JPH0584222B2 - - Google Patents
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- JPH0584222B2 JPH0584222B2 JP25011385A JP25011385A JPH0584222B2 JP H0584222 B2 JPH0584222 B2 JP H0584222B2 JP 25011385 A JP25011385 A JP 25011385A JP 25011385 A JP25011385 A JP 25011385A JP H0584222 B2 JPH0584222 B2 JP H0584222B2
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- Japan
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- layer
- substrate
- electrode
- glass layer
- heat generating
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- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/315—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material
- B41J2/32—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material using thermal heads
- B41J2/345—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material using thermal heads characterised by the arrangement of resistors or conductors
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、基板の端面方向に発熱抵抗体を形成
するようにしたサーマルヘツドに関するものであ
る。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a thermal head in which a heating resistor is formed in the direction of the end surface of a substrate.
従来、基板の端部に発熱抵抗体を形成したサー
マルヘツドとしては、本出願人が特願昭59−
213116号としてすでに出願している装置がある。
第5図はこのサーマルヘツドの概要を示す構成図
である。図に示すサーマルヘツドは、基板1の一
方の面に、第1の電極層2、電気絶縁層および熱
抵抗層となるガラス層3、第2の電極層4、およ
び保護ガラス層5を逐次積層形成するとともに、
基板1を含む各層を直線状に切断して、各電極層
2,4の露出した端面に発熱抵抗体層6を形成す
るようにしたものである。また、発熱抵抗体層6
は選択電極を構成する第1の電極層2の形状に合
わせて、複数に分離されている。
Conventionally, a thermal head in which a heat generating resistor is formed at the edge of a substrate has been developed by the present applicant in Japanese Patent Application No.
There is a device that has already been filed as No. 213116.
FIG. 5 is a block diagram showing an outline of this thermal head. The thermal head shown in the figure has a first electrode layer 2, a glass layer 3 serving as an electrical insulating layer and a heat resistance layer, a second electrode layer 4, and a protective glass layer 5 stacked one after another on one surface of a substrate 1. Along with forming;
Each layer including the substrate 1 is cut in a straight line, and a heating resistor layer 6 is formed on the exposed end surface of each electrode layer 2, 4. In addition, the heating resistor layer 6
are separated into a plurality of parts according to the shape of the first electrode layer 2 constituting the selection electrode.
このように形成されたサーマルヘツドにおいて
は、発熱抵抗体層6(発熱部)が記録紙等に確実
に接触するので、熱効率の良いサーマルヘツドを
得ることができる。また、基板1の端部は平面部
に比べて平坦に加工することが容易であるので、
複数の発熱部を記録紙等に均等に接触させること
ができ、高い印字品質を得ることができる。さら
に、発熱抵抗体層6における発熱部の長さは電極
層間に形成するガラス層3の厚さにより決定され
るので、この厚さを調節することにより発熱部の
長さを自由に制御して、基板1の強度などに影響
を与えることなく、高分解能のサーマルヘツドを
実現することができる。 In the thermal head formed in this manner, the heat generating resistor layer 6 (heat generating portion) comes into reliable contact with the recording paper, etc., so that a thermal head with good thermal efficiency can be obtained. In addition, since the edges of the substrate 1 are easier to process to be flat than the flat parts,
A plurality of heat generating parts can be brought into even contact with recording paper, etc., and high printing quality can be obtained. Furthermore, since the length of the heat generating part in the heat generating resistor layer 6 is determined by the thickness of the glass layer 3 formed between the electrode layers, the length of the heat generating part can be freely controlled by adjusting this thickness. , a high-resolution thermal head can be realized without affecting the strength of the substrate 1.
しかしながら、このようなサーマルヘツドにお
いては、第1および第2の電極層2,4の間に形
成するガラス層3として、1200℃以上の温度で焼
成される高融点のガラスが使用されている。この
ため、このガラス層3の下に形成される第1の電
極層2には、融点の低い金属材料を使用すること
ができず、一般的な金(Au)、銀(Ag)、銅
(Cu)、アルミニウム(Al)などは使用できなく
なつてしまう。
However, in such a thermal head, as the glass layer 3 formed between the first and second electrode layers 2 and 4, a high melting point glass fired at a temperature of 1200° C. or higher is used. For this reason, it is not possible to use metal materials with low melting points for the first electrode layer 2 formed under the glass layer 3, and common gold (Au), silver (Ag), copper ( Cu), aluminum (Al), etc. can no longer be used.
本発明は、上記のような従来装置の欠点をなく
し、発熱部をガラス層の上に形成して、発熱特性
を良くすることができるとともに、電極材料に高
融点の材料を必要としないサーマルヘツドを簡単
な構成により実現することを目的としたものであ
る。 The present invention eliminates the above-mentioned drawbacks of the conventional device, improves the heat generation characteristics by forming the heat generating part on the glass layer, and provides a thermal head that does not require a high melting point material for the electrode material. The purpose is to realize this with a simple configuration.
本発明のサーマルヘツドは、基板部分の片面に
ガラス層が焼成されるとともに基板部分の板厚が
このガラス層の厚みに比べて同等かそれ以下に形
成されたグレイズド基板の両面に第1および第2
の電極層を設け、前記各層を含む基板端面の切断
または研磨によりこの第1および第2の電極層が
露出した端面に発熱抵抗体層を形成するととも
に、この発熱抵抗体層のうちで少なくとも前記ガ
ラス層の上に位置する発熱抵抗体層部分を前記第
1または第2の電極層の電極数に応じて複数に分
離するようにしたものである。
The thermal head of the present invention has a glazed substrate in which a glass layer is fired on one side of the substrate portion and the thickness of the substrate portion is equal to or less than the thickness of the glass layer. 2
A heat generating resistor layer is formed on the end face where the first and second electrode layers are exposed by cutting or polishing the end face of the substrate including the respective layers, and at least the above electrode layer is formed in the heat generating resistor layer. The heating resistor layer portion located on the glass layer is divided into a plurality of parts depending on the number of electrodes of the first or second electrode layer.
このように、グレイズド基板の端面に発熱抵抗
体層を形成し、これを分離して複数の発熱部を形
成するようにすると、簡単な工程により発熱部を
ガラス層の上だけに形成することができ、サーマ
ルヘツドの発熱特性を良くすることができる。ま
た、第1および第2の電極層は、すでに焼成され
たガラス層の上に形成されるので、その形成後に
高温にさらされることがなく、比較的融点の低
い、一般の金属材料を使用することができる。
In this way, by forming a heat generating resistor layer on the end face of the glazed substrate and separating it to form multiple heat generating parts, it is possible to form the heat generating parts only on the glass layer through a simple process. It is possible to improve the heat generation characteristics of the thermal head. In addition, since the first and second electrode layers are formed on the glass layer that has already been fired, they are not exposed to high temperatures after they are formed, and can be made of common metal materials with relatively low melting points. be able to.
以下、本発明のサーマルヘツドを図面を使用し
て説明する。図において、前記第5図と同様のも
のは同一符号を付して示す。
Hereinafter, the thermal head of the present invention will be explained using the drawings. In the figure, the same parts as in FIG. 5 are designated by the same reference numerals.
第1図は本発明のサーマルヘツドの一実施例を
示す構成図である。図において、10は例えばア
ルミナなどよりなる基板部分11の片面にガラス
層12が焼成されたグレイズド基板である。な
お、グレイズド基板10における基板部分11
は、例えば液体状の原料を平面上に薄く延ばし、
これを乾燥、焼結する如き製法により、薄く形成
されたもので、その板厚がガラス層12の厚み
(50μm〜200μm)に比べて、同等かそれ以下
(30μm〜200μm)に形成されたものである。 FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of the thermal head of the present invention. In the figure, 10 is a glazed substrate in which a glass layer 12 is baked on one side of a substrate portion 11 made of, for example, alumina. Note that the substrate portion 11 in the glazed substrate 10
For example, by spreading a liquid raw material thinly on a flat surface,
This is formed thinly by a manufacturing method such as drying and sintering, and the plate thickness is equal to or less than the thickness of the glass layer 12 (50 μm to 200 μm) (30 μm to 200 μm). It is.
まず、グレイズド基板10において、ガラス層
12側の面には、例えば選択電極となる第1の電
極層2が形成され、他方の面には、例えば共通電
極となる第2の電極層4が形成される。この第1
および第2の電極層2,4は、金、銀パラジウ
ム、白金、銅などの厚膜導電ペーストを印刷、焼
成するとともに、任意のパターンにエツチングし
たものである。なお、エツチングにより微細パタ
ーンの加工を行なうのは、10本/mm以上の電極密
度を得る場合であり、比較的低密度の場合には、
印刷により所望の電極パターンを直接形成するこ
とも可能である。また、第1および第2の電極層
2,4の膜厚は、一般的に3〜5μm程度である。 First, in the glazed substrate 10, a first electrode layer 2, which becomes, for example, a selection electrode, is formed on the surface on the glass layer 12 side, and a second electrode layer 4, which becomes, for example, a common electrode, is formed on the other surface. be done. This first
The second electrode layers 2 and 4 are formed by printing and firing a thick film conductive paste of gold, silver palladium, platinum, copper, etc., and etching it into an arbitrary pattern. Note that fine patterns are processed by etching when obtaining an electrode density of 10 electrodes/mm or more, and when the density is relatively low,
It is also possible to directly form a desired electrode pattern by printing. Further, the film thickness of the first and second electrode layers 2 and 4 is generally about 3 to 5 μm.
第1および第2の電極層2,4の上には、これ
らの電極層2,4を保護するために、保護ガラス
層5が印刷、焼成される。この保護ガラス層5に
は、例えば厚膜結晶化ガラスが使用され、その融
点は比較的低いものである。保護ガラス層5は次
に示す基板端部の切断の際に、第1および第2の
電極層2,4のはがれ等を防止するためのもので
ある。また、この保護ガラス層5には、耐摩耗性
や熱伝導性などを考慮して、例えば酸化アルミニ
ウム(Al2O8)の粉末を添加することも有効であ
る。 A protective glass layer 5 is printed and fired on the first and second electrode layers 2, 4 in order to protect these electrode layers 2, 4. For example, thick film crystallized glass is used for this protective glass layer 5, and its melting point is relatively low. The protective glass layer 5 is provided to prevent the first and second electrode layers 2 and 4 from peeling off during cutting of the edge of the substrate as described below. Furthermore, it is also effective to add, for example, aluminum oxide (Al 2 O 8 ) powder to the protective glass layer 5 in consideration of wear resistance, thermal conductivity, and the like.
次に、上記のようにして第1および第2の電極
層2,4が被着されたグレイズド基板10は、端
部が切断され、発熱抵抗体層6を被着すべき端面
が形成される。第2図はその端面の状態を示すも
のである。図に示されるように、端面には第1お
よび第2の電極層2,4が露出するようになる。
なお、切断後の端面の表面粗度が所定の基準より
低い場合には、研磨加工や研削加工を行ない、表
面を平らに仕上げする。 Next, the ends of the glazed substrate 10 to which the first and second electrode layers 2 and 4 are attached as described above are cut to form an end surface to which the heating resistor layer 6 is to be attached. . FIG. 2 shows the state of the end face. As shown in the figure, the first and second electrode layers 2 and 4 are exposed on the end face.
Note that if the surface roughness of the end face after cutting is lower than a predetermined standard, polishing or grinding is performed to finish the surface flat.
このように形成された端面には、窒化タンタル
(Ta2N)、ニクロム(Ni−Cr)などの抵抗材料が
スパツタまたは蒸着により被着され、発熱抵抗体
層6が形成される。この場合の発熱抵抗体層6の
膜厚は、その抵抗値との関連で決定されるもので
あるが、概略0.1μm程度である。 A resistive material such as tantalum nitride (Ta 2 N) or nichrome (Ni-Cr) is deposited on the end face thus formed by sputtering or vapor deposition to form the heating resistor layer 6. The thickness of the heating resistor layer 6 in this case is determined in relation to its resistance value, and is approximately 0.1 μm.
さて、上記のように、グレイズド基板10の端
面に発熱抵抗体層6が形成された後は、発熱抵抗
体層6のうちで少なくともガラス層12の上に位
置する部分が、第1の電極層2の形状(電極数)
に対応するように、複数の発熱部に分離される。
この分離には、レーザカツトやフオトリソグラフ
などが利用される。 Now, as described above, after the heat generating resistor layer 6 is formed on the end surface of the glazed substrate 10, at least the portion of the heat generating resistor layer 6 located on the glass layer 12 is covered with the first electrode layer. 2 shape (number of electrodes)
It is separated into a plurality of heat generating parts to correspond to the
Laser cutting, photolithography, etc. are used for this separation.
第3図はこのようにして形成された発熱部の状
態を示す断面図である。ここで、発熱抵抗体層6
は基板部分11およびガラス層12にまたがつて
形成されることになるが、基板部分11の熱伝導
率はガラス層12に比べて10倍程度大きく、しか
も板厚も薄いので、発熱抵抗体層6において通電
時に表面温度が上昇するのは、実質的にガラス層
12の上に位置する部分のみとなる。したがつ
て、簡単な工程により、グレイズド基板10の端
面に複数の発熱部を形成することができる。この
時、基板部分11の板厚があまり厚いと、基板部
分11が逃げる熱量が多くなり、ヘツドの発熱効
率が低下してしまうので、基板部分11の板厚は
ガラス層12の厚みに比べて同等かそれ以下が望
ましい。なお、図中、7は保護および耐摩耗層で
あり、酸化ケイ素(SiO2)、五酸化タンタル
(Ta2O5)、窒化ホウ素(BN)、炭化ケイ素
(SiC)などの絶縁層がスパツタまたは蒸着され
たものである。また、熱伝導性を考慮すれば、酸
化ケイ素などで絶縁した後、分散メツキにより耐
摩耗金属層を被着してもよい。この場合、金属膜
には主にニツケルが使用され、分散剤として酸化
アルミニウム、窒化ホウ素、ダイヤモンドなどを
添加することにより、熱伝導性ならびに耐摩耗性
を向上させることができる。 FIG. 3 is a sectional view showing the state of the heat generating section formed in this manner. Here, the heating resistor layer 6
is formed astride the substrate portion 11 and the glass layer 12, but since the thermal conductivity of the substrate portion 11 is about 10 times higher than that of the glass layer 12 and is thinner, the heating resistor layer 6, the surface temperature rises only in the portion substantially located on the glass layer 12 when electricity is applied. Therefore, a plurality of heat generating parts can be formed on the end surface of the glazed substrate 10 through a simple process. At this time, if the thickness of the substrate portion 11 is too thick, the amount of heat escaping from the substrate portion 11 will increase and the heat generation efficiency of the head will decrease. Equal or lower is desirable. In addition, in the figure, 7 is a protective and wear-resistant layer, and insulating layers such as silicon oxide (SiO 2 ), tantalum pentoxide (Ta 2 O 5 ), boron nitride (BN), and silicon carbide (SiC) are sputtered or It is vapor deposited. Furthermore, in consideration of thermal conductivity, a wear-resistant metal layer may be applied by dispersion plating after insulating with silicon oxide or the like. In this case, nickel is mainly used for the metal film, and by adding aluminum oxide, boron nitride, diamond, etc. as a dispersant, thermal conductivity and wear resistance can be improved.
また、第4図はグレイズド基板10の側面にア
ルミ板またはセラミツクス板などの補強板8を接
合した状態を示したものである。このように、グ
レイズド基板10の片側または両側の側面に補強
板8を接合すると、薄く形成されたグレイズド基
板10(基板部分11)の機械的な強度を補うと
ともに、基板のそりを修正することができる。 Further, FIG. 4 shows a state in which a reinforcing plate 8 such as an aluminum plate or a ceramic plate is bonded to the side surface of the glazed substrate 10. In this way, by bonding the reinforcing plate 8 to one or both sides of the glazed substrate 10, it is possible to supplement the mechanical strength of the thinly formed glazed substrate 10 (substrate portion 11) and to correct the warpage of the substrate. can.
上記のような工程により本発明のサーマルヘツ
ドが形成されるが、このようなサーマルヘツドに
おいては、発熱抵抗体層6の発熱部がガラス層1
2の上に位置するので、適度な保温性が得られ、
良好な発熱特性を得ることができる。また、第1
の電極層2は、すでに焼成されたガラス層12の
上に形成されるので、その形成後に高温にさらさ
れることがなく、電極材料として比較的融点の低
い、一般の金属材料を使用することができる。 The thermal head of the present invention is formed through the steps described above, and in such a thermal head, the heating portion of the heating resistor layer 6 is connected to the glass layer 1.
Since it is located above 2, it provides adequate heat retention,
Good heat generation characteristics can be obtained. Also, the first
Since the electrode layer 2 is formed on the already fired glass layer 12, it is not exposed to high temperatures after its formation, and general metal materials with relatively low melting points can be used as the electrode material. can.
なお、上記の説明においては、グレイズド基板
10の表面に直接第2の電極層4を被着する場合
を例示したが、グレイズド基板10における表面
の平滑度によつては、グレイズド基板10と第2
の電極層4との間にガラス層を設け、第2の電極
層4の下地を平滑化するようにしてもよい。ま
た、グレイズド基板10の端面に形成された発熱
抵抗体層6を分離する工程は、前記第1図に示し
たように、端面の途中までで停止しても良いし、
第2電極層4の位置に達するまで、完全に分離し
ても良い。ちなみに、第1図のような場合には、
第2の電極層4側の未分離の発熱抵抗体層6は、
第2の電極層4(共通電極)の一部として作用す
ることになり、発熱部の選択的な駆動に悪影響を
与えてしまうことはない。 In addition, in the above description, the case where the second electrode layer 4 is directly deposited on the surface of the glazed substrate 10 is illustrated, but depending on the smoothness of the surface of the glazed substrate 10, the glazed substrate 10 and the second
A glass layer may be provided between the electrode layer 4 and the second electrode layer 4 to smooth the base of the second electrode layer 4. Further, the step of separating the heating resistor layer 6 formed on the end surface of the glazed substrate 10 may be stopped halfway up the end surface, as shown in FIG.
It may be completely separated until the second electrode layer 4 is reached. By the way, in a case like Figure 1,
The unseparated heating resistor layer 6 on the second electrode layer 4 side is
It acts as a part of the second electrode layer 4 (common electrode) and does not adversely affect the selective driving of the heat generating section.
以上説明したように、本発明のサーマルヘツド
では、基板部分の片面にガラス層が焼成されると
ともに基板部分の板厚がこのガラス層の厚みに比
べて同等かそれ以下に形成されたグレイズド基板
の両面に第1および第2の電極層を設け、前記各
層を含む基板端面の切断または研磨によりこの第
1および第2の電極層が露出した端面に発熱抵抗
体層を形成するとともに、この発熱抵抗体層のう
ちで少なくとも前記ガラス層の上に位置する発熱
抵抗体層部分を前記第1または第2の電極層の電
極数に応じて複数に分離するようにしているの
で、簡単な工程により発熱部をガラス層の上だけ
に形成することができ、発熱特性の良いサーマル
ヘツドを得ることができる。また、第1または第
2の電極層は、すでに焼成されたガラス層の上に
形成されるので、その形成後に高温にさらされる
ことがなく、電極材料として、比較的融点の低い
金属材料を使用することができる。
As explained above, the thermal head of the present invention uses a glazed substrate in which a glass layer is fired on one side of the substrate part and the thickness of the substrate part is equal to or less than the thickness of the glass layer. First and second electrode layers are provided on both surfaces, and a heat generating resistor layer is formed on the end face where the first and second electrode layers are exposed by cutting or polishing the end face of the substrate including each layer, and the heat generating resistor layer is formed on the end face where the first and second electrode layers are exposed. Since the heat generating resistor layer portion of the body layer located at least on the glass layer is separated into a plurality of parts according to the number of electrodes of the first or second electrode layer, heat generation can be achieved through a simple process. The thermal head can be formed only on the glass layer, and a thermal head with good heat generation characteristics can be obtained. In addition, since the first or second electrode layer is formed on the already fired glass layer, it is not exposed to high temperatures after its formation, and a metal material with a relatively low melting point is used as the electrode material. can do.
第1図〜第4図は本発明のサーマルヘツドの一
実施例を示す構成図、第5図は従来のサーマルヘ
ツドの一例を示す構成図である。
1……基板、2,4……電極層、3……ガラス
層、5……保護ガラス層、6……発熱抵抗体層、
7……保護層、8……補強板、10……グレイズ
ド基板、11……基板部分、12……ガラス層。
1 to 4 are block diagrams showing an embodiment of the thermal head of the present invention, and FIG. 5 is a block diagram showing an example of a conventional thermal head. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Substrate, 2, 4... Electrode layer, 3... Glass layer, 5... Protective glass layer, 6... Heat generating resistor layer,
7... Protective layer, 8... Reinforcement plate, 10... Glazed substrate, 11... Substrate portion, 12... Glass layer.
Claims (1)
もに基板部分の板厚がこのガラス層の厚みに比べ
て同等かそれ以下に形成されたグレイズド基板
と、このグレイズド基板の両面に設けられた第1
および第2の電極層と、この第1および第2の電
極層の上にそれぞれ形成された保護ガラス層と、
前記各層を含む基板端面の切断または研磨により
前記第1および第2の電極層が露出した端面に形
成されるとともに少なくとも前記ガラス層の上に
位置する層部分が第1または第2の電極層の電極
数に応じて複数に分離された発熱抵抗体層と、前
記保護ガラス層を介して前記グレイズド基板の側
面に接合された補強板とを具備してなるサーマル
ヘツド。1. A glazed substrate in which a glass layer is fired on one side of the substrate portion and the thickness of the substrate portion is equal to or less than the thickness of the glass layer, and a first glazed substrate provided on both sides of the glazed substrate.
and a second electrode layer, and a protective glass layer formed on the first and second electrode layers, respectively;
The first and second electrode layers are formed on the exposed end surface by cutting or polishing the end surface of the substrate including each layer, and at least the layer portion located on the glass layer is formed on the first or second electrode layer. A thermal head comprising: a heating resistor layer divided into a plurality of layers according to the number of electrodes; and a reinforcing plate bonded to a side surface of the glazed substrate via the protective glass layer.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25011385A JPS62109664A (en) | 1985-11-08 | 1985-11-08 | Thermal head |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25011385A JPS62109664A (en) | 1985-11-08 | 1985-11-08 | Thermal head |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62109664A JPS62109664A (en) | 1987-05-20 |
| JPH0584222B2 true JPH0584222B2 (en) | 1993-12-01 |
Family
ID=17203020
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25011385A Granted JPS62109664A (en) | 1985-11-08 | 1985-11-08 | Thermal head |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62109664A (en) |
Families Citing this family (3)
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|---|---|---|---|---|
| US5200760A (en) * | 1990-09-28 | 1993-04-06 | Tohoku Pioneer Electronic Corporation | Thermal head for a thermal printer |
| US5909234A (en) * | 1991-01-22 | 1999-06-01 | Ngk Insulators, Ltd. | End-contact type thermal recording head having heat-generating portion on thin-walled end portion of ceramic substrate |
| US5666149A (en) * | 1991-01-22 | 1997-09-09 | Ngk Insulators, Ltd. | End-contact type thermal recording head having heat-generating portion on thin-walled end portion of ceramic substrate |
-
1985
- 1985-11-08 JP JP25011385A patent/JPS62109664A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62109664A (en) | 1987-05-20 |
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