JPH058342B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH058342B2 JPH058342B2 JP61152906A JP15290686A JPH058342B2 JP H058342 B2 JPH058342 B2 JP H058342B2 JP 61152906 A JP61152906 A JP 61152906A JP 15290686 A JP15290686 A JP 15290686A JP H058342 B2 JPH058342 B2 JP H058342B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vibration
- foundation
- air
- room
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- Expired - Lifetime
Links
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 2
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
- F24F—AIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
- F24F3/00—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems
- F24F3/12—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling
- F24F3/16—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling by purification, e.g. by filtering; by sterilisation; by ozonisation
- F24F3/167—Clean rooms, i.e. enclosed spaces in which a uniform flow of filtered air is distributed
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Ventilation (AREA)
- Vibration Prevention Devices (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は防振基礎構造に係り、特に半導体製造
工場等のクリーンルームに備えられる防振基礎構
造に関する。
工場等のクリーンルームに備えられる防振基礎構
造に関する。
半導体製造は無塵環境を必要とするため、その
製造は通常クリーンルーム内で行われる。一般
に、クリーンルームは、天井面に取付けられた複
数のHEPA（高性能）フイルタを通して清浄エア
をクリーンルーム室内に吹き出し、又室内のエア
を通気構造を有するグレーチング床面から吸い込
んで再び天井面のHEPAフイルタを通すエア循
環方式を採用され、清浄エアが室内に於いてダウ
ンフローされる。
製造は通常クリーンルーム内で行われる。一般
に、クリーンルームは、天井面に取付けられた複
数のHEPA（高性能）フイルタを通して清浄エア
をクリーンルーム室内に吹き出し、又室内のエア
を通気構造を有するグレーチング床面から吸い込
んで再び天井面のHEPAフイルタを通すエア循
環方式を採用され、清浄エアが室内に於いてダウ
ンフローされる。
又クリーンルーム等においては各種の半導体製
造装置が設置され、この半導体製造装置の中には
高微細化によるLSIプロセスにおけるアライナ、
EB及びステツパー等のように極端に振動を嫌う
装置がある。従つてこのような振動を嫌う半導体
製造装置においては防振基礎構造上に設置する必
要がある。
造装置が設置され、この半導体製造装置の中には
高微細化によるLSIプロセスにおけるアライナ、
EB及びステツパー等のように極端に振動を嫌う
装置がある。従つてこのような振動を嫌う半導体
製造装置においては防振基礎構造上に設置する必
要がある。
ところで、このように防振基礎を設置した床面
部分には、通気構造になつているグレーチングを
施すことができない。このため、層流化された清
浄エアの気流が防振基礎の上方及び、その周辺で
乱れ、エアの滞留域となる不具合がある。
部分には、通気構造になつているグレーチングを
施すことができない。このため、層流化された清
浄エアの気流が防振基礎の上方及び、その周辺で
乱れ、エアの滞留域となる不具合がある。
本発明はこのような事情に鑑みて成されたもの
で、クリーンルーム内で清浄エアの気流が防振基
礎の設置によつて乱れることがない防振基礎構造
を提供することを目的としている。
で、クリーンルーム内で清浄エアの気流が防振基
礎の設置によつて乱れることがない防振基礎構造
を提供することを目的としている。
本発明は前記目的を達成するために、基礎床
と、基礎床の上方に敷設される床面との間に床下
チヤンバを形成し、天井面から吹き出されたエア
を床下チヤンバ内に吸気し、エアのダウンフロー
を生じさせる室内に備えられる防振基礎に於い
て、前記防振基礎を基礎床に設置して防振基礎の
上面を前記室内に配置し、防振基礎の上面に前記
チヤンバと連通する複数の透孔を形成し、透孔か
ら室内エアを通気することを特徴とする。
と、基礎床の上方に敷設される床面との間に床下
チヤンバを形成し、天井面から吹き出されたエア
を床下チヤンバ内に吸気し、エアのダウンフロー
を生じさせる室内に備えられる防振基礎に於い
て、前記防振基礎を基礎床に設置して防振基礎の
上面を前記室内に配置し、防振基礎の上面に前記
チヤンバと連通する複数の透孔を形成し、透孔か
ら室内エアを通気することを特徴とする。
以下添付図面に従つて本発明に係る防振基礎構
造の好ましい実施例を詳説する。第１図は本発明
に係る防振基礎構造が設けられたクリーンルーム
の断面図である。第１図に示すようにクリーンル
ーム１０の天井室１２は、右側面に導入口１４が
設けられ、循環エアはこの導入口１４を通つて天
井室１２に供給される。又、天井室１２には、複
数のHEPAフイルタ１６…が配置され、天井室
１２のエアは、HEPAフイルタ１６を通つて室
内２０に送られる。
造の好ましい実施例を詳説する。第１図は本発明
に係る防振基礎構造が設けられたクリーンルーム
の断面図である。第１図に示すようにクリーンル
ーム１０の天井室１２は、右側面に導入口１４が
設けられ、循環エアはこの導入口１４を通つて天
井室１２に供給される。又、天井室１２には、複
数のHEPAフイルタ１６…が配置され、天井室
１２のエアは、HEPAフイルタ１６を通つて室
内２０に送られる。
又、基礎床２８には複数の支柱３０，３０…が
立設され、これ等の支柱３０によつて床面用グレ
ーチング３２が敷設され、室内２０のエアは、こ
のグレーチング３２を通つて床下チヤンバ３４に
吸い込まれる。チヤンバ３４の右側面には吸気口
３６が設けられ、吸気口３６は吸気ダクト３８を
介して空気調和機４０に外気導入ダクト４２と共
に接続され、この空気調和機４０でミキシングさ
れた空調空気は送風機４４により、送気ダクト４
６を介して天井室１２に再び供給される。
立設され、これ等の支柱３０によつて床面用グレ
ーチング３２が敷設され、室内２０のエアは、こ
のグレーチング３２を通つて床下チヤンバ３４に
吸い込まれる。チヤンバ３４の右側面には吸気口
３６が設けられ、吸気口３６は吸気ダクト３８を
介して空気調和機４０に外気導入ダクト４２と共
に接続され、この空気調和機４０でミキシングさ
れた空調空気は送風機４４により、送気ダクト４
６を介して天井室１２に再び供給される。
チヤンバ３４には防振基礎５０が設けられ、防
振基礎５０上には極端に振動を嫌うステツパー装
置５２が設けられる。第２図及び第３図に示すよ
うに防振基礎５０は装置５２が載置される矩形状
の架台５４と、架台を支持する支柱５６…とから
成る。架台５４には上面から下面に貫通される複
数の透孔５８…が形成される。支柱５６は基礎床
２８の一部を立設させて形成される。
振基礎５０上には極端に振動を嫌うステツパー装
置５２が設けられる。第２図及び第３図に示すよ
うに防振基礎５０は装置５２が載置される矩形状
の架台５４と、架台を支持する支柱５６…とから
成る。架台５４には上面から下面に貫通される複
数の透孔５８…が形成される。支柱５６は基礎床
２８の一部を立設させて形成される。
前記の如く構成された本発明に係る防振基礎構
造によれば、天井室１２の高性能フイルタ１６を
通つて清浄エアが室内に２０に吹き出される。清
浄エアは下降流となつて床面のグレーチング３２
を通り、床下チヤンバ３４内に吸い込まれる。こ
れにより室内２０は清浄エアの一定のダウンフロ
ーが生じる。この場合に於いて、防振基礎５０の
架台５４が設けられた上方のエアは、透孔１８を
通つ床下チヤンバ３４内に吸い込まれる。これに
より室内の層流化された清浄エアの気流は従来の
ように防振基礎５０の上方及びその周辺で乱れる
虞が少なく、装置５２の設置部分を除いて略一定
のダウンフローが得られ、エアの滞留域を生じる
虞がない。
造によれば、天井室１２の高性能フイルタ１６を
通つて清浄エアが室内に２０に吹き出される。清
浄エアは下降流となつて床面のグレーチング３２
を通り、床下チヤンバ３４内に吸い込まれる。こ
れにより室内２０は清浄エアの一定のダウンフロ
ーが生じる。この場合に於いて、防振基礎５０の
架台５４が設けられた上方のエアは、透孔１８を
通つ床下チヤンバ３４内に吸い込まれる。これに
より室内の層流化された清浄エアの気流は従来の
ように防振基礎５０の上方及びその周辺で乱れる
虞が少なく、装置５２の設置部分を除いて略一定
のダウンフローが得られ、エアの滞留域を生じる
虞がない。
第４図は、防振基礎構造の第２実施例を示す断
面図である。第４図に示すように防振基礎７０は
コンクリート基礎床２８の一部が高台にして形成
され、防振基礎７０の内部は中空部７２が形成さ
れる。中空部７２と上面７０Ａとの間には複数の
透孔７４が設けられる。又中空部７２は連通孔７
６を介して送風機７８と連通され、中空部７２内
のエアは強制的に送風機７８によつてチヤンバ３
４内に排出されている。
面図である。第４図に示すように防振基礎７０は
コンクリート基礎床２８の一部が高台にして形成
され、防振基礎７０の内部は中空部７２が形成さ
れる。中空部７２と上面７０Ａとの間には複数の
透孔７４が設けられる。又中空部７２は連通孔７
６を介して送風機７８と連通され、中空部７２内
のエアは強制的に送風機７８によつてチヤンバ３
４内に排出されている。
前記の如く構成された本発明に係る防振基礎構
造によれば、防振基礎７０の上方の清浄エアは透
孔７４より強制的に吸引されることとなり、室内
２０の清浄エアの気流は防振基礎７０上において
も略均一なダウンフローとなる。
造によれば、防振基礎７０の上方の清浄エアは透
孔７４より強制的に吸引されることとなり、室内
２０の清浄エアの気流は防振基礎７０上において
も略均一なダウンフローとなる。
以上説明したように本発明に係る防振基礎構造
によれば、エアのダウンフローが行われる室内に
設けられる防振基礎の上面に透孔を形成し透孔を
介して室内のエアを吸い込むようにしたので、室
内のエアの気流が防振基礎の設置によつて乱され
る虞れがない。
によれば、エアのダウンフローが行われる室内に
設けられる防振基礎の上面に透孔を形成し透孔を
介して室内のエアを吸い込むようにしたので、室
内のエアの気流が防振基礎の設置によつて乱され
る虞れがない。
第１図は本発明に係る防振基礎構造が設けられ
たクリーンルームの断面図、第２図は本発明に係
る防振基礎構造の断面図、第３図は本発明に係る
防振基礎構造の上面図、第４図は本発明に係る防
振基礎構造の第２実施例を示した断面図である。 １０……クリーンルーム、１６……HEPAフ
イルタ、２０……クリーンルーム室内、５０……
防振基礎、５２……ステツパー装置、５４……架
台、５６……支柱、５８……透孔。
たクリーンルームの断面図、第２図は本発明に係
る防振基礎構造の断面図、第３図は本発明に係る
防振基礎構造の上面図、第４図は本発明に係る防
振基礎構造の第２実施例を示した断面図である。 １０……クリーンルーム、１６……HEPAフ
イルタ、２０……クリーンルーム室内、５０……
防振基礎、５２……ステツパー装置、５４……架
台、５６……支柱、５８……透孔。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 基礎床と、基礎床の上方に敷設されるグレー
チング床との間に床下チヤンバを形成し、天井面
から吹き出されたエアをグレーチング床を介して
床下チヤンバ内に吸気し、エアのダウンフローを
生じさせる室内に備えられる防振基礎構造に於い
て、前記防振基礎構造は、基礎床の一部から立設
された支柱と、支柱によつて支持されグレーチン
グ床と分離して前記室内に配置した架台と、から
成り、前記架台には室内と前記床下チヤンバと連
通する複数の透孔を形成し、透孔から室内エアを
通気することを特徴とする防振基礎構造。 ２ 前記架台の内部を中空部に形成し、該中空部
を前記透孔を介して室内と連通させると共に、中
空部内のエアを吸引して床下チヤンバに排気する
吸気フアンを設けることを特徴とする特許請求の
範囲第１項記載の防振基礎構造。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61152906A JPS6314025A (ja) | 1986-06-30 | 1986-06-30 | 防振基礎構造 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61152906A JPS6314025A (ja) | 1986-06-30 | 1986-06-30 | 防振基礎構造 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6314025A JPS6314025A (ja) | 1988-01-21 |
| JPH058342B2 true JPH058342B2 (ja) | 1993-02-01 |
Family
ID=15550722
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61152906A Granted JPS6314025A (ja) | 1986-06-30 | 1986-06-30 | 防振基礎構造 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6314025A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0746870Y2 (ja) * | 1990-03-29 | 1995-10-25 | 三機工業株式会社 | クリーンルームにおける精密機器支持構造 |
-
1986
- 1986-06-30 JP JP61152906A patent/JPS6314025A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6314025A (ja) | 1988-01-21 |
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