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JPH0560655B2 - - Google Patents
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JPH0560655B2 - - Google Patents

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Publication number
JPH0560655B2
JPH0560655B2 JP60226541A JP22654185A JPH0560655B2 JP H0560655 B2 JPH0560655 B2 JP H0560655B2 JP 60226541 A JP60226541 A JP 60226541A JP 22654185 A JP22654185 A JP 22654185A JP H0560655 B2 JPH0560655 B2 JP H0560655B2
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JP
Japan
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semiconductor chip
substrate
mold member
bonding
foamed resin
Prior art date
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Application number
JP60226541A
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JPS6285436A (ja
Inventor
Shin Tada
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Sharp Corp
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Sharp Corp
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Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
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Publication of JPS6285436A publication Critical patent/JPS6285436A/ja
Publication of JPH0560655B2 publication Critical patent/JPH0560655B2/ja
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Landscapes

  • Wire Bonding (AREA)
  • Die Bonding (AREA)
  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 <技術分野> 本発明は半導体チツプを基板に取付ける方法に
関するものである。
<従来技術> 半導体チツプの基板取付にあつて、半導体チツ
プをボンデイング方式で基板と接続する場合、当
該ボンデイング工程を終えて後、該半導体チツプ
のモールド(封止)工程を実施することになる
が、この様に、アセンブルにおいて2工程を必要
とすることは時間がかかり、コスト的に不利であ
る。
<発明の目的> 本発明は、上記の事情に鑑み、ボンデイング工
程とモールド(モールデイング)工程とを同時に
行える様に改良された半導体チツプの基板取付方
法を提供することを目的とする。
<実施例> 以下、本発明の構成を図面を参照しつつ述べ
る。
本発明の半導体チツプの基板取付方法は、下記
の4工程から成つている。
(A) 第1図に示す通り、LSI1を、該LSIチツプ
1のパツド2a,2bが形成された面を下にし
て、ボンデイング部材である異方性導電接着フ
イルム3を介して、基板(PWB)4上に載置
する。この際、該LSIパツド2a,2bが、
夫々、前記基板4上にパターン形成された導体
(銅)箔5a,5bに接続するべく位置合わせ
を行う。なお、この位置合わせは、COSダイ
レクトボンダーの様なプリズム方式若しくはカ
メラを2台用いた方式で実行される。
(B) 上記工程の結果、第2図に示される通り、前
記LSIチツプ1と前記基板4の仮止めがなされ
る。なお、第2図の各符号は既出のものと等価
である。(以上、第1工程) (C) 続いて、前記基板4上に載置されたLSIチツ
プ1上に、予め定量しておいた発泡樹脂5を滴
下する。第3図の通り、各符号は既出と同じ。
この発泡樹脂5はモールドのために使用される
ものである。
この時点では、前記発泡樹脂5は、粘性のた
め、前記LSIチツプ上に留まつている。(以上、
第2工程) (D) 次に、前記発泡樹脂5が滴下されたLSIチツ
プ1上にボンダヘツド6を移動させ、該ボンダ
ーヘツド6を前記LSIチツプ1の上方から前記
基板4に向けて降下させる。
すると、第2工程では前記LSIチツプ1上に
留まつていた発泡樹脂5が、該ボンダーヘツド
6に押圧され、流動していく。
このボンダーヘツド6は、前記LSIチツプ1
の高さと前記導電接着フイルム3の厚みに該発
泡樹脂5のモールド時の膜の厚さを加えた高さ
と、前記LSIチツプ1の長さに該発泡樹脂5の
モールド時の膜の厚さを加えた幅を備えてい
る。
従つて、第4図にある通り、前記ボンダーヘ
ツド6が完全に被さつた状態になると、前記発
泡樹脂5は、前記LSIチツプ1と、前記LSIチ
ツプと前記基板4間に介在する前記導電接着フ
イルム3の周辺を包囲する。第4図の各符号は
既出のものと同じ。(以上、第3工程) (E) その後、前記ボンダーヘツド6に熱を加え
る。
この加熱の結果、前記導電接着フイルム3は
接着性を持ち、又、前記発泡樹脂5は体積を増
す。
前記ボンダーヘツド6が上から押圧し、前記
基板4は固定台等で固定されているから、前記
LSIチツプ1は上方から押され、さらに前記導
電接着フイルム3は変形する。その結果、前記
LSIチツプ1と前記基板4が強固に接続され
る。(以上、第4工程) (F) 発泡樹脂5が硬化した後、前記ボンダーヘツ
ド6を取り外して、ボンデイング及びモールド
工程を終了する。第5図参照。なお、各番号は
既出のものと同じ。
本実施例では、発泡樹脂5が加熱されて膨張
し、LSIチツプ1を基板4側に強く押すから、両
者の接続強度は大きい。
<効果> 以上の様に本発明は、基板上に搭置された半導
体チツプ上に所定量の発泡樹脂よりなるモールド
部材を滴下し、モールド部材が滴下された半導体
チツプにボンダーヘツドを被せ、該モールド部材
を半導体チツプ及び該半導体チツプと基板間に介
在するボンデイング部材の周辺に流動させ、ボン
ダーヘツドによつて加熱を行うことでモールド部
材が膨張し半導体チツプを基板に強く押すので両
者の接続強度は大きく、ボンデイング部材による
接着とモールド部材の硬化を行う半導体チツプの
基板取付方法であり、半導体チツプが基板に密着
して硬化される状態にてボンデイング工程とモー
ルド工程とを同時に行うという効果が生ずるの
で、半導体を迅速に商品化、製品化でき、コスト
的に有利となる。
【図面の簡単な説明】
第1図乃至第5図は、本発明に係る半導体チツ
プの基板取付方法の工程図である。 1……LSIチツプ、3……異方性導電接着フイ
ルム、4……基板、5……発泡樹脂、6……ボン
ダーヘツド。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 半導体チツプを基板に取付ける方法であつ
    て、 半導体チツプをボンデイング部材を介して基板
    上に搭置する工程、 前記基板上に搭置された半導体チツプ上に所定
    量の発泡樹脂よりなるモールド部材を滴下する工
    程、 前記モールド部材が滴下された半導体チツプに
    ボンダーヘツドを被せ、該モールド部材を前記半
    導体チツプ及び該半導体チツプと前記基板間に介
    在するボンデイング部材の周辺に流動させる工
    程、 前記ボンダーヘツドによつて加熱を行うことで
    前記モールド部材が膨張し前記半導体チツプを前
    記基板に圧接しつつ、前記ボンデイング部材によ
    る接着と前記モールド部材の硬化を行う工程と からなることを特徴とする半導体チツプの基板取
    付方法。
JP60226541A 1985-10-09 1985-10-09 半導体チツプの基板取付方法 Granted JPS6285436A (ja)

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Publication Number Publication Date
JPS6285436A JPS6285436A (ja) 1987-04-18
JPH0560655B2 true JPH0560655B2 (ja) 1993-09-02

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JP60226541A Granted JPS6285436A (ja) 1985-10-09 1985-10-09 半導体チツプの基板取付方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101983419B (zh) * 2008-04-04 2012-08-08 索尼化学&信息部件株式会社 半导体装置及其制造方法
JP5253127B2 (ja) * 2008-12-15 2013-07-31 トッパン・フォームズ株式会社 半導体チップの実装方法

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JPS6285436A (ja) 1987-04-18

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