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JPH056768B2 - - Google Patents
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JPH056768B2 - - Google Patents

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Publication number
JPH056768B2
JPH056768B2 JP59110551A JP11055184A JPH056768B2 JP H056768 B2 JPH056768 B2 JP H056768B2 JP 59110551 A JP59110551 A JP 59110551A JP 11055184 A JP11055184 A JP 11055184A JP H056768 B2 JPH056768 B2 JP H056768B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
ink
acid group
transparent conductive
water
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP59110551A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS60253116A (en
Inventor
Eiji Nakagawa
Hisao Kitano
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nissha Printing Co Ltd
Original Assignee
Nissha Printing Co Ltd
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Publication date
Application filed by Nissha Printing Co Ltd filed Critical Nissha Printing Co Ltd
Priority to JP11055184A priority Critical patent/JPS60253116A/en
Publication of JPS60253116A publication Critical patent/JPS60253116A/en
Publication of JPH056768B2 publication Critical patent/JPH056768B2/ja
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  • Manufacturing Of Electric Cables (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、新規な透明導電性回路を有する基板
の製造法に関するものであり、その目的とすると
ころは、従来のエツチング法やリフトオフ法等に
比べて簡単な製造工程により、品質の優れた透明
導電性回路を有する基板を経済的に有利に製造す
る方法に係るものである。 本発明による製品は、液晶表示体、エレクトロ
ミツク表示体、電子写真記録体、電気泳動記録
体、透明スイツチ、コネクター、フレキシブルサ
ーキツト、帯電防止体、面状発熱体、太陽電池、
導電体等の材料として電気・電子工業はじめ各産
業分野において有用なる透明導電性膜を提供する
ものである。 公知に属する透明導電性回路を有する基板の製
造法としては次のような方法が知られている。即
ち、金、銀、パラジウム等の金属薄膜、酸化錫、
酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化カドミウ
ム錫等の金属酸化物薄膜を真空蒸着法、スパツタ
リング法もしくは印刷法によつてガラス基板、プ
ラスチツク基板、シート基板、フイルム基板上に
全面形成させた後、必要な導電性回路部分にフオ
トレジスト法やスクリーン印刷法によつて回路の
マスキング層を形成させる、次いで湿式或いは乾
式のエツチング法にて不要な金属薄膜図柄部分或
いは金属酸化物薄膜図柄部分を除去した後、マス
キング層を除去することによつて透明導電性回路
を形成させるのである。 しかしながらこれらの方法には次のような欠点
があつたのである。即ち、フオトレジストでは
マスキング層を形成する際、感光性樹脂の塗布、
パターンの焼付、現像、フオトレジストの除去等
の工程を必要とするため作業性が悪いとか、ス
クリーン印刷法によつてレジストインキでマスキ
ング層を形成する際、長時間の乾燥を必要とする
ため生産性に劣るとか、高価な各種の材料が必要
であるとかの問題点を抱えており、しかも装置的
にも作業的にも各種の制約を蔵していたのであ
る。 かかる問題点を解決する方法の一例として、特
開昭58−113376号に記載されている増粘されたエ
ツチング液を例えばシルクスクリーンを介して直
接、導電性薄膜に塗工し、しかる後水洗等の処理
で所望のパターンにエツチングする方法が提案さ
れてはいるが、本発明者らの追試実験において、
この方法によつては、エツチング液塗布後のエツ
チング効果を外観から充分確認、保証することが
できないとか、或いは塗布後エツチング完了まで
の保持時間の調整とか水洗時間に関する信頼性が
極めて低く、エツチング完了前に水洗処理を行う
と不必要な部分まで侵食してしまう危険性がある
とか、実際の工業生産においてその再現性を確保
することの困難さを有し、大規模な製造において
良品の生産性を低下させる傾向が強く現れ、かつ
製品の検査工程とか作業管理の上で多大の難問を
含んでいることが認められたのである。 一方、リフトオフ法の場合は、予め基板上の不
必要な図柄部分を例えば水溶性インキを用いて印
刷しておき、次に基板の全面に金属薄膜或いは金
属酸化物薄膜を形成させ、しかる後に水洗して水
溶性インキ図柄部分を除去することによつて所望
の透明導電性回路を得ることができるという方法
が工夫されているが、この方法を用いれば、工業
的にはエツチング工程が不必要となるため、作業
がかなり楽になるとはいえ、大量生産的には優秀
な方法であるにもかかわらず、少量多品種生産の
場合には経済的な難問がででくる傾向があつたの
である。 本発明者らは、かかる現状に鑑み、従来技術が
有する前記諸問題点を解消すべく永年にわたり工
夫研究を重ね、鋭意努力を傾注してきた結果、基
板上に諸望の透明導電性回路を形成させる新しい
刮目すべき方法として遂に本発明を完成するに至
つた。本法は、酸性化合物と着色物質を含む水性
の変色性インキで透明導電膜上に諸望の図柄を形
成させた後、反応の進行に応じてインキが変色す
ることによつてエツチングの完了を視認し、しか
る後に該インキを水で洗浄除去して乾燥すること
によつて従来法では見られないような精度のしか
も美しい透明導電性回路を形成させることを見い
出し、かかる知見に基づいて各種の原料関係の条
件とか作業手順等を究明し、遂に本発明を完成す
るに至つたものである。即ち、本発明は、スルホ
オキシ基、スルホン基、スルフイン基根、スルフ
エン酸根、スルホン酸根、ホスフエン酸根、ホス
ホン酸根、リン酸根、硫酸根および含フツ素縮合
酸根よりなる群から選ばれた少なくともひとつの
酸化化合物と着色物質を含有する水性の変色性イ
ンキを用いて樹脂基板面の重金属成分を含む透明
導電膜上に図柄を印刷しインキの変色を視認した
後図柄部分を水で洗浄除去し乾燥することを特徴
とする透明導電性回路を有する基板の製造法を明
らかにしたものである。 以下、本発明を詳細に説明する。 本発明におけるスルホオキシ基、スルホン基、
スルフイン酸根、スルフエン酸根、スルホン酸
根、ホスフエン酸根、ホスホン酸根、リン酸根、
硫酸根および含フツ素縮合酸根よりなる群から選
ばれた少なくともひとつの酸根を含む酸性化合物
としては、次のような条件を具備するものが好ま
しいのである。即ち、 速やかに透明導電膜と反応し、正確なエツチ
ングするもの、 インキバインダーに混入した際、できるだけ
ゲル化物や沈澱物などを生ぜす分散、溶解性の
良好なもの、 速やかに洗浄により除去するもの 等が好ましい。 さて、このような酸性物質の具体的な化合物と
してはつぎのようなものがある。すなわち代表的
な化合物例を分子式にて示すと、 CH3SOCH2COOH、C6H5SOCH2COOH、SO
(CH2CH2COOH)2、C6H5SO C6H5COOH、
C6H5SOC6H4CH2COOH、CH3SO2C2COOH、
C6H5SO2COOH、SO2(CH2CH2COOH)2
C6H5SO2C6H4CH2COOH、C6H5SO2H、CH3
CH3C6H4SO2H、C6H5SOH、CH3C6H5SOH、
CH3SO3H、CF3SO3H、C6H5SO3H、
CH3C6H4SO3H、NH2SO3H、C6H5NHSO3H、
H2SO3H、HOC6H4SO3H、(HO)2C6H3SO3H、
C10H7C10H6SO3H、HOC10H6SO3H、C6H4
(SO3H)2、CH3C6H3(SO3H)2、HOC6H3
(SO3H)2、(HO)2C6H2SO3H、
(HO)2C10H5SO3H、(HO)2C10H4(SO3H)2
ClC6H4SO3、NO2C6H4SO3、Cl2C6H3SO3H、
CF3C6H4SO3H、C6H5・C6H4SO3H、
HSO3C6H4C6H4SO3H、CH2(C6H4SO3H)2
CH2(HOC6H3SO3H)2、CH3CH
(HOC6H3SO3H)2、(CH32C(HOC6H3SO3H)、
(CH3O)2P(OH)2、(C2H52P(OH)2、(C6H52P
(OH)2、CH3OP(OH)2、C2H5OP(OH)2
C6H5OP(OH)2、CH3PO(OH)2、C2H5PO2
(OH)2、C6H5PO2(OH)2、H3PO4、NaHPO4
Na2HPO4、(NH4)H2PO4、(NH42HPO4
H2SO4、NaHSO4、KHSO4、CH3OSO2OH、
C2H5OSO2OH、C6H5OCO2OH、HBF4、HPF6
HSbF6、H3AlF6、H2TiF6、H2ZrF6、NaFH2
KHF2、(NH4)HF2、R4NHF2、H3TiF7
H2SiF6等の単独もしくは二種以上の混合物であ
る。また更にこれらの各化合物を基本とする各種
の酸性誘導体とか、酸性塩、たとえばスルホ酢
酸、スルホサリチル酸ホウフツ化リチウム、ホウ
フツ化アンモニウム、オニウムホウフツ化水素酸
塩、フミンホウフツ化水素酸塩、フルオロリン酸
塩、オニウムフルオロリン酸塩、オニウムポリフ
ルオロ金属酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸
類、アケニルベンゼンスルホン酸類、フエノール
スルホン酸類、クレゾールスルホン酸類、キシレ
ノールスルホン酸類、ナフタリンスルホン酸類、
アンスラセンスルホン酸類、フエナンスレンスル
ホン酸類、ナフトールスルホン酸類、ハロゲンベ
ンゼンスルホン酸類、ニトロベンゼンスルホン酸
類、アルコキシベンゼンスルホン酸類、ヒドロキ
シベンゼンスルホン酸類、オレフイン酸付加物、
ベンゼンポリスルホン酸、ナフタリンポリスルホ
ン酸等も本発明に適した化合物であり、それらは
単独或いは混合物として用いられる。 以上に示したスルホオキシ基、スルホン基、ス
ルルフイン酸根、スルフエン酸根、スルホン酸
根、ホスフエン酸根、ホスホン酸根、リン酸根、
硫酸根および含フツ素縮合酸根よりなる群から選
ばれた少なくともひとつの酸根を含んでいない酸
性化合物では、本発明者らの実験の結果からすれ
ば本発明の方法に適用したとしても本発明に示す
ごとき予期したような優れた効果を発揮できなか
つたのである(これについては比較例1〜3に示
したごとく、予備試験を行う必要がある)。以上
に示した本発明にいう酸性化合物の使用量として
は、とくに規制されるべきではないが、だいたい
のところインキ中のバインダー100重量部に対し
て20重量部乃至50重量部含まれることが望まし
い。もし、20重量部未満である場合には、エツチ
ング速度が遅くなつたり、変色画緩やかになつた
りして作業上不都合になる。又50重量部を越える
とエツチング時の好ましからざるサイドエツチン
グが発生する可能性があること、並びにインキの
製造、保管が容易でなくなつたり、かつ印刷適性
に支障が生じるようになるからである。 次に本発明にいう変色性インキについて説明す
る。 ここにいう変色性インキとは、PHの変化によつ
て変色する化合物とか不溶化物生成によつて変色
する化合物を着色物質として含むものである。 例えばPHの変化によつて変色する化合物とは、
酸性側で水素イオン濃度の変化を感知検出する試
薬であり、このような試薬の具体例を示すと、メ
チルバイオレツト、メタニルイエロー、メタクレ
ゾールパープル、p−キシレノールブルー、モチ
ールブルートロパエオリン、ベンゾパープリン
4B、キナルジンレツド、メチルイエロー、ブル
ムフエノーブルー、テトラブロムフエノールブル
ー、メチルオレンジ、ブロムクロルフエノールブ
ルー、α−ナフチルレツド、アリザリンスルホン
酸アルカリ、ブルムクレゾールグリーン、メチル
レツド、クロルフエノールレツド、ベンゾイルオ
ーラミンG、ブロムクレゾールパープル、ブロム
フエノールレツド、ブロムチモールブルー等の単
独及びこれらの混合物であつて、ブロムクレゾー
ルパープル0.05%+ブロムチモールブルー0.05%
では、PH6.7において黄〜紫(酸〜アルカリ)に
変色し、又ブロムクレゾールグリーン0.075%+
メチルオレンジ0.05%ではPH4.3において橙〜緑
(酸〜アルカリ)に変色することが知られている。 不溶化物生成によつて変色する化合物とは、透
明導電性膜成分を溶解し、これをインキ中の成分
と結合あるいは吸着せしめて難溶性物を生成する
化合物を指し、具体的に白色沈澱を生じるものと
しては、芳香族カルボン酸またはそのアルカリ
塩、アルキル安息香酸またはその塩、芳香族スル
ホン酸またはそのアルカリ塩、ナフタリンカルボ
ン酸またはその塩、アルキルナフタリンカルボン
酸またはその塩等があり、また有色枕殿を生じる
ものとしてはメルカプタン類、メルカプチド類、
チオフエノール類、含硫アミノ酸あるいはカルボ
キシル基又はスルホオキシ基を含む染料等が挙げ
られる。以上のような酸性物質および変色性化合
物以外のインキ成分としては、本変色性インキに
各種の印刷法に適するごとく汎用のバインダー、
溶剤(有機溶剤あるいは水)、界面活性剤、或い
は消泡剤、添加剤がありインキとして使用可能な
ように加工されている。 また本発明の印刷と称するのはスクリーン印刷
法、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、オフセツ
ト印刷法、凸版印刷法等である。 本発明にいう樹脂基板については、各種の樹脂
シート或いは各種樹脂フイルムが使用できるが、
特にポリエステルフイルムとかポリアミドフイル
ムが印刷上好ましい。 本発明の重金属成分を含む透明導電膜として
は、導電性を有し、また、透明性を有するものが
よく、例えば金、銀、白金、パラジウム、銅等の
金属薄膜、酸化錫、酸化インジウム、酸化アンチ
モン、酸化チタン、酸化ジルコニウム或いは酸化
インジウム−酸化錫、酸化錫−酸化アンチモン系
との金属酸化物薄膜が挙げられるが、エツチング
加工性、経済性を考慮すると、酸化インジウム、
酸化錫系のものが最も好ましいようである。これ
らの透明導電膜の厚さは10Hz〜500Å、抵抗値と
しては電気回路の用途によつて1Ω/□〜104Ω/
□であるが、とくに好ましくは10Ω/□〜
2000Ω/□がよい。 また洗浄方法としては、水とか極性溶剤による
シヤワー洗浄、浴槽中での洗浄、超音波洗浄、マ
イクロ波洗浄等がある。この際、注意すべきこと
は透明導電性回路の透明性を阻害するインキ残渣
を完全に除去するとともに、透明導電性回路表面
を損傷してひいけないということである。こうい
つた観点から工業的にはシヤワー洗浄が好ましい
方法であるが、この場合、水圧は1Kg/m2以上で
あることが望ましく、1Kg/m2如何である場合、
正確なエツチング図柄を得ることが難しくなるよ
うである。また続いて行われる乾燥工程の前に予
めスポンジローラー等を用いて洗浄、水切りを施
すこともよく、かつ乾燥も脱水気流中で効率的に
行われるように配慮すべきである。 本発明者らは、上記した本発明の方法に関し
て、多数の実験を行い、本発明の優秀性を確認し
たのであるが、更に本発明の技術的内容を説明す
るため、以下代表的な例を実施例として示すこと
にする。本発明の方法は単に以下に示された実施
例のみに限定して解釈されるべきではなく、任意
にその実施態様を適宜に実施し得ることは当然で
ある。 実施例 1 二軸延伸されたポリエチレンテレフタレートフ
イルム(厚さ0.1mm、550nm平行光線87%)に、
酸化インジウム:酸化錫=90:10の組成のインジ
ウム・錫酸化物をスパツタリング法により付着さ
せた。スパツタリングは真空度10-3torrにてアル
ゴンガス導入のもとに行い、付着膜厚は約100Å
であつた。次ぎに、アルギン酸ソーダ100gに対
しCF3SO3H30g、ブロムクレゾールグリーン75
mgおよびメチルオレンジ50mgを加え、エタノール
−水等量混合溶剤で希釈して全量を約300gとし、
シルクスクリーンに適するインキをつくつた。こ
のインキを用いて上記薄膜付インキをつくつた。
このインキを用いて上記薄膜付フイルムに線幅
50.0mm、線間1.0mmすなわち51.0mmピツチの長さ
100mmの細線を10本印刷した。1分後にインキの
色が橙色から緑がかつた色に変化した。ついで該
フイルムを水洗し、インキを完全に除去した後乾
燥する。各細線については両端間の表面抵抗が
500Ω/□であり、また各細線間の絶縁は完全で
あつた。 実施例 2〜10 市販のナイロンフイルム(厚さ25μm)、銅を
真空蒸着法により付着させた。付着膜圧は約3000
Åであつた。一方、別表1に示す合成樹脂10gに
対して別表に示す脂肪族カルボニル切含有酸性化
合物4gおよび発色試薬100mgを含む水性変色イ
ンキ150gをつくつた。このインキを用いて上記
ナイロンフイルムの銅面上にグラビア印刷により
線幅1.27mm、線間1.27mmすなわち2.54mmピツチの
長さ50cmの図柄を150本印刷した。5〜20分後に
インキの変色が終了した後該フイルムを水洗しイ
ンキを完全に除去したのち乾燥して、表面抵抗を
測定したところ別表1のような結果が得られた。 実施例11及び比較例1〜3 二軸延伸されたポリエチレテレフタレートフイ
ルム(厚さ50μm)に別表2に示す金属を真空蒸
着法により厚さ500Åで付着させた。 次に高分子量ポリエチレングリコール100g、
別表2に示す酸性化合物40g、水300gおよび別
表2に示す変色試薬50mgを含むインキを塗布して
30分間放置して変色が完全にしたのを確かめて水
洗しインキを完全に除去して乾燥したのち表面抵
抗を測定しエツチング効果を試験したところ別表
2のような結果が得られた。比較例1〜3は蒸着
金属、酸性化合物および変色試薬との組合せが不
適当であつたため、エツチング効果が不良であつ
た。このような予測できないことも起こりうるの
で、充分予備試験によつて、組合わせについて選
定しなければならない。 【表】
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for manufacturing a substrate having a novel transparent conductive circuit, and its purpose is to simplify the manufacturing process compared to conventional etching methods, lift-off methods, etc. The present invention relates to an economically advantageous method of manufacturing a substrate having a transparent conductive circuit of excellent quality. Products according to the present invention include liquid crystal displays, electromic displays, electrophotographic recording bodies, electrophoretic recording bodies, transparent switches, connectors, flexible circuits, antistatic bodies, sheet heating elements, solar cells,
The present invention provides a transparent conductive film that is useful as a material for conductors in various industrial fields including the electrical and electronic industries. The following method is known as a method of manufacturing a substrate having a transparent conductive circuit. That is, metal thin films such as gold, silver, palladium, tin oxide,
A thin film of metal oxide such as indium oxide, antimony oxide, cadmium tin oxide, etc. is formed on the entire surface of a glass substrate, plastic substrate, sheet substrate, or film substrate by vacuum evaporation, sputtering, or printing, and then the necessary conductivity is formed. A masking layer for the circuit is formed on the digital circuit part by photoresist method or screen printing method, and then unnecessary metal thin film pattern part or metal oxide thin film pattern part is removed by wet or dry etching method, and then masking is performed. By removing the layer, a transparent conductive circuit is formed. However, these methods had the following drawbacks. That is, when forming a masking layer with photoresist, coating of photosensitive resin,
Processes such as pattern baking, development, and photoresist removal are required, resulting in poor workability, and when forming a masking layer with resist ink using the screen printing method, production is slow due to the long drying time required. It had problems such as poor performance and the need for a variety of expensive materials, and was also subject to various limitations in terms of equipment and work. As an example of a method for solving this problem, a thickened etching solution described in JP-A-58-113376 is applied directly to the conductive thin film through a silk screen, and then washed with water, etc. A method of etching a desired pattern using a process has been proposed, but in a follow-up experiment conducted by the inventors
With this method, the etching effect after application of the etching solution cannot be fully confirmed or guaranteed from the appearance, or the reliability of adjusting the holding time after application and washing with water is extremely low, and there is a possibility that the etching is not completed. If water washing is performed beforehand, there is a risk that unnecessary parts will be eroded, and it is difficult to ensure reproducibility in actual industrial production. It was recognized that there was a strong tendency to lower the quality of products, and that there were many difficult problems in the product inspection process and work management. On the other hand, in the case of the lift-off method, unnecessary pattern parts on the substrate are printed in advance using, for example, water-soluble ink, and then a thin metal film or a thin metal oxide film is formed on the entire surface of the substrate, and then washed with water. A method has been devised in which a desired transparent conductive circuit can be obtained by removing the water-soluble ink pattern using a method that eliminates the need for an etching process from an industrial perspective. This makes the work considerably easier, but although it is an excellent method for mass production, it tends to pose economical problems when producing a wide variety of products in small quantities. In view of the current situation, the inventors of the present invention have spent many years researching ways to solve the above-mentioned problems of the conventional technology, and as a result of their dedicated efforts, they have formed the desired transparent conductive circuit on a substrate. We have finally completed the present invention as a new and remarkable method for achieving this. In this method, a desired pattern is formed on a transparent conductive film using an aqueous color-changing ink containing an acidic compound and a coloring substance, and then the etching is completed by the ink changing color as the reaction progresses. They discovered that by visually checking the ink, then washing off the ink with water and drying it, it was possible to form transparent conductive circuits with a precision and beauty not seen with conventional methods.Based on this knowledge, they developed various techniques. After investigating the raw material-related conditions and work procedures, the present invention was finally completed. That is, the present invention provides at least one oxidized group selected from the group consisting of a sulfoxy group, a sulfone group, a sulfin group, a sulfenic acid group, a sulfonic acid group, a phosphenic acid group, a phosphonic acid group, a phosphoric acid group, a sulfuric acid group, and a fluorine-containing condensed acid group. A pattern is printed on a transparent conductive film containing a heavy metal component on the surface of a resin substrate using a water-based color-changing ink containing a compound and a coloring substance, and after visually confirming the discoloration of the ink, the pattern portion is washed with water to remove it and dried. The present invention clarifies a method for manufacturing a substrate having a transparent conductive circuit characterized by the following. The present invention will be explained in detail below. Sulfoxy group, sulfone group in the present invention,
sulfinate root, sulfenate root, sulfonate root, phosphenate root, phosphonate root, phosphate root,
The acidic compound containing at least one acid group selected from the group consisting of a sulfate group and a fluorine-containing condensed acid group preferably satisfies the following conditions. That is, those that react quickly with the transparent conductive film and perform accurate etching, those that have good dispersion and solubility to produce gels and precipitates as much as possible when mixed into the ink binder, and those that can be quickly removed by washing. etc. are preferred. Now, specific compounds of such acidic substances include the following. In other words, the molecular formulas of typical compound examples are: CH 3 SOCH 2 COOH, C 6 H 5 SOCH 2 COOH, SO
(CH 2 CH 2 COOH) 2 , C 6 H 5 SO C 6 H 5 COOH,
C 6 H 5 SOC 6 H 4 CH 2 COOH, CH 3 SO 2 C 2 COOH,
C 6 H 5 SO 2 COOH, SO 2 (CH 2 CH 2 COOH) 2 ,
C 6 H 5 SO 2 C 6 H 4 CH 2 COOH, C 6 H 5 SO 2 H, CH 3 ,
CH3C6H4SO2H , C6H5SOH , CH3C6H5SOH , _ _ _
CH3SO3H , CF3SO3H , C6H5SO3H , _
CH3C6H4SO3H , NH2SO3H , C6H5NHSO3H , _ _ _
H 2 SO 3 H, HOC 6 H 4 SO 3 H, (HO) 2 C 6 H 3 SO 3 H,
C 10 H 7 C 10 H 6 SO 3 H, HOC 10 H 6 SO 3 H, C 6 H 4
( SO3H ) 2 , CH3C6H3 ( SO3H ) 2 , HOC6H3
( SO3H ) 2 , ( HO ) 2C6H2SO3H ,
(HO) 2 C 10 H 5 SO 3 H, (HO) 2 C 10 H 4 (SO 3 H) 2 ,
ClC6H4SO3 , NO2C6H4SO3 , Cl2C6H3SO3H , _ _ _ _ _
CF 3 C 6 H 4 SO 3 H, C 6 H 5・C 6 H 4 SO 3 H,
HSO 3 C 6 H 4 C 6 H 4 SO 3 H, CH 2 (C 6 H 4 SO 3 H) 2 ,
CH 2 (HOC 6 H 3 SO 3 H) 2 , CH 3 CH
(HOC 6 H 3 SO 3 H) 2 , (CH 3 ) 2 C (HOC 6 H 3 SO 3 H),
(CH 3 O) 2 P (OH) 2 , (C 2 H 5 ) 2 P (OH) 2 , (C 6 H 5 ) 2 P
(OH) 2 , CH3OP (OH) 2 , C2H5OP ( OH) 2 ,
C6H5OP ( OH ) 2 , CH3PO ( OH ) 2 , C2H5PO2
(OH) 2 , C 6 H 5 PO 2 (OH) 2 , H 3 PO 4 , NaHPO 4 ,
Na2HPO4 , ( NH4 ) H2PO4 , ( NH4 ) 2HPO4 ,
H2SO4 , NaHSO4 , KHSO4 , CH3OSO2OH ,
C2H5OSO2OH , C6H5OCO2OH , HBF4 , HPF6 ,
HSbF 6 , H 3 AlF 6 , H 2 TiF 6 , H 2 ZrF 6 , NaFH 2 ,
KHF 2 , (NH 4 )HF 2 , R 4 NHF 2 , H 3 TiF 7 ,
H 2 SiF 6 or the like alone or in a mixture of two or more. Furthermore, various acidic derivatives and acidic salts based on each of these compounds, such as sulfoacetic acid, lithium sulfosalicylate borofluoride, ammonium borofluoride, onium hydroborofluoride, humic hydroborofluoride, and fluorophosphate. , onium fluorophosphate, onium polyfluorometallate, alkylbenzenesulfonic acids, akenylbenzenesulfonic acids, phenolsulfonic acids, cresolsulfonic acids, xylenolsulfonic acids, naphthalenesulfonic acids,
Anthracenesulfonic acids, phenanthrenesulfonic acids, naphtholsulfonic acids, halogenbenzenesulfonic acids, nitrobenzenesulfonic acids, alkoxybenzenesulfonic acids, hydroxybenzenesulfonic acids, olefinic acid adducts,
Benzene polysulfonic acid, naphthalene polysulfonic acid, and the like are also suitable compounds for the present invention, and they can be used alone or as a mixture. The sulfoxy group, sulfone group, sulfinate group, sulfenate group, sulfonate group, phosphenate group, phosphonate group, phosphate group shown above,
According to the results of experiments conducted by the present inventors, acidic compounds that do not contain at least one acid group selected from the group consisting of sulfuric acid radicals and fluorine-containing condensed acid radicals do not meet the present invention even when applied to the method of the present invention. The expected excellent effects as shown in the figure could not be exhibited (in this regard, it is necessary to conduct preliminary tests as shown in Comparative Examples 1 to 3). The amount of the acidic compound mentioned above in the present invention should not be particularly regulated, but it is generally desirable that it be included in the range of 20 to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the binder in the ink. . If the amount is less than 20 parts by weight, the etching speed will be slow and the discoloration image will become slow, which will be inconvenient for work. If the amount exceeds 50 parts by weight, undesirable side etching may occur during etching, the ink may not be easy to manufacture or store, and printability may be impaired. Next, the color-changing ink according to the present invention will be explained. The term "color-changing ink" as used herein refers to one that contains, as a coloring substance, a compound that changes color due to a change in pH or a compound that changes color due to the formation of an insolubilized substance. For example, compounds that change color due to changes in pH are:
It is a reagent that senses and detects changes in hydrogen ion concentration on the acidic side. Specific examples of such reagents include methyl violet, methanyl yellow, metacresol purple, p-xylenol blue, and motyl blue tropaeolin. , benzopurpurin
4B, quinaldine red, methyl yellow, blum phenol blue, tetrabromo phenol blue, methyl orange, brom chlorophenol blue, α-naphthyl red, alizarin sulfonic acid alkali, blum cresol green, methyl red, chlorphenol red, benzoyl auramine G, Bromcresol purple, bromphenol red, bromthymol blue, etc. alone or a mixture thereof, including bromcresol purple 0.05% + bromthymol blue 0.05%
The color changes to yellow to purple (acid to alkaline) at pH 6.7, and bromcresol green 0.075% +
It is known that 0.05% methyl orange changes color from orange to green (acid to alkaline) at pH 4.3. A compound that changes color due to the formation of an insolubilized substance refers to a compound that dissolves the transparent conductive film component and binds or adsorbs it to the components in the ink to generate a poorly soluble substance, specifically producing a white precipitate. Examples include aromatic carboxylic acids or their alkali salts, alkylbenzoic acids or their salts, aromatic sulfonic acids or their alkali salts, naphthalenecarboxylic acids or their salts, alkylnaphthalenecarboxylic acids or their salts, and colored pillows. Those that cause phlegm include mercaptans, mercaptides,
Examples include thiophenols, sulfur-containing amino acids, and dyes containing carboxyl or sulfoxy groups. Ink components other than the above-mentioned acidic substances and color-changing compounds include general-purpose binders suitable for various printing methods for this color-changing ink,
It contains a solvent (organic solvent or water), a surfactant, an antifoaming agent, and additives, and is processed so that it can be used as an ink. In addition, the printing used in the present invention includes screen printing, gravure printing, flexographic printing, offset printing, letterpress printing, and the like. Regarding the resin substrate referred to in the present invention, various resin sheets or various resin films can be used, but
In particular, polyester film and polyamide film are preferred for printing. The transparent conductive film containing heavy metal components of the present invention preferably has conductivity and transparency, such as metal thin films of gold, silver, platinum, palladium, copper, etc., tin oxide, indium oxide, Thin films of metal oxides include antimony oxide, titanium oxide, zirconium oxide, indium oxide-tin oxide, and tin oxide-antimony oxide, but considering etching processability and economic efficiency, indium oxide,
Those based on tin oxide seem to be the most preferred. The thickness of these transparent conductive films is 10 Hz to 500 Å, and the resistance value is 1 Ω/□ to 10 4 Ω/ depending on the application of the electric circuit.
□, especially preferably 10Ω/□~
2000Ω/□ is good. Further, cleaning methods include shower cleaning using water or a polar solvent, cleaning in a bathtub, ultrasonic cleaning, microwave cleaning, and the like. At this time, care must be taken not only to completely remove ink residues that impede the transparency of the transparent conductive circuit, but also to avoid damaging the surface of the transparent conductive circuit. From this point of view, shower cleaning is an industrially preferred method, but in this case, it is desirable that the water pressure is 1 kg/m 2 or more, and if it is 1 kg/m 2 ,
It seems to be difficult to obtain accurate etched designs. Furthermore, before the subsequent drying step, it is advisable to wash and drain the material using a sponge roller or the like, and care should be taken to ensure that drying is carried out efficiently in a dehydrating air stream. The present inventors conducted a large number of experiments regarding the method of the present invention described above and confirmed the superiority of the present invention.In order to further explain the technical content of the present invention, representative examples are shown below. This will be shown as an example. It goes without saying that the method of the present invention should not be construed solely as being limited to the examples shown below, and that the embodiments thereof can be carried out as appropriate. Example 1 A biaxially stretched polyethylene terephthalate film (thickness 0.1 mm, 550 nm parallel light beam 87%) was
Indium/tin oxide having a composition of indium oxide: tin oxide = 90:10 was deposited by a sputtering method. Sputtering was performed at a vacuum level of 10 -3 torr with argon gas introduced, and the deposited film thickness was approximately 100 Å.
It was hot. Next, for 100g of sodium alginate, add 30g of CF 3 SO 3 H and 75% of bromcresol green.
mg and 50 mg of methyl orange were added, diluted with an equal amount of ethanol-water mixed solvent to make a total amount of about 300 g,
Created an ink suitable for silk screening. Using this ink, the above-mentioned thin film ink was prepared.
This ink is used to print the line width on the thin film mentioned above.
50.0mm, line spacing 1.0mm or 51.0mm pitch length
Ten 100mm thin lines were printed. After one minute, the color of the ink changed from orange to greenish. The film is then washed with water to completely remove the ink and then dried. For each thin wire, the surface resistance between both ends is
The resistance was 500Ω/□, and the insulation between each thin wire was perfect. Examples 2 to 10 Copper was deposited on a commercially available nylon film (thickness: 25 μm) by vacuum evaporation. Adhesive film pressure is approximately 3000
It was Å. On the other hand, 150 g of an aqueous color-changing ink containing 4 g of the aliphatic carbonyl cleavage-containing acidic compound shown in the attached table and 100 mg of the coloring reagent was prepared for 10 g of the synthetic resin shown in the attached table 1. Using this ink, 150 designs with a line width of 1.27 mm, a line spacing of 1.27 mm, or a pitch of 2.54 mm and a length of 50 cm were printed on the copper surface of the nylon film by gravure printing. After 5 to 20 minutes, the color change of the ink was completed, and the film was washed with water to completely remove the ink, and then dried.The surface resistance was measured, and the results shown in Attached Table 1 were obtained. Example 11 and Comparative Examples 1 to 3 Metals shown in Attached Table 2 were deposited to a thickness of 500 Å on a biaxially stretched polyethylene terephthalate film (thickness: 50 μm) by vacuum deposition. Next, 100g of high molecular weight polyethylene glycol,
Apply an ink containing 40g of the acidic compound shown in Attached Table 2, 300g of water, and 50mg of the color-changing reagent shown in Attached Table 2.
After leaving it for 30 minutes and confirming that the discoloration was complete, it was washed with water to completely remove the ink, dried, and then the surface resistance was measured to test the etching effect, and the results shown in Attached Table 2 were obtained. In Comparative Examples 1 to 3, the etching effect was poor because the combination of the deposited metal, the acidic compound, and the color-changing reagent was inappropriate. Since such unpredictable events may occur, combinations must be selected through sufficient preliminary testing. 【table】

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 スルホオキシ基、スルホン基、スルフイン酸
根、スルフエン酸根、スルホン酸根、ホスフエン
酸根、ホスホン酸根、リン酸根、硫酸根および含
フツ素縮合酸根よりなる群から選ばれた少なくと
もひとつの酸根を含む酸性物質および着色物質を
含有する水性の変色性インキを用いて樹脂基板面
の重金属成分を含む透明導電膜上に図柄を印刷し
インキの変色を視認した後図柄部分を水で洗浄除
去して乾燥することを特徴とする透明導電性回路
を有する基板の製造法。
1. An acidic substance containing at least one acid group selected from the group consisting of a sulfoxy group, a sulfone group, a sulfinate group, a sulfenic acid group, a sulfonic acid group, a phosphenic acid group, a phosphonic acid group, a phosphate group, a sulfuric acid group, and a fluorine-containing condensed acid group, and a coloring. A pattern is printed on a transparent conductive film containing a heavy metal component on the surface of a resin substrate using a water-based color-changing ink containing a substance, and after the discoloration of the ink is visually confirmed, the pattern is removed by washing with water and dried. A method for manufacturing a substrate having a transparent conductive circuit.
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JPS56108234A (en) * 1980-01-31 1981-08-27 Fujitsu Ltd Etching treatment method
JPS58199868A (en) * 1982-05-18 1983-11-21 Sanyo Electric Co Ltd Detection of end of etching

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