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JPH0552679B2 - - Google Patents
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JPH0552679B2 - - Google Patents

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JPH0552679B2
JPH0552679B2 JP60000424A JP42485A JPH0552679B2 JP H0552679 B2 JPH0552679 B2 JP H0552679B2 JP 60000424 A JP60000424 A JP 60000424A JP 42485 A JP42485 A JP 42485A JP H0552679 B2 JPH0552679 B2 JP H0552679B2
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lasers
semiconductor
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angle
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Hideaki Nojiri
Yoshinobu Sekiguchi
Seiichi Myazawa
Akira Shimizu
Isao Hakamata
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  • Semiconductor Lasers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は複数個の半導体レーザがモノリシツク
に形成された半導体装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a semiconductor device in which a plurality of semiconductor lasers are monolithically formed.

〔従来の技術および問題点〕[Conventional technology and problems]

従来、例えば特開昭59−126に開示されている
ように、半導体レーザまたは発光ダイオード
(LED)を複数個用いて光走査装置を設計する場
合、第3図に示すように発光体からの光の出射方
向が一点P0で交わるように光源を配置し、複数
の走査スポツトを良好な結像状態を保ちながら被
走査面(不図示)に際して走査できるように工夫
されていた。
Conventionally, when designing an optical scanning device using a plurality of semiconductor lasers or light emitting diodes (LEDs), as disclosed in JP-A-59-126, for example, the light emitted from the light emitting body is The light sources were arranged so that their emission directions intersected at one point P0 , and the scanning surface (not shown) could be scanned with a plurality of scanning spots while maintaining good imaging conditions.

第3図はその典型的な従来例を示したものであ
り、光源と偏向器の間の光学系を偏向走査面と垂
直な方向から見た図である。31a,31bは半
導体レーザであり、各レーザはマウント32の上
にその光束発生面がマウント32の端面と平行に
なるように配されている。半導体レーザー31
a,31bが設けられているマウント32の端面
32a,32bは、各レーザー31a,31bか
らの発散光束の中心光線ha,hbが同一の点P0
通過して来たかの如く設定される。換言すれば、
半導体レーザ31a,31bが設けられる位置
で、端面32aと32bに各々法線をたてると、
各々の法線P0を通過するように、端面32aと
32bは設定されている。更に、偏向走査面と平
行な方法から見れば、各々の半導体レーザの中心
光線ha,hbとP0点を通過する位置が、偏向走査
面と直交する方向にわずかに変位するように、マ
ウント32上に設けられる半導体レーザの位置は
設定される。上記P0点と偏向器の偏向反射面3
3の所定の近傍の点Pとは、結像レンズ34によ
り光学的共役な関係に保たれている。
FIG. 3 shows a typical conventional example, and is a diagram of the optical system between the light source and the deflector, viewed from a direction perpendicular to the deflection scanning plane. 31a and 31b are semiconductor lasers, and each laser is arranged on the mount 32 so that its light beam generating surface is parallel to the end surface of the mount 32. semiconductor laser 31
The end faces 32a, 32b of the mount 32, on which the lasers 31a, 31b are provided, are set so that the central rays ha, hb of the diverging light beams from the respective lasers 31a, 31b pass through the same point P0 . In other words,
If normal lines are drawn to the end faces 32a and 32b at the positions where the semiconductor lasers 31a and 31b are provided,
The end faces 32a and 32b are set so as to pass through each normal line P0 . Furthermore, the mount 32 is arranged so that, when viewed from a direction parallel to the deflection scanning plane, the positions where the central rays ha, hb and point P0 of each semiconductor laser pass are slightly displaced in a direction perpendicular to the deflection scanning plane. The position of the semiconductor laser provided above is set. The above P 0 point and the deflection reflection surface 3 of the deflector
The imaging lens 34 maintains an optically conjugate relationship with a point P in a predetermined vicinity of No. 3.

このように、複数個の半導体発光素子(例えば
半導体レーザ)をそれぞれの光の出射方向が異な
るように配置するためには、上記例に示したよう
にマウント上に位置合せをしてハイブリツドに構
成する必要があつた。以下便宜上、複数個の半導
体発光素子としてアレーレーザという言葉を使用
するが、原理的にはLEDアレーのような発光体
にも当てはまる。
In this way, in order to arrange multiple semiconductor light emitting devices (for example, semiconductor lasers) so that their respective light emission directions are different, they must be aligned on the mount and configured into a hybrid structure, as shown in the example above. I needed to. For convenience, the term array laser will be used below to refer to a plurality of semiconductor light emitting elements, but in principle it also applies to light emitters such as LED arrays.

また、モノリシツクに形成されたアレーレーザ
を使用する場合には、アレーレーザの前面に何ら
かの光学系を設置する必要がある。特開昭58−
2112735に開示されている例としては、プリズム
がアレーレーザの前面に配置されている。これを
第4図に示す。
Furthermore, when using a monolithically formed array laser, it is necessary to install some kind of optical system in front of the array laser. Japanese Unexamined Patent Publication 1983-
In an example disclosed in US Pat. No. 2,112,735, a prism is placed in front of an array laser. This is shown in FIG.

第4図は半導体アレーレーザが5つの発光部を
有する場合のプリズムの断面を示すものである。
41は5つの発光部41a,41b,41c,4
1d,41eを有する半導体アレーレーザであ
り、42はプリズムである。発光部41aからの
光束の中心光線haは傾斜面42aにより屈折さ
れあたかもP0を通過して来たかのように曲げら
れる。同じく41bからの中心光線hbは傾斜面
42bにより、41dからの中心光線hdは傾斜
面42dにより、41eからの中心光線heは傾
斜面42eにより、それぞれあたかもP0を通過
して来たかのように曲げられる。なお41cから
の中心光線hcは平面42cを垂直に通過して行
き、この中心光線hcの延長線上にP0が存在する。
このように各発光部に対応して傾斜角を定めた傾
斜平面が設けられ、プリズム42を出射後の各光
束の中心光線は、あたかもP0から出射したかの
ようにその方向を制御されている。このP0は前
述したように偏向反射面の近傍の所望の位置P
(不図示)と光学系を介して共役に保たれる。
FIG. 4 shows a cross section of a prism when a semiconductor array laser has five light emitting parts.
41 is five light emitting parts 41a, 41b, 41c, 4
1d and 41e, and 42 is a prism. The central ray ha of the luminous flux from the light emitting part 41a is refracted by the inclined surface 42a and is bent as if it had passed through P0 . Similarly, the central ray hb from 41b is bent by the inclined surface 42b, the central ray hd from 41d is bent by the inclined surface 42d, and the central ray he from 41e is bent by the inclined surface 42e, as if they had passed through P 0 . It will be done. Note that the central ray hc from 41c passes through the plane 42c perpendicularly, and P 0 exists on an extension of this central ray hc.
In this way, an inclined plane with a defined angle of inclination is provided corresponding to each light emitting part, and the direction of the central ray of each luminous flux after exiting the prism 42 is controlled as if it had exited from P 0 . There is. As mentioned above, this P 0 is the desired position P near the deflection reflection surface.
(not shown) and is maintained conjugate through an optical system.

この場合の問題点はプリズム42の微細加工精
度及び方法、プリズム42とアレーレーザ41と
の位置合せ及び接合方法などであり、アレーレー
ザのピツチが小さくなる程難くなる。実際、
100μm以下ではほぼ不可能である。
Problems in this case include the accuracy and method of microfabrication of the prism 42, the alignment and joining method of the prism 42 and the array laser 41, and the smaller the pitch of the array laser, the more difficult it becomes. actual,
It is almost impossible if the thickness is less than 100 μm.

一方、第5図は光学系即ちリレー光学系53で
同様の効果を持たせようとしたもので、アレーレ
ーザ51a,51bから出射した光を平行化して
結像させるコリメータレンズ52とシリンドリカ
ルレンズ55との間にリレー光学系53を介在さ
せてポリゴン面54に結像した例であり、良好な
結像状態で被走査面(不図示)上に結像される。
On the other hand, FIG. 5 shows a similar effect in an optical system, that is, a relay optical system 53, which uses a collimator lens 52 and a cylindrical lens 55 to collimate and image the light emitted from array lasers 51a and 51b. This is an example in which an image is formed on a polygon surface 54 with a relay optical system 53 interposed therebetween, and the image is formed on a scanned surface (not shown) in a good image formation state.

この場合の問題点は光路長であり、リレー系自
体で約20cm長くなつてしまう。
The problem in this case is the optical path length, and the relay system itself becomes about 20 cm longer.

本発明の目的は、ハイブリツドに半導体発光体
を配置することに起因する位置合せ誤差や集積密
度の制限を排除すると共に、光出射方向が一定で
かつモノリシツクに形成されたアレーレーザを使
用する場合のような付加光学系の煩雑さを避ける
ことを可能にする半導体装置を提供することにあ
る。
It is an object of the present invention to eliminate alignment errors and limitations on integration density caused by arranging semiconductor light emitters in a hybrid, and also to eliminate alignment errors and limitations in integration density caused by arranging semiconductor light emitters in a hybrid, as well as to eliminate alignment errors and limitations in integration density, such as when using a monolithically formed array laser with a constant light emission direction. An object of the present invention is to provide a semiconductor device that makes it possible to avoid the complexity of an additional optical system.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明による半導体装置は、複数個の半導体レ
ーザがモノリシツクに形成されている半導体装置
において、上述の半導体レーザのそれぞれの共振
方向と共振面とのなす角が異なるように形成し、
これら半導体レーザのそれぞれからの光が共振面
から射出される時点でそれぞれの光出射方向が異
なつていることを特徴とする。
A semiconductor device according to the present invention is a semiconductor device in which a plurality of semiconductor lasers are monolithically formed, and the semiconductor lasers are formed such that the angles formed between the resonance direction and the resonance plane of each of the semiconductor lasers are different,
A feature is that the light emitted from each of these semiconductor lasers is emitted from a different direction at the point in time when the light is emitted from the resonant surface.

なお、以下の記載において用いられる「それぞ
れのレーザからの光の出射方向が異なる」という
表現は同一方向出射するものが1組もないという
意味ではなく、広義には出射方向の異なるものが
1組以上存在するという意味である。
In addition, the expression "the directions of light emitted from each laser are different" used in the following description does not mean that there is no set of lasers that emit light in the same direction, but in a broad sense, there is a set of lasers that emit light in different directions. This means that there are more than one.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の実施例について図面を参照しな
がら説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第1図に本発明の一実施例を示す。図中、11
〜15は個々の半導体レーザを示し、11a〜1
5aは各半導体レーザ11〜15における電流の
注入域、即ち発光域に対応する。そして、この注
入域11a〜15aの延長線(以下、共振方向と
称する。)11b〜15bと共振面16および1
7に立てた法線18とのなす角がそれぞれφa,
φb,φc,φd,φeとなるように形成されている。
ここで、注入域11a〜15aは、電流の注入に
よつてゲインが高くなり、所謂ゲインタイプの光
導波路を構成する。半導体レーザ11,12,1
4,15においては、共振面の法線18に対して
注入域の長手方向が非垂直であるため、各半導体
レーザで発生した光は、共振面で注入域の長手方
向とは異なる方向に反射される。しかしながら、
上記のように注入域は光導波路を構成しているた
め、反射された光の一部は光閉じ込め効果によつ
て注入域に戻り、注入域中を逆進する。このよう
に、共振面16及び17で反射されて注入域を往
復する光の誘導放出によつて、レーザ発振が起こ
る。
FIG. 1 shows an embodiment of the present invention. In the figure, 11
~15 indicate individual semiconductor lasers, 11a~1
5a corresponds to a current injection region, that is, a light emitting region in each of the semiconductor lasers 11 to 15. Then, extension lines (hereinafter referred to as resonance directions) of the injection regions 11a to 15a 11b to 15b and resonance surfaces 16 and 1
The angles formed with the normal line 18 set at 7 are φa and
They are formed to have φb, φc, φd, and φe.
Here, the injection regions 11a to 15a have a higher gain due to current injection, and constitute a so-called gain type optical waveguide. Semiconductor laser 11, 12, 1
4 and 15, the longitudinal direction of the injection region is non-perpendicular to the normal 18 of the resonant surface, so the light generated by each semiconductor laser is reflected at the resonant surface in a direction different from the longitudinal direction of the injection region. be done. however,
As described above, since the injection region constitutes an optical waveguide, a portion of the reflected light returns to the injection region due to the optical confinement effect and travels backward through the injection region. In this way, laser oscillation occurs due to stimulated emission of light reflected by the resonant surfaces 16 and 17 and traveling back and forth in the injection region.

なお、共振面16および17は、通常基板とし
て用いられる結晶(例えばGaAs)のへき開面が
利用されるので平行であるが、ドライエツチング
のように平行度が若干異なる可能性のあるような
場合には、レーザ出射前面側の共振面16を基準
に考える。
Note that the resonance planes 16 and 17 are usually parallel because the cleavage planes of a crystal (for example, GaAs) used as a substrate are used, but in cases such as dry etching where the degree of parallelism may be slightly different, Consider the resonant surface 16 on the laser emission front side as a reference.

共振面16および17で共振した光はレーザ光
として共振面16より出射する時、ほぼスネルの
法則に従つて曲げられる。図中、11c〜15c
は光出射方向を示す。
When the light resonated at the resonant surfaces 16 and 17 is emitted from the resonant surface 16 as a laser beam, it is bent approximately according to Snell's law. In the figure, 11c to 15c
indicates the light emission direction.

ここで、任意の光出射方向と法線18とのなす
角、すなわち出射角をθとすれば、n/n0
sinθ/sinφの関係が成り立つ。例えばGaAs結晶
から出射する場合を考えると、n(結晶と屈折率)
は約3.5、n0(空気の屈折率)は約1であるので、
φを1度に選べば、レーザ光は法線18に対して
約3.5度傾いて出射する。
Here, if the angle formed between any light emission direction and the normal line 18, that is, the emission angle is θ, then n/n 0 =
The relationship sinθ/sinφ holds true. For example, if we consider the case of emission from a GaAs crystal, n (crystal and refractive index)
is about 3.5, and n 0 (the refractive index of air) is about 1, so
If φ is selected to be 1 degree, the laser beam will be emitted at an angle of approximately 3.5 degrees with respect to the normal line 18.

第1図に示す実施例では、φa,φb,φc,φd,
φeをそれぞれ+1.0度、+0.5度、0.0度、−0.5度、−
1.0度に設定することにより、出射角θa,θb,θc,
θd,θeをそれぞれ+3.5度、+1.75度、0.0度、−
1.75度、−3.5度となるようなアレーレーザを作成
することができた。
In the embodiment shown in FIG. 1, φa, φb, φc, φd,
φe is +1.0 degree, +0.5 degree, 0.0 degree, -0.5 degree, -, respectively.
By setting it to 1.0 degrees, the output angles θa, θb, θc,
θd, θe are +3.5 degrees, +1.75 degrees, 0.0 degrees, -, respectively.
We were able to create an array laser with angles of 1.75 degrees and -3.5 degrees.

第2図は第1図のA−A′線からみた断面図で
ある。以下、この図を用いて製造プロセスを詳し
く述べる。
FIG. 2 is a sectional view taken along line A-A' in FIG. The manufacturing process will be described in detail below using this figure.

まず、n型GaAs基板21上に順次、バツフア
層としてn型GaAs22を1μm、クラツド層とし
てn型AlGaAs23を2μm、活性層としてノンド
ープのGaAs24を0.08μm、クラツド層としてp
型AlGaAs25を1.5μm、キヤツプ層としてP+
GaAs26を0.1μm、分子線エピタキシ法によつ
て作成した。
First, on an n-type GaAs substrate 21, a buffer layer of n-type GaAs 22 of 1 μm, a cladding layer of n-type AlGaAs 23 of 2 μm, an active layer of non-doped GaAs 24 of 0.08 μm, and a cladding layer of 0.08 μm are deposited.
P + type AlGaAs25 with a thickness of 1.5 μm as a cap layer.
GaAs26 was made to a thickness of 0.1 μm by molecular beam epitaxy.

続いて電流注入域を制限するため、プラズマ
CVD法により窒化シリコン膜27を0.2μm積層
した後、フオトリソグラフイプロセスによつて窒
化シリコン膜の一部(第1図の11a〜15aの
領域)を除去した。ストライプ幅(注入域の幅
W)は5μmである。また、5本のストライプは
それぞれ0.5度の角度をもつて形成されている。
Next, in order to limit the current injection region, plasma
After a silicon nitride film 27 was deposited to a thickness of 0.2 μm by the CVD method, a portion of the silicon nitride film (regions 11a to 15a in FIG. 1) was removed by a photolithography process. The stripe width (width W of the implanted region) is 5 μm. Furthermore, each of the five stripes is formed at an angle of 0.5 degrees.

次に、上部電極としてCr−Auオーミツク電極
を形成し、エツチングで分離して11d〜15d
の5つの独立な電極にした。
Next, a Cr-Au ohmic electrode is formed as the upper electrode, separated by etching, and etched into 11d to 15d.
There were five independent electrodes.

また、GaAs基板21はラツピングで100μmの
厚さまでけずつた後、n型用オーミツク電極29
としてAu−Ge電極を蒸着した。
In addition, after the GaAs substrate 21 is scraped to a thickness of 100 μm by wrapping, an ohmic electrode 29 for n-type is formed.
An Au-Ge electrode was then deposited.

続いて拡散のための熱処理を行つた後、第1図
に示されるように共振面16,17をへき開し
た。19の面についてはスクライブで分離した。
なお、各々のレーザのピツチは共振面16におい
て100μmである。一方、電極11d〜15dの
それぞれはワイヤボンデイング(不図示)により
独立に取出した。ここで、キヤビテイ長(共振面
16と17の間隔)は300μmである。
Subsequently, after a heat treatment for diffusion was performed, the resonant surfaces 16 and 17 were cleaved as shown in FIG. 19 surfaces were separated using a scribe.
Note that the pitch of each laser is 100 μm at the resonant surface 16. On the other hand, each of the electrodes 11d to 15d was independently taken out by wire bonding (not shown). Here, the cavity length (the distance between the resonant surfaces 16 and 17) is 300 μm.

これにより光出射方向が同一面内でそれぞれ
1.75度ずつ異なる5つのレーザをモノリシツクに
形成することができた。
This allows the light output direction to be adjusted within the same plane.
We were able to monolithically form five lasers that differ by 1.75 degrees.

一般に、注入域(共振方向)と共振面を直角に
保ちながら半導体レーザの光出射方向を異ならせ
るためには、共振面を光出射方向のずれθと同じ
だけ角度をもたせて形成せねばならない。この場
合、共振面を直線的に形成することはできないの
で、従来確立されているへき開の技術を用いるこ
とは不可能である。従つて、θずつずれたような
フオトマスクを使つてドライプロセスエツチング
等で形成する必要がある。この場合、共振面が不
均一となつて反射率が低下したり、16の共振面
を活性層24の面に対して直角に形成できないた
め発振しきい値電流が増加する、等の問題が生じ
る。本発明による半導体装置によれば、前述した
ように各レーザの共振方向と共振面とのなす角が
異なるように形成されているため共振面を劈開で
形成でき、このような問題は生じない。
Generally, in order to vary the light emission direction of a semiconductor laser while keeping the injection region (resonance direction) and the resonance plane perpendicular, the resonance plane must be formed with an angle equal to the deviation θ in the light emission direction. In this case, since the resonant surface cannot be formed linearly, it is impossible to use the conventionally established cleavage technique. Therefore, it is necessary to form by dry process etching or the like using a photomask that is shifted by θ. In this case, problems arise such as the resonant surface becomes non-uniform and the reflectance decreases, and the oscillation threshold current increases because the 16 resonant surfaces cannot be formed perpendicularly to the surface of the active layer 24. . According to the semiconductor device according to the present invention, since the angles between the resonance direction of each laser and the resonance plane are different as described above, the resonance plane can be formed by cleavage, and such a problem does not occur.

本発明による半導体装置では、へき開面を用い
て光出射方向の異なるアレーレーザを作成してい
るが、本発明がへき開面を用いたアレーレーザに
限定される訳ではない。実装上の都合により、例
えば片面、あるいは両面にウエツトプロセスまた
はドライプロセス等で作成された共振面を採用す
ることも可能である。
In the semiconductor device according to the present invention, array lasers with different light emission directions are created using cleavage planes, but the present invention is not limited to array lasers using cleavage planes. Depending on mounting considerations, it is also possible to employ resonant surfaces formed by a wet process or a dry process on one or both sides, for example.

また、角度φについては、あまり大きくとると
共振面への入射角が大きくなつて反射率が低下す
るが、φが±3度くらいまでは発振しきい値電流
の上昇も10〜20%程度で、駆動上容易である。し
かも、光出射角θを±10°程度まで変更すること
が可能である。
Regarding the angle φ, if it is too large, the angle of incidence on the resonant surface will increase and the reflectance will decrease, but if the angle φ is around ±3 degrees, the oscillation threshold current will only increase by about 10 to 20%. , easy to drive. Moreover, it is possible to change the light emission angle θ to about ±10°.

本実施例ではGaAs系を用いたストライプ電極
型レーザ(利得導波型レーザの一種)を例にとつ
て述べたが、他の利得導波型、例えばプロトンボ
ンバード型にも適用可能であり、また、BH構
造、リツジウエーブ構造等の屈折率導波型のレー
ザに対しても有効である。
Although this example uses a GaAs-based stripe electrode laser (a type of gain waveguide laser) as an example, it is also applicable to other gain waveguide types, such as a proton bombarded type laser. It is also effective for refractive index guided lasers such as , BH structure, and rigid wave structure.

また、レーザ間の間隔や光出射方向のずれθは
一般的には一定値を用いるのが装置設計上便利で
ある。しかしながら、必ずしも一定値をとる必要
はない。
Furthermore, it is generally convenient for device design to use constant values for the distance between lasers and the deviation θ in the light emission direction. However, it is not necessarily necessary to take a constant value.

加えて、半導体レーザの材料はGaAs・
AlGaAs系の他、InP・InGaAsP系、AlGaInP系
等の材料に対しても同様にあてはまるのは言うま
でもない。
In addition, the semiconductor laser material is GaAs.
Needless to say, the same applies to materials such as InP/InGaAsP and AlGaInP in addition to AlGaAs.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように本発明は、電流注入域(共
振方向)と共振面とのなす角が少しずつ変化する
よう形成されているので、共振面にへき開面を用
いてしかも光出射方向が異なるようなモノリシツ
クはアレーレーザを作成することがでる効果を有
する。また、この光出射方向の異なるアレーレー
ザを用いることにより、多数の点からのレーザ光
を走査光学系を用いて媒体上に良好に結像させる
ことができるので、レーザビームプリンタ等の光
学装置の光源としては極めて有利である。
As explained above, the present invention is formed so that the angle formed between the current injection region (resonance direction) and the resonant surface changes little by little. A monolithic structure has the advantage that it is possible to create an array laser. In addition, by using array lasers with different light emission directions, it is possible to form good images of laser light from many points on the medium using a scanning optical system, so it is possible to form a good image on the medium using a scanning optical system. This is extremely advantageous.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明による半導体装置の一実施例を
示す平面図、第2図は第1図のA−A′線からみ
た断面図、第3図はレーザがハイブリツドに配置
された従来例、第4図は出射方向一定のアレーレ
ーザとプリズムを合体して出射方向を異ならせた
従来例、第5図は出射方向一定のアレーレーザを
光学系で補正しようとした場合の従来例である。 11〜15……半導体レーザ、11b〜15b
……共振方向、16,17……共振面、11c〜
15c……光出射方向。
FIG. 1 is a plan view showing an embodiment of a semiconductor device according to the present invention, FIG. 2 is a sectional view taken along line A-A' in FIG. 1, and FIG. 3 is a conventional example in which lasers are arranged in a hybrid manner. FIG. 4 shows a conventional example in which an array laser with a fixed emission direction and a prism are combined to have different emission directions, and FIG. 5 shows a conventional example in which an array laser with a fixed emission direction is attempted to be corrected by an optical system. 11-15... Semiconductor laser, 11b-15b
... Resonance direction, 16, 17 ... Resonance surface, 11c ~
15c...Light emission direction.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 同一基板上に複数個の半導体レーザがモノリ
シツクに形成されて成り、各々のレーザが、前記
基板上に積層された活性層を含む半導体層と、該
半導体層に設けられた一対の光出射端面と、他の
レーザとは独立に設けられた電極と、該電極によ
つて、電流が注入されるストライプ状の領域とを
有する半導体装置において、 前記各電極は、前記各レーザの前記一方の端面
から他方の端面に亙つて形成されており、 前記複数個のレーザの内、少なくとも1つのレ
ーザの電流注入領域を、その長手方向が前記端面
の法線と3度以内の角度で交わるように形成する
ことによつて、前記少なくとも1つのレーザの光
の出射方向と前記端面の法線とのなす角度が、前
記少なくとも1つのレーザの電流注入領域の長手
方向と前記端面の法線とのなす角度よりも大き
く、且つ、前記少なくとも1つのレーザの光の出
射方向が他のレーザの光の出射方向と非平行にな
るように構成したことを特徴とする半導体装置。
[Claims] 1. A plurality of semiconductor lasers are monolithically formed on the same substrate, and each laser includes a semiconductor layer including an active layer laminated on the substrate, and a semiconductor layer provided on the semiconductor layer. In the semiconductor device, each of the electrodes has a pair of light emitting end faces, an electrode provided independently of another laser, and a striped region into which a current is injected by the electrode. The laser is formed from the one end face to the other end face, and the current injection region of at least one laser among the plurality of lasers is set so that the longitudinal direction thereof is within 3 degrees from the normal to the end face. By forming the beams so that they intersect at an angle, the angle between the light emission direction of the at least one laser and the normal to the end surface is the same as the longitudinal direction of the current injection region of the at least one laser and the normal to the end surface. What is claimed is: 1. A semiconductor device, characterized in that the angle is larger than the angle formed with the normal line, and the light emission direction of the at least one laser is non-parallel to the light emission direction of the other lasers.
JP42485A 1984-11-16 1985-01-08 semiconductor equipment Granted JPS61159785A (en)

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FR858516920A FR2582154B1 (en) 1984-11-16 1985-11-15 MULTI-BEAM TRANSMISSION DEVICE COMPRISING SEMICONDUCTOR ELEMENTS, PARTICULARLY LASER DIODES
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JPS59126A (en) * 1982-06-25 1984-01-05 Canon Inc Device for scanning plural beams
JPS59169190A (en) * 1983-03-16 1984-09-25 Hitachi Ltd light emitting semiconductor device

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