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JPH0584221B2 - - Google Patents
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JPH0584221B2 - - Google Patents

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JPH0584221B2
JPH0584221B2 JP25011285A JP25011285A JPH0584221B2 JP H0584221 B2 JPH0584221 B2 JP H0584221B2 JP 25011285 A JP25011285 A JP 25011285A JP 25011285 A JP25011285 A JP 25011285A JP H0584221 B2 JPH0584221 B2 JP H0584221B2
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JP
Japan
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layer
substrate
electrode
glass layer
heat generating
Prior art date
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JP25011285A
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Japanese (ja)
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Inventor
Kenji Fujino
Takashi Kawai
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Yokogawa Electric Corp
Original Assignee
Yokogawa Electric Corp
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Publication date
Application filed by Yokogawa Electric Corp filed Critical Yokogawa Electric Corp
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/315Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material
    • B41J2/32Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material using thermal heads
    • B41J2/345Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material using thermal heads characterised by the arrangement of resistors or conductors

Landscapes

  • Electronic Switches (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、基板の端面方向に発熱抵抗体を形成
するようにしたサーマルヘツドに関するものであ
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a thermal head in which a heating resistor is formed in the direction of the end surface of a substrate.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、基板の端部に発熱抵抗体を形成したサー
マルヘツドとしては、本願出願人が特願昭59−
213116号としてすでに出願している装置がある。
第4図はこのサーマルヘツドの概要を示す構成図
である。図に示すサーマルヘツドは、基板1の一
方の面に、第1の電極層2、電気絶縁層および熱
抵抗層となるガラス層3、第2の電極層4、およ
び保護ガラス層5を逐次積層形成するとともに、
基板1を含む各層を直線状に切断して、各電極層
2,4の露出した端面に発熱抵抗体層6を形成す
るようにしたものである。また、発熱抵抗体層6
は選択電極を構成する第1の電極層2の形状に合
わせて、複数に分離されている。
Conventionally, as a thermal head in which a heating resistor is formed at the edge of a substrate, the applicant of the present application has disclosed a patent application filed in 1983-
There is a device that has already been filed as No. 213116.
FIG. 4 is a block diagram showing an outline of this thermal head. The thermal head shown in the figure has a first electrode layer 2, a glass layer 3 serving as an electrical insulating layer and a heat resistance layer, a second electrode layer 4, and a protective glass layer 5 successively laminated on one surface of a substrate 1. Along with forming;
Each layer including the substrate 1 is cut in a straight line, and a heating resistor layer 6 is formed on the exposed end surface of each electrode layer 2, 4. In addition, the heating resistor layer 6
are separated into a plurality of parts according to the shape of the first electrode layer 2 constituting the selection electrode.

このように形成されたサーマルヘツドにおいて
は、発熱抵抗体層6(発熱部)が記録紙等に確実
に接触するので、熱効率の良いサーマルヘツドを
得ることができる。また、基板1の端部は平面部
に比べて平坦に加工することが容易であるので、
複数の発熱部を記録紙等に均等に接触させること
ができ、高い印字品質を得ることができる。さら
に、発熱抵抗体層6における発熱部の長さは電極
層間に形成するガラス層3の厚さより決定される
ので、この厚さを調節することにより発熱部の長
さを自由に制御して、基板1の強度などに影響を
与えることなく、高分解能のサーマルヘツドを実
現することができる。
In the thermal head formed in this manner, the heat generating resistor layer 6 (heat generating portion) comes into reliable contact with the recording paper, etc., so that a thermal head with good thermal efficiency can be obtained. In addition, since the edges of the substrate 1 are easier to process to be flat than the flat parts,
A plurality of heat generating parts can be brought into even contact with recording paper, etc., and high printing quality can be obtained. Furthermore, since the length of the heat generating part in the heat generating resistor layer 6 is determined by the thickness of the glass layer 3 formed between the electrode layers, the length of the heat generating part can be freely controlled by adjusting this thickness. A high-resolution thermal head can be realized without affecting the strength of the substrate 1.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

しかしながら、このようなサーマルヘツドにお
いては、第1および第2の電極層2,4の間に形
成するガラス層3として、1200℃以上の温度で焼
成される高融点のガラスが使用されている。この
ため、このガラス層3の下に形成される第1の電
極層2には、融点の低い金属材料を使用すること
ができず、一般的な金(Au)、銀(Ag)、銅
(Cu)、アルミニウム(Al)などは使用できなく
なつてしまう。
However, in such a thermal head, as the glass layer 3 formed between the first and second electrode layers 2 and 4, a high melting point glass fired at a temperature of 1200° C. or higher is used. For this reason, it is not possible to use metal materials with low melting points for the first electrode layer 2 formed under the glass layer 3, and common gold (Au), silver (Ag), copper ( Cu), aluminum (Al), etc. can no longer be used.

本発明は、上記のような従来装置の欠点をなく
し、発熱部をガラス層の上に形成して、発熱特性
を良くすることができるとともに、電極材料に高
融点の材料を必要としないサーマルヘツドを簡単
な構成により実現することを目的としたものであ
る。
The present invention eliminates the above-mentioned drawbacks of the conventional device, improves the heat generation characteristics by forming the heat generating part on the glass layer, and provides a thermal head that does not require a high melting point material for the electrode material. The purpose is to realize this with a simple configuration.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明のサーマルヘツドは、基板部分の両面に
ガラス層が焼成されるとともに基板部分の板厚が
このガラス層の厚みに比べて同等かそれ以下に形
成されたグレイズド基板の両面に第1および第2
の電極層を設け、前記各層を含む基板端面の切断
または研磨によりこの第1および第2の電極層が
露出した端面に発熱抵抗体層を形成するととも
に、この発熱抵抗体層のうちで少なくとも前記ガ
ラス層の上に位置する発熱抵抗体層部分を前記第
1または第2の電極層の電極数に応じて複数に分
離するようにしたものである。
The thermal head of the present invention has first and second glass layers on both sides of a glazed substrate, in which a glass layer is fired on both sides of the substrate part, and the thickness of the substrate part is equal to or less than the thickness of the glass layer. 2
A heat generating resistor layer is formed on the end face where the first and second electrode layers are exposed by cutting or polishing the end face of the substrate including the respective layers, and at least the above electrode layer is formed in the heat generating resistor layer. The heating resistor layer portion located on the glass layer is divided into a plurality of parts depending on the number of electrodes of the first or second electrode layer.

〔作用〕[Effect]

このように、グレイズド基板の端面に発熱抵抗
体層を形成し、これを分離して複数の発熱部を形
成するようにすると、簡単な工程により発熱部を
ガラス層の上だけに形成することができ、サーマ
ルヘツドの発熱特性を良くすることができる。ま
た、発熱抵抗体層の下地は、ほとんどがガラス層
であるが、ガラス層の中間には熱伝導率の高い基
板部分が挟まれているので、発熱部分の温度分布
を均一化して、高い印字品質を得ることができ
る。さらに、第1および第2の電極層は、すでに
焼成されたガラス層の上に形成されるので、その
形成後に高温にさらされることがなく、比較的融
点の低い、一般の金属材料を使用することができ
る。
In this way, by forming a heat generating resistor layer on the end face of the glazed substrate and separating it to form multiple heat generating parts, it is possible to form the heat generating parts only on the glass layer through a simple process. It is possible to improve the heat generation characteristics of the thermal head. In addition, the base of the heating resistor layer is mostly a glass layer, but since a substrate with high thermal conductivity is sandwiched between the glass layers, the temperature distribution of the heating part is made uniform, resulting in high printing quality. You can get quality. Furthermore, since the first and second electrode layers are formed on the glass layer that has already been fired, they are not exposed to high temperatures after their formation, and use common metal materials with relatively low melting points. be able to.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明のサーマルヘツドを図面を使用し
て説明する。図において、前記第4図と同様のも
のは同一符号を付して示す。
Hereinafter, the thermal head of the present invention will be explained using the drawings. In the figure, the same parts as in FIG. 4 are designated by the same reference numerals.

第1図は本発明のサーマルヘツドの一実施例を
示す構成図である。図において、10は例えばア
ルミナなどよりなる基板部分11の両面にガラス
層12が焼成されたグレイズド基板である。な
お、グレイズド基板10における基板部分11
は、例えば液体状の原料を平面上に薄く延ばし、
これを乾燥、焼結する如き製法により、薄く形成
されたもので、その板厚がガラス層12の厚み
(50μm〜200μm)に比べて、同等かそれ以下
(30μm〜200μm)に形成されたものである。
FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of the thermal head of the present invention. In the figure, 10 is a glazed substrate in which glass layers 12 are baked on both sides of a substrate portion 11 made of, for example, alumina. Note that the substrate portion 11 in the glazed substrate 10
For example, by spreading a liquid raw material thinly on a flat surface,
This is formed thinly by a manufacturing method such as drying and sintering, and the plate thickness is equal to or less than the thickness of the glass layer 12 (50 μm to 200 μm) (30 μm to 200 μm). It is.

まず、グレイズド基板10において、一方の面
には、例えば選択電極となる第1の電極層2が形
成され、他方の面には、例えば共通電極となる第
2の電極層4が形成される。この第1および第2
の電極層2,4は、金、銀パラジウム、白金、銅
などの厚膜導電ペーストを印刷、焼成するととも
に、任意のパターンにエツチングしたものであ
る。なお、エツチングにより微細パターンの加工
を行なうのは、10本/mm以上の電極密度を得る場
合であり、比較的低密度の場合には、印刷により
所望の電極パターンを直接形成することも可能で
ある。また、第1および第2の電極層2,4の膜
厚は、一般的に3〜5μm程度である。
First, in the glazed substrate 10, a first electrode layer 2 serving as a selection electrode, for example, is formed on one surface, and a second electrode layer 4 serving as a common electrode, for example, is formed on the other surface. This first and second
The electrode layers 2 and 4 are made by printing and firing a thick film conductive paste of gold, silver palladium, platinum, copper, etc., and etching it into an arbitrary pattern. Note that fine patterns are processed by etching when obtaining an electrode density of 10 lines/mm or more; if the density is relatively low, it is also possible to directly form the desired electrode pattern by printing. be. Further, the film thickness of the first and second electrode layers 2 and 4 is generally about 3 to 5 μm.

第1および第2の電極層2,4の上には、これ
らの電極層2,4を保護するために、リード取出
し部を除いて保護ガラス層5が印刷、焼成され
る。この保護ガラス層5には、例えば厚膜結晶化
ガラスが使用され、その融点は比較的低いもので
ある。保護ガラス層5は次に示す基板端部の切断
の際に第1および第2の電極層2,4のはがれ等
を防止するためのものである。また、この保護ガ
ラス層5には、耐摩耗性や熱伝導性などを考慮し
て、例えば酸化アルミニウム(Al2O8)の粉末を
添加することも有効である。
A protective glass layer 5 is printed and fired on the first and second electrode layers 2, 4, except for the lead extraction portions, in order to protect these electrode layers 2, 4. For example, thick film crystallized glass is used for this protective glass layer 5, and its melting point is relatively low. The protective glass layer 5 is used to prevent the first and second electrode layers 2 and 4 from peeling off during cutting of the edge of the substrate as described below. Furthermore, it is also effective to add, for example, aluminum oxide (Al 2 O 8 ) powder to the protective glass layer 5 in consideration of wear resistance, thermal conductivity, and the like.

次に、上記のようにして第1および第2の電極
層2,4が被着されたグレイズド基板10は、端
部が切断され、発熱抵抗体層6を被着すべき端面
が形成される。第2図はその端面の状態を示すも
のである。図に示されるように、端面には第1お
よび第2の電極層2,4が露出するようになる。
なお、切断後の端面の表面粗度が所定の基準より
低い場合には、研磨加工や研削加工を行ない、表
面を平らに仕上げする。
Next, the ends of the glazed substrate 10 to which the first and second electrode layers 2 and 4 are attached as described above are cut to form an end surface to which the heating resistor layer 6 is to be attached. . FIG. 2 shows the state of the end face. As shown in the figure, the first and second electrode layers 2 and 4 are exposed on the end face.
Note that if the surface roughness of the end face after cutting is lower than a predetermined standard, polishing or grinding is performed to finish the surface flat.

このように形成された端面には、窒化タンタル
(Ta2N)、ニクロム(Ni−Cr)などの抵抗材料が
スパツタまたは蒸着により被着され、発熱抵抗体
層6が形成される。この場合の発熱抵抗体層6の
膜厚は、その抵抗値との関連で決定されるもので
あるが、概略0.1μm程度である。
A resistive material such as tantalum nitride (Ta 2 N) or nichrome (Ni-Cr) is deposited on the end face thus formed by sputtering or vapor deposition to form the heating resistor layer 6. The thickness of the heating resistor layer 6 in this case is determined in relation to its resistance value, and is approximately 0.1 μm.

さて、上記のように、グレイズド基板10の端
面に発熱抵抗体層6が形成された後は、この発熱
抵抗体層6が第1の電極層2の形成(電極数)に
対応するように、複数の発熱部に分離される。こ
の分離には、レーザカツトやフオトリソグラフな
どが利用される。
Now, as described above, after the heat generating resistor layer 6 is formed on the end surface of the glazed substrate 10, the heat generating resistor layer 6 is formed so as to correspond to the formation (number of electrodes) of the first electrode layer 2. Separated into multiple heat generating parts. Laser cutting, photolithography, etc. are used for this separation.

第3図はこのようにして形成された発熱部の状
態を示す断面図である。図に示されるように、発
熱抵抗体層6は基板部分11およびガラス層12
にまたがつて形成されることになる。ここで、基
板部分11の熱伝導率はガラス層12に比べて10
倍程度大きいので、発熱抵抗体層6の表面におけ
る温度分布は、中央部分(基板部分11)の温度
が下がり、図中の上部に示すように、本来なら破
線のようになる分布が改善されて、より均一に近
い分布となる。したがつて、温度分布の均一な複
数の発熱部を、簡単な工程により、グレイズド基
板10の端面に形成することができる。この時、
基板部分11の板厚があまり厚いと、中央部分の
温度が下がり過ぎ、温度分布が均一ではなくなつ
てしまうので、基板部分11の板厚はガラス層1
2の厚みに比べて同等かそれ以下が望ましい。な
お、図中、7は保護および耐摩耗層であり、酸化
ケイ素(SiO2)、五酸化タンタル(Ta2O5)、窒化
ホウ素(BN)、炭化ケイ素(SiC)などの絶縁層
がスパツタまたは蒸着されたものである。また、
熱伝導性を考慮すれば、酸化ケイ素などで絶縁し
た後、分散メツキにより耐摩耗金属層を被着して
もよい。この場合、金属膜には主にニツケルが使
用され、分散剤として酸化アルミニウム、窒化ホ
ウ素、ダイヤモンドなどを添加することにより、
熱伝導性ならびに耐摩耗性を向上させることがで
きる。
FIG. 3 is a sectional view showing the state of the heat generating section formed in this manner. As shown in the figure, the heating resistor layer 6 includes a substrate portion 11 and a glass layer 12.
It will be formed across the Here, the thermal conductivity of the substrate portion 11 is 10 compared to that of the glass layer 12.
Since the temperature distribution on the surface of the heating resistor layer 6 is about twice as large, the temperature at the center portion (substrate portion 11) is lowered, and as shown in the upper part of the figure, the distribution that would normally look like a broken line is improved. , the distribution becomes more uniform. Therefore, a plurality of heat generating parts with uniform temperature distribution can be formed on the end surface of the glazed substrate 10 through a simple process. At this time,
If the thickness of the substrate portion 11 is too thick, the temperature in the central portion will drop too much and the temperature distribution will not be uniform.
It is desirable that the thickness be equal to or less than the thickness of 2. In addition, in the figure, 7 is a protective and wear-resistant layer, and insulating layers such as silicon oxide (SiO 2 ), tantalum pentoxide (Ta 2 O 5 ), boron nitride (BN), and silicon carbide (SiC) are sputtered or It is vapor deposited. Also,
If thermal conductivity is considered, a wear-resistant metal layer may be applied by dispersion plating after insulating with silicon oxide or the like. In this case, nickel is mainly used for the metal film, and by adding aluminum oxide, boron nitride, diamond, etc. as a dispersant,
Thermal conductivity and wear resistance can be improved.

上記のような工程により本発明のサーマルヘツ
ドが形成されるが、このようなサーマルヘツドに
おいては、発熱抵抗体層6の発熱部が基板部分1
1を含むガラス層12の上に位置するので、適度
な保温性および均一な温度分布が得られ、良好な
発熱特性を得ることができる。また、第1および
第2の電極層2,4は、すでに焼成されたガラス
層12の上に形成されるので、その形成後に高温
にさらされることがなく、電極材料として比較的
融点の低い、一般の金属材料を使用することがで
きる。さらに、薄く形成された基板部分11の両
面にガラス層12を設けているので、ガラス層1
2の伸縮による基板部分11のたわみを打ち消
し、グレイズド基板10のそりを軽減することが
できる。
The thermal head of the present invention is formed through the steps described above, and in such a thermal head, the heat generating portion of the heat generating resistor layer 6 is connected to the substrate portion 1.
1, it is possible to obtain appropriate heat retention and uniform temperature distribution, and to obtain good heat generation characteristics. In addition, since the first and second electrode layers 2 and 4 are formed on the glass layer 12 that has already been fired, they are not exposed to high temperatures after their formation, and the electrode materials have a relatively low melting point. Common metal materials can be used. Furthermore, since the glass layer 12 is provided on both sides of the thin substrate portion 11, the glass layer 12
The deflection of the substrate portion 11 due to the expansion and contraction of the substrate 2 can be canceled out, and the warpage of the glazed substrate 10 can be reduced.

なお、上記の説明においては、発熱抵抗体層6
が形成されたグレイズド基板10をそのままの状
態で使用する場合を例示したが、グレイズド基板
10の片側または両側の側面に、アルミ板または
セラミツクス板などよりなる補強板を接合する
と、薄く形成されたグレイズド基板10(基板部
分11)の機械的な強度を補うとともに、基板の
そりを修正することができる。
In addition, in the above description, the heating resistor layer 6
The case where the glazed substrate 10 on which the glazed substrate 10 is formed is used as is is illustrated, but if a reinforcing plate made of an aluminum plate or a ceramic plate is bonded to one or both side surfaces of the glazed substrate 10, a thin glazed It is possible to supplement the mechanical strength of the substrate 10 (substrate portion 11) and correct warpage of the substrate.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように、本発明のサーマルヘツド
では、基板部分の両面にガラス層が焼成されると
ともに基板部分の板厚がこのガラス層に厚みに比
べて同等かそれ以下に形成されたグレイズド基板
の両面に第1および第2の電極層を設け、前記各
層を含む基板端面の切断または研磨によりこの第
1および第2の電極層が露出した端面に発熱抵抗
体層を形成するとともに、この発熱抵抗体層を前
記第1または第2の電極層の電極数に応じて複数
に分離するようにしているので、簡単な工程によ
り発熱部をガラス層の上だけに形成することがで
き、発熱特性の良いサーマルヘツドを得ることが
できる。また、第1および第2の電極層は、すで
に焼成されたガラス層の上に形成されるので、そ
の形成後に高温にさらされることがなく、電極材
料として、比較的融点の低い金属材料を使用する
ことができる。
As explained above, in the thermal head of the present invention, a glass layer is fired on both sides of the substrate part, and a glazed substrate is formed in which the thickness of the substrate part is equal to or less than that of the glass layer. First and second electrode layers are provided on both surfaces, and a heat generating resistor layer is formed on the end face where the first and second electrode layers are exposed by cutting or polishing the end face of the substrate including each layer, and the heat generating resistor layer is formed on the end face where the first and second electrode layers are exposed. Since the body layer is separated into a plurality of parts according to the number of electrodes in the first or second electrode layer, the heat generating part can be formed only on the glass layer through a simple process, and the heat generating characteristics can be improved. You can get a good thermal head. In addition, since the first and second electrode layers are formed on the already fired glass layer, they are not exposed to high temperatures after they are formed, and metal materials with relatively low melting points are used as electrode materials. can do.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図〜第3図は本発明のサーマルヘツドの一
実施例を示す構成図、第4図は従来のサーマルヘ
ツドの一例を示す構成図である。 1……基板、2,4……電極層、3……ガラス
層、5……保護ガラス層、6……発熱抵抗体層、
7……保護層、10……グレイズド基板、11…
…基板部分、12……ガラス層。
1 to 3 are block diagrams showing an embodiment of the thermal head of the present invention, and FIG. 4 is a block diagram showing an example of a conventional thermal head. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Substrate, 2, 4... Electrode layer, 3... Glass layer, 5... Protective glass layer, 6... Heat generating resistor layer,
7... Protective layer, 10... Glazed substrate, 11...
...Substrate part, 12...Glass layer.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 基板部分の両面にガラス層が焼成されるとと
もに基板部分の板厚がこのガラス層の厚みに比べ
て同等かそれ以下に形成されたグレイズド基板
と、このグレイズド基板の両面に設けられた第1
および第2の電極層と、この第1および第2の電
極層の上にそれぞれ形成された保護ガラス層と、
前記各層を含む基板端面の切断または研磨により
前記第1および第2の電極層が露出した端面に形
成されるとともに第1または第2の電極層の電極
数に応じて複数に分離された発熱抵抗体層とを具
備してなるサーマルヘツド。
1. A glazed substrate in which a glass layer is fired on both sides of the substrate part and the thickness of the substrate part is equal to or less than the thickness of the glass layer, and a first glazed substrate provided on both sides of the glazed substrate.
and a second electrode layer, and a protective glass layer formed on the first and second electrode layers, respectively;
A heating resistor formed on the end surface where the first and second electrode layers are exposed by cutting or polishing the end surface of the substrate including each of the layers, and separated into a plurality of parts according to the number of electrodes in the first or second electrode layer. A thermal head comprising a body layer.
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