JPH0528890B2 - - Google Patents
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- JPH0528890B2 JPH0528890B2 JP61124292A JP12429286A JPH0528890B2 JP H0528890 B2 JPH0528890 B2 JP H0528890B2 JP 61124292 A JP61124292 A JP 61124292A JP 12429286 A JP12429286 A JP 12429286A JP H0528890 B2 JPH0528890 B2 JP H0528890B2
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- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の目的］
（産業上の利用分野）
この発明はコンデンサ用蒸着フイルムの製造方
法に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object of the Invention] (Industrial Application Field) This invention relates to a method for manufacturing a vapor-deposited film for a capacitor.
（従来の技術）
従来、フイルムコンデンサ用の蒸着プラスチツ
クフイルムは第４図に示すようにプラスチツクフ
イルム２１に所望の幅の蒸着２２及び非蒸着部２
３（以下マージンという）を形成するために、前
記マージン２３幅に相当する位置にテープ２４を
置くか、又はオイルを塗布しその上から金属蒸着
を行い、前記テープ２４あるいはオイルでマスク
された部分をマージン２３とする。しかるのち、
蒸着２２部の中央とマージン２３の中央にレーザ
光線あるいはシヤー（Shear：上刃と下刃との剪
断作用で切断する機械）を当ててフイルム２１を
スリツトし、マージン２３をはさんだ一対のロー
ルを単位として巻取り、コンデンサ用蒸着フイル
ムとしていた。しかしながら、このような方法で
はマージン幅に相当する狭いテープ２４の製作が
困難なため、特に低圧級では不必要に広いマージ
ンを設けることになり小形化の障害となつてい
た。また狭い幅の蒸着フイルムの製造には多数の
テープ２４が必要となり、そのセツトに長時間を
要するので生産性が著しく低下するほか、高精度
のスリツトが要求されるので歩留が悪化する問題
点もあつた。さらにテープ２４は蒸着時の熱で収
縮したり、位置が移動したりするために、テープ
２４に材質として耐熱性に優れたポリイミドフイ
ルムなどの高価なフイルムを用いているが、２〜
３回の蒸着で使用できなくなるので、蒸着フイル
ムコストが高くなる欠点があつた。(Prior Art) Conventionally, a vapor-deposited plastic film for a film capacitor is manufactured by forming a plastic film 21 with a desired width of a vapor-deposited portion 22 and a non-deposited portion 2, as shown in FIG.
3 (hereinafter referred to as a margin), a tape 24 is placed at a position corresponding to the width of the margin 23, or oil is applied and metal vapor deposition is performed on top of the tape 24 to form a portion masked by the tape 24 or oil. is the margin 23. Afterwards,
The film 21 is slit by applying a laser beam or shear (a machine that cuts by shearing action between an upper blade and a lower blade) to the center of the vapor deposited portion 22 and the center of the margin 23, and a pair of rolls with the margin 23 sandwiched therebetween are slit. It was rolled up as a unit and used as a vapor-deposited film for capacitors. However, with this method, it is difficult to manufacture a narrow tape 24 corresponding to the width of the margin, so that an unnecessarily wide margin is provided, especially in the low-pressure class, which becomes an obstacle to miniaturization. In addition, manufacturing a narrow width vapor-deposited film requires a large number of tapes 24, and it takes a long time to set them, resulting in a significant drop in productivity.In addition, high precision slitting is required, which reduces yield. It was hot too. Furthermore, since the tape 24 shrinks or moves in position due to heat during vapor deposition, an expensive film such as a polyimide film with excellent heat resistance is used for the tape 24.
Since the film cannot be used after three times of vapor deposition, the cost of the vapor-deposited film increases.
（発明が解決しようとする問題点）
上記したように、従来の蒸着フイルムにおいて
マージン幅の狭いテープを製造することは、生産
性の低下、マージンを形成するためのテープが高
価、かつ耐用性が低いこともあつて安価な蒸着フ
イルムを提供できない。(Problems to be Solved by the Invention) As mentioned above, manufacturing tapes with narrow margin widths using conventional vapor-deposited films results in decreased productivity, expensive tapes for forming the margins, and poor durability. Because of the low cost, it is not possible to provide inexpensive vapor deposited films.
そこで、本発明は以上の欠点を除去するもので
狭いマージン幅を有する蒸着フイルムを安価に提
供することを目的とするものである。 SUMMARY OF THE INVENTION It is therefore an object of the present invention to eliminate the above-mentioned drawbacks and to provide a vapor deposited film having a narrow margin width at a low cost.
［発明の構成］
（問題点を解決するための手段）
この発明になるコンデンサ用蒸着フイルムの製
造方法では、金属蒸着フイルムに陽極を、レザー
に陰極をそれぞれ印加し、陰極を印加したレザー
を蒸着金属に接触させることによつて、又は、所
定幅に設定されたレザーに陽極・陰極を交互に印
加するとともに、該レザーによつて区分された蒸
着金属層に陽極・陰極を交互に印加することによ
つて、蒸着金属をバーンオフできるので、片側に
のみマージン部を設けてスリツトしたコンデンサ
用蒸着フイルムの製造方法を提供できる。[Structure of the Invention] (Means for Solving the Problems) In the method for manufacturing a vapor-deposited film for a capacitor according to the present invention, an anode is applied to the metal-deposited film, a cathode is applied to the laser, and the laser to which the cathode is applied is vapor-deposited. By contacting the metal, or by alternately applying an anode and a cathode to a laser set to a predetermined width, and alternately applying an anode and a cathode to a vapor-deposited metal layer separated by the laser. Since the vapor-deposited metal can be burnt off, it is possible to provide a method for manufacturing a vapor-deposited film for a capacitor which is slit with a margin portion provided only on one side.
（作 用）
本発明のコンデンサ用蒸着フイルムの製造方法
ではレザー刃先が蒸着金属層と点接触しているの
で印加された電流は該点接触部で放電を起こして
蒸着金属をバーンオフしながらスリツトされる。
したがつて、バーンオフされた部分をマージン部
とする所定幅の金属蒸着フイルムを得ることがで
き、従来別工程で行われていたマージン部形成と
スリツトとを同時に行うことが可能となつた。(Function) In the method for producing a vapor-deposited film for capacitors of the present invention, since the laser cutting edge is in point contact with the vapor-deposited metal layer, the applied current causes a discharge at the point-contact portion and burns off the vapor-deposited metal while slitting the film. Ru.
Therefore, it is possible to obtain a metal-deposited film of a predetermined width with the burned-off portion serving as a margin, and it has become possible to simultaneously perform margin portion formation and slitting, which were conventionally performed in separate steps.
（実施例）
実施例 １
第１図に正断面図、第２図に平面図を示すよう
に2μm厚×500mm幅のポリエステルフイルムの片
面全面に2.5Ω／□の抵抗値でアルミを蒸着し、
蒸着金属層２を形成した。このスリツトされた側
から金属蒸着フイルム１をスリツターに取付け、
該蒸着金属層２に電源３の陽極に接続されたカー
ボンローラーを接触させてこれを陽極とし、所定
幅たとえば４mmに設定された一対のレザー４及び
５のうち、マージン部を形成する側のレザー、た
とえば５に前記電源３から陰極を接続する。この
一対のレザー４，５を複数対設置してもよく、こ
の場合はマージン部を設けた所定幅の蒸着フイル
ムを複数個同時に得ることができる。前記の如き
陽極を印加した蒸着金属層２とレザー５に200V
の高周波電圧を印加しながらレザー４及び５を金
属蒸着フイルム１に進入させると、蒸着金属層２
はレザー５との接触部でバーンオフされ0.1mmの
マージン６がレザー５の両側に形成されながらス
リツトされ、またレザー４によつて金属蒸着フイ
ルム１もスリツトされるので４mm幅で片側に0.1
mmのマージン部が形成された蒸着フイルムを得る
ことができる。言うまでもなく複数対のレザーを
使用すれば対応した数のスリツトされた蒸着フイ
ルムを得ることができる。このスリツト及びバー
ンオフを詳細に述べればレザー４は金属蒸着フイ
ルム１に接触・食い込んでスリツトするだけであ
るが、レザー５の刃先は蒸着金属層２に点接触す
るが、電源３から給電されているので電流は前記
点接触部に集中し、高周波の電圧によつて放電を
生じる。この放電によつて蒸着金属層２はバーン
オフされるとともにレザー５の進行によつて金属
蒸着フイルム１はスリツトされ、さらに進行しな
がら給電されているレザー５側面に接触し、ここ
でも放電を行いながらバーンオフを完全化するも
のである。(Example) Example 1 As shown in the front cross-sectional view in Figure 1 and the plan view in Figure 2, aluminum was vapor-deposited on the entire surface of one side of a 2 μm thick x 500 mm wide polyester film with a resistance value of 2.5 Ω/□.
A vapor deposited metal layer 2 was formed. Attach the metallized film 1 to the slitter from this slitted side,
A carbon roller connected to the anode of a power source 3 is brought into contact with the vapor-deposited metal layer 2, and this is used as an anode, and of a pair of lasers 4 and 5 having a predetermined width, for example, 4 mm, the laser on the side forming the margin part is , for example, connect the cathode from the power source 3 to 5. A plurality of pairs of the lasers 4 and 5 may be installed, and in this case, a plurality of vapor-deposited films having a predetermined width with margins can be obtained at the same time. 200V is applied to the vapor deposited metal layer 2 and the laser 5 to which the anode as described above is applied.
When the lasers 4 and 5 are introduced into the metal vapor deposited film 1 while applying a high frequency voltage of
is burnt off at the contact point with the laser 5 and is slit while forming a margin 6 of 0.1 mm on both sides of the laser 5. Also, the metal vapor deposited film 1 is also slit by the razor 4, so it is 0.1 mm wide on one side with a width of 4 mm.
It is possible to obtain a vapor deposited film in which a margin portion of mm is formed. Of course, if multiple pairs of lasers are used, a corresponding number of slit deposited films can be obtained. To explain this slitting and burn-off in detail, the razor 4 simply contacts and bites into the metal vapor deposited film 1 to slit it, but the cutting edge of the razor 5 makes point contact with the vapor deposited metal layer 2, but is powered by the power source 3. Therefore, the current is concentrated at the point contact portion, and a discharge is caused by the high frequency voltage. The vapor-deposited metal layer 2 is burnt off by this discharge, and the metal-deposited film 1 is slit as the laser 5 advances, and as it progresses further, it comes into contact with the side surface of the laser 5, which is being supplied with electricity, and while discharging here as well, the metal vapor-deposited film 1 is slit. This completes burn-off.
よつて本発明になる製造方法を用いれば200V
の高周波電圧を印加した場合0.1mmのマージン６
が形成された金属蒸着フイルムを得ることができ
る。本実施例の如く2μm厚×４mm幅の場合、従来
の金属蒸着フイルムのマージンは0.5mmであり、
したがつて、これらのフイルムを使用して同容量
のコンデンサを製作したところ、体積を従来の70
％とすることができた。そして発明者の実験によ
れば2μm厚程度の薄いフイルムの破壊電圧は
150VDC〜250VDCであるからマージン幅0.1mmで
十分であり、マージン６での放電による破壊電圧
の低下は観測されず、両者ともフイルム自体の破
壊電圧に等しい値を示した。 Therefore, if the manufacturing method of the present invention is used, 200V
When applying a high frequency voltage of 0.1mm margin6
A metal-deposited film can be obtained. In the case of 2 μm thickness x 4 mm width as in this example, the margin of conventional metallized film is 0.5 mm.
Therefore, when a capacitor with the same capacity was manufactured using these films, the volume was reduced to 70
%. According to the inventor's experiments, the breakdown voltage of a thin film with a thickness of about 2 μm is
Since the voltage is 150 VDC to 250 VDC, a margin width of 0.1 mm is sufficient, and no decrease in breakdown voltage due to discharge at margin 6 was observed, and both showed a value equal to the breakdown voltage of the film itself.
なおレザー５に対する印加電圧を500Vにする
と、バーンオフされることによつて得られるマー
ジン幅は0.2mmとなりフイルムの破壊電圧には十
分耐え得るものである。 Note that when the voltage applied to the laser 5 is 500 V, the margin width obtained by burn-off is 0.2 mm, which is sufficient to withstand the breakdown voltage of the film.
上記実施例において給電の方法としてまだスリ
ツトされていないフイルムの側から給電すること
も考えられるが、この場合レザー前方から給電さ
れるためスリツト部の前方に電流集中しフイルム
の収縮が起こり、収縮後スリツトされることとな
り、収縮の大きいフイルムなどの場合は寸法精度
が不十分な場合がある。このためレザー先端の両
側から給電され電流集中と同時にスリツトできる
よう、スリツト側から蒸着金属層に給電するよう
にするとフイルム収縮する間もなくスリツトされ
寸法が均一なスリツトを行うことができる。 In the above embodiment, it is possible to supply power from the side of the film that has not yet been slit, but in this case, since the power is supplied from the front of the laser, the current concentrates in front of the slit part, causing the film to shrink, and after the shrinkage. If the film is to be slit and has a large shrinkage, the dimensional accuracy may be insufficient. For this reason, by supplying power to the vapor deposited metal layer from the slit side so that slitting can be performed simultaneously with current concentration by supplying power from both sides of the laser tip, the film can be slit without shrinking and the slit can be slit with uniform dimensions.
実施例 ２
前記実施例１と同じ方法により蒸着金属をZn
とした金属蒸着フイルムについて実施した。この
場合レザー５に印加する電圧はアルミの場合を同
じであるが、電流値はアルミの１／２〜３／４の
範囲で良好な結果を得ることができる。Example 2 Zn was deposited using the same method as in Example 1.
The experiment was carried out on a metal-deposited film. In this case, the voltage applied to the laser 5 is the same as in the case of aluminum, but good results can be obtained with a current value in the range of 1/2 to 3/4 of that of aluminum.
実施例 ３
第３図に平面図を示すように、所定幅に設定さ
れたレザー１４，１５には交互に陽極（＋）・陰
極（−）の電圧を印加し、該レザー１４，１５に
よつて区分された金属蒸着フイルム１１の蒸着金
属層１２にも同じように陽極（＋）・陰極（−）
の電圧を印加しスリツトすると、同じ側にマージ
ン１６を形成した所定幅の金属蒸着フイルムを得
ることができる。前記フイルムを得るにはスリツ
トされた側から蒸着金属層１２に交互に（＋）
（−）を印加しなければならないことは明らかで
ある。Embodiment 3 As shown in the plan view in FIG. 3, anode (+) and cathode (-) voltages are applied alternately to the lasers 14 and 15 set to a predetermined width, and the lasers 14 and 15 Similarly, the anode (+) and cathode (-) are connected to the vapor-deposited metal layer 12 of the metal-deposited film 11, which is divided into sections.
By applying a voltage of 1 and slitting, it is possible to obtain a metal-deposited film of a predetermined width with a margin 16 formed on the same side. To obtain the film, the deposited metal layer 12 is alternately (+)
It is clear that (-) must be applied.
［発明の効果］
この発明によれば、マージン幅の小さい金属蒸
着フイルムを歩留よく安価に得ることができ、コ
ンデンサの小形化に寄与できる効果を得られる。
またスリツト方法が簡単であるのでスリツト機械
を安価に提供でき、ランニングコストも低額で済
む効果もある。[Effects of the Invention] According to the present invention, a metal-deposited film with a small margin width can be obtained at a high yield and at low cost, and an effect that can contribute to miniaturization of capacitors can be obtained.
Furthermore, since the slitting method is simple, the slitting machine can be provided at low cost, and the running cost can also be kept low.
第１図は本発明になるフイルム製造方法を説明
するための正断面図、第２図は同じく平面図、第
３図は本発明の他の実施例になるフイルム製造方
法を説明するための平面図、第４図は従来のフイ
ルム製造方法を説明するための正断面図である。
１……金属蒸着フイルム、２……蒸着金属層、
３……電源、４，５……レザー。
FIG. 1 is a front sectional view for explaining the film manufacturing method according to the present invention, FIG. 2 is a plan view, and FIG. 3 is a plan view for explaining the film manufacturing method according to another embodiment of the present invention. 4 are front sectional views for explaining a conventional film manufacturing method. 1...Metal deposited film, 2... Vapor deposited metal layer,
3...Power supply, 4,5...Leather.
Claims (1)
ムを非蒸着部を設けて所定幅にスリツトするコン
デンサ用蒸着フイルムの製造方法において、前記
蒸着金属層と所定幅に設定されたレザーとに電圧
を印加し、該レザーを前記金属蒸着プラスチツク
フイルムに接触させスリツトすることを特徴とす
るコンデンサ用蒸着フイルムの製造方法。 ２ 蒸着金属層にはスリツト側から一極を印加
し、レザーには他極を印加したことを特徴とする
特許請求の範囲第１項記載のコンデンサ用蒸着フ
イルムの製造方法。 ３ 蒸着金属層に陽極を印加し、レザーに陰極を
印加したことを特徴とする特許請求の範囲第１項
又は第２項記載のコンデンサ用蒸着フイルムの製
造方法。 ４ 所定幅に設定されたレザーに陽極・陰極を交
互に印加するとともに、該レザーによつて区分さ
れた蒸着金属層に陽極・陰極を交互に印加したこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載のコ
ンデンサ用蒸着フイルムの製造方法。 ５ 所定幅にスリツトされた蒸着金属層部分に電
圧印加したことを特徴とする特許請求の範囲第１
項〜第４項のいずれかに記載のコンデンサ用蒸着
フイルムの製造方法。[Claims] 1. A method for manufacturing a vapor-deposited film for a capacitor, in which a plastic film having metal vapor-deposited on the entire surface of one side is slit to a predetermined width with a non-vapor-deposited portion, wherein the vapor-deposited metal layer and a laser set to a predetermined width are formed. A method for manufacturing a vapor-deposited film for a capacitor, which comprises applying a voltage, bringing the laser into contact with the metal-deposited plastic film, and slitting the film. 2. The method for producing a vapor deposited film for a capacitor according to claim 1, wherein one pole is applied to the vapor deposited metal layer from the slit side, and the other pole is applied to the laser. 3. A method for manufacturing a vapor deposited film for a capacitor according to claim 1 or 2, characterized in that an anode is applied to the vapor deposited metal layer and a cathode is applied to the laser. 4 Claim 1 characterized in that an anode and a cathode are alternately applied to a laser set to a predetermined width, and an anode and a cathode are alternately applied to a vapor-deposited metal layer separated by the laser. A method for producing a vapor-deposited film for a capacitor as described in 2. 5. Claim 1, characterized in that a voltage is applied to a portion of the vapor-deposited metal layer that is slit to a predetermined width.
A method for producing a vapor-deposited film for a capacitor according to any one of items 1 to 4.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12429286A JPS62279620A (en) | 1986-05-28 | 1986-05-28 | Manufacture of evaporated film for capacitor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12429286A JPS62279620A (en) | 1986-05-28 | 1986-05-28 | Manufacture of evaporated film for capacitor |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62279620A JPS62279620A (en) | 1987-12-04 |
| JPH0528890B2 true JPH0528890B2 (en) | 1993-04-27 |
Family
ID=14881723
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12429286A Granted JPS62279620A (en) | 1986-05-28 | 1986-05-28 | Manufacture of evaporated film for capacitor |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62279620A (en) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5441450A (en) * | 1977-09-08 | 1979-04-02 | Nitsuko Ltd | Method of making metalized film condenser |
| CA1173123A (en) * | 1981-02-27 | 1984-08-21 | Charles C. Rayburn | Capacitor and method for making the same |
| JPS60183717A (en) * | 1984-03-02 | 1985-09-19 | 松下電器産業株式会社 | Method of forming electrode margin of metallized dielectric unit |
-
1986
- 1986-05-28 JP JP12429286A patent/JPS62279620A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62279620A (en) | 1987-12-04 |
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