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JPH0524592B2 - - Google Patents
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JPH0524592B2 - - Google Patents

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Publication number
JPH0524592B2
JPH0524592B2 JP63199859A JP19985988A JPH0524592B2 JP H0524592 B2 JPH0524592 B2 JP H0524592B2 JP 63199859 A JP63199859 A JP 63199859A JP 19985988 A JP19985988 A JP 19985988A JP H0524592 B2 JPH0524592 B2 JP H0524592B2
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level
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data line
circuit
pair
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、MISメモリ回路、特に互いに異なる
電位を保持する一対のデータ線の電位状態を、第
1の電位状態から第2の電位状態に移行させるデ
ータ線電位設定回路を備えてなるMISメモリ回路
に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention provides an MIS memory circuit, particularly a data line potential setting circuit that shifts the potential state of a pair of data lines holding mutually different potentials from a first potential state to a second potential state. The present invention relates to an MIS memory circuit comprising:

一般に、一対のコモンデータ線を介して書き込
み及び読み出しが行われるような絶縁ゲート型ト
ランジスタメモリ回路(以下単にMISメモリ回路
と称する。)においては、書き込み時に生じたコ
モンデータ線の電位状態(第1の電位状態)を読
み出し時に必要な電位状態(第2の電位状態)に
移行させる必要があり、その時間を短かくするた
めにデータ線電位設定回路が用いられている。
In general, in an insulated gate transistor memory circuit (hereinafter simply referred to as an MIS memory circuit) in which writing and reading are performed via a pair of common data lines, the potential state of the common data line (first It is necessary to shift the potential state (potential state) to the potential state (second potential state) required at the time of reading, and a data line potential setting circuit is used to shorten the time.

このようなデータ線電位設定回路を用いたMIS
メモリ回路について第1図に従つて説明する。
MIS using such a data line potential setting circuit
The memory circuit will be explained with reference to FIG.

同図において、1はメモリ・セルMS11〜MSno
をm行n列に配列したメモリマトリツクスであ
る。2は前記メモリマトリツクスの各行を行アド
レス信号W1〜Wnにて選択する行選択アドレスデ
コーダである。3は各列に配列された一対のデジ
ツト線D01,D11〜D0o,D1oを共通のコモンデー
タ線CD0〜CD1に接続するためのカラムゲート手
段であり、各列に対して一対のカラムゲートスイ
ツチング素子Q5,Q6〜Q5′,Q6′を有する。4は
前記一対のカラムゲートスイツチング素子Q5
Q6〜Q5′,Q6′をカラムゲート信号CL1〜CLoにて
選択する列選択アドレスデコーダである。5は各
列の一対のデジツト線D01,D11〜D0o,D1oに電
流を供給する負荷手段であり、各列において一対
のMISFETQ7,Q8〜Q7′,Q8′からなる。6は
CSX信号、WED信号、WE′信号によつて制御さ
れ、入出力端子I/Oからの書き込みデータを増
幅して前記一対のコモンデータ線に伝送するため
の書き込み回路である。7はCSX信号、WE信
号、″信号によつて制御され、コモンデータ
線CD0,CD1に読み出されたデータを増幅して入
出力端子I/Oに伝送する読み出し回路である。
8は一対のコモンデータ線に接続されたデータ線
電位設定回路であり、コモンデータ線CD0とバイ
アス源Vccとの間にMISFETQ9′,Q9が接続さ
れ、かつコモンデータ線CD1とバイアス源Vccと
の間にMISFETQ10′,Q10が接続された回路構成
をしており、前記MISFETQ9,Q10は″信号に
て制御されている。なお、各メモリ・セルは
MS11,MSnoに示すように交叉接続された
MISFETQ3,Q4,Q3′,Q4′と、その交叉接続点
A,B,A′,B′とデジツト線D01,D11,D0o
D1oとの間に接続され、かつ行アドレス信号W1
Wnが印加されるMISFETQ1,Q2,Q1′,Q2′と、
バイアス源Vccと前記交叉接続点A,B,A′,
B′との間に接続された負荷素子R1,R2,R1′,
R2′とによつて構成されており、一方の交叉接続
点に高レベル(以下、Hレベルと称する。)が、
他方の交叉接続点に低レベル(以下、Lレベルと
称する。)が生ずるようにスタチツク的にデータ
を記憶、保持する機能を有する。また、書き込み
回路6は第2図に示すようにMISFETQ42,Q43
Q49,Q50,Q56よりなるブツシユプル増幅段と、
前記ブツシユプル増幅手段と一対のコモンデータ
線CD0,CD1の間に接続されたMISFETQ42′,
Q49′とよりなる伝送手段と、MISFETQ44,Q45
Q51,Q52,Q57よりなる第1のインバータ波形整
形手段と、MISFETQ46,Q47,Q53,Q54,Q56
りなる第2インバータ波形整形手段と、
MISFETQ48,Q55,Q59よりなる入力バツフア手
段によつて構成され、前記伝送手段をWE′信号
で、前記プツシユプル増幅手段をWED信号で、
また前記第1および第2インバータ波形整形手段
及び入力バツフア手段をCSX信号で各々制御す
ることにより、入出力力端子からの書き込みデー
タを増幅して一対のコモンデータ線CD0,CD1
印加する。
In the same figure, 1 is a memory cell MS 11 ~ MS no
This is a memory matrix in which data is arranged in m rows and n columns. Reference numeral 2 denotes a row selection address decoder which selects each row of the memory matrix using row address signals W 1 to W n . 3 is a column gate means for connecting a pair of digital lines D 01 , D 11 to D 0o , D 1o arranged in each column to a common common data line CD 0 to CD 1 ; It has a pair of column gate switching elements Q 5 , Q 6 to Q 5 ′, Q 6 ′. 4 is the pair of column gate switching elements Q 5 ,
This is a column selection address decoder that selects Q6 to Q5 ' and Q6 ' using column gate signals CL1 to CLO . Reference numeral 5 denotes a load means for supplying current to a pair of digital lines D 01 , D 11 to D 0o , D 1o in each column, and each column consists of a pair of MISFETs Q 7 , Q 8 to Q 7 ′, Q 8 ′. . 6 is
This write circuit is controlled by the CSX signal, WED signal, and WE' signal, and amplifies write data from the input/output terminal I/O and transmits the amplified data to the pair of common data lines. Reference numeral 7 denotes a readout circuit which is controlled by the CSX signal, WE signal, and ``signal, and amplifies the data read out to the common data lines CD 0 and CD 1 and transmits it to the input/output terminal I/O.
8 is a data line potential setting circuit connected to a pair of common data lines, MISFETQ 9 ', Q 9 is connected between common data line CD 0 and bias source Vcc, and common data line CD 1 and bias source Vcc are connected. The circuit has a circuit configuration in which MISFETQ 10 ' and Q 10 are connected to the source Vcc, and the MISFETQ 9 and Q 10 are controlled by the '' signal.
MS 11 , cross-connected as shown in MS no .
MISFETQ 3 , Q 4 , Q 3 ', Q 4 ', their cross connection points A, B, A', B' and digital lines D 01 , D 11 , D 0o ,
D 1o and the row address signal W 1 ~
MISFETQ 1 , Q 2 , Q 1 ′, Q 2 ′ to which W n is applied,
Bias source Vcc and the cross-connection points A, B, A',
The load elements R 1 , R 2 , R 1 ′,
R 2 ′, and a high level (hereinafter referred to as H level) at one cross-connection point.
It has a function of statically storing and holding data so that a low level (hereinafter referred to as L level) is generated at the other cross-connection point. In addition, the write circuit 6 includes MISFETQ 42 , Q 43 ,
A bush pull amplification stage consisting of Q49 , Q50 , Q56 ,
MISFETQ 42 ' connected between the bush pull amplification means and the pair of common data lines CD 0 and CD 1 ;
A transmission means consisting of Q 49 ′ and MISFETQ 44 , Q 45 ,
A first inverter waveform shaping means consisting of Q51 , Q52 , Q57 , a second inverter waveform shaping means consisting of MISFETQ46 , Q47 , Q53 , Q54 , Q56 ,
It is composed of input buffer means consisting of MISFETQ 48 , Q 55 , and Q 59 , the transmission means is connected to the WE' signal, the push-pull amplification means is connected to the WED signal,
Furthermore, by controlling the first and second inverter waveform shaping means and input buffer means using CSX signals, the write data from the input/output terminals is amplified and applied to the pair of common data lines CD 0 and CD 1 . .

なお、前記コモンデータ線に伝送される書き込
みデータのレベルはバイアス源Vccが4.5Vの時、
一方が3.8Vの“H”レベルであり、他方が0.3V
の“L”レベルである。また、前記MISFETQ44
〜Q43はデフレツシヨン型であり、他はエンフア
ンスメント型である。
Note that the level of the write data transmitted to the common data line is as follows when the bias source Vcc is 4.5V.
One is 3.8V “H” level, the other is 0.3V
This is the “L” level. Also, the MISFETQ 44
~Q 43 is a deflation type, and the others are enhancement types.

さらに、前記読み出し回路7は第3図に示すよ
うにMISFETQ60,Q61,Q72,Q75よりなる第1
の差動増幅手段と、MISFETQ62,Q63,Q76より
なる第1の差動増幅手段駆動用コントロール手段
と、MISFETQ64,Q65,Q77,Q75,Q79,Q80
りなる第2の差動増幅手段と、MISFETQ66
Q67,Q81よりなる第2の差動増幅駆動用レベル
コントロール手段と、MISFETQ62,Q64,Q68
Q83,Q85よりなる第1のプツシユプル増幅手段
と、MISFETQ86,Q70,Q87,Q71よりなる第2
のプツシユプル増幅手段と、MISFETQ90,Q91
よりなるTTL信号レベル駆動インバータ手段と、
MISFETQ89,Q89′よりなるトライステート手段
とによつて構成されており、第1、2の差動増幅
手段及び第1、2の差動増幅手段駆動用のレベル
コントロール手段をCSX信号で、第1、2のプ
ツシユプル増幅手段を″信号で、トライステ
ート手段をWE1信号で各々制御することにより、
コモンデータ線CD0,CD1に読み出されたデータ
を増幅して入出力端子に取り出す。
Further , as shown in FIG . 3, the readout circuit 7 has a first
a first differential amplifying means drive control means consisting of MISFETQ 62 , Q 63 , Q 76 , and a first differential amplifying means driving control means consisting of MISFETQ 64 , Q 65 , Q 77 , Q 75 , Q 79 , Q 80 ; 2 differential amplification means and MISFETQ 66 ,
A second differential amplification drive level control means consisting of Q 67 , Q 81 and MISFETQ 62 , Q 64 , Q 68 ,
A first push-pull amplification means consisting of Q83 , Q85, and a second push-pull amplification means consisting of MISFETQ86 , Q70 , Q87 , Q71 .
Push-pull amplification means, MISFETQ 90 , Q 91
TTL signal level driving inverter means consisting of;
The first and second differential amplifying means and the level control means for driving the first and second differential amplifying means are controlled by a CSX signal. By controlling the first and second push-pull amplification means with the ``signal'' and the tri-state means with the WE1 signal,
The data read out to the common data lines CD 0 and CD 1 is amplified and taken out to the input/output terminals.

なお、第1の差動増幅手段に印加する信号の最
適レベルは、バイアス源Vccを4.5Vとした場合、
一方が3.8Vの“H”レベルであり、他方が3.5V
の“L”レベルであり、そのレベル差は0.3V程
度である。また、上記MISFETQ60,Q71はデプ
レツシヨン型であり、その他のMISFETはエン
フアンスメント型である。
Note that the optimal level of the signal applied to the first differential amplification means is, when the bias source Vcc is 4.5V,
One is 3.8V “H” level, the other is 3.5V
is at the "L" level, and the level difference is about 0.3V. Furthermore, the above MISFETs Q 60 and Q 71 are of the depletion type, and the other MISFETs are of the enhancement type.

上記構成よりなる第1図のMISメモリ回路にお
いて、メモリセルMS11にデータを書き込み、そ
の直後同一チツプ内のメモリセルMSnoからデー
タを読み出す場合を例にとり、一対のコモンデー
タ線CD0,CD1の書き込み時の電位状態(第1の
電位状態)が読み出し時に必要な電位に状態(第
2の電位状態)にいかに移行されるかを第4図の
タイミングチヤートを参照し説明する。
In the MIS memory circuit shown in FIG. 1 having the above configuration, suppose that data is written to the memory cell MS 11 and immediately thereafter data is read from the memory cell MS no in the same chip . How the potential state at the time of writing 1 (first potential state) is transferred to the potential state required at the time of reading (second potential state) will be explained with reference to the timing chart in FIG.

なお、同図において、信号、信号、Ai
信号、Din/DourはICチツプ外部から印加され
たものであり、その他の信号はICチツプ内部で
形成されたものである。
In addition, in the same figure, signal, signal, Ai
The signals Din/Dour are applied from outside the IC chip, and the other signals are generated inside the IC chip.

タイシングt1において、信号が“L”レベ
ルになることによつて、チツプ選択状態となり、
外部からのアドレス信号Aiが行及び列選択アド
レスデコーダに印加される。これによつてメモリ
セルMS11が選択され、デジツト線D01,D11がカ
ラムゲートスイツチング素子Q5,Q6を介して一
対のコモンデータ線D0,D1に接続される。また
MISFETQ1,Q2もONしているから交叉接続点
A,Bは前記一対のデジツト線D01,D11に接続
される。
At timing t1 , the signal goes to "L" level, thereby entering the chip selection state,
An external address signal Ai is applied to the row and column selection address decoders. As a result, memory cell MS11 is selected, and digital lines D01 and D11 are connected to a pair of common data lines D0 and D1 via column gate switching elements Q5 and Q6 . Also
Since MISFETQ 1 and Q 2 are also ON, the cross-connection points A and B are connected to the pair of digital lines D 01 and D 11 .

タイミングt2において、WE′信号が“L”レベ
ルのため、第2図の書き込み回路6はWED信号
が“H”レベルに、CSX信号が“H”レベルに
なつているためプツシユプル増幅手段、第1、2
のインバータ波形整形手段及び入力バツフア手段
は各々動作しており、それによつて入出力端子か
ら印加された書き込みデータDiNを増幅して一対
のコモンデータ線CD0,CD1に伝送する。
At timing t2 , since the WE' signal is at the "L" level, the write circuit 6 in FIG. 1, 2
The inverter waveform shaping means and the input buffer means are each in operation, thereby amplifying the write data DiN applied from the input/output terminal and transmitting the amplified data to the pair of common data lines CD 0 and CD 1 .

今、DiNを“H”レベルとすると、前記コモン
データ線CD0の電位はVeDOは約3.8Vの“H”レベ
ル(V1H)になり、前記コモンデータ線CD1の電
位VCD1は約0.3Vの“L”レベル(V1L)になる。
このV1H,V1Lのレベルが第1の電位状態を示し
ている。
Now, when DiN is set to the "H" level, the potential of the common data line CD0 , V eDO , becomes the "H" level ( V1H ) of approximately 3.8V, and the potential of the common data line CD1 , V CD1 , becomes approximately It becomes “L” level (V 1L ) of 0.3V.
The levels of V 1H and V 1L indicate the first potential state.

前記一対のコモンデータ線CD0,CD1の第1の
電位状態V1H,V1Lはカラムスイツチング手段Q5
Q6及び一対のデジツト線D01,D11及び
MISFETQ1,Q2を介してメモリセルMS11の交叉
接続点A,Bにも伝送される。
The first potential states V 1H and V 1L of the pair of common data lines CD 0 and CD 1 are controlled by column switching means Q 5 ,
Q 6 and a pair of digit wires D 01 , D 11 and
It is also transmitted to the cross-connection points A and B of the memory cell MS 11 via the MISFETs Q 1 and Q 2 .

今、メモリセルMS11の負荷手段MISFETQ7
Q8及び負荷抵抗素子R1,R2の電流駆動能力は書
き込み回路6のプツシユプル増幅手段の電流駆動
能力よりも小さいので、前記交叉接続点A,Bの
レベルはVIH,VILとなる。また、この時点におい
ては、コモンデータ線CD0,CD1に存在する寄生
容量C0,C1にも前記VIH,VILが蓄積される。な
お、複数の一対のデジツト線D01,D11〜D0o
D1oに対してコモンデータ線CD0,CD1を共通に
使用しているため、その線長は長いものとなつて
おり、そのため前記寄生容量C0,C1は非常に大
きい。
Now the load means of memory cell MS 11 MISFETQ 7 ,
Since the current driving ability of Q 8 and the load resistance elements R 1 and R 2 is smaller than the current driving ability of the push-pull amplification means of the write circuit 6, the levels of the cross-connection points A and B become V IH and V IL . Furthermore, at this point, the above-mentioned V IH and V IL are also accumulated in the parasitic capacitances C 0 and C 1 existing on the common data lines CD 0 and CD 1 . Note that a plurality of pairs of digit lines D 01 , D 11 to D 0o ,
Since the common data lines CD 0 and CD 1 are commonly used for D 1o , their line lengths are long, and therefore the parasitic capacitances C 0 and C 1 are very large.

タイミングt2において、書き込み回路6の伝送
手段にWE′信号の“L”レベルが印加されるた
め、コモンデータ線CD0,CD1は書き込み回路6
から電気的に切り離されるけれども、前記容量
C0,C1によつてそのレベルは第1の電位状態に
保持されている。
At timing t2 , the "L" level of the WE' signal is applied to the transmission means of the write circuit 6, so the common data lines CD0 and CD1 are connected to the write circuit 6.
Although electrically disconnected from the capacitance
The level is maintained at the first potential state by C 0 and C 1 .

この時点において、負荷手段Q7,Q8、及び負
荷抵抗素子R1,R2は上記書き込み回路6のプツ
シユプル増幅手段に制約されずに、交叉接続点
A,Bにバイアスを供給することが可能となる。
また、″が“H”レベルになることによつて
データ線電位設定回路8も動作を開始する。
At this point, the load means Q 7 , Q 8 and the load resistance elements R 1 , R 2 can supply bias to the cross-connection points A and B without being restricted by the push-pull amplification means of the write circuit 6. becomes.
In addition, when the signal " becomes "H" level, the data line potential setting circuit 8 also starts operating.

上記データ線電位設定回路8のうち、
MISFETQ9′,Q9はコモンデータ線CD0がVIH
あるため、そのゲートーソース間の電位差がしき
い値電圧(約0.7V)以下なので各々offしている。
又MISFETQ10′,Q10はコモンデータ線CD1がVIL
であるためそのゲートーソース間の電位差がしき
い値電圧(約0.7V)以上なので各々onする。そ
れによつて、MISFETQ10′,Q10を介して容量C1
に電荷を充電し、コモンデータ線CD1のレベルを
徐々に立上げる。
Of the data line potential setting circuit 8,
Since the common data line CD 0 of MISFETQ 9 ′ and Q 9 is V IH , the potential difference between the gate and source is less than the threshold voltage (approximately 0.7V), so each is turned off.
Also, for MISFETQ 10 ′, Q 10 , the common data line CD 1 is V IL
Therefore, the potential difference between the gate and source is above the threshold voltage (approximately 0.7V), so each is turned on. Thereby, the capacitance C 1 through MISFETQ 10 ′, Q 10
, and gradually raise the level of common data line CD 1 .

また一方メモリセルMS11の交叉接続点Aは上
記VILから負荷手段Q7,MISFETQ1,Q3で決定
されるレベル、V2Hになるようにし動作する。ま
た交叉接続点Bは書き込み時のV2Hのままであ
る。
On the other hand, the cross-connection point A of the memory cell MS 11 operates so that the level determined by the load means Q 7 , MISFETQ 1 and Q 3 becomes V 2H from the above V IL . Further, the cross-connection point B remains at V 2H at the time of writing.

また、メモリセルMS11の負荷手段Q7,Q8の電
流駆動能力は前記データ線電位設定回路8のそれ
よりも大きいので、コモンデータ線のレベルはメ
モリセルMS11の交叉接続点A,Bで決定される
レベルに固定される。これによつて、第4図にて
T1で示す期間にコモンデータ線CD1のレベルVCD1
はV1LからV2L、コモンデータ線CD0のレベルは
V1Hから実質的に同電位のV2Hとなり、そのレベ
ル差は約0.3V程度となる。
Further, since the current driving capability of the load means Q 7 and Q 8 of the memory cell MS 11 is larger than that of the data line potential setting circuit 8, the level of the common data line is set at the cross connection points A and B of the memory cell MS 11 . It is fixed at the level determined by . By this, in Fig. 4
During the period indicated by T 1 , the level of common data line CD 1 V CD1
is from V 1L to V 2L , and the level of common data line CD 0 is
V 1H becomes substantially the same potential as V 2H , and the level difference is about 0.3V.

上記コモンデータ線のレベル差が0.3V程度と
なつた時点でアドレス信号Aiを切り換えて次の
メモリセルMSnoを選択するようにすればよいの
であるが、実際は弱干遅れ、タイミングt5で切り
換えられる。タイミングt4からタイミングt5まで
は、コモンデータ線CD0,CD1のレベルはそれぞ
れ第2の電位状態に保持されている。
It would be possible to switch the address signal Ai to select the next memory cell MS no when the level difference of the common data lines reaches about 0.3V, but in reality there is a slight delay and the switch is switched at timing t5. It will be done. From timing t4 to timing t5 , the levels of the common data lines CD0 and CD1 are each held at the second potential state.

タイミングt5において、アドレス信号Aiが切り
換わると、メモリセルMSnoが選択され、それに
よつてコモンデータ線CD0,CD1がカラムゲート
スイツチング素子Q5′,Q6′を介して一対のデジ
ツト線D0o,D1oの方に接続される。今、メモリ
セルMSnoの交叉接続点A′には負荷手段Q7′、
MISFETQ1′,Q3′によつて決定された電位V2H
が、またB′には負荷手段Q8′、MISFETQ2′,
Q4′によつて決定された電位V2Lが存在しており、
メモリセルMS11に書き込んだデータとは逆のデ
ータが記憶保持されている。したがつてメモリセ
ルMSnoはコモンデータ線CD0,CD1のレベルを
V2H,V2LからV2L,V2Hに逆転させる。
At timing t5 , when address signal Ai switches, memory cell MS no is selected, thereby causing common data lines CD0 and CD1 to be connected to a pair of data lines through column gate switching elements Q5 ' and Q6 '. It is connected to the digital lines D 0o and D 1o . Now, at the cross-connection point A′ of the memory cell MS no , there is a load means Q 7 ′,
Potential V 2H determined by MISFETQ 1 ′, Q 3
However, B′ also has load means Q 8 ′, MISFETQ 2 ′,
There exists a potential V 2L determined by Q 4 ′,
Data opposite to the data written in memory cell MS11 is stored and held. Therefore, memory cell MS no has the level of common data lines CD 0 and CD 1 .
Reverse from V 2H and V 2L to V 2L and V 2H .

タイミングt6において、コモンデータ線CD0
CD1にメモリセルMSnoのデータを読み出しに必
要な電位状態V2L,V2H、すなわちV2Lが3.5V,
V2Hが3.8となつた時、読み出し回路7でコモンデ
ータ線CD0,CD1のレベル差0.3Vを最適の状態で
増幅して入出力端子I/Oから読み出しデータ
DOUTを読み出す。この場合、読み出しデータDOUT
は“L”レベルである。なお、タイミングt6にお
いて、読み出し回路7はCSX信号が“H”レベ
ル、WE1信号が“L”レベルとなつているため
動作可能となつている。
At timing t 6 , the common data lines CD 0 ,
The potential states V 2L and V 2H necessary to read the data of memory cell MS no to CD 1 , that is, V 2L is 3.5V,
When V 2H reaches 3.8, the read circuit 7 amplifies the level difference of 0.3 V between the common data lines CD 0 and CD 1 in an optimal state and reads the data from the input/output terminal I/O.
Read D OUT . In this case, read data D OUT
is at "L" level. Note that at timing t6 , the readout circuit 7 is operational because the CSX signal is at the "H" level and the WE1 signal is at the "L" level.

以上、第1図のMISメモリ回路の動作を説明し
たが、同図において、データ線電位設定回路8を
用いることによつて、ライトリカバリー時間を短
かくすることができる。しかしながら、現状にお
いては、さらに上記ライトリカバリー時間を短か
くすることが市場において要求されてきており、
その仕様を満足する必要が生じている。
The operation of the MIS memory circuit shown in FIG. 1 has been described above, and by using the data line potential setting circuit 8 in the same drawing, the write recovery time can be shortened. However, at present, there is a demand in the market to further shorten the write recovery time.
It has become necessary to satisfy the specifications.

したがつて、本発明の目的は第2の電位状態の
レベル差をさらに急速に得ることができるデータ
線電位設定回路を提供することにある。
Therefore, an object of the present invention is to provide a data line potential setting circuit that can more rapidly obtain a level difference between second potential states.

また、本発明の目的は第2の電位状態のレベル
差を第2の電位状態により近い位置で得ることが
できるデータ線電位設定回路を提供することにあ
る。
Another object of the present invention is to provide a data line potential setting circuit that can obtain a level difference between the second potential state at a position closer to the second potential state.

さらにまた、本発明の目的は一対のデータ線の
電位状態が第2の電位状態付近になると電流供給
をしないデータ線電位設定回路を得ることにあ
る。
Furthermore, it is an object of the present invention to provide a data line potential setting circuit that does not supply current when the potential state of a pair of data lines approaches the second potential state.

さらにまた、本発明の目的は一対のデータ線の
電位状態が第2の電位状態付近になると第2の電
位状態付近にそのレベルをクランプすることがで
きるデータ線電位設定回路を提供することにあ
る。
Furthermore, it is an object of the present invention to provide a data line potential setting circuit that can clamp the level of a pair of data lines near the second potential state when the potential state of the pair of data lines approaches the second potential state. .

本発明の基本的な構成要件は特許請求の範囲に
記載された通りであるが、以下実施例に従つて本
発明を詳細に説明する。
Although the basic constituent elements of the present invention are as described in the claims, the present invention will be explained in detail below with reference to Examples.

第5図には、本発明に係るデータ線電位設定回
路9を用いたMISメモリ回路が示されているが、
データ線電位設定回路8のかわりに本発明に係る
データ線電位設定回路9を用い、かつライトリカ
バリー信号発生回路10を追加した点以外は第1
図に示すMIS回路とその構成は同じである。第1
図と共通する部分には同じ番号、及び同じ信号を
用いた。またこれら共通する部分の説明はすでに
上述したので、ここでは省略する。
FIG. 5 shows an MIS memory circuit using the data line potential setting circuit 9 according to the present invention.
The first example except that a data line potential setting circuit 9 according to the present invention is used instead of the data line potential setting circuit 8, and a write recovery signal generating circuit 10 is added.
Its configuration is the same as the MIS circuit shown in the figure. 1st
The same numbers and signals are used for parts common to the figures. Further, since the explanation of these common parts has already been mentioned above, the explanation will be omitted here.

なお、第5図において、読み出し回路7′は第
1図のMISメモリ回路に用いられている読み出し
回路7と回路構成は同じであるが、後述するよう
に第1の差動増幅手段に印加される読み出しレベ
ル“H”レベル、“L”レベルが従来の場合より
低い値である。(例えば、バイアス源が4.5Vの場
合“H”レベル、“L”レベルの最適値は2.8V、
2.5Vである。) また、各メモリセルの各交叉接続点は記憶状態
で読み出しの最適レベルに一致した方が“H”レ
ベル、他方が“L”レベルである。
In FIG. 5, the readout circuit 7' has the same circuit configuration as the readout circuit 7 used in the MIS memory circuit of FIG. 1, but as will be described later, the readout circuit 7' is The readout levels "H" level and "L" level are lower values than in the conventional case. (For example, if the bias source is 4.5V, the optimal value for "H" level and "L" level is 2.8V,
It is 2.5V. ) Further, each cross-connection point of each memory cell is at the "H" level when it matches the optimum level for reading in the storage state, and the other is at the "L" level.

上記第5図において、本発明に係るデータ線電
位設定回路9はコモンデータ線間に接続された
MISFETQ11よりなるスイツチング手段9′と、
バイアス源Vccと各コモンデータ線間に接続され
たMISFETQ9,Q10よりなる電流供給手段9″と、
デプレツシヨン型MISFETQ12,Q13とエンフア
ンスメント型MISFETQ14〜Q20よりなるクラン
プ手段9とで構成されている。
In FIG. 5 above, the data line potential setting circuit 9 according to the present invention is connected between the common data lines.
switching means 9' consisting of MISFETQ 11 ;
Current supply means 9'' consisting of MISFETQ 9 and Q 10 connected between the bias source Vcc and each common data line,
It is composed of a clamping means 9 consisting of depletion type MISFETs Q 12 and Q 13 and enhancement type MISFETs Q 14 to Q 20 .

ライトリカバリー信号発生回路10は第7図の
タイミングチヤート図に示されたCSA1及びWED
信号によつて制御されることにより、第1のライ
トリカバリー信号φWR1、及び第2のライトリカバ
リー信号φWR2を発生する。
The write recovery signal generation circuit 10 includes CSA 1 and WED shown in the timing chart of FIG.
A first write recovery signal φ WR1 and a second write recovery signal φ WR2 are generated by being controlled by the signal.

上記スイツチング手段9′は上記第1のライト
リカバリー信号φWR1によつて制御され、その
MISFETQ11は非飽和領域で動作する。
The switching means 9' is controlled by the first write recovery signal φWR1 .
MISFETQ 11 operates in the non-saturation region.

上記電流供給手段9″は上記第2のライトリカ
バリー信号φWR2によつて制御され、MISFETQ9
Q10は飽和領域で動作する。
The current supply means 9'' is controlled by the second write recovery signal φWR2 , and MISFETQ9 ,
Q 10 operates in the saturation region.

上記クランプ手段9において、MISFETQ18
は第7図のタイミングチヤート図に示すWE信号
によつて、MISFETQ19はCSA2信号によつて
各々制御されたおり、MISFETQ20はバイアス源
Vccに接続されているため、MISFETQ18,Q20
からなる手段はバイアス源Vccをレベル変換し、
その電圧をMISFETQ16,Q17に印加する。
MISFETQ13,Q14は各々前記′信号によつて
制御されている。そのためMISFETQ13,Q15
Q17からなる手段及びMISFETQ12,Q14,Q16
らなる手段は各々コモンデータ線CD0,CD1を第
2の電位状態のV2L,V2Hの中間レベルにする。
In the clamping means 9, MISFETQ 18
is controlled by the WE signal shown in the timing chart in Figure 7, MISFETQ 19 is controlled by the CSA 2 signal, and MISFETQ 20 is controlled by the bias source.
Because it is connected to Vcc, MISFETQ 18 , Q 20
The means consisting of converts the level of the bias source Vcc,
Apply that voltage to MISFETQ 16 and Q 17 .
MISFETQ 13 and Q 14 are each controlled by the ' signal. Therefore, MISFETQ 13 , Q 15 ,
The means consisting of Q 17 and the means consisting of MISFETs Q 12 , Q 14 and Q 16 respectively bring the common data lines CD 0 and CD 1 to an intermediate level between the second potential states V 2L and V 2H .

なお、第6図には、上記ライトリカバリー信号
発生回路10の具体的な回路図が示されている。
Note that FIG. 6 shows a specific circuit diagram of the write recovery signal generation circuit 10.

同図において、MISFETQ21〜Q27はデプレツ
シヨン型MISFETであり、MISFETQ28〜Q41
びQ29′〜Q30′は各々エンフアンスメント型
MISFETである。
In the figure, MISFETQ 21 to Q 27 are depletion type MISFETs, and MISFETQ 28 to Q 41 and Q 29 ′ to Q 30 ′ are enhancement type MISFETs.
It is MISFET.

MISFETQ21,Q28は第1のインバータであり、
その入力にWED信号が印加され、出力はP1であ
る。MISFETQ29′,Q22Q26は第2のインバータ
であり、その入力にはP1が印加され、出力はP2
である。
MISFETQ 21 and Q 28 are the first inverters,
The WED signal is applied to its input and the output is P 1 . MISFETQ 29 ′, Q 22 Q 26 is the second inverter, to whose input P 1 is applied and the output is P 2
It is.

なお、MISFETQ29′には1をMISFETQ25
Q34でインバートした信号P5が印加されている。
MISFETQ30′,Q28,Q30は第3のインバータで
あり、その入力にはP2が印加され、出力はP3
ある。
In addition, MISFETQ 29 ′ is set to 1 , MISFETQ 25 ′ is
A signal P 5 inverted at Q 34 is applied.
MISFETQ 30 ′, Q 28 , Q 30 is a third inverter, to whose input P 2 is applied and whose output is P 3 .

なお、MISFETQ30′には1をMISFETQ25
Q34でインバートした信号P5が印加されている。
In addition, MISFETQ 25 is set to 1 for MISFETQ 30 ′,
A signal P 5 inverted at Q 34 is applied.

MISFETQ24,Q32は第4のインバータであり、
その入力は前記P3の信号と1信号を受ける
MISFETQ31の出力とによつて決定され、その出
力はP4であり、第2のライトリカバリー信号
φWR2の出力端子に接続されている。
MISFETQ 24 , Q 32 is the fourth inverter,
Its input receives said P 3 signals and 1 signal
The output of MISFETQ 31 is P4 , which is connected to the output terminal of the second write recovery signal φWR2 .

なお、前記P4はWED信号を受ける
MISFETQ33によつても制御されている。
Furthermore, P4 receives the WED signal.
Also controlled by MISFETQ 33 .

MISFETQ26,Q35は第1の遅延手段であり、
その入力にはP3が印加され、その出力はP0であ
る。
MISFETQ 26 and Q 35 are the first delay means,
P 3 is applied to its input and its output is P 0 .

MISFETQ30,Q37は第2の遅延手段であり、
MISFETQ36には前記P6が、MISFETQ37にはP3
の信号が各々印加され、その出力はP7である。
前記P7はWED信号を受けるMISFETQ35によつ
ても制御されている。
MISFETQ 30 and Q 37 are second delay means,
MISFETQ 36 has the above P 6 , MISFETQ 37 has P 3
are applied respectively, and the output is P7 .
Said P 7 is also controlled by MISFETQ 35 which receives the WED signal.

MISFETQ27,Q39は第5のインバータであり、
その入力としてP7を受け、出力はP8である。
MISFETQ 27 , Q 39 is the fifth inverter,
It receives P 7 as its input and its output is P 8 .

MISFETQ40,Q41及び容量CBはブーストラツ
プ手段であり、MISFETQ41にはP8が印加され
る。また、MISFETQ40のゲート−ソース間には
ブーストラツプ用の容量CBが接続されており、
一方の電荷にはP7が、他方の電極には
MISFETQ41を介してアースレベルが、あるいは
MISFETQ40を介してVccが印加される。そし
て、容量CBの一方の電極から第1のライトリカ
バリー信号φWR1が取り出されている。
MISFETQ40 , Q41 and capacitor CB are boost strap means, and P8 is applied to MISFETQ41 . In addition, a bootstrap capacitor CB is connected between the gate and source of MISFETQ 40 .
P 7 on one charge and on the other electrode
Earth level via MISFETQ 41 or
Vcc is applied through MISFETQ40 . A first write recovery signal φWR1 is taken out from one electrode of the capacitor CB.

上記ライトリカバリー信号発生回路10の動作
を簡単に説明する。
The operation of the write recovery signal generation circuit 10 will be briefly explained.

まず、1が“H”レベル、WEDが“H”レ
ベルにある時には、P1が“L”レベル、P2がオ
ープン状態、P3が“L”レベル、P4が“L”レ
ベルとなるため、第2のライトリカバリー信号は
“L”レベルとなつており、またP6が“H”レベ
ル、P7が“L”レベル、P8が“H”レベル、P9
が“L”レベルとなつているため第1のライトリ
カバリー信号も“L”レベルとなつている。
First, when 1 is at the "H" level and WED is at the "H" level, P1 is at the "L" level, P2 is in the open state, P3 is at the "L" level, and P4 is at the "L" level. Therefore, the second write recovery signal is at "L" level, P6 is at "H" level, P7 is at "L" level, P8 is at "H" level, and P9 is at "H" level.
is at the "L" level, so the first write recovery signal is also at the "L" level.

次に、1が“L”レベルに、WEDが“H”
レベルにある時には、P1は“L”レベル、P2
“H”レベルレ、P3がL”レベル、P4が“L”レ
ベルとなるため第2のライトリカバリー信号φWR2
は“L”レベルである。また、P6が“H”レベ
ル、P7が“L”レベル、P8が“H”レベル、P9
が“L”レベルにあるため第1のライトリカバリ
ー信号φWR1も“L”レベルである。
Next, 1 goes to “L” level and WED goes to “H”
When P1 is at the "L" level, P2 is at the "H" level, P3 is at the "L" level, and P4 is at the "L" level, so the second write recovery signal φ WR2
is at "L" level. Also, P 6 is “H” level, P 7 is “L” level, P 8 is “H” level, P 9
is at the "L" level, so the first write recovery signal φWR1 is also at the "L" level.

さらに、1が“L”レベル、WEDが“L”
レベルになつた時には、P1が“H”レベル、P2
が“L”レベル、P3が“H”レベル、P4が“L”
レベルとなるがWED信号が第1、2、3のイン
バータによつて遅延されるためP4のレベルは初
期においては、“H”レベルとなつており、第2
のライトリカバリー信号φWR2が約Vccのレベルを
発生する。
Furthermore, 1 is “L” level, WED is “L”
When the level is reached, P 1 is “H” level, P 2
is “L” level, P 3 is “H” level, P 4 is “L”
However, since the WED signal is delayed by the first, second, and third inverters, the level of P4 is initially “H” level, and the WED signal is delayed by the first, second, and third inverters.
The write recovery signal φWR2 generates a level of about Vcc.

P3のレベルが“H”レベルとなつた時P4のレ
ベルは“L”レベルとされるため、その時点にお
いて第2のライトリカバリーφWR2信号は“L”レ
ベルにかえる。すなわち、WEDが“L”レベル
となつた時点で第2のライトリカバリー信号φWR2
はワンシヨツトの“H”レベルを発生することに
なる。
When the level of P 3 becomes "H" level, the level of P 4 becomes "L" level, so at that point, the second write recovery φ WR2 signal changes to "L" level. That is, the second write recovery signal φ WR2 is activated at the time when WED becomes “L” level.
will generate a one-shot "H" level.

上記P3がまだ“L”レベルにある時、P6
“H”レベル、P7は“H”レベルにある。P6はP7
をうけて“L”レベルになるが、その時間は少し
遅れるからMISFETQ36、容量CB、MISFETQ41
を介して電流が流れ、前記容量CBに電荷が供給
される。
When P3 is still at the "L" level, P6 is at the "H" level and P7 is at the "H" level. P 6 is P 7
In response to
A current flows through the capacitor CB, and charge is supplied to the capacitor CB.

次いで、P8が完全に“L”レベルとなつた時
MISFETQ41がOFFするためP9のレベルがVccと
なる。それによつて容量CBはブーストラツプさ
れ、一方の電極に約2・Vcc−Vthの高い“H”
レベルを第1のライトリカバリー信号φWR1として
発生する。
Next, when P8 becomes completely "L" level
Since MISFETQ 41 turns OFF, the level of P 9 becomes Vcc. As a result, the capacitance CB is bootstrapped, and one electrode has a high “H” of about 2·Vcc−Vth.
level as the first write recovery signal φWR1 .

次に、前記P3のレベルが完全に、“H”レベル
となることによつて、P6が“L”レベル、P7
“L”レベルとなるため、第1のライトリカバリ
ー信号φWR1は“L”レベルになる。
Next, when the level of P 3 becomes completely "H" level, P 6 becomes "L" level and P 7 becomes "L" level, so that the first write recovery signal φ WR1 becomes “L” level.

したがつて、第1のライトリカバリー信号φWR1
はWED信号が“L”レベルとなつた時点からワ
ンシヨツトの“H”レベルを出すことになる。
Therefore, the first write recovery signal φ WR1
will output a one-shot "H" level from the time the WED signal becomes "L" level.

以上、第5図のMISメモリ回路における本発明
に係わるデータ線電位設定回路9及びライトリカ
バリー信号発生回路10の構成につき説明した
が、次に本発明に係わるデータ線電位設定回路9
を用いた場合、書き込み時の第1の電位状態が、
読み出し時に必要な第2の電位状態にいかに速く
移行されるか、その動作説明を第7図のタイミン
グチヤート図を参照して説明する。
The configurations of the data line potential setting circuit 9 and the write recovery signal generating circuit 10 according to the present invention in the MIS memory circuit shown in FIG. 5 have been explained above.
When using , the first potential state at the time of writing is
The operation of how quickly the second potential state necessary for reading is made will be explained with reference to the timing chart of FIG. 7.

なお、第5図のMISメモリ回路では、まずメモ
リセルMS11にDiNの“H”レベルを書き込み、そ
の直後同一チツプ内のメモリセルMSnoからDOUT
として“L”レベルを読み出すものとする。
In the MIS memory circuit shown in Fig. 5, first write the "H" level of DiN to the memory cell MS11 , and immediately after that write the D OUT from the memory cell MS no in the same chip.
Assume that the "L" level is read out.

そのため、第1図のMISメモリ回路と条件は同
じであるので第7図のタイミングチヤート図にお
いて、タイミングt3から説明することにする。な
お、第7図において、信号、信号、Ai信
号、及びDIN/DOUTは各々ICチツプ外部から取り
込んだ信号、あるいは外部に取り出す信号を示し
ており、その他の信号はICチツプ内部で形成さ
れたものである。
Therefore, since the conditions are the same as those of the MIS memory circuit of FIG. 1, the explanation will be given from timing t3 in the timing chart of FIG. 7. In Fig. 7, Signal, Signal, Ai signal, and D IN /D OUT each indicate a signal taken in from outside the IC chip or a signal taken out to the outside, and other signals are generated inside the IC chip. It is something that

タイミングt3において、WE′信号が“L”レベ
ルになることによつて書き込み回路6がコモンデ
ータ線CD0,CD1から電気的に切り離される。し
かしながら、コモンデータ線CD0,CD1の容量
C0,C1には各々書き込み時の電位状態、すなわ
ちV1H,V1Lが存在することとなる。
At timing t3 , the WE' signal goes to "L" level, so that the write circuit 6 is electrically disconnected from the common data lines CD0 and CD1 . However, the capacitance of common data lines CD 0 and CD 1
C 0 and C 1 have respective potential states at the time of writing, that is, V 1H and V 1L .

この時点において、2,WED信号が共に、
“L”レベルとなつているから、ライトリカバリ
ー信号発生回路10から約バイアス源Vccの電位
を有する(第7図において、V〓WR2で示してい
る。)第2のライトリカバリー信号φWR2及び約
2・Vcc−Vthの電圧を有する(第7図におい
て、V〓WR1で示している。)第1のライトリカバ
リー信号φWR1を各々発生する。
At this point, both the 2 and WED signals are
Since it is at the "L" level, the second write recovery signal φ WR2 from the write recovery signal generation circuit 10 has a potential of approximately the bias source Vcc (indicated by V WR2 in FIG. 7). A first write recovery signal φ WR1 having a voltage of 2·Vcc−Vth (indicated by V WR1 in FIG. 7) is generated.

それによつて、まずスイツチング手段9′の
MISFETQ11はコモンデータ線CD0,CD1を電気
的に接続するため、容量C0の電荷はMISFETQ11
を介して容量C1に放電され、互いに電荷分散を
生ずる。それによつてコモンデータ線CD0のレベ
ルは下がり、コモンデータ線CD1のレベルは上が
る。なお、この立上がりと立下がりはほぼ同程度
の特性で行なわれている。
Thereby, first of all, the switching means 9'
MISFETQ 11 electrically connects common data lines CD 0 and CD 1 , so the charge of capacitor C 0 is
are discharged to the capacitor C1 through the capacitor C1 , causing charge dispersion with each other. As a result, the level of the common data line CD 0 decreases, and the level of the common data line CD 1 increases. Note that this rise and fall are performed with almost the same characteristics.

また、MISFETQ11は第1のライトリカバリー
信号φWR1が2・Vcc−Vth、約8.3Vとなつている
ため、第12図に示すMISFETの出力電圧−出
力電流特性においてZ1で示す非飽和領域で動作し
ているため、その動作抵抗は非常に小さいものと
なつている。
In addition, since the first write recovery signal φ WR1 of MISFETQ 11 is 2·Vcc-Vth, approximately 8.3V, the non-saturation region shown by Z 1 in the output voltage-output current characteristics of MISFET shown in Fig. 12. The operating resistance is extremely low.

したがつて、上記コモンデータ線CD0のレベル
の立下りと、コモンデータ線CD1のレベルの立下
りが急峻なものとなつており、コモンデータ線
CD0,CD1は第1の電位状態から第2の電位状態
付近に高速に近づく。
Therefore, the fall of the level of the common data line CD 0 and the fall of the level of the common data line CD 1 are steep, and the common data line
CD 0 and CD 1 rapidly approach near the second potential state from the first potential state.

また、電流供給手段9″には第2のライトリカ
バリー信号φWR2が印加されるため、MISFETQ10
はONし、MISFETQ9はコモンデータ線CD0
3.8VのV1Hにあるためoffしている。MISFETQ10
から容量C1に対して電荷が供給されているから、
スイツチング手段9′によるコモンデータ線CD1
に対するレベルの立上げを助けることになる。
Furthermore, since the second write recovery signal φ WR2 is applied to the current supply means 9″, the MISFETQ 10
is ON, and MISFETQ 9 is connected to the common data line CD 0 .
It is off because it is at V 1H of 3.8V. MISFETQ 10
Since charge is supplied to the capacitor C 1 from
Common data line CD 1 by switching means 9'
It will help you raise your level.

よつて、第2の電位状態のレベル差がその分だ
け早く得られる。
Therefore, the level difference in the second potential state can be obtained earlier.

したがつて、タイミングt4においては、コモン
データ線CD0,CD1は第1の電位状態V1H,V1L
ら第2の電位状態付近のV2H′,V2L′となり、(こ
の第2の電位状態においては、V2H′,V2L′とも
従来の場合に比べて低い値となる。)そのレベル
差も約0.3V程度となつている。
Therefore, at timing t4 , the common data lines CD 0 and CD 1 change from the first potential states V 1H and V 1L to near the second potential states V 2H ′ and V 2L ′, and (this second (In the potential state of , both V 2H ′ and V 2L ′ have lower values than in the conventional case.) The level difference is also about 0.3V.

この時点で第1のライトリカバリー信号及び第
2のライトリカバリー信号φWR1,φWR2を各々
“L”レベルとすれば理想的であるが、弱干遅れ
て“L”レベルとなるため、タイミングt5までに
上記電流供給手段9″によつてV2L′をV2L″に、
V2H′をV2H″にする。
At this point, it would be ideal if the first write recovery signal and the second write recovery signals φ WR1 and φ WR2 were set to the "L" level, respectively, but since they become "L" level with a slight delay, the timing t By 5 , V 2L ′ is changed to V 2L ″ by the current supply means 9″,
Change V 2H ′ to V 2H ″.

タイミングt5になつた時点からクランプ手段9
が実質的に動作を開始し始める。すなわち、ク
ランプ手段9はWE′の信号をインバートした
WE′信号が“H”レベル、CSA2信号が“H”
レベルとなる時点ですでに動作しているのである
が、電流供給手段9″よりも電流駆動能力が低い
ためである。
From the time when timing t 5 is reached, the clamping means 9
begins to operate substantially. That is, the clamping means 9 inverts the signal of WE'.
WE′ signal is “H” level, CSA2 signal is “H”
This is because the current driving ability is lower than that of the current supply means 9'', although it is already operating at the time when the current supply means 9'' reaches the level.

このクランプ手段9によつてコモンデータ線
CD0,CD1のV2H″、V2L″をV2H,V2Lにより近い状
態V2H″,V2L″にもつていく。
By this clamping means 9, the common data line
V 2H ″ and V 2L ″ of CD 0 and CD 1 are brought to states V 2H ″ and V 2L ″ that are closer to V 2H and V 2L .

すなわち、クランプ手段9はコモンデータ線
CD0,CD1のレベルを第2の電位状態V2H,V2L
中間のレベルV0付近にバイアスし、そのレベル
にクランプするように働く。
That is, the clamping means 9 is connected to the common data line.
It acts to bias the levels of CD 0 and CD 1 to near the level V 0 intermediate between the second potential states V 2H and V 2L and clamp them to that level.

したがつて、もし第1、2のライトリカバリー
信号φWR1,φWR2が第2の電位状態のレベル差
0.3Vが得られる以前に“L”レベルとなつても
そのレベルをクランプ手段9にあつて保償し、
0.3Vまでもつていくこともできる。
Therefore, if the first and second write recovery signals φ WR1 and φ WR2 have a level difference in the second potential state,
Even if it becomes "L" level before 0.3V is obtained, that level is guaranteed by the clamping means 9,
It can even go down to 0.3V.

タイミングT6のアドレス信号Aiを切り換える
ことによつてメモリセルMSnoが選択される。
Memory cell MS no is selected by switching address signal Ai at timing T6 .

メモリセルMSnoはその交叉接続点A′に負荷手
段Q7′,MISFETQ1′,Q3′で決定される電位V2H
が交叉接続点B′に負荷手段Q8′,MISFETQ2′,
Q4′で決定される電位V2Lが各々記憶保持されて
いる。
The memory cell MS no has a potential V 2H at its cross-connection point A′ determined by the load means Q 7 ′, MISFETQ 1 ′, Q 3 ′.
is the load means Q 8 ′, MISFETQ 2 ′,
The potential V 2L determined by Q 4 ′ is stored in memory.

じたがつて、コモンデータ線CD0,CD1と全く
逆の状態になつている。
Therefore, the state is completely opposite to that of the common data lines CD 0 and CD 1 .

コモンデータ線CD0,CD1のV2H,V2Lをメ
モリセルMSnoでV2H,V2Lとし、かつそれを反転
させてV2L,V2Hとする。
The V 2H and V 2L of the common data lines CD 0 and CD 1 are set to V 2H and V 2L in the memory cell MS no , and are inverted to V 2L and V 2H .

なお、上記V2H,V2LはV2H,V2Lとほぼ等
しくなつているからメモリセルMSnoにおいての
レベル修正は第1図のMISメモリ回路のそれより
も早い。
Incidentally, since the above-mentioned V 2H and V 2L are almost equal to V 2H and V 2L , the level correction in the memory cell MS no is faster than that in the MIS memory circuit of FIG. 1.

タイミングt7において、コモンデータ線CD0
CD1にメモリセルMSnoの読み出しデータとして
V2L,V2Hが得られているので、読み出し回路
7′にて増幅し、入出力端子I/Oから読み出し
データとして“L”レベルのDOUTを出力する。
At timing t 7 , the common data lines CD 0 ,
CD 1 as read data of memory cell MS no .
Since V 2L and V 2H are obtained, the read circuit 7' amplifies them and outputs "L" level D OUT as read data from the input/output terminal I/O.

なお、本発明の読み出し回路では、例えばバイ
アス源Vccを4.5Vとした場合、V2L,V2Hとして
それぞれ2.5V、2.8Vが得られるので、読み出し
回路からのTTL論理レベル出力が容易に得られ
る。
In addition, in the readout circuit of the present invention, when the bias source Vcc is set to 4.5V, for example, 2.5V and 2.8V are obtained as V 2L and V 2H , respectively, so a TTL logic level output from the readout circuit can be easily obtained. .

以上本発明に係わるデータ線電位設定回路9を
用いたMISメモリ回路の動作を説明したが、以下
の理由により、本発明の目的を達成することがで
きる。
The operation of the MIS memory circuit using the data line potential setting circuit 9 according to the present invention has been described above, and the object of the present invention can be achieved for the following reasons.

1 コモンデータ線間にスイツチング手段9′を
接続し、前記スイツチング手段9′を介して一
方のコモンデータ線の容量の電荷を他方のコモ
ンデータ線の容量に放電させるようにしたた
め、一方のコモンデータ線のレベルの立下げと
立上げとによつて両者のレベル差を近づけてい
る。(従来の回路によれば、他方のコモンデー
タ線に対するレベルの立上げのみを行なうこと
によつて両コモンデータ線のレベルを近づけて
いる。)また、スイツチング手段9′は第1のラ
イトリカバリー信号φWR1によつてそのゲートに
2・Vcc−Vthの電位が印加されているため非
飽和で動作しており、その動作抵抗も小さいた
め、上記立上りと立下りが急峻なものとなつて
いる。さらに、電流手段9″によつて他方のコ
モンデータ線の容量に電荷を供給しているため
他方のコモンデータ線のレベルの立上りがスイ
ツチング手段9′のそれとあいまつて速くなり、
結果として両コモンデータ線間のレベルがその
分だけ早く近づくことになる。以上のことか
ら、従来のデータ線電位設定回路よりも速く第
2の電位状態時のレベル差を得ることができ
る。
1. Switching means 9' is connected between the common data lines, and the charge of the capacitance of one common data line is discharged to the capacitance of the other common data line via the switching means 9'. By lowering and raising the line level, the difference in level between the two is brought closer. (According to the conventional circuit, the levels of both common data lines are brought close to each other by only raising the level of the other common data line.) Furthermore, the switching means 9' outputs the first write recovery signal. Since a potential of 2.Vcc-Vth is applied to the gate by .phi.WR1 , it operates in a non-saturated state, and its operating resistance is small, so that the rise and fall described above are steep. Furthermore, since electric charge is supplied to the capacitance of the other common data line by the current means 9'', the rise of the level of the other common data line becomes faster together with that of the switching means 9'.
As a result, the levels between both common data lines approach each other faster. From the above, the level difference in the second potential state can be obtained faster than the conventional data line potential setting circuit.

2 コモンデータ線間にスイツチング手段9′を
接続し、前記スイツチング手段9′を介して一
方のコモンデータ線の容量の電荷を他方のコモ
ンデータ線の容量に放電させるようにし、かつ
スイツチ手段9′を非飽和で動作せるようにし
たため、一方のコモンデータ線の立下り特性と
他方のコモンデータ線の立上り特性とをほぼ同
一とすることができ、結果として第2の電位状
態時のレベル差がほぼ第2の電位状態付近で得
られる。
2. A switching means 9' is connected between the common data lines, and the charge of the capacitance of one common data line is discharged to the capacitance of the other common data line via the switching means 9', and the switching means 9' Since it is possible to operate in a non-saturated state, the falling characteristics of one common data line and the rising characteristics of the other common data line can be made almost the same, and as a result, the level difference in the second potential state is reduced. This is obtained approximately in the vicinity of the second potential state.

このため、メモリセルで第2の電位状態にす
る時間を短かくすることができる。
Therefore, the time required to bring the memory cell into the second potential state can be shortened.

3 スイツチング手段9′及び電流供給手段9″は
コモンデータ線間のレベルが第2の電位状態付
近になると第1、2のライトリカバリー信号
φWR1,φWR2が“L”レベルとなるため、動作し
ていず、コモンデータ線のレベルは第2の電位
状態よりさらに高いレベルまで上がることはな
い。
3 The switching means 9' and the current supply means 9'' do not operate because the first and second write recovery signals φ WR1 and φ WR2 become "L" level when the level between the common data lines approaches the second potential state. Therefore, the level of the common data line does not rise to a level higher than the second potential state.

4 スイツチング手段9′及び電流供給手段9″が
第2の電位状態以上にコモンデータ線のレベル
を上げて動作を停止した後、前記レベルを第2
の電位状態付近まで下げるクランプ手段9を
有するようにしたため、メモリセル自身でその
レベルを下げる必要はなくなり、結果として第
2の電位状態を得るので早くなる。
4 After the switching means 9' and the current supply means 9'' raise the level of the common data line above the second potential state and stop the operation, the switching means 9' and the current supply means 9'' raise the level to the second potential state.
Since the clamping means 9 is provided to lower the potential level to around the potential state of the memory cell, there is no need to lower the level of the memory cell itself, and as a result, the second potential state is obtained quickly.

本発明の他の実施例として、第8図〜第10図
に示すデータ線電位設定回路が考えられる。
As another embodiment of the present invention, data line potential setting circuits shown in FIGS. 8 to 10 can be considered.

第8図a〜fに示す実施例はスイツチング手段
9′及び電流供給手段9″のみを用いてデータ線電
位設定回路を構成したものである。
In the embodiment shown in FIGS. 8a to 8f, a data line potential setting circuit is constructed using only switching means 9' and current supply means 9''.

第8図aのデータ線電位設定回路は第5図のデ
ータ線電位設定回路9からクランプ手段9を除
いたものであるが、クランプ手段9を用いなく
ても、上記1)〜3)の理由により第1図の従来
のデータ線電位設定回路よりも急速に第2の電位
状態を得ることができる。
The data line potential setting circuit of FIG. 8a is obtained by removing the clamping means 9 from the data line potential setting circuit 9 of FIG. As a result, the second potential state can be obtained more quickly than in the conventional data line potential setting circuit shown in FIG.

第8図bのデータ線電位設定回路は電流供給手
段に接続するバイアス源の値を第2の電位状態の
V2HのレベルがV2Lのレベル、あるいはその中間
のレベルにMISFETのしきい値電圧(約0.7V)
を加えたものとほぼ等しくしたものである。な
お、MISFETQ9,Q10がエンフアンスメント型
MISFETであり、かつ飽和領域で動作している
ものとすると、コモンデータ線のレベルは第2の
電位状態以上には上がらない。したがつて、この
場合にはクランプ手段9を用いなくてもよい。
The data line potential setting circuit of FIG. 8b sets the value of the bias source connected to the current supply means to a second potential state.
The MISFET threshold voltage (approximately 0.7V) when the V 2H level is at the V 2L level or an intermediate level.
It is approximately equal to the sum of Note that MISFETQ 9 and Q 10 are enhancement types.
Assuming that it is a MISFET and is operating in the saturation region, the level of the common data line will not rise above the second potential state. Therefore, it is not necessary to use the clamping means 9 in this case.

第8図cのデータ線電位設定回路はスイツチ手
段9′と電流供給手段9とに第1のライトリカ
バリー信号φWR1を印加するようにしたものであ
り、電流供給手段9″のMISFETQ9,Q10を非飽
和領遮で動作させることにより、一方のコモンデ
ータ線に対する充電をスイツチング手段9′とと
もに急速に行なうようにしたものである。
The data line potential setting circuit shown in FIG. 8c is configured to apply the first write recovery signal φ WR1 to the switch means 9' and the current supply means 9, and MISFETQ 9 , Q of the current supply means 9''. By operating the common data line 10 in a non-saturated state, charging of one common data line is rapidly performed together with the switching means 9'.

第8図dのデータ線電位設定回路は第8図cの
データ線電位設定回路のバイアス源をVcc″とし
たものであり、Vcc″の値は第2の電位状態のV2H
のレベル、V2Lのレベルか、あるいはその中間の
レベルとほぼ等しくしたものであり、コモンデー
タ線のレベルが第2の電位状態のレベル以上に上
がらないようにしたものであり、この回路の場合
もクランプ手段9も特に用いなくてもよい。
The data line potential setting circuit shown in FIG. 8d is the bias source of the data line potential setting circuit shown in FIG.
The level of the common data line is set to be approximately equal to the level of V2L , or a level in between, and the level of the common data line is prevented from rising above the level of the second potential state.In this circuit, Neither the clamping means 9 nor the clamping means 9 need be used.

第8図eのデータ線電位設定回路は電流手段9
のバイアス源を第1あるいは第2のライトリカ
バリー信号φWR1,φWR2としたものであり、この場
合も第8図a〜dと同様の効果が得られる。
The data line potential setting circuit in FIG. 8e is a current means 9.
The bias source is the first or second write recovery signal φ WR1 , φ WR2 , and in this case as well, the same effects as in FIGS. 8 a to 8 d can be obtained.

第8図fのデータ線電位設定回路は電流手段
9″を常時動作させるようにしたものであるが、
この場合もスイツチング手段9′の作用により従
来のデータ線電位設定回路よりは第2の電位状態
を得るのが速い。ただし、この回路の場合、電流
供給手段の駆動能力はデータ線を第1の電位状態
とする回路手段(例えば書き込み回路6)よりも
小さくする必要がある。
The data line potential setting circuit shown in FIG. 8f is such that the current means 9'' is always operated.
In this case as well, the second potential state can be obtained more quickly than in the conventional data line potential setting circuit due to the action of the switching means 9'. However, in the case of this circuit, the driving ability of the current supply means needs to be smaller than that of the circuit means (for example, the write circuit 6) that brings the data line to the first potential state.

上記第8図c,dのデータ線電位設定回路に用
いられているバイアス源Vcc′,Vcc″は例えば第
11図に示すようなMISFETQ93〜Q97で構成さ
れた電位変換回路を用いて得ることができる。
The bias sources Vcc ' and Vcc'' used in the data line potential setting circuits shown in FIG. be able to.

第9図に示すデータ線電位設定回路はスイツチ
ング手段9′、電流供給手段9″、クランプ手段9
からなる場合の他の実施例であり、スイツチン
グ手段9′、及び電流供給手段9″を第8図cの回
路としたものであり、実質的に第5図に示すデー
タ線電位設定回路と同等の効果を得ることができ
る。また、この種の組合せにおいて、第8図b,
d、及びeの回路にクランプ手段を付加してデー
タ線電位設定回路を構成することも当然考え得
る。
The data line potential setting circuit shown in FIG. 9 includes switching means 9', current supply means 9'', and clamping means 9.
This is another embodiment in which the switching means 9' and the current supply means 9'' are the circuit shown in FIG. 8c, and is substantially equivalent to the data line potential setting circuit shown in FIG. In addition, in this kind of combination, the effects shown in Fig. 8b,
Naturally, it is possible to construct a data line potential setting circuit by adding clamping means to the circuits d and e.

第10図に示すデータ線電位設定回路は、スイ
ツチング手段9′、とクランプ手段9″のみで構成
するようにしたものであり、この場合、第7図で
示すT2′の期間、電流供給手段9″によつてデー
タ線の電位レベルが不所望に上がるのを防止でき
る。
The data line potential setting circuit shown in FIG. 10 is constructed of only switching means 9' and clamping means 9''. In this case, during the period T 2 ' shown in FIG. 9'' can prevent the potential level of the data line from rising undesirably.

なお、上記スイツチング手段9′はMISFETが
用いられているが、バイポーラ型トランジスタで
もよい。またコモンデータ線間に形成される素子
の数も1個に限定されず、複数の論理回路を有す
るものであつてもよい。
Note that although MISFET is used as the switching means 9', a bipolar transistor may also be used. Further, the number of elements formed between the common data lines is not limited to one, but may include a plurality of logic circuits.

上記電流供給手段9″はエンフアンスメント型
のMISFETで構成されているがデプレツシヨン
型を用いてもよい。さらに、MISFET以外のバ
イポーラトランジスタ、ダイオード、抵抗等の電
流供給手段であつてもよい。またバイアス源とデ
ータ線の間に複数の素子を接続したものを含み得
る。
The current supply means 9'' is composed of an enhancement type MISFET, but a depletion type may also be used.Furthermore, it may be a current supply means such as a bipolar transistor, a diode, a resistor, etc. other than the MISFET. It may include a plurality of elements connected between the bias source and the data line.

さらに、上記クランプ手段9は、第5図に示
すものに限定されず、同一機能をもつ種々の変形
回路が考えられる。
Further, the clamping means 9 is not limited to the one shown in FIG. 5, and various modified circuits having the same function can be considered.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図はデータ線電位設定回路を用いた概略
MISメモリ回路図、第2図はMISメモリ回路に用
いられている書き込み回路図、第3図はMISメモ
リ回路に用いられている読み出し回路図、第4図
は第1図のMISメモリ回路のタイミングチヤート
図、第5図は本発明に係るデータ線電位設定回路
を用いた概略MISメモリ回路図、第6図はライト
リカバリー信号発生回路図、第7図は第5図の
MISメモリ回路のタイミングチヤート図、第8図
a,b,c,d,e,f、第9図、及び第10図
は本発明の他の実施例によるデータ線電位設定回
路図、第11図は電圧変換回路図、第12図は
MISFETの出力電圧(VDS)−出力電流(IDS)特
性を示す特性図である。 1……メモリマトリツクス、2……行選択アド
レスデコーダ、3……カラムゲート手段、4……
列選択アドレスデコーダ、5……負荷手段、6…
…書き込み回路、7′,7……読み出し回路、8
……従来のデータ線電位設定回路、9……本発明
に係るデータ線電位設定回路、10……ライトリ
カバリー信号発生回路、11……電位変換回路。
Figure 1 is a schematic diagram using the data line potential setting circuit.
MIS memory circuit diagram, Figure 2 is a write circuit diagram used in the MIS memory circuit, Figure 3 is a read circuit diagram used in the MIS memory circuit, Figure 4 is the timing of the MIS memory circuit in Figure 1. Chart diagram, FIG. 5 is a schematic MIS memory circuit diagram using the data line potential setting circuit according to the present invention, FIG. 6 is a write recovery signal generation circuit diagram, and FIG. 7 is a diagram of the write recovery signal generation circuit.
Timing chart diagrams of the MIS memory circuit, FIGS. 8a, b, c, d, e, f, FIGS. 9 and 10 are data line potential setting circuit diagrams according to other embodiments of the present invention, and FIG. 11 is the voltage conversion circuit diagram, and Figure 12 is the voltage conversion circuit diagram.
FIG. 3 is a characteristic diagram showing the output voltage (V DS )-output current (I DS ) characteristics of MISFET. 1...Memory matrix, 2...Row selection address decoder, 3...Column gate means, 4...
Column selection address decoder, 5... Load means, 6...
...Writing circuit, 7', 7...Reading circuit, 8
...Conventional data line potential setting circuit, 9...Data line potential setting circuit according to the present invention, 10...Write recovery signal generation circuit, 11... Potential conversion circuit.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 メモリマトリツクスと、カラムゲート手段
と、上記カラムゲート手段を介して上記メモリマ
トリツクスに結合される一対のコモンデータ線
と、上記一対のコモンデータ線に結合された入力
端子を持つ差動増幅回路と、書き込み制御信号に
応答しデータ書き込み動作終了時に所定パルス幅
のライトリカバリーパルスを形成するライトリカ
バリーパルス信号発生回路と、上記一対のコモン
データ線との間に設けられ上記ライトリカバリー
パルスによつて動作されるスイツチング手段を含
み動作状態において上記一対のコモンデータ線に
所定のバイアス電圧を与えるとともに上記一対の
コモンデータ線間の電位を相補データ信号のハイ
レベルとロウレベルとの間のレベルに強制する電
位設定回路とを備えてなることを特徴とするMIS
メモリ回路。 2 上記スイツチング手段は、上記バイアス電圧
を形成する手段の出力と上記一対のコモンデータ
線との間に設けられた一対の第1スイツチング
MISFETと、上記一対のコモンデータ線間に設
けられ上記第1スイツチングMISFETとともに
動作される第2スイツチングMISFETとからな
ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
MISメモリ回路。
[Claims] 1. A memory matrix, a column gate means, a pair of common data lines coupled to the memory matrix via the column gate means, and an input coupled to the pair of common data lines. A differential amplifier circuit having a terminal, a write recovery pulse signal generation circuit that responds to a write control signal and forms a write recovery pulse of a predetermined pulse width at the end of a data write operation, and the pair of common data lines. It includes a switching means operated by the write recovery pulse, and applies a predetermined bias voltage to the pair of common data lines in the operating state, and changes the potential between the pair of common data lines to the high level and low level of the complementary data signal. and a potential setting circuit that forces the voltage to a level between
memory circuit. 2 The switching means includes a pair of first switching devices provided between the output of the bias voltage forming means and the pair of common data lines.
Claim 1, characterized in that the switching MISFET comprises a MISFET and a second switching MISFET provided between the pair of common data lines and operated together with the first switching MISFET.
MIS memory circuit.
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