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JPH06101608B2 - Semiconductor laser device - Google Patents
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JPH06101608B2 - Semiconductor laser device - Google Patents

Semiconductor laser device

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JPH06101608B2
JPH06101608B2 JP11400386A JP11400386A JPH06101608B2 JP H06101608 B2 JPH06101608 B2 JP H06101608B2 JP 11400386 A JP11400386 A JP 11400386A JP 11400386 A JP11400386 A JP 11400386A JP H06101608 B2 JPH06101608 B2 JP H06101608B2
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laser
resonance
semiconductor
laser device
semiconductor laser
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利民 原
英章 野尻
光利 長谷川
誠一 宮沢
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、複数個の半導体レーザがモノリシツクに形成
された半導体レーザ装置に関する。
The present invention relates to a semiconductor laser device in which a plurality of semiconductor lasers are monolithically formed.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

我々は、特開昭59-240418号、特開昭60-424号等によっ
て、モノリシツクに形成され、かつ複数個の半導体レー
ザの出射方向が異なっているような半導体装置(以下斜
出アレーレーザーと呼ぶ)を出願している。
We have disclosed in Japanese Patent Laid-Open Nos. 59-240418, 60-424, etc., a semiconductor device (hereinafter referred to as oblique array laser) that is monolithically formed and has a plurality of semiconductor lasers with different emission directions. Call).

このような斜出アレーレーザにおいては放射角のなす角
が大きくなり、互いの間隔が狭くなると第4図に示すよ
うに注入域が交叉する為設計上の制約があった。即ちキ
ヤビテイ長Lcはレーザ発振させる為にはある程度以上の
長さが必要であり通常300μmくらいが採用される。従
ってピツチが20μmとすると互いのなす角が3〜4度以
上になると注入域が重なり合ってしまう。
In such an oblique array laser, when the angle formed by the radiation angles becomes large and the distance between them becomes narrow, the injection regions intersect as shown in FIG. That is, the cavity length Lc needs to be a certain length or more to cause laser oscillation, and is usually about 300 μm. Therefore, when the pitch is 20 μm, the injection regions overlap each other when the angle between them is 3 to 4 degrees or more.

〔発明の概要〕 本発明は、簡単に製造でき、レンズ等と組み合せて光路
長の短い光学系を構成出来る半導体レーザ装置を提供す
ることを目的とし、更に上記既提案の装置を設計する上
での自由度を増すものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention aims to provide a semiconductor laser device that can be easily manufactured, and can be combined with a lens or the like to form an optical system having a short optical path length. It increases the degree of freedom of.

本発明の上記目的は、活性層を含んで積層された半導体
層と、該半導体層に形成された一対の共振面と、前記活
性層に電流を供給する電極とから成り、電流の供給によ
ってストライプ状の発光域でレーザ発振を起こし、前記
一対の共振面からそれぞれレーザ光を出射する半導体レ
ーザ素子を複数個、同一の基板上にモノリシックに形成
した半導体レーザ装置において、前記各素子から出射す
るレーザ光の出射方向のなす角度が、一方の共振面の側
と他方の共振面の側とで異なっており、且つ、少なくと
も一方の共振面の側で各素子からレーザ光が互いに非平
行に出射されるように、前記ストライプ状の発光域を湾
曲又は屈曲して形成することによって達成される。
The above-mentioned object of the present invention comprises a semiconductor layer laminated including an active layer, a pair of resonance surfaces formed in the semiconductor layer, and an electrode for supplying a current to the active layer, and a stripe is formed by supplying the current. In a semiconductor laser device in which a plurality of semiconductor laser elements, each of which emits laser light from the pair of resonance surfaces, is monolithically formed on the same substrate by causing laser oscillation in a light-emitting region The angle formed by the emission directions of the light is different between the one resonance surface side and the other resonance surface side, and the laser light is emitted from each element non-parallel to each other on at least one resonance surface side. As described above, it is achieved by forming the striped light emitting region by bending or bending.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の実施例について図面を参照しながら説明
する。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

第1図は特開昭59-240418号等において提案されている
斜出アレーレーザの一例である。図中、11〜15は個々の
半導体レーザを示し、11a〜15aは各半導体レーザ11〜15
における電流の注入域、即ち発光域に対応する。そし
て、この注入域11a〜15aの延長線(以下、共振方向と称
する。)11b〜15bと共振面16および17に立てた法線18と
のなす角がそれぞれφa,φb,φc,φd,φeとなるように
形成されている。
FIG. 1 shows an example of an oblique array laser proposed in JP-A-59-240418. In the figure, 11 to 15 indicate individual semiconductor lasers, and 11a to 15a indicate the respective semiconductor lasers 11 to 15
Corresponds to the injection region of the electric current, that is, the emission region. The angles formed by the extension lines (hereinafter referred to as the resonance direction) 11b to 15b of the injection regions 11a to 15a and the normal line 18 standing on the resonance surfaces 16 and 17 are φa, φb, φc, φd, and φe, respectively. It is formed so that.

なお、共振面16および17は、通常基板として用いられる
液晶(例えばGaAs)のへき開面が利用されるので平行で
あるが、ドライエツチングのように平行度が若干異なる
可能性のあるような場合には、レーザ出射前面側の共振
面16を基準に考える。
The resonance planes 16 and 17 are parallel to each other because a cleavage plane of a liquid crystal (eg, GaAs) normally used as a substrate is used. However, when the parallelism may be slightly different as in dry etching. Is based on the resonance surface 16 on the front side of the laser emission.

共振面16および17で共振した光はレーザ光として共振面
16より出射する時、ほぼスネルの法則に従って曲げられ
る。図中、11c〜15cは光出射方向を示す。
The light resonated at the resonance planes 16 and 17 is resonated as laser light.
When exiting from 16, it is bent according to Snell's law. In the figure, 11c to 15c indicate light emitting directions.

ここで、任意の光出射方向と法線18とのなす角、すなわ
ち出射角をθとすれば、n/n0=sinθ/sinφの関係が成
り立つ。例えばGaAs結晶から出射する場合を考えると、
n(結晶の屈折率)は約3.5、n0(空気の屈折率)は約
1であるので、φを1度に選べば、レーザ光は法線18に
対して約3.5度傾いて出射する。
Here, if an angle formed by an arbitrary light emitting direction and the normal line 18, that is, an emitting angle is θ, a relationship of n / n 0 = sin θ / sin φ is established. For example, considering the case of emitting light from a GaAs crystal,
Since n (refractive index of crystal) is about 3.5 and n0 (refractive index of air) is about 1, if φ is selected as 1 degree, the laser beam is emitted with an inclination of about 3.5 degree with respect to the normal line 18.

第1図に示す実施例では、φa,φb,φc,φd,φeをそれ
ぞれ+1.0度,+0.5度,0.0度,−0.5度,−1.0度に設定
することにより、出射角θa,θb,θc,θd,θeがそれぞ
れ+3.5度,+1.75度,0.0度,−1.75度,−3.5度となる
ようなアレーレーザを作成することができた。
In the embodiment shown in FIG. 1, φa, φb, φc, φd, and φe are set to +1.0 degrees, +0.5 degrees, 0.0 degrees, −0.5 degrees, and −1.0 degrees, respectively. An array laser was produced in which θb, θc, θd, and θe were +3.5 degrees, +1.75 degrees, 0.0 degrees, −1.75 degrees, and −3.5 degrees, respectively.

第2−1図は本発明の実施例である。21はモノリシック
に形成された斜出アレーレーザ装置、22は、レーザ光の
出射方向、25は、湾曲させたレーザのストライプ部、2
6,27はレーザの共振器を形成するミラー面である。
FIG. 2-1 is an embodiment of the present invention. Reference numeral 21 is a monolithic oblique array laser device, 22 is a laser beam emission direction, 25 is a curved laser stripe portion, and 2 is a curved laser stripe portion.
Reference numerals 6 and 27 are mirror surfaces forming a laser cavity.

しかし斜出アレーレーザ装置において、レーザ端面にお
ける活性層の屈折率をn1、レーザストライプ25が、レー
ザ端面において、法線23と成す角をθとすると、θ
2sin-1(1/n2)の場合、第2図の実施例ではレーザの
端面において全反射を生ずるために利用出来なくなる。
However, in the oblique array laser device, if the refractive index of the active layer at the laser end face is n 1 and the angle between the laser stripe 25 and the normal 23 at the laser end face is θ 1 , then θ 1
In the case of 2sin -1 (1 / n 2 ), it cannot be used in the embodiment of FIG. 2 because total reflection occurs at the end face of the laser.

この場合の実施例を第3図に示す。共振器面をレーザの
ストライプとほぼ垂直に作成するために、エツチングで
作成する必要が生じるが、レーザのストライプが湾曲し
ているために、片面34はエツチングで形成し、他面35は
ヘキ開によって作成できる。したがって、ミラー面のエ
ツチング形式による反射率の低下を、片面のみににする
ことが出来るので放射角が大きい場合においても良好な
アレーレーザ装置の作成が可能となる。
An embodiment in this case is shown in FIG. In order to make the cavity surface almost perpendicular to the laser stripe, it is necessary to make it by etching, but because the laser stripe is curved, one surface 34 is formed by etching and the other surface 35 is opened. Can be created by Therefore, since the decrease in the reflectance due to the etching method of the mirror surface can be made only on one side, a good array laser device can be manufactured even when the radiation angle is large.

上記湾曲或いは第2−2図実施例の如き、屈曲は曲率が
極めて大きくならない限り任意に設定出来る。又、2つ
のレーザを例にとると互いに同じ形状をしている必要は
全くなる第2−3図のような変形例も可能である。
The curvature or the bending as in the embodiment of FIG. 2-2 can be arbitrarily set unless the curvature becomes extremely large. Further, if two lasers are taken as an example, it is possible to make a modification as shown in FIG. 2-3 in which the two lasers need not have the same shape.

個々のレーザ構造については言及していないが、電極ス
トライプ等の利得ガイド型のみならずBH構造、リツジ
型、チヤンネルストライプ等の屈折率導波型のレーザに
ついて一般的に通用する。
Although individual laser structures are not mentioned, not only gain guide type lasers such as electrode stripes, but also index guided type lasers such as BH structure, ridge type and channel stripe type are generally applicable.

又、材料はGaAs/AlGaAs系からInp/InGaAsp系など注入型
レーザ一般に適用されるのは言うまでもない。
Needless to say, the material is generally applied to injection type lasers such as GaAs / AlGaAs type to Inp / InGaAsp type.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上説明したように本発明は、斜出アレーレーザ装置に
おいて、半導体レーザ光のストライプ部を湾曲又は屈曲
させることにより、レーザ光の放射角が大でも、高密度
に集積された斜出アレーレーザを提供することが可能に
なった。
INDUSTRIAL APPLICABILITY As described above, the present invention provides an oblique array laser device which is integrated in a high density even if the emission angle of the laser light is large by bending or bending the stripe portion of the semiconductor laser light in the oblique array laser device. It has become possible.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は斜出アレーレーザの一例を示す平面図、 第2−1図はレーザのストライプ部が湾曲している本発
明の実施例を示す図、 第2−2図、第2−3図及び第3図は本発明の変形例を
示す図、 第4図はストライプ部が交叉する場合を示す平面図であ
る。 11〜15……半導体レーザ、 16,17……共振面。
FIG. 1 is a plan view showing an example of an oblique array laser, FIG. 2-1 is a view showing an embodiment of the present invention in which the laser stripe portion is curved, FIGS. 2-2, 2-3 and FIG. 3 is a view showing a modified example of the present invention, and FIG. 4 is a plan view showing a case where stripe portions intersect. 11 to 15 …… Semiconductor laser, 16,17 …… Resonance plane.

フロントページの続き (72)発明者 長谷川 光利 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 宮沢 誠一 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (56)参考文献 特開 昭52−122091(JP,A) 特開 昭62−162385(JP,A)Front page continuation (72) Inventor Mitsutoshi Hasegawa 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon Inc. (72) Seiichi Miyazawa 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon Inc. (56) Reference JP-A-52-120991 (JP, A) JP-A-62-162385 (JP, A)

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】活性層を含んで積層された半導体層と、該
半導体層に形成された一対の共振面と、前記活性層に電
流を供給する電極とから成り、電流の供給によってスト
ライプ状の発光域でレーザ発振を起こし、前記一対の共
振面からそれぞれレーザ光を出射する半導体レーザ素子
を複数個、同一の基板上にモノリシックに形成した半導
体レーザ装置において、前記各素子から出射するレーザ
光の出射方向のなす角度が、一方の共振面の側と他方の
共振面の側とで異なっており、且つ、少なくとも一方の
共振面の側で各素子からレーザ光が互いに非平行に出射
されるように、前記ストライプ状の発光域を湾曲又は屈
曲して形成したことを特徴とする半導体レーザ装置。
1. A stripe-shaped semiconductor layer comprising an active layer, a pair of resonance planes formed on the semiconductor layer, and an electrode for supplying a current to the active layer. In a semiconductor laser device in which laser oscillation is generated in the light emission region and a plurality of semiconductor laser elements each emitting laser light from the pair of resonance surfaces are formed monolithically on the same substrate, the laser light emitted from each element is The angles formed by the emission directions are different on the one resonance surface side and the other resonance surface side, and at least one resonance surface side emits laser light non-parallel to each other. In the semiconductor laser device, the light emitting region having a stripe shape is curved or bent.
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