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JPH0556460B2 - - Google Patents
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JPH0556460B2 - - Google Patents

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Publication number
JPH0556460B2
JPH0556460B2 JP59118820A JP11882084A JPH0556460B2 JP H0556460 B2 JPH0556460 B2 JP H0556460B2 JP 59118820 A JP59118820 A JP 59118820A JP 11882084 A JP11882084 A JP 11882084A JP H0556460 B2 JPH0556460 B2 JP H0556460B2
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JP
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sample
layer
electrons
cleanliness
covered
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Masayuki Uda
Fumiaki Kirihata
Sukenori Shirohashi
Hiroshi Ishida
Shinji Marutani
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Riken Keiki KK
Hochiki Corp
RIKEN
Original Assignee
Riken Keiki KK
Hochiki Corp
RIKEN
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Publication date
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Publication of JPH0556460B2 publication Critical patent/JPH0556460B2/ja
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    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/22Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
    • G01N23/227Measuring photoelectric effect, e.g. photoelectron emission microscopy [PEEM]
    • G01N23/2273Measuring photoelectron spectrum, e.g. electron spectroscopy for chemical analysis [ESCA] or X-ray photoelectron spectroscopy [XPS]

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Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、表面の一部が汚染層で被覆された
試料の表面の清浄度を計測する清浄度計測方法に
関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a cleanliness measuring method for measuring the cleanliness of the surface of a sample whose surface is partially covered with a contaminated layer.

従来、試料表面の清浄度、即ち、試料表面の
内、油脂、塵芥等の汚染層によつて被覆されてい
ない面積はどの程度であるか、は、検査者が目視
検査によつて計測していた。しかしながら、この
ような目視検査は検査者の勘に頼らざるを得ない
ため、個人差が発生して清浄度を正確に計測でき
ないといつ問題点がある。
Conventionally, the cleanliness of a sample surface, that is, the area of the sample surface that is not covered by a layer of contamination such as oil, fat, and dust, has been measured by an inspector through visual inspection. Ta. However, since such visual inspections have to rely on the inspector's intuition, problems arise when individual differences occur and cleanliness cannot be accurately measured.

この発明は、前述の問題点に着目してなされた
もので、試料の表面の清浄度を正確に計測できる
表面の清浄度計測方法を提供することを目的とし
ている。
The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to provide a surface cleanliness measuring method that can accurately measure the cleanliness of the surface of a sample.

このような目的は、表面の一部が試料の光電的
仕事関数より大きい光電的仕事関数を有する汚染
層で被覆された試料の表面の清浄度を計測する清
浄度計測方法であつて、前記試料に、該試料の光
電的仕事関数以上で汚染層の光電的仕事関数未満
のエネルギーを与えて該試料表面全面から電子を
放出させ、この放出電子の内、前記汚染層に被覆
された表面からの電子を該汚染層に捕捉させる一
方、汚染層に被覆されていない表面からの電子を
検出することにより達成することができる。
This purpose is to provide a cleanliness measurement method for measuring the cleanliness of a surface of a sample, a part of which is coated with a contaminated layer having a photoelectric work function larger than the photoelectric work function of the sample. Then, an energy higher than the photoelectric work function of the sample and lower than the photoelectric work function of the contamination layer is applied to emit electrons from the entire surface of the sample. This can be achieved by trapping electrons in the contamination layer while detecting electrons from the surface not covered by the contamination layer.

ここで、前記汚染層は、その光電的仕事関数が
試料の光電的仕事関数より大きく、例えば油脂、
塵芥等が該当する。前記光電的仕事関数とは、金
属ではフエルミレベルから真空レベルまでのエネ
ルギー差であり、半導体の場合には価電子帯の上
部から真空レベルまでのエネルギー差となる。ま
た、試料に与えるエネルギー値は、試料の光電的
仕事関数以上でかつ汚染層の光電的仕事関数未満
であり、この結果、試料の表面全面から電子が発
生されるが、汚染層からは電子は放出されない。
前記試料表面から放出された電子の内、汚染層に
よつて被覆された表面から放出された電子は、汚
染層中を通る際にこの汚染層中でその運動エネル
ギーを失つて汚染層に全て捕捉される。一方、汚
染層によつて被覆されていない表面から放出され
た電子はそのまま移動を継続する。次に、この移
動を継続した電子のみが捕捉され、その数が計測
されたり、あるいは電流に変換され電流値として
検出される。次に、このような検出結果に基ずい
て汚染層に被覆されていない試料の表面積と試料
の全表面積との比が求められ、試料表面の清浄度
が計測される。このような計測を行う場合の雰囲
気は、種々の単体、混合ガスであつても、また大
気であつても何ら差し支えないのである。
Here, the contaminated layer has a photoelectric work function larger than that of the sample, such as oil, fat, etc.
This applies to garbage, etc. The photoelectric work function is the energy difference from the Fermi level to the vacuum level in metals, and the energy difference from the top of the valence band to the vacuum level in semiconductors. In addition, the energy value given to the sample is greater than or equal to the photoelectric work function of the sample and less than the photoelectric work function of the contaminated layer, and as a result, electrons are generated from the entire surface of the sample, but electrons are not generated from the contaminated layer. Not released.
Among the electrons emitted from the sample surface, the electrons emitted from the surface covered with the contamination layer lose their kinetic energy in the contamination layer when passing through the contamination layer, and are all captured in the contamination layer. be done. On the other hand, electrons emitted from the surface not covered by the contamination layer continue to move as they are. Next, only the electrons that continued this movement are captured, and their number is measured or converted into a current and detected as a current value. Next, based on such detection results, the ratio of the surface area of the sample not covered with the contaminant layer to the total surface area of the sample is determined, and the cleanliness of the sample surface is measured. The atmosphere in which such measurements are performed may be various single gases, mixed gases, or the atmosphere.

以下、この発明の一実施例を図面に基づいて説
明する。
Hereinafter, one embodiment of the present invention will be described based on the drawings.

第1図は空気カウンターを示しており、同図に
おいて、1は下部に窓2,3が形成されたケース
であつて、このケース1はアースされて陰極とな
る。ケース1内にはリング状の陽極4が設けら
れ、この陽極4には例えば3.4KVの高圧電源5が
接続されている。陽極4とケース1との間には、
例えば100Vの電圧が印加された第1格子電極6
が設置され、この第1格子電極6とケース1の底
面上に載置された試料7との間には、例えば80V
の電圧が印加された第2格子電極8が設置されて
いる。前記試料7の表面はその一部が汚染層9、
例えば油脂層で覆われている。10は光源であ
り、この光源10からの光は分光器11により単
色化され、前記試料7および汚染層9を窓2を通
して照射し、その反射光は窓3から外に出てい
く。なお、この際の単色光の強度は2個のスリツ
ト12により調節される。13は陽極4に接続さ
れた増幅器であり、この増幅器13と第1格子電
極6との間には第1パルス発生器14が設けられ
ている。この第1パルス発生器14は陽極4に電
子パルスが発生したとき、第1格子電極6に、例
えば時間幅Te(5ms)で300Vの矩形波パルス
を送り、第1格子電極6の電圧を、第2図bに示
すように100Vから400Vに増加させる。また、前
記増幅器13と第2格子電極8との間には第2パ
ルス発生器15が設けられ、この第2パルス発生
器15は陽極4に電子パルスが発生したとき、例
えば時間幅Te(5ms)で−110Vの矩形波パル
スを第2格子電極8に供給し、第2格子電極8の
電圧を、第2図cに示すように80Vから−30Vま
で低下させる。前記第1、第2パルス発生器1
4,15は発生する矩形波パルスの時間幅および
波高電圧を任意に設定できるものである。16は
増幅器13に接続された計数手段であり、この計
数手段16は陽極4に発生する電子パルスを計数
する。この計数手段16には演算手段17が接続
され、この演算手段17は例えばマイクロコンピ
ユータからなる。そして、この演算手段17は計
数手段16からの出力、例えば1秒間当りの電子
パルスのカウント数(計数率)をNとすると、試
料7の清浄度T、即ち、試料7の表面の内どの程
度汚染層9によつて被覆されずに残つているか、
を式、 T=N/N1 ここで、N1は試料表面が汚染層によつて全く
被覆されていない完全清浄面のときのカウント
数(計数率) を用いて演算し、試料7の清浄度Tを求める。次
に、この演算手段17からの出力信号は、例え
ば、CRT、プリンター等の表示手段18に送ら
れ、この表示手段18において前記演算結果、即
ち試料7の清浄度T、が表示される。
FIG. 1 shows an air counter, in which numeral 1 is a case with windows 2 and 3 formed at the bottom, and this case 1 is grounded and serves as a cathode. A ring-shaped anode 4 is provided inside the case 1, and a high voltage power source 5 of, for example, 3.4 KV is connected to this anode 4. Between the anode 4 and the case 1,
For example, the first grid electrode 6 to which a voltage of 100V is applied
is installed, and a voltage of 80V, for example, is applied between the first grid electrode 6 and the sample 7 placed on the bottom of the case 1.
A second grid electrode 8 to which a voltage of is applied is installed. A part of the surface of the sample 7 has a contaminated layer 9,
For example, it is covered with a layer of oil. Reference numeral 10 denotes a light source, and the light from this light source 10 is made monochromatic by a spectroscope 11 and illuminates the sample 7 and the contaminated layer 9 through the window 2, and the reflected light exits through the window 3. Note that the intensity of the monochromatic light at this time is adjusted by two slits 12. Reference numeral 13 denotes an amplifier connected to the anode 4, and a first pulse generator 14 is provided between the amplifier 13 and the first grid electrode 6. When an electron pulse is generated at the anode 4, this first pulse generator 14 sends a 300V rectangular wave pulse to the first grid electrode 6 with a time width Te (5 ms), for example, to increase the voltage of the first grid electrode 6. The voltage is increased from 100V to 400V as shown in Figure 2b. Further, a second pulse generator 15 is provided between the amplifier 13 and the second grid electrode 8, and when an electron pulse is generated at the anode 4, the second pulse generator 15 generates a pulse with a time width Te (5ms). ), a rectangular wave pulse of -110V is supplied to the second grid electrode 8, and the voltage of the second grid electrode 8 is reduced from 80V to -30V as shown in FIG. 2c. The first and second pulse generators 1
Reference numerals 4 and 15 allow the time width and peak voltage of the generated rectangular wave pulse to be arbitrarily set. 16 is a counting means connected to the amplifier 13, and this counting means 16 counts the electron pulses generated at the anode 4. A calculating means 17 is connected to this counting means 16, and this calculating means 17 is composed of, for example, a microcomputer. Then, this calculating means 17 calculates the cleanliness T of the sample 7, that is, how much of the surface of the sample 7 is the output from the counting means 16, for example, when the number of counts of electron pulses per second (counting rate) is N. whether it remains uncovered by the contamination layer 9;
is the formula, T=N/N1 Here, N1 is calculated using the count number (counting rate) when the sample surface is completely clean and not covered with any contaminated layer, and the cleanliness T of sample 7 is calculated. seek. Next, the output signal from the calculation means 17 is sent to a display means 18 such as a CRT or a printer, and the calculation result, that is, the cleanliness T of the sample 7, is displayed on the display means 18.

次に、この発明の一実施例の作用について説明
する。
Next, the operation of one embodiment of the present invention will be explained.

まず、一定厚さ、例えば電子の平均自由行程、
以上の油脂からなる汚染層9が表面の一部に付着
された、例えばシリコンからなる試料7をケース
1の底面上に載置する。次に、高圧電源5から陽
極4に第2図aに示すように、例えば3.4KVの高
電圧を印加する。次に、光源10からの光を分光
器11によつて単色光にするとともにスリツト1
2によつてその強度を調節し、試料7に照射す
る。試料7にエネルギーを与える単色光は、試料
7の光電的仕事関数以上で汚染層9の光電的仕事
関数未満のエネルギーを有する光を使用する。こ
の試料7に照射された単色光は汚染層9を突き抜
けた後、試料7の表面に光エネルギーを与えて、
この試料7の表面全面、即ち汚染層9に被覆され
ている部分および被覆されていない部分の双方、
から十eV以下の低エネルギーをもつ光電子を放
出させる。この際、単色光の有する光エネルギー
が汚染層9の光電的仕事関数未満であるので、汚
染層9からは電子は放出されない。次に、前記汚
染層9によつて被覆されている汚染表面から放出
された電子は、汚染層9を通り抜ける際、この汚
染層9によつてその運動エネルギーを失い該汚染
層9に捕捉されるので、外部に現れることができ
ないのである。一方、汚染層9によつて被覆され
ていない清浄表面から放出された電子は、そのま
ま移動を継続するのである。このように、汚染層
9に被覆された汚染表面からの電子は外部に現れ
ず、一方、汚染層9に被覆されていない清浄表面
からの電子はそのまま移動して外部に現れるの
で、この外部に現れた電子数を調べれば、試料7
の表面の内、どの程度汚染層9によつて被覆され
ずに残つているかを知ることができるのである。
前記清浄表面からの電子は、第2格子電極8およ
び第1格子電極6を通過し、陽極4に引き寄せら
れる。そして、電子が陽極4近傍に到達すると、
陽極4近傍には高電圧によつて強い電界が発生し
ているので、この電界により電子が加速され気体
放電を引き起こす。この気体増幅作用により、陽
極4に印加されている電圧は第2図aに示すよう
に、電位が低下し、電子パルスが発生する。この
陽極4に発生した電子パルスは増幅器13を介し
て第1パルス発生器14および第2パルス発生器
15に送られる。第1パルス発生器14は電圧が
300Vで時間幅がTeの矩形波パルスを発生して第
1格子電極6に送り、第1格子電極6の電圧を
100Vから400VにTe時間だけ増加させる。この結
果、陽極4と第1格子電極6との間の電位差が
300V低下し、これによつて、気体増幅作用によ
り発生した光や陽イオンによる二次電子は放電電
圧に達することができず、連続放電が阻止され
る。一方、第2パルス発生器15は時間幅がTe
で電圧が−110Vの矩形波パルスを第2格子電極
8に送り、第2格子電極8の電圧を80Vから−
30Vに低下させる。この結果、前記気体増幅作用
によつて発生した陽イオンがこの第2格子電極8
に捕捉されて中和される。これにより、陽イオン
が汚染層9および試料7に到達してこれらに影響
を与えるようなことはない。そして、Te時間だ
け経過すると、第1、第2格子電極6,8の電圧
は元の電圧にそれぞれ回復し、空気カウンターは
再び電子を検出できる状態となる。前記陽極4に
発生した電子パルスは同時に増幅器13を介して
計数手段16にも送られ、この計数手段16は前
記電子パルス数、即ち汚染層9によつて被覆され
ていない清浄面から放出された電子数、を計数
し、計数結果、例えば計数率、を演算手段17に
出力する。演算手段17は前述した式に基づいて
演算して試料7の清浄度を求め、その演算結果を
表示手段18に送る。ここで、試料7の表面が完
全清浄面であるとき、即ち汚染層9によつて全く
被覆されていないとき、には計数率が前記N1と
等しくなつて演算結果(清浄度)は1となり、ま
た、試料7の表面が汚染層9によつて被覆される
に従い計数率は小さくなつて演算結果(清浄度)
が1から0に近付き、完全汚染面であるとき、即
ち汚染層9によつて全て被覆されているとき、に
は計数率は0となつて演算結果(清浄度)は0と
なる。前記演算結果が表示手段19に入力される
と、表示手段18は試料7の清浄度Tを表示す
る。
First, a constant thickness, e.g. mean free path of electrons,
A sample 7 made of, for example, silicon and having a contaminant layer 9 made of the oil or fat adhered to a part of its surface is placed on the bottom surface of the case 1. Next, a high voltage of, for example, 3.4 KV is applied from the high voltage power supply 5 to the anode 4 as shown in FIG. 2a. Next, the light from the light source 10 is turned into monochromatic light by the spectroscope 11, and the slit 1
The intensity is adjusted by 2 and the sample 7 is irradiated. As the monochromatic light that gives energy to the sample 7 , light having energy that is greater than or equal to the photoelectric work function of the sample 7 and less than the photoelectric work function of the contamination layer 9 is used. The monochromatic light irradiated onto the sample 7 passes through the contamination layer 9 and then imparts light energy to the surface of the sample 7.
The entire surface of this sample 7, that is, both the part covered with the contamination layer 9 and the part not covered,
emit photoelectrons with low energy of less than 10 eV. At this time, since the optical energy of the monochromatic light is less than the photoelectric work function of the contamination layer 9, no electrons are emitted from the contamination layer 9. Next, when the electrons emitted from the contaminated surface covered by the contaminated layer 9 pass through the contaminated layer 9, they lose their kinetic energy and are captured by the contaminated layer 9. Therefore, it cannot appear externally. On the other hand, electrons emitted from the clean surface not covered by the contamination layer 9 continue to move. In this way, electrons from the contaminated surface covered by the contaminated layer 9 do not appear outside, while electrons from the clean surface not covered by the contaminated layer 9 move as they are and appear outside. If you check the number of electrons that appeared, sample 7
It is possible to know how much of the surface remains uncovered by the contamination layer 9.
Electrons from the clean surface pass through the second grid electrode 8 and the first grid electrode 6 and are attracted to the anode 4. Then, when the electrons reach the vicinity of the anode 4,
Since a strong electric field is generated near the anode 4 due to the high voltage, electrons are accelerated by this electric field, causing a gas discharge. Due to this gas amplification effect, the potential of the voltage applied to the anode 4 decreases as shown in FIG. 2a, and an electron pulse is generated. The electron pulse generated at the anode 4 is sent to a first pulse generator 14 and a second pulse generator 15 via an amplifier 13. The first pulse generator 14 has a voltage
A rectangular wave pulse of 300V and a time width of Te is generated and sent to the first grid electrode 6 to increase the voltage of the first grid electrode 6.
Increase Te time from 100V to 400V. As a result, the potential difference between the anode 4 and the first grid electrode 6 increases.
The voltage drops by 300V, and as a result, secondary electrons generated by light and positive ions generated by gas amplification cannot reach the discharge voltage, and continuous discharge is prevented. On the other hand, the second pulse generator 15 has a time width of Te
A square wave pulse with a voltage of -110V is sent to the second grid electrode 8, and the voltage of the second grid electrode 8 is changed from 80V to -
Reduce to 30V. As a result, the positive ions generated by the gas amplification effect are transferred to the second grid electrode 8.
captured and neutralized. This prevents positive ions from reaching the contaminated layer 9 and the sample 7 and affecting them. Then, after a period of time Te has elapsed, the voltages of the first and second grid electrodes 6 and 8 are restored to their original voltages, and the air counter is in a state where it can detect electrons again. The electron pulses generated at the anode 4 are simultaneously sent to a counting means 16 via an amplifier 13, which counts the number of electron pulses emitted from the clean surface not covered by the contamination layer 9. The number of electrons is counted, and the counting result, for example, the counting rate, is output to the calculation means 17. The calculation means 17 calculates the cleanliness of the sample 7 by calculating based on the above-mentioned formula, and sends the calculation result to the display means 18. Here, when the surface of the sample 7 is a completely clean surface, that is, when it is not covered with the contaminated layer 9 at all, the counting rate becomes equal to the above-mentioned N1 and the calculation result (cleanliness) becomes 1, In addition, as the surface of the sample 7 is covered with the contamination layer 9, the counting rate decreases and the calculation result (cleanliness)
approaches 0 from 1 and is a completely contaminated surface, that is, when it is completely covered by the contaminated layer 9, the counting rate becomes 0 and the calculation result (cleanliness) becomes 0. When the calculation result is input to the display means 19, the display means 18 displays the cleanliness T of the sample 7.

なお、前述の実施例においては、低速の電子を
検出する空気カウンタと、計数手段16と、演算
手段17と、表示手段18と、を一体化して1つ
の装置を構成したが、この発明においては、例え
ば空気カウンタおよび計数手段16と、演算手段
17および表示手段18と、を分離し、電子数の
検出と演算表示とを別々の場所で行うようにして
もよい。
In the above embodiment, the air counter for detecting low-speed electrons, the counting means 16, the calculating means 17, and the display means 18 were integrated into one device, but in this invention, For example, the air counter and counting means 16, the calculation means 17 and the display means 18 may be separated, and the detection of the number of electrons and the calculation display may be performed at separate locations.

以上説明したように本発明においては試料の仕
事関数よりも大きく、かつ前記試料の表面に付着
している汚染物質の仕事関数よりも小さなエネル
ギーの光を照射して試料からの光電子の個数を検
出し、この個数と清浄な試料に基づく光電子の個
数との差をもつて汚染物質の量を検出するように
したので、光電子のエネルギ自体を問題とする必
要がなく、このため空気中やガス中での測定がで
きて、工業製品の清浄度のオンライン測定が可能
となる。
As explained above, in the present invention, the number of photoelectrons from the sample is detected by irradiating light with an energy larger than the work function of the sample and smaller than the work function of the contaminant attached to the surface of the sample. However, since the amount of contaminants is detected based on the difference between this number and the number of photoelectrons based on a clean sample, there is no need to consider the energy of the photoelectrons itself as a problem. This enables on-line measurement of the cleanliness of industrial products.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図はこの発明を実施するための装置の一実
施例を示す一部がブロツクで示された断面図、第
2図は空気カウンターの電圧変化を示すグラフで
ある。 4……陽極、7……試料、9……汚染層、10
……光源、16……計数手段、17……演算手
段、18……表示手段。
FIG. 1 is a cross-sectional view, partially shown in blocks, showing an embodiment of an apparatus for carrying out the present invention, and FIG. 2 is a graph showing voltage changes of an air counter. 4...Anode, 7...Sample, 9...Contaminated layer, 10
... light source, 16 ... counting means, 17 ... calculation means, 18 ... display means.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 試料の仕事関数よりも大きく、かつ前記試料
の表面に付着している汚染物質の仕事関数よりも
小さなエネルギーの光を照射して前記試料からの
光電子の個数を検出し、前記個数と清浄な試料に
基づく光電子の個数との差により汚染物質の量を
検出する表面の清浄度計測方法。
1. Detect the number of photoelectrons from the sample by irradiating light with an energy larger than the work function of the sample and smaller than the work function of the contaminants attached to the surface of the sample, and compare the number with the clean one. A surface cleanliness measurement method that detects the amount of contaminants based on the difference in the number of photoelectrons based on the sample.
JP11882084A 1984-06-09 1984-06-09 Measurement of surface cleanness degree Granted JPS60262043A (en)

Priority Applications (1)

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JP11882084A JPS60262043A (en) 1984-06-09 1984-06-09 Measurement of surface cleanness degree

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JP11882084A JPS60262043A (en) 1984-06-09 1984-06-09 Measurement of surface cleanness degree

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JPS60262043A JPS60262043A (en) 1985-12-25
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JPH0711495B2 (en) * 1982-05-07 1995-02-08 株式会社日立製作所 Photoelectron measurement method

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JPS60262043A (en) 1985-12-25

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