Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JPH0553866B2 - - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JPH0553866B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0553866B2
JPH0553866B2 JP13342885A JP13342885A JPH0553866B2 JP H0553866 B2 JPH0553866 B2 JP H0553866B2 JP 13342885 A JP13342885 A JP 13342885A JP 13342885 A JP13342885 A JP 13342885A JP H0553866 B2 JPH0553866 B2 JP H0553866B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
vapor deposition
window
light beam
reflecting mirror
container
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP13342885A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS61291966A (ja
Inventor
Shinei Mineta
Nobuo Yasunaga
Noboru Tarumi
Eiichi Teshigahara
Masayuki Ikeda
Toshihiko Odohira
Tetsuyoshi Wada
Shigeo Itano
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Original Assignee
Agency of Industrial Science and Technology
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Agency of Industrial Science and Technology, Mitsubishi Heavy Industries Ltd filed Critical Agency of Industrial Science and Technology
Priority to JP13342885A priority Critical patent/JPS61291966A/ja
Publication of JPS61291966A publication Critical patent/JPS61291966A/ja
Publication of JPH0553866B2 publication Critical patent/JPH0553866B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、光ビームによつて蒸着材料を蒸発さ
せる蒸着装置に係わり、特に蒸発源(蒸着材料)
からの蒸発蒸気が光ビーム導入のための窓に付着
することを防止した蒸着装置に関するものであ
る。
[従来の技術] 一般に真空蒸着においては、蒸発源からの蒸発
蒸気は、基板のみでなくあらゆる方向に進行する
ので、例えば観察用の覗き窓等にも付着して観察
が不可能になるという問題がある。このため、覗
き窓にシヤツターを設け、観察する場合だけシヤ
ツターを開けることにより、付着を減少しようと
する工夫が見られる。しかし、窓を通してレーザ
やランプ光等の光ビームを導入し、その光ビーム
エネルギーで蒸着材料を蒸発させる蒸着装置にお
いては、この種のシヤツターを設けることは不可
能である。そして、蒸着時に前記光ビーム導入窓
に蒸着蒸気が付着し、その膜厚が厚くなると、光
エネルギーの吸収や反射ロスが増大する。また、
光ビーム導入窓に付着した蒸着膜が光エネルギー
を吸収するため、窓が局部的に高温になり破損す
るという問題があり、これが光ビームを使用する
蒸着装置を実用化する上での大きな問題となつて
いた。
このような問題を解決する手段として、最近次
のような方法が提案されている(特開昭58−
42770号)。第3図は、この方法を説明するための
図であり、31は蒸着容器、32は蒸着材料、3
3は試料基板、34は排気口、35はレーザ発振
器、36はレーザビーム、37はレーザビーム3
6を集光するためのレンズ、38はスリツト、3
9は光ビームを導入する窓、40はガス導入口で
ある。この方法においては、スリツト38を設け
ると共に、ガス導入口39より気体を導入してス
リツト38と窓39との間でガスの流れを発生さ
せ、この気体の流れによつてスリツト38を通つ
て窓39方向へ入射する蒸気流を阻止しようとす
るものである。
[発明が解決しようとする問題点] しかしながら、この種の方法にあつては次のよ
うな問題があつた。即ち、窓39へ向かう蒸気の
密度が高いため、ガス流れだけでは蒸気流れを阻
止することは困難である。また、完全に蒸気流れ
を阻止しようとすると、ガスの導入量を著しく増
大させる必要があり、ガス使用量の増大を招く。
さらに、必然的に蒸着容器内の圧力が増大するた
め、排気ポンプ容量が増大すると云う問題があつ
た。
本発明はこのような問題を解決するためになさ
れたもので、その目的とするところは、光導入窓
に蒸着源からの蒸発蒸気が付着するのを確実に防
止することができ、光ビームを用いた蒸着の実用
化に寄与し得る蒸着装置を提供することにある。
[問題点を解決するための手段] 本発明の骨子は、蒸着物質の窓への付着を防止
するために、光ビームの導入路に窓とつながる保
護管を設け、この保護管内に窓側からガスを流す
ことにある。
即ち本発明は、容器内に蒸着材料及び試料を配
置し、窓を通して容器内に導入した光ビームを蒸
着材料に照射し、該材料を蒸発せしめることによ
り試料上に蒸着膜を形成する蒸着装置において、
前記容器内に配置され該容器内に導入された光ビ
ームを反射してその反射ビームを前記蒸着材料上
に照射する反射鏡と、前記窓から上記反射鏡に至
るまでの光ビームの通路を囲んで配設され、且つ
上記反射鏡の近傍に光ビームの通過するスリツト
が設けられた保護管と、この保護管の前記窓部近
傍に気体を導入し、該保護管内で窓部からスリツ
ト方向(反射鏡方向)に気体を流す手段とを設け
るようにしたものである。
[作用] 上記の構造であれば、光ビームの導入窓に到達
する蒸発物質は、スリツトを通過しさらに保護管
内のガスの流れに逆らつて進行する必要がある。
このため、窓に到達する蒸発物質の量は極めて少
ないものとなる。
[発明の効果] 従つて本発明によれば、保護管内に流すガスの
量を左程多くしなくても、蒸着物質の光ビーム導
入窓への付着を確実に防止することができる。こ
のため、光ビームを用いた蒸着装置の実用化に極
めて有効である。
[実施例] 以下、本発明の詳細を図示の実施例によつて説
明する。
第1図は本発明の一実施例を示す概略構成図で
あり、11は蒸着容器、12は蒸着材料(蒸発
源)、13は試料基板、14は排気口、15はレ
ーザ発振器、16はレーザビーム、17は凹面反
射鏡、18は保護管、18′は保護管18の端部
に設けられたスリツト、19はレーザ光導入窓、
20はガス導入口を示す。
本実施例の動作は、以下の通りである。レーザ
発振器15から発射されたレーザービーム16
は、光ビームの導入窓19を通して蒸着容器11
内に導かれ、凹面鏡17によつて集光された後、
蒸着材料12に照射される。この光照射により蒸
着材料12が蒸発し、その蒸発蒸気が基板13に
堆積して蒸着膜が形成される。このとき、蒸発蒸
気が窓19に到達するためには、スリツト18′
を通過し、さらに保護管18内を通つていく必要
があるが、幾何学的形状によりスリツト18′を
通過する蒸気は非常に少ない。しかも、保護管1
8内の内部は、蒸気進行方向とは逆向きのガス流
れがあるため、蒸気が窓19に到達する確率は極
めて低く、工業的には、窓19の汚れは全く問題
がないと言える。
一方、蒸気の一部は反射鏡17に到達するが、
レーザビームの照射する部分にはスリツト18′
より流出したガスが吹付けられており、蒸気の付
着を阻止することが可能である。この反射鏡17
には、ガラス基板にレーザ光に対して反射率の高
い材料、例えばCO2レーザ(波長10.6μm)に対
してはAu,Cuをコーテイングしたものや金属性
(例えばCu,A)のものが使用可能であるが、
窓19の場合と異なつて、反射鏡17の場合は水
冷可能であり、たとえ若干の蒸気が付着して発熱
したとしても破損することはなく、長期の使用に
も十分耐えることができる。
このように本実施例によれば、光ビームの導入
窓19に対する蒸発蒸気の付着を確実に防止する
ことができる。しかも、保護間18内に流すガス
の量も少なくて済む。このため、光ビームを利用
した蒸着装置の実用化に極めて有効である。
第2図は本発明の他の実施例を示す図である。
なお、第1図と同一部分には同一符号を付して、
その詳しい説明は省略する。17′は平面反射鏡、
21はレーザ光を集光するためのレンズを示す。
この実施例が先に説明した実施例と異なる点は、
前記凹面反射鏡17の代りに、レンズ21により
光ビームを集束することにある。
この実施例においても、先の実施例と同様に窓
19や反射鏡17′への蒸発蒸気の付着は見られ
ないが、本実施例の場合はレンズ21によつて集
光しているため、反射鏡17′は平面鏡で良く、
またスリツト18′を小さくすることができるた
め、反射鏡17′に吹付けられるガスの圧力を上
げることができ、反射鏡17′の蒸気の付着をさ
らに減少することが可能である。
なお、本発明は上述した各実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で、
種々変形して実施することができる。例えば、前
記蒸着材料に照射する光はレーザ光に限定される
ものではなく、蒸着材料を十分に加熱できるもの
であればよい。また、前記保護管内に流すガス量
は、保護管の長さや蒸着容器内の圧力等の条件に
応じて適宜定めればよい。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例に係わる蒸着装置を
示す概略構成図、第2図は他の実施例を示す概略
構成図、第3図は従来装置を示す概略構成図であ
る。 11……蒸発容器、12……蒸着材料、13…
…試料基板、14……排気口、15……レーザ発
振器、16……レーザビーム、17……凹面反射
鏡、17′……平面反射鏡、18……保護管、1
8′……スリツト、19……光ビーム導入窓、2
0……ガス導入口、21……レンズ。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 容器内に蒸着材料及び試料を配置し、窓を通
    して容器内に導入した光ビームを蒸着材料に照射
    し、該材料を蒸発せしめることにより試料上に蒸
    着膜を形成する蒸着装置において、前記容器内に
    配置され該容器内に導入された光ビームを反射し
    てその反射ビームを前記蒸着材料上に照射する反
    射鏡と、前記窓から上記反射鏡に至るまでの光ビ
    ームの通路を囲んで配設され、且つ上記反射鏡の
    近傍に光ビームの通過するスリツトが設けられた
    保護管と、この保護管の前記窓部近傍に気体を導
    入し、該保護管内で窓部からスリツト方向に気体
    を流す手段とを具備してなることを特徴とする蒸
    着装置。
JP13342885A 1985-06-19 1985-06-19 蒸着装置 Granted JPS61291966A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13342885A JPS61291966A (ja) 1985-06-19 1985-06-19 蒸着装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13342885A JPS61291966A (ja) 1985-06-19 1985-06-19 蒸着装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS61291966A JPS61291966A (ja) 1986-12-22
JPH0553866B2 true JPH0553866B2 (ja) 1993-08-11

Family

ID=15104538

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP13342885A Granted JPS61291966A (ja) 1985-06-19 1985-06-19 蒸着装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS61291966A (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2544805B2 (ja) * 1989-05-11 1996-10-16 三菱電機株式会社 薄膜蒸着装置
CN100424008C (zh) * 2003-06-24 2008-10-08 日本电气株式会社 纳米碳制造装置

Also Published As

Publication number Publication date
JPS61291966A (ja) 1986-12-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7598509B2 (en) Laser produced plasma EUV light source
US4749840A (en) Intense laser irradiation using reflective optics
JP6730373B2 (ja) 光多重反射容器
WO2001049085A1 (en) Method of generating extremely short-wave radiation, method of manufacturing a device by means of said radiation, extremely short-wave radiation source unit and lithographic projection apparatus provided with such a radiation source unit
JP5301165B2 (ja) レーザ生成プラズマeuv光源
US3982206A (en) System for protection from laser radiation
JPH0553866B2 (ja)
KR930009990B1 (ko) 레이저스 피터링장치
US20240057243A1 (en) Euv light source with a separation device
JP2518419B2 (ja) レ―ザcvd装置
JP3537652B2 (ja) X線顕微鏡
Horikawa et al. A compact Schwarzschild soft X‐ray microscope with a laser‐produced plasma source
JP3650154B2 (ja) レーザプラズマ光源
TW202244623A (zh) 輻射源設備
JPS5856954B2 (ja) 粒子線マイクロアナライザ−
JPH10223395A (ja) X線発生装置
JPH08146197A (ja) 反射鏡固定方法及び反射鏡ホルダー
TW201629638A (zh) 在微影投影曝光裝置中降低污染的配置
JPH03291373A (ja) レーザ・スパッタリング装置
JPH08179098A (ja) X線集光光学系
WO2025016632A1 (en) Euv source vessel heated gas delivery apparatus and method
JPH062115A (ja) レーザ加工装置およびレーザ加工装置用遮蔽板の作製方法
Piper et al. Laser cleaning of cryogenic optics
JPH04221012A (ja) レーザ焼入装置
JPH0544022A (ja) レーザーアブレーシヨン装置

Legal Events

Date Code Title Description
EXPY Cancellation because of completion of term