
コーダに接続されており、選択されたワード線1
1に接続されたメモリセルの記憶データがセンス
アンプ回路でセンスされ、このうちのいくつかの
データがカラムデコーダで選択される。そしてデ
ータの読み出しはこのカラムデコーダで選択され
たデータが外部に出力され、データの書き込みは
カラムデコーダに新たに書き込みデータを供給す
ることによつて行われる。
The structure of a conventional semiconductor memory device provided with such a voltage booster circuit is shown in the block diagram of FIG. In the figure, 10 is for example each one for selection.
This is a memory cell array provided with a plurality of dynamic memory cells each consisting of a MOS transistor and a data storage capacitor. The memory cells provided in this memory cell array 10 are connected to one of a plurality of word lines 11, so that when that word line is driven, all the memory cells connected to it are simultaneously selected. It's getting old. 12 is the word line 1 according to the address signal.
This is a row decoder that selects 1. The row decoder 12 is supplied with an output signal OUT boosted to a power supply voltage or higher by a voltage booster circuit 13, and the row decoder 12 drives the word line 11 selected according to the address signal with this signal OUT. The voltage booster circuit 13 is supplied with input signals IN such as RAS (row address strobe signal) and control signals for auto-refresh operation.
The voltage booster circuit 13 outputs a signal OUT boosted above the power supply voltage when the level of the input signal IN changes. Although not shown, the memory cells in the memory cell array 10 are connected to a sense amplifier circuit for each word line via each pair of bit lines, and this sense amplifier circuit is further connected to a column decoder to select a bit line. word line 1
The data stored in the memory cell connected to No. 1 is sensed by the sense amplifier circuit, and some of the data is selected by the column decoder. Data reading is performed by outputting the data selected by the column decoder to the outside, and data writing is performed by supplying new write data to the column decoder.

このようにして、選択されたワード線11に昇
圧された高い電圧を供給することにより、選択さ
れたメモリセルからデータを読み出す際の速度を
高めることができ、あるいはメモリセルの選択用
トランジスタのインピーダンスを低下させて記憶
用キヤパシタに対して電源電圧に十分近い電圧を
充電することができる。
In this way, by supplying a boosted high voltage to the selected word line 11, the speed at which data is read from the selected memory cell can be increased, or the impedance of the selection transistor of the memory cell can be increased. can be lowered to charge the storage capacitor to a voltage sufficiently close to the supply voltage.

第8図は上記第7図の半導体記憶装置で使用さ
れる電圧昇圧回路の具体的構成を示す回路図であ
り、第9図はそのタイミングチヤートである。こ
の回路において、予めノードN1は負荷MOSトラ
ンジスタとしてのNチヤンネルMOSトランジス
タ20を介して、電源電圧VDDよりもNチヤンネ
ルMOSトランジスタの閾値電圧VTHだけ低い電位
に充電されている。そして入力信号INが低電位
(VSS)のとき、ノードN1はキヤパシタ21によ
り昇圧され、VDD+ΔV2(ただし、ΔV2はNチヤ
ネルMOSトランジスタの閾値電圧VTHよりも十分
大きな電圧)にされている。このノードN1の電
位によりNチヤンネルMOSトランジスタ22が
オンしており、ノードN2が電源電位VDDになるま
でキヤパシタ23がこのトランジスタ22を介し
て充電させる。またこのとき、出力制御信号
CONT1はVSS、CONT2はVDDにされ、信号
CONT1によりNチヤネルMOSトランジスタ2
4がオフ、信号CONT2によりNチヤンネル
MOSトランジスタ25がオンしているので、出
力ノードN3の信号OUTの電位はVSSになつてい
る。
FIG. 8 is a circuit diagram showing a specific configuration of a voltage booster circuit used in the semiconductor memory device of FIG. 7, and FIG. 9 is a timing chart thereof. In this circuit, the node N1 is charged in advance to a potential lower than the power supply voltage VDD by the threshold voltage VTH of the N-channel MOS transistor via the N-channel MOS transistor 20 serving as a load MOS transistor. When the input signal IN is at a low potential (V SS ), the voltage at the node N1 is boosted by the capacitor 21 to V DD + ΔV2 (where ΔV2 is a voltage sufficiently larger than the threshold voltage V TH of the N-channel MOS transistor). . The N-channel MOS transistor 22 is turned on by the potential of the node N1, and the capacitor 23 charges the node N2 via the transistor 22 until the node N2 reaches the power supply potential VDD . Also at this time, the output control signal
CONT1 is brought to V SS and CONT2 is brought to V DD , and the signal
CONT1 allows N-channel MOS transistor 2
4 is off, N channel by signal CONT2
Since the MOS transistor 25 is on, the potential of the signal OUT at the output node N3 is V SS .

入力信号INがVSSからVDDに立上がるとインバ
ータ26の出力がVDDからVSSに反転し、これに
よりノードN1がキヤパシタ21によるカツプリ
ングでVDD+ΔV2からVDD−VTHに低下する。これ
によりトランジスタ22がオフする。さらにイン
バータ27の出力がVSSからVDDになり、ノード
N2がキヤパシタ23によるカツプリングでVDD
らVDD+ΔV1に昇圧される。入力信号INの立ち上
がりに伴い、出力制御信号CONT1はVSSからVDD
になり次に高インピーダンス状態になる。これに
よりトランジスタ24がまずオンし、ノードN2
の電位が出力信号OUTとして出力ノードN3から
出力される。次に信号CONT1が高インピーダン
ス状態となると、トランジスタ24のゲートと出
力ノードN3との間に挿入されているキヤパシタ
28によるカツプリングにより、トランジスタ2
4のゲート電位が昇圧される。これによりトラン
ジスタ24が三極管動作し、昇圧されたノード
N2の電位VDD+ΔV1がそのまま出力ノードN3に
出力される。出力制御信号CONT2は、入力信号
INの立ち上がりに伴つてVDDからVSSに変化し、
これによりトランジスタ25をオフする。
When the input signal IN rises from V SS to V DD , the output of the inverter 26 is inverted from V DD to V SS , and as a result, the node N1 decreases from V DD +ΔV2 to V DD −V TH due to the coupling by the capacitor 21 . This turns off transistor 22. Furthermore, the output of inverter 27 changes from V SS to V DD , and the node
N2 is coupled by the capacitor 23 and boosted from V DD to V DD +ΔV1. As the input signal IN rises, the output control signal CONT1 changes from V SS to V DD
and then enters a high impedance state. As a result, transistor 24 is first turned on, and node N2
The potential is output from output node N3 as output signal OUT. Next, when the signal CONT1 becomes a high impedance state, the transistor 2
The gate potential of No. 4 is boosted. As a result, the transistor 24 operates as a triode, and the node is boosted.
The potential V DD +ΔV1 of N2 is output as is to the output node N3. The output control signal CONT2 is the input signal
As IN rises, V DD changes to V SS ,
This turns off transistor 25.

次に入力信号INがVDDからVSSに変化すると、
出力制御信号CONT1はVSS、出力制御信号
CONT2はVDDになり、これによりトランジスタ
24がオフ、トランジスタ25がオンし、出力ノ
ードN3はトランジスタ25によつてVSSまで放電
される。他方、インバータ26の出力はVDD、イ
ンバータ27の出力はVSSになり、ノードN1が再
びVDD+ΔV2に昇圧され、これによりトランジス
タ22がオンしてキヤシタ23が充電される。
Next, when the input signal IN changes from V DD to V SS ,
Output control signal CONT1 is V SS , output control signal
CONT2 goes to V DD , which turns off transistor 24 and turns on transistor 25, so that output node N3 is discharged by transistor 25 to V SS . On the other hand, the output of the inverter 26 becomes V DD and the output of the inverter 27 becomes V SS , and the node N1 is again boosted to V DD +ΔV2, which turns on the transistor 22 and charges the capacitor 23 .

ここで、キヤパシタ23の放電の後、ノード
N2の電位は1/2VDDないし2/3VDD程度まで低下す
る。この電位をVDD程度まで充電するために必要
な時間t1はトランジスタ22の素子寸法(デイメ
ンジヨン)にもよるが、通常、速くても20n秒な
いし30n秒程度である。
Here, after discharging the capacitor 23, the node
The potential of N2 drops to about 1/2V DD or 2/3V DD . The time t1 required to charge this potential to about V DD depends on the element dimensions of the transistor 22, but is usually about 20 to 30 ns at the fastest.

[背景技術の問題点] ところで、第7図のような従来の記憶装置にお
いて、連続してデータの読み出し、または書き込
み動作を行なうような場合、それぞれの動作の間
には少なくとも上記キヤパシタ23の充電を行な
うための20n秒ないし30n秒の時間が必要である。
[Problems with the Background Art] By the way, in a conventional storage device as shown in FIG. It takes 20ns to 30ns to do this.

仮にこのような時間間隔を取らずに、充電が不
十分な状態で次の動作を開始すると、ワード線電
位が低い状態となり、メモリセルの選択用トラン
ジスタのコンダクタンスが小さくなり、ビツト線
に十分な電位差が生じる前にセンスアンプ回路が
動作し、これにより誤動作が生じたり、記憶用キ
ヤパシタの書き込み電圧が小さくなることにより
データ保持時間の短縮によるデータの消失および
ソフトエラー率の増大が起こる。このため、この
充電時間中は他の回路が動作可能であつても次の
動作に移ることはできない。従つて、サイクル時
間は上記キヤパシタ23における充電時間分だけ
長くなつてしまうという欠点がある。
If such a time interval is not taken and the next operation is started with insufficient charging, the word line potential will be low, the conductance of the memory cell selection transistor will be small, and the bit line will not have enough power. The sense amplifier circuit operates before a potential difference occurs, which causes malfunction, and the write voltage of the storage capacitor decreases, resulting in data loss due to a reduction in data retention time and an increase in the soft error rate. Therefore, even if other circuits can operate during this charging time, they cannot proceed to the next operation. Therefore, there is a drawback that the cycle time becomes longer by the charging time in the capacitor 23.

また、最近、ダイナミツクRAMでは内部にア
ドレスカウンタを持ち、外部からアドレスを与え
ずにリフレツシユを行なわせるオートリフレツシ
ユ機能を持つものができてきている。このような
RAMでは、通常のデータ書き込みおよび読み出
し動作(以下、このよな動作をノーマル動作と称
する)とリフレツシユ動作とをそれぞれ別の動作
して行なわせることができる。そこで、リフレツ
シユ時間短縮のため、メモリセルアレイをカラム
分割し、ノーマル動作時よりも多くのワード線を
同時に駆動することが考えられる。しかしなが
ら、従来の記憶装置で使用されている電圧昇圧回
路では、実際にワード線に印加される昇圧電位
は、前記第8図のキヤパシタ23の容量と出力ノ
ードN3からワード線までの経路に存在する寄生
容量との比率で決まるため、リフレツシユ動作時
にノーマル動作時よりも多くのワード線を駆動し
ようとすると、キヤパシタ23の容量をノーマル
動作に合せたときにはリフレツシユ動作時はワー
ド線電位が不十分になり、データの消失およびソ
フトエラー率の増大等が生じる。他方、キヤパシ
タ23の容量をリフレツシユ動作に合せたときに
はノーマル動作時のワード線電位が必要以上に高
くなり、メモリセル内の選択用MOSトランジス
タのゲート酸化膜もしくはロウデコーダ内の
MOSトランジスタの信頼性が著しく悪化する。
Recently, dynamic RAMs have been developed that have an internal address counter and an auto-refresh function that allows refreshing to be performed without applying an external address. like this
In the RAM, normal data write and read operations (hereinafter such operations will be referred to as normal operations) and refresh operations can be performed as separate operations. Therefore, in order to shorten the refresh time, it is conceivable to divide the memory cell array into columns and simultaneously drive more word lines than during normal operation. However, in the voltage booster circuit used in conventional memory devices, the boosted potential actually applied to the word line exists in the capacitance of the capacitor 23 in FIG. 8 and the path from the output node N3 to the word line. Since it is determined by the ratio to the parasitic capacitance, if you try to drive more word lines during refresh operation than during normal operation, the word line potential will be insufficient during refresh operation when the capacitance of the capacitor 23 is adjusted to normal operation. , data loss, increased soft error rate, etc. occur. On the other hand, when the capacitance of the capacitor 23 is adjusted to the refresh operation, the word line potential during normal operation becomes higher than necessary, and the gate oxide film of the selection MOS transistor in the memory cell or the gate oxide film in the row decoder increases.
The reliability of MOS transistors deteriorates significantly.

従つて、従来の記憶装置では、ノーマル動作と
リフレツシユ動作で異なる本数のワード線を駆動
することができないという問題がある。
Therefore, in the conventional memory device, there is a problem in that it is not possible to drive different numbers of word lines in normal operation and refresh operation.

[発明の目的] この発明は上記のような事情を考慮してなされ
たものでありその目的は、連続してデータの書き
込みもしくは読み出し動作を行なう場合にこれを
高速で行なうことができ、あるいはリフレツシユ
動作を行なう場合にはこのリフレツシユに要する
時間を従来に比べて短縮することができる半導体
記憶装置を提供することにある。
[Objective of the Invention] The present invention has been made in consideration of the above-mentioned circumstances, and its purpose is to enable continuous data writing or reading operations to be performed at high speed, or to enable a refresh operation. It is an object of the present invention to provide a semiconductor memory device which can reduce the time required for refreshing when performing an operation compared to the conventional semiconductor memory device.

[発明の概要] 上記目的を達成するためこの発明にあつては、
電圧昇圧回路を二つ用意し、この二つの電圧昇圧
回路を交互に動作させることにより、連続してデ
ータの書き込みもしくは読み出しを行なう場合に
これを高速に行なうことができ、また二つの電圧
昇圧回路の一方をデータの書き込みおよび読み出
し動作の時に使用し、他方のリフレツシユン動作
の時に使用するようにしてリフレツシユに要する
時間を短縮するようにしている。
[Summary of the invention] In order to achieve the above object, this invention has the following features:
By preparing two voltage boosting circuits and operating these two voltage boosting circuits alternately, it is possible to perform data writing or reading continuously at high speed. One of them is used during data write and read operations, and the other is used during refresh operations, thereby reducing the time required for refresh.

[発明の実施例] 以下、図面を参照してこの発明の一実施例を説
明する。
[Embodiment of the Invention] An embodiment of the invention will be described below with reference to the drawings.

第1図はこの発明に係る半導体記憶装置のブロ
ツク図である。
FIG. 1 is a block diagram of a semiconductor memory device according to the present invention.

第1図において、10は従来と同様に複数のダ
イナミツク型メモリセルが設けられたメモリセル
アレイである。このメモリセルアレイ10内に設
けられているメモリセルは複数のワード線11に
いずれかに接続されている。12はアドレス信号
に応じて上記ワード線11を選択するロウデコー
ダである。このロウデコーダ12には第1の電圧
昇圧回路13Aおよび第2の電圧昇圧回路13B
のいずれか一方で電源電圧以上に昇圧された信号
OUTが供給されており、このロウデコーダ12
はアドレス信号に応じて選択したワード線11を
この昇圧信号OUTで駆動する。上記第1の電圧
昇圧回路13Aおよび第2の電圧昇圧回路13B
には入力信号切換回路14を介して入力信号IN
がIN1もしくはIN2として入力されるようになつ
ている。上記入力信号切換回路14の入力信号
INとしては、RAS(ロウアドレス・ストローブ信
号)やオートリフレツシユ動作のための制御信号
等が供給される。上記第1および第2の電圧昇圧
回路13A,13Bはそれぞれ、入力信号IN1も
しくはIN2のレベルが変化した際にそれぞれ電源
電圧を昇圧して信号OUTとして出力する。
In FIG. 1, numeral 10 is a memory cell array provided with a plurality of dynamic memory cells as in the conventional case. The memory cells provided in this memory cell array 10 are connected to one of a plurality of word lines 11. A row decoder 12 selects the word line 11 according to an address signal. This row decoder 12 includes a first voltage boosting circuit 13A and a second voltage boosting circuit 13B.
A signal boosted above the power supply voltage on either one of the
OUT is supplied, and this row decoder 12
drives the word line 11 selected according to the address signal with this boosted signal OUT. The first voltage booster circuit 13A and the second voltage booster circuit 13B
input signal IN via the input signal switching circuit 14.
is now input as IN1 or IN2. Input signal of the input signal switching circuit 14
As IN, RAS (row address strobe signal), control signals for auto-refresh operation, etc. are supplied. The first and second voltage boosting circuits 13A and 13B each boost the power supply voltage and output it as a signal OUT when the level of the input signal IN1 or IN2 changes.

第2図は上記第1および第2の電圧昇圧回路1
3A,13Bの具体的構成を示す回路図である。
この第1および第2の電圧昇圧回路13A,13
Bそれぞれは、MOSトランジスタ25を除いて
前記第8図に示す電圧昇圧回路と同様に構成され
ており、第1の電圧昇圧回路13Aにおいて第8
図回路と対応する部分にはその符号の未尾にアル
フアベツトのAを付加し、同様に第2の電圧昇圧
回路13Bにおいて第8図回路と対応する部分に
はその符号の未尾にアルフアベツトのBを付加す
る。そして第1および第2の電圧昇圧回路13
A,13Bにおいて、信号OUTを得るための出
力ノードN3、N3Bどうしが共通接続され、この
共通接続された出力ノードN3CにMOSトランジ
スタ25が接続されている。このMOSトランジ
スタ25のゲートには前記入力信号INと逆相関
係にある出力制御信号CONT2が供給されるよう
になつている。さらに上記第1の電圧昇圧回路1
3Aのトランジスタ24Aのゲートには出力制御
信号CONT11が、第2の電圧昇圧回路13B
のトランジスタ24Bのゲートには出力制御信号
CONT22がそれぞれ供給されるようになつて
おり、第1の電圧昇圧回路13Aのインバータ2
6Aには入力信号としてIN1が、第2の電圧昇圧
回路13Bのインバータ26Bには入力信号とし
てIN2がそれぞれ供給されるようになつている。
FIG. 2 shows the first and second voltage booster circuits 1.
3A and 13B are circuit diagrams showing specific configurations.
These first and second voltage booster circuits 13A, 13
Each of the voltage boosting circuits B has the same structure as the voltage boosting circuit shown in FIG. 8, except for the MOS transistor 25, and the eighth
For the portions corresponding to the circuit shown in the figure, an alphanumeric character A is added to the suffix of the symbol, and similarly, for the portion corresponding to the circuit of FIG. Add. and first and second voltage booster circuits 13
In A and 13B, output nodes N3 and N3B for obtaining a signal OUT are commonly connected, and a MOS transistor 25 is connected to this commonly connected output node N3C. The gate of this MOS transistor 25 is supplied with an output control signal CONT2 having a negative phase relationship with the input signal IN. Furthermore, the first voltage booster circuit 1
The output control signal CONT11 is applied to the gate of the 3A transistor 24A, and the output control signal CONT11 is applied to the gate of the 3A transistor 24A.
The output control signal is applied to the gate of the transistor 24B.
CONT22 is supplied to each inverter 2 of the first voltage booster circuit 13A.
6A is supplied with IN1 as an input signal, and IN2 is supplied as an input signal with the inverter 26B of the second voltage boosting circuit 13B.

第3図は上記入力切換回路14の具体的構成を
示す回路図である。この回路14は一対のアンド
ゲート回路31,32とトグルフリツプフロツプ
回路33とから構成されている。上記アンドゲー
ト回路31,32それぞれの一方の入力端には上
記入力信号INが並列に供給されている。アンド
ゲート回路31の他方の入力端には上記フリツプ
フロツプ回路33のQ出力が供給されている。ア
ンドゲート回路32の他方の入力端には上記フリ
ツプフロツプ回路33の出力が供給されてい
る。フリツプフロツプ回路33のトグル入力(T)と
しては“1”レベル(VDD)が常時供給されてお
り、クロツク入力(CP)としては1回のデータ
の書き込み動作期間もしくは読み出し動作期間に
対応した周期を持つクロツクパルスφが供給され
るようになつている。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a specific configuration of the input switching circuit 14. This circuit 14 is composed of a pair of AND gate circuits 31 and 32 and a toggle flip-flop circuit 33. The input signal IN is supplied in parallel to one input terminal of each of the AND gate circuits 31 and 32. The other input terminal of the AND gate circuit 31 is supplied with the Q output of the flip-flop circuit 33. The output of the flip-flop circuit 33 is supplied to the other input terminal of the AND gate circuit 32. A "1" level (V DD ) is always supplied to the toggle input (T) of the flip-flop circuit 33, and the clock input (CP) has a cycle corresponding to one data write operation period or read operation period. A clock pulse φ having a clock pulse φ is supplied.

このように構成された記憶装置はデータの書込
みもしくは読み出し動作を連続して行なう場合に
その動作の高速化を図るようにしたものであり、
動作を第4図のタイミングチヤートを用いて説明
する。まず、第3図の回路ではクロツクパルスφ
が供給される毎にフリツプフロツプ回路33のQ
出力および出力が交互に“1”レベルにされ
る。このため、一対のアンドゲート回路31,3
2を介して入力信号INが交互に切換えられ、信
号IN1とIN2が交互に“1”レベルに設定され
る。そして例えば、あるタイミングにおいて入力
信号INが“1”レベルに立ち上がり、これによ
り一方の信号IN1が“1”レベルにされたとする
と、この信号IN1により第1の電圧昇圧回路13
Aが動作してその内部ノードN2Aには前記した
ようにVDD+ΔV1に昇圧された電位が得られる。
入力信号INの立ち上がりに伴い、出力制御信号
CONT11がVSSからVDDになり次に高インピーダ
ンス状態になる。これによりトランジスタ24A
がまずオンし、ノードN2Aの電位が共通出力ノ
ードN3Cから出力される。次に信号CONT11
が高インピーダンス状態になると、キヤパシタ2
8Aによるカツプリングにより、トランジスタ2
4Aのゲート電位が昇圧され、これによりトラン
ジスタ24Aが三極管動作して、昇圧されたノー
ドN2Aの電位VDD+ΔV1がそのまま共通出力ノー
ドN3Cに出力される。出力制御信号CONT2は、
入力信号INの立ち上がりに伴つてVDDからVSS
変化し、これによりトランジスタ25がオフす
る。
A storage device configured in this manner is designed to speed up data writing or reading operations in a continuous manner.
The operation will be explained using the timing chart shown in FIG. First, in the circuit shown in Figure 3, the clock pulse φ
Q of the flip-flop circuit 33 is
The output and the output are alternately set to the "1" level. Therefore, the pair of AND gate circuits 31, 3
The input signal IN is alternately switched through the input terminal 2, and the signals IN1 and IN2 are alternately set to the "1" level. For example, if the input signal IN rises to the "1" level at a certain timing and one of the signals IN1 is thereby set to the "1" level, this signal IN1 causes the first voltage booster circuit 13 to
A operates, and the potential boosted to V DD +ΔV1 is obtained at its internal node N2A as described above.
As the input signal IN rises, the output control signal
CONT11 goes from V SS to V DD and then goes into a high impedance state. As a result, the transistor 24A
is turned on first, and the potential of node N2A is output from common output node N3C. Next signal CONT11
becomes a high impedance state, capacitor 2
By coupling with 8A, transistor 2
4A is boosted, transistor 24A operates as a triode, and the boosted potential V DD +ΔV1 of node N2A is directly output to common output node N3C. The output control signal CONT2 is
As the input signal IN rises, it changes from VDD to VSS , thereby turning off the transistor 25.

次に入力信号INが“0”レベルに下がると、
トランジスタ24Aがオフし、トランジスタ25
がオンするので、その後、共通出力ノードN3C
の電位はVSSに低下する。このとき、インバータ
27Aの出力がVSSに反転するので、ノードN2A
の電位はVDD+ΔV1から1/2VDDないし2/3VDDまで
低下し、このノードN2Aはトランジスタ24A
によつて充電状態に入る。
Next, when the input signal IN drops to “0” level,
Transistor 24A turns off and transistor 25
turns on, then the common output node N3C
The potential at will drop to V SS . At this time, the output of inverter 27A is inverted to V SS , so node N2A
The potential at node N2A decreases from V DD +ΔV1 to 1/2V DD or 2/3V DD , and this node N2A is connected to transistor 24A.
It enters the charging state by

次に入力信号INが“1”レベルに立ち上がる
と、今度は他方の信号IN2が“1”レベルにされ
る。従つてこの信号IN2により、今度は第2の電
圧昇圧回路13Bが動作し、その後、ノード
N2Bには前記したようにVDD+ΔV1に昇圧された
電位が得られ、この電位が共通出力ノードN3C
から出力される。この期間、第1の電圧昇圧回路
13Aではキヤパシタ13Aに対する充電が続け
られており、第2の電圧昇圧回路13Bの動作中
にその充電が完了する。以下、同様に第1、第2
の電圧昇圧回路13A,13Bを交互に動作させ
ることによつて、第1、第2の電圧昇圧回路13
A,13の共通出力ノードN3Cで得られる昇圧
された信号(OUT)の周期は、前記第9図に示
す信号に比較して約半分程度に短縮することがで
きる。
Next, when the input signal IN rises to the "1" level, the other signal IN2 is set to the "1" level. Therefore, this signal IN2 operates the second voltage booster circuit 13B, and then the node
As mentioned above, a potential boosted to V DD +ΔV1 is obtained at N2B, and this potential is applied to the common output node N3C.
is output from. During this period, the first voltage booster circuit 13A continues to charge the capacitor 13A, and the charging is completed while the second voltage booster circuit 13B is operating. Below, the first and second
By alternately operating the voltage boosting circuits 13A and 13B, the first and second voltage boosting circuits 13
The period of the boosted signal (OUT) obtained at the common output node N3C of A, 13 can be shortened to about half that of the signal shown in FIG.

このように、第1および第2の電圧昇圧回路1
3A,13Bのうち一方が動作中に他方でキヤパ
シタ23が充電されているので、電圧昇圧回路1
3A,13Bにおける従来のような充電のための
待ち時間は必要ない。従つて、従来と比べてサイ
クル時間が短縮化され、より高速に動作させるこ
とができる。
In this way, the first and second voltage booster circuits 1
While one of 3A and 13B is in operation, the capacitor 23 is being charged in the other, so the voltage booster circuit 1
There is no need for waiting time for charging as in the conventional case in 3A and 13B. Therefore, the cycle time is shortened compared to the conventional method, and it is possible to operate at higher speed.

第5図はこの発明の他の実施例に係る入力信号
切換回路14の具体的構成を示す回路図である。
この切換回路は、この発明の記憶装置でリフレツ
シユ動作に要する時間の短縮化を図る際に、前記
第3図の切換回路の代わりに使用されるものであ
る。そしてこの回路は一対のアンドゲート回路4
1,42とインバータ44とから構成されてい
る。上記アンドゲート回路41,42それぞれの
一方の入力端には入力信号INが並列に供給され
ている。上記アンドゲート回路41の他方の入力
端には、ノーマル動作時には“1”レベルに、リ
フレツシユ動作時には“0”レベルにされる切換
信号N/が直接に供給され、アンドゲート回路
42の他方の入力端にはこの切換信号N/が上
記インバータ43を介して供給されるようになつ
ている。すなわち、このような入力信号切換回路
を使用すれば、ノーマル動作時にはアンドゲート
回路41を介して入力信号INが信号IN1として
出力され、リフレツシユ動作時にはアンドゲート
回路42を介して入力信号INが信号IN2として
出力される。従つて、この場合には第1の電圧昇
圧回路13Aをノーマル動作専用の電圧昇圧回路
として、第2の電圧昇圧回路13Bをリフレツシ
ユ動作専用の電圧昇圧回路として使用することが
できる。
FIG. 5 is a circuit diagram showing a specific configuration of the input signal switching circuit 14 according to another embodiment of the invention.
This switching circuit is used in place of the switching circuit shown in FIG. 3 when attempting to shorten the time required for refresh operation in the storage device of the present invention. And this circuit consists of a pair of AND gate circuits 4
1 and 42 and an inverter 44. An input signal IN is supplied in parallel to one input terminal of each of the AND gate circuits 41 and 42. The other input terminal of the AND gate circuit 41 is directly supplied with a switching signal N/ which is set to "1" level during normal operation and set to "0" level during refresh operation. This switching signal N/ is supplied to the end via the inverter 43. That is, if such an input signal switching circuit is used, the input signal IN is output as the signal IN1 through the AND gate circuit 41 during normal operation, and the input signal IN is output as the signal IN2 through the AND gate circuit 42 during the refresh operation. is output as Therefore, in this case, the first voltage booster circuit 13A can be used as a voltage booster circuit exclusively for normal operation, and the second voltage booster circuit 13B can be used as a voltage booster circuit exclusively for refresh operation.

ここで、第24の電圧昇圧回路13B内のキヤパ
シタ23Bの容量を第1の電圧昇圧回路13A内
のキヤパシタ23Aよりも大きく設定しておけ
ば、リフレツシユ動作時にはノーマル動作時のと
きよりも多くのワード線を同時に駆動することが
できる。これにより、カラム分割されたRAMの
場合に、1回のリフレツシユ動作でより多くのメ
モリセルのリフレツシユが行なえるため、リフレ
ツシユに要する時間を短縮することができる。
Here, if the capacitance of the capacitor 23B in the 24th voltage booster circuit 13B is set larger than that of the capacitor 23A in the first voltage booster circuit 13A, more words can be used during the refresh operation than during the normal operation. Lines can be driven simultaneously. As a result, in the case of column-divided RAM, more memory cells can be refreshed in one refresh operation, and the time required for refresh can be shortened.

また、ノーマル動作を行なう場合、必要最低限
である1本のワード線のみが駆動できればよいの
で、ノーマル動作専用の第1の電圧昇圧回路13
Aではキヤパシタ23Aの容量として小さなもの
が使用でき、消費電力が少なくなるという効果も
ある。
In addition, when performing normal operation, it is only necessary to drive one word line, which is the minimum necessary, so the first voltage booster circuit 13 dedicated for normal operation is used.
In A, a small capacitor 23A can be used, which has the effect of reducing power consumption.

このように信号切換回路14で、ノーマル動作
時とリフレツシユ動作時とで入力信号INを切換
えるようにすれば、第1、第2の電圧昇圧回路1
3A,13Bをノーマル動作とリフレツシユ動作
それぞれに対して最適に設計することができる。
If the signal switching circuit 14 is configured to switch the input signal IN between normal operation and refresh operation, the first and second voltage boosting circuits 1
3A and 13B can be optimally designed for normal operation and refresh operation, respectively.

ところで、上記実施例のように第1、第2の電
圧昇圧回路13A,13Bをノーマル動作とリフ
レツシユ動作それぞれで専用に使用したときに、
リフレツシユ動作のみが行なわれ、ノーマル動作
が長時間行われないような場合には、ノーマル動
作用の第1電圧昇圧回路13A内のノードN1A
が長時間放置されたままになる。このとき、この
ノードN1Aの電位がリーク電流によつて順次低
下してVDD以下になると、ノードN2Aの電位は
VDD−VTHまでしか充電されなくなる。このよう
な電位状態で第1の電圧昇圧回路13Aが動作す
ると、出力ノードN3Aでは十分な昇圧電圧が得
られず、この発明の効果を十分に発揮させること
ができなくなる場合がある。そこで、このような
場合には第6図の実施例回路に示すように、ノー
マル動作用の第1の電圧昇圧回路13Aのノード
N1Aに対してキヤパシタ29の一端を接続し、
このキヤパシタ29の他端には第2の電圧昇圧回
路13Bに供給される入力信号IN2を供給するよ
うにしている。
By the way, when the first and second voltage booster circuits 13A and 13B are used exclusively for normal operation and refresh operation as in the above embodiment,
When only the refresh operation is performed and the normal operation is not performed for a long time, the node N1A in the first voltage booster circuit 13A for normal operation is
remains unattended for a long time. At this time, when the potential of this node N1A gradually decreases due to leakage current and becomes below V DD , the potential of node N2A decreases.
It will only be charged up to V DD −V TH . If the first voltage booster circuit 13A operates in such a potential state, a sufficient boosted voltage may not be obtained at the output node N3A, and the effects of the present invention may not be fully exhibited. Therefore, in such a case, as shown in the embodiment circuit of FIG. 6, the node of the first voltage booster circuit 13A for normal operation is
Connect one end of capacitor 29 to N1A,
The other end of this capacitor 29 is supplied with an input signal IN2 that is supplied to the second voltage boosting circuit 13B.

このような構成によれば、ノーマル動作が長時
間行われず、ノーマル動作用の第1の電圧昇圧回
路13A内のノードN1Aが長時間放置されたま
までも、リフレツシユ動作が行われるときには信
号IN2によつてノードN1Aの電位がキヤパシタ2
9によるカツプリングによつてその都度上昇す
る。これによりトランジスタ22Aがオンし、キ
ヤパシタ23Aがこのトランジスタ22Aを介し
て充電され、上記のような不都合は生じない。
According to such a configuration, even if the normal operation is not performed for a long time and the node N1A in the first voltage booster circuit 13A for normal operation is left unused for a long time, the signal IN2 is used when the refresh operation is performed. Therefore, the potential of node N1A is capacitor 2
It rises each time by coupling with 9. As a result, the transistor 22A is turned on, and the capacitor 23A is charged via the transistor 22A, so that the above-mentioned problem does not occur.

[発明の効果] 以上説明したようにこの発明によれば、連続し
てデータの書き込みもしくは読み出し動作を行な
う場合にこれを高速で行なうことができ、あるい
はリフレツシユ動作を行なう場合にはこのリフレ
ツシユに要する時間を従来に比べて短縮すること
ができる半導体記憶装置を提供することができ
る。
[Effects of the Invention] As explained above, according to the present invention, when data is continuously written or read, it can be performed at high speed, or when a refresh operation is performed, the refresh operation can be performed at high speed. It is possible to provide a semiconductor memory device that can take less time than conventional ones.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はこの発明の一実施例に係る構成を示す
ブロツク図、第2図および第3図はそれぞれ上記
実施例回路の一部を具体的に示す回路図、第4図
は上記実施例回路のタイミングチヤート、第5図
はこの発明の他の実施例に係る回路図、第6図は
この発明のさらに他の実施例に係る回路図、第7
図は従来の半導体記憶装置のブロツク図、第8図
は上記第7図の半導体記憶装置で使用される電圧
昇圧回路の具体的構成を示す回路図、第9図は上
記第7図回路のタイミングチヤートである。 10……メモリセルアレイ、11……ワード
線、12……ロウデコーダ、13A,13B……
電圧昇圧回路、14……信号切換回路。
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration according to an embodiment of the present invention, FIGS. 2 and 3 are circuit diagrams specifically showing a part of the above embodiment circuit, and FIG. 4 is a circuit diagram of the above embodiment circuit. FIG. 5 is a circuit diagram according to another embodiment of the invention, FIG. 6 is a circuit diagram according to still another embodiment of the invention, and FIG.
The figure is a block diagram of a conventional semiconductor memory device, FIG. 8 is a circuit diagram showing a specific configuration of a voltage booster circuit used in the semiconductor memory device of FIG. 7 above, and FIG. 9 is a timing diagram of the circuit of FIG. 7 above. It's a chat. 10...Memory cell array, 11...Word line, 12...Row decoder, 13A, 13B...
Voltage booster circuit, 14...signal switching circuit.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 複数のメモリセルが設けられたメモリセルア
レイと、 上記メモリセルアレイ内のメモリセルを選択す
るワード線と、 上記ワード線を選択駆動するワード線選択回路
と、 通常のデータ書き込みおよび読み出し時に動作
するように制御され、電源電圧を昇圧して上記ワ
ード線選択回路に供給する第1の電圧昇圧回路
と、 リフレツシユ時に動作するように制御され、電
源電圧を昇して上記ワード線選択回路に供給する
第2の電圧昇圧回路 とを具備したことを特徴とする半導体記憶装置。 2 前記第1および第2の電圧昇圧回路はそれぞ
れ少なくとも、 通常のデータ書き込みおよび読み出し時もしく
はリフレツシユ時に入力する入力信号が供給され
る第1の反転回路と、 この第1の反転回路の出力端に一端が接続され
る第1の容量と、 この第1の容量の他端が接続された第1のノー
ドと、 この第1のノードと電源との間に挿入される負
荷トランジスタと、 上記第1の反転回路の出力端に入力端が接続さ
れる第2の反転回路と、 この第2の反転回路の出力端に一端が接続され
る第2の容量と、 この第2の容量の他端が接続され、昇圧された
電圧を得るための第2のノードと、 電流通路がこの第2のノードと電源との間に挿
入され、制御端が上記第1のノードに接続された
トランジスタ とから構成されている特許請求の範囲第1項に記
載の半導体記憶装置。 3 複数のメモリセルが設けられたメモリセルア
レイと、 上記メモリセルアレイ内のメモリセルを選択す
るワード線と、 上記ワード線を選択駆動するワード線選択回路
と、 通常のデータ書き込みおよび読み出し時に動作
するように制御され、電源電圧を昇圧して上記ワ
ード線選択回路に供給する第1の電圧昇圧回路
と、 リフレツシユ時に動作するように制御され、電
源電圧を昇圧して上記ワード線選択回路に供給す
る第2の電圧昇圧回路とを具備し、 上記第1の電圧昇圧回路は、 通常のデータ書き込みおよび読み出し時に入力
する入力信号が供給される第1の反転回路と、 この第1の反転回路の出力端に一端が接続され
る第1の容量と、 この第1の容量の他端が接続された第1のノー
ドと、 この第1のノードと電源との間に挿入される第
1の負荷トランジスタと、 上記第1の反転回路の出力端に入力端が接続さ
れる第2の反転回路と、 この第2の反転回路の出力端に一端が接続され
る第2の容量と、 この第2の容量の他端が接続され、昇圧された
電圧を得るための第2のノードと、 電流通路がこの第2のノードと電源との間に挿
入され、制御端が上記第1のノードに接続された
第1のトランジスタと、 リフレツシユ時に入力する入力信号が一端に供
給され、他端が上記第1のノードに接続された第
3の容量とから構成され、 上記第2の電圧昇圧回路は、 通常のデータ書き込みおよび読み出し時に入力
する入力信号が供給される第3の反転回路と、 この第3の反転回路の出力端に一端が接続され
る第4の容量と、 この第4の容量の他端が接続された第3のノー
ドと、 この第3のノードと電源との間に挿入される第
2の負荷トランジスタと、 上記第3の反転回路の出力端に入力端が接続さ
れる第4の反転回路と、 この第4の反転回路の出力端に一端が接続され
る第5の容量と、 この第5の容量の他端が接続され、昇圧された
電圧を得るための第4のノードと、 電流通路がこの第4のノードと電源との間に挿
入され、制御端が上記第3のノードに接続された
第2のトランジスタとから構成されてなることを
特徴とする半導体記憶装置。
[Scope of Claims] 1. A memory cell array provided with a plurality of memory cells, a word line for selecting a memory cell in the memory cell array, a word line selection circuit for selectively driving the word line, and a normal data writing circuit. and a first voltage booster circuit that is controlled to operate during reading and boosts the power supply voltage and supplies it to the word line selection circuit; and a first voltage booster circuit that is controlled to operate during refresh and boosts the power supply voltage to supply the voltage to the word line A semiconductor memory device comprising: a second voltage booster circuit that supplies a voltage to a selection circuit. 2. The first and second voltage boosting circuits each include at least a first inverting circuit to which an input signal input during normal data writing and reading or refreshing is supplied, and an output terminal of the first inverting circuit. a first capacitor to which one end is connected; a first node to which the other end of the first capacitor is connected; a load transistor inserted between the first node and a power supply; a second inverting circuit whose input terminal is connected to the output terminal of the inverting circuit; a second capacitor whose one end is connected to the output terminal of the second inverting circuit; and a second capacitor whose other end is connected to the output terminal of the second inverting circuit. a second node connected to obtain a boosted voltage; and a transistor with a current path inserted between the second node and a power supply and a control end connected to the first node. A semiconductor memory device according to claim 1. 3. A memory cell array provided with a plurality of memory cells, a word line that selects a memory cell in the memory cell array, a word line selection circuit that selects and drives the word line, and a word line selection circuit that operates during normal data writing and reading. a first voltage booster circuit that is controlled to boost the power supply voltage and supply it to the word line selection circuit; and a first voltage booster circuit that is controlled to operate during refresh and boosts the power supply voltage and supplies it to the word line selection circuit. The first voltage booster circuit includes a first inverter circuit to which an input signal input during normal data writing and reading is supplied, and an output terminal of the first inverter circuit. a first capacitor having one end connected to the first capacitor, a first node having the other end connected to the first capacitor, and a first load transistor inserted between the first node and a power supply; , a second inverting circuit whose input terminal is connected to the output terminal of the first inverting circuit; a second capacitor whose one end is connected to the output terminal of the second inverting circuit; and this second capacitor. the other end is connected to a second node for obtaining a boosted voltage, a current path is inserted between this second node and the power supply, and a control end is connected to the first node. The second voltage booster circuit is composed of a first transistor and a third capacitor, one end of which is supplied with an input signal input during refreshing, and the other end of which is connected to the first node. a third inverting circuit to which an input signal input during data writing and reading is supplied; a fourth capacitor having one end connected to the output terminal of the third inverting circuit; and a fourth capacitor having the other end connected to the output terminal of the third inverting circuit. a fourth inverter whose input end is connected to the output end of the third inverter circuit; a second load transistor inserted between the third node and the power supply; a fifth capacitor having one end connected to the output end of the fourth inverting circuit; a fourth node to which the other end of the fifth capacitor is connected to obtain a boosted voltage; A semiconductor memory device characterized in that a current path is inserted between the fourth node and a power supply, and a second transistor has a control end connected to the third node.
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