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JPH05858B2 - - Google Patents
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JPH05858B2 - - Google Patents

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Publication number
JPH05858B2
JPH05858B2 JP63296032A JP29603288A JPH05858B2 JP H05858 B2 JPH05858 B2 JP H05858B2 JP 63296032 A JP63296032 A JP 63296032A JP 29603288 A JP29603288 A JP 29603288A JP H05858 B2 JPH05858 B2 JP H05858B2
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JP
Japan
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adhesive layer
polyamide resin
resin
adhesive
tab tape
Prior art date
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JP63296032A
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Japanese (ja)
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Inventor
Hitoshi Narushima
Yoshikazu Tsukamoto
Atsushi Koshimura
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TOMOE SEISHISHO KK
Original Assignee
TOMOE SEISHISHO KK
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

産業上の利用分野 本発明は、半導体デバイスの組み立て工程にお
いて、デバイスの多ピン化、小型化、高密度実装
に際し、注目されているTAB(Tape
Automated Bonding)方式に用いられる保護
層、接着剤層及び有機絶縁フイルムの3層構造か
らなるテープ(以下、TAB用テープという)に
関する。 従来の技術 従来、TAB用テープは、次のように加工され
てフイルムキヤリアテープを形成する。 1 スプロケツト・デバイスホールをスタンピン
グにより穿孔する。 2 穿孔されたテープに銅箔を熱圧着した後、加
熱により接着剤を硬化させる。 3 フオトレジストを塗布し、マスクを通して紫
外線等を照射した後、現像する。 4 デバイスホールの裏打ち、銅のエツチング、
レジスト除去、裏打ちの除去を行い、回路を作
製し、ソルダーレジストをかける。 5 錫、金メツキを行う。 以上の工程を経て作成されたテープに、チツプ
がインナーリードボンデイングされた後、リード
を切断し、プリント基板等にアウターリードボン
デイングし、樹脂で封止する。或いは、インナー
リードボンデイングした後、樹脂で封止し、周辺
回路も含め切断し、アウターリードボンデイング
する。 接着剤及び有機絶縁フイルムは、周辺回路、封
止樹脂中に残ることが多い。この様な場合、益々
高密度化が進む中、銅箔のパターン間の絶縁信頼
性やチツプのAl配線の腐蝕に影響するイオン性
不純物が問題になる。絶縁信頼性やイオン性不純
物は主に接着剤の特性に起因するところが多い。
即ち、イオン性不純物は、上記工程3ないし5に
おいて、接着剤がアルカリ(例えば、金メツキ時
や、レジスト剥離時はカリウムイオンの含有)、
酸(例えば、錫メツキ時は塩素イオン、硫酸イオ
ンの含有)、エツチング液(塩素イオンの含有)
などにさらされる為に生じたり、また接着剤その
ものに含まれていたりする場合がある。また、絶
縁信頼性は、接着剤の耐湿熱性、電気抵抗、上記
イオン性不純物などにより支配される。 従来用いられてきたTAB用テープの接着剤は、
エポキシ系のものであるが、これは、a)加工中
にイオン性不純物(特にCIイオン)が含有され
やすい、b)湿熱により加水分解されやすい、
c)電気抵抗が低い、等の性質により、パターン
間の金属移行等を含め、絶縁劣化が問題になつて
いる。 したがつて、本発明の目的は、従来のTAB用
テープにおける上記のような問題を起こすことの
ないTAB用テープを提供することにある。 発明が解決しようとする課題 本発明のTAB用テープは、有機絶縁フイルム
上に、少なくともポリアミド樹脂及びフエノール
樹脂を含有する接着剤層及び保護層を設けてな
り、該ポリアミド樹脂の平均アミド基当量が200
ないし400であることを特徴とする。 第1図は本発明のTAB用テープの模式的断面
図であつて、有機絶縁フイルム1の片面に、半硬
化状の接着剤層2と保護層となる保護フイルム3
が順次積層された層構成を有する。 有機絶縁フイルムとしては、厚さ25〜188μm、
好ましくは50〜125μmのポリイミド、ポリエーテ
ルイミド、ポリフエニレンサルフアイド、ポリエ
ーテルエーテルケトン等の耐熱性フイルムや、エ
ポキシ樹脂−ガラスクロス、エポキシ樹脂−ポリ
イミド−ガラスクロス等の複合耐熱フイルムから
なる有機絶縁フイルムが使用できる。 接着剤層は、熱硬化型のもので半硬化状である
ことが必要であり、少なくともポリアミド樹脂及
びフエノール樹脂を含有する、膜厚10〜40μm、
好ましくは15〜30μmの層よりなる。 この接着剤層において、ポリアミド樹脂は、主
に有機絶縁フイルムとの接着性、フレキシビリテ
イーを得るために加えられるものである。ポリア
ミド樹脂は、一般的には吸湿性が大きく、その結
果、電気抵抗も吸湿により3桁程度低下するな
ど、耐湿性が悪いが、本発明においては、アミド
基当量(分子量/アミド基1個)が200ないし400
のポリアミド樹脂を用いることにより、上記のよ
うな問題がなくなる。すなわち、アミド基当量
200ないし400のポリアミド樹脂を用いると、接着
剤層の吸湿性が低くなり、また、吸湿による電気
抵抗の低下を1桁程度に抑えることができ、そし
て、加水分解などの耐湿性が向上し、結果的に絶
縁劣化を防止することができる。これに対して、
ポリアミド樹脂のアミド基当量が400以上の場合
には、銅と接着剤層との接着性が低下し、逆に
200以下の場合には、接着剤層の吸湿性が大きく、
加水分解性が大となり、絶縁性が低下する。 また、ポリアミド樹脂としては、その1分子鎖
の中でアミド基間の炭化水素の分子量が100から
800の広範囲にわたるもの、そして、異なる分子
量をもつアミド基間炭化水素分子が不規則に並ん
で入つたものを用いてもよい。これ等のポリアミ
ド樹脂は、アミド基当量が大きいにもかかわら
ず、接着性を有し、フレキシビリテイも大きいの
で好ましく使用される。 ポリアミド樹脂の分子量は、フレキシビリテイ
ー、テープと銅箔との熱圧着時や、接着剤の硬化
時の溶融特性(デバイスホールからの接着剤のは
み出し)に関連するものであつて、分子量が低す
ぎると溶融温度が低くなり、はみ出しの問題が生
じる。また、分子量が高すぎると銅箔との熱圧着
温度が高くなり過ぎるという問題が生じる。した
がつて、本発明においては、分子量30000〜
150000の範囲で、軟化温度100〜180℃のポリアミ
ド樹脂を用いるのが好ましい。 更にまた、デバイスホールからの接着剤のはみ
出し等に関連する溶融特性に影響を与える因子と
して、分子量分布があり、分子量分布が狭い場合
には、熱による急激な粘度低下を起こし、テープ
と銅箔との熱圧時デバイスホールからのはみ出し
のない熱圧条件が狭くなり好ましくない。したが
つて、本発明において使用するポリアミド樹脂
は、分子量分布の広いものが望ましい。 なお、一般に、ポリアミド樹脂は、アミド結合
間が短鎖であること、高分子量であること等のた
め、塩素化炭化水素系溶剤には溶解性が高いが、
アルコール等の汎用溶剤に溶け難い。しかしなが
ら、本発明における上記アミド基当量及び分子量
を有するポリアミド樹脂は、アルコール等の汎用
溶剤に可溶であり、したがつて、塩素化炭化水素
家栄溶剤を使用する際のICチツプの腐蝕や銅配
線の腐蝕、更には金属移行現象等は、起り難くな
るという利点もある。 接着剤層に含有させるフエノール樹脂として
は、アルキルフエノール樹脂、パラフエニルフエ
ノール樹脂等のノボラツクフエノール樹脂、レゾ
ールフエノール樹脂等、公知のフエノール樹脂が
あげられる。 本発明において、これ等フエノール樹脂は、ポ
リアミド樹脂100重量部に対し、5〜60重量部の
範囲で使用するのが好ましい。 本発明のTAB用テープにおいて、接着剤層に
は、更に熱硬化型のポリビニルパラフエノール樹
脂、エポキシ樹脂及びイミダゾール化合物が配合
されていてもよい。 ポリビニルパラフエノール樹脂としては、重合
度25〜200、好ましくは40〜200の範囲のものが使
用できる。 エポキシ樹脂は、ポリアミド樹脂の分子末端で
反応し、またポリビニルパラフエノール或いはイ
ミダゾール化合物の作用により容易に反応し、耐
熱性及び耐薬品性を向上させる。使用できるエポ
キシ樹脂としては、ビスフエノールAジグリシジ
ルエーテル、エポキシ化フエノールノボラツク、
エポキシ化クレゾールノボラツク等があげられ
る。 イミダゾール化合物としては、2−メチルイミ
ダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール
等のメチルエチルケトン等、汎用溶剤に溶解する
ものや、2−フエニル−4−ベンジル−5−ヒド
ロキシメチルイミダゾール等、汎用溶剤に難溶の
もの等があげられる。 本発明において、接着剤層の好ましい組成とし
ては、ポリアミド樹脂100重量部に対し、フエノ
ール樹脂5〜60重量部、エポキシ樹脂9〜88重量
部、イミダゾール化合物0.03〜10重量部の範囲の
ものがあげられる。 接着剤層の保護層となる保護フイルムとして
は、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステ
ルフイルムが使用できる。 次に、本発明のTAB用テープの製造法につい
て説明する。第2図は、製造工程を示すもので、
保護フイルム3の上に所定の配合の接着剤を、乾
燥後の膜厚が上記の範囲になるように塗布する。
この際、半硬化状の状態にするために、その加熱
条件は150〜180℃で2分間乾燥させることが必要
である。 次に、形成された接着剤層2の表面に、有機絶
縁フイルム1を重ね合わせ、100〜130℃で1Kg/
cm2以上の条件で熱圧着する。 得られたTAB用テープは巻回されて、例えば
幅30〜200mmで30〜300mの長さのものが得られ
る。 実施例 以下、本発明を実施例によつて説明する。 実施例 1 厚さ38μmのポリエチレンテレフタレートフイ
ルムからなる保護フイルムに下記組成の接着剤層
用塗料を塗布し、160℃で2分間加熱乾燥して膜
厚20μmの接着剤層を形成した。 ポリアミド樹脂(マクロメルト6238、アミド基
当量220、重量平均分子量40000、ヘンケル白水
社製)の25%イソプロピルアルコール/トルエ
ン混合溶液 400部 エポキシ樹脂(エピコート828、油化シエル社
製) 50部 ノボラツクフエノール樹脂(CKM2400、昭和
高分子社製の50%メチルエチルケトン溶液 30部 2−メチルイミダゾールの1%メチルエチルケ
トン溶液 0.3部 次に厚さ50μmのポリイミドフイルムからなる
有機絶縁フイルムを重ね合わせ、130℃、1Kg/
cm2の条件で加熱加圧して、TAB用テープを作製
した。 次に、このTAB用テープの保護フイルムを剥
離し、1オンスの電解銅箔(厚さ35〜40μm)を
貼り合わせ、130℃、1Kg/cm2の条件で加熱加圧
処理を行つた。その後更に60℃で6時間、80℃で
6時間、120℃で3時間、及び150℃で5時間、順
次加熱を行い接着剤層の硬化を行つた。更に、常
法により銅箔上にフオトレジスト膜を形成して処
理し、銅箔をエツチングし、櫛型回路を形成して
フイルムキヤリアテープを作成した。 実施例 2 接着剤層用塗料として、下記組成のものを用い
た以外は、実施例1と同様にしてTAB用テープ
及びフイルムキヤリアテープを作製した。 ポリアミド樹脂(DPX1175、アミド基当量
280、重量平均分子量100000ヘンケル白水社製)
の25%イソプロピルアルコール/トルエン混合
溶液 400部 エポキシ樹脂(エピコート828、油化シエル社
製) 50部 ノボラツクフエノール樹脂(CKM2400、昭和
高分子社製)の50%メチルエチルケトン溶液
30部 2−メチルイミダゾールの1%メチルエチルケ
トン溶液 0.3部 実施例 3 実施例1において、ポリアミド樹脂として、ヘ
ンケル白水社製のマクロメルト6212(アミド基当
量310、重量平均分子量40000)を使用した以外
は、同様にしてTAB用テープ及びフイルムキヤ
リアテープを作製した。 比較例 接着剤層用塗料として、下記組成のものを用い
た以外は、実施例1と同様にしてTAB用テープ
及びフイルムキヤリアテープを作製した。 ポリアミド樹脂(プラタボンダM1276、アミド
基当量120、日本リルサン社製)のイソプロピ
ルアルコール/水混合溶液 500部 エポキシ樹脂(エピコート828、油化シエル社
製) 50部 ノボラツクフエノール樹脂(CKM2400、昭和
高分子社製)の50%メチルエチルケトン溶液
30部 2−メチルイミダゾールの1%メチルエチルケ
トン溶液 0.3部 実施例1ないし3及び比較例のフイルムキヤリ
アテープに対し、下記の特性評価試験を行つた。 1 初期表面抵抗率:22℃、0%R.H.(JIS
C6481) 2 初期表面抵抗率:22℃、65%R.H.(JIS
C6481) 3 処理後の表面抵抗率:85℃、85%R.H.で
1000時間処理後の表面抵抗率、(22℃、0%R.
H.) 4 接着剤の吸湿率:ASTM−D−570 24時間
後の吸湿率。 5 塩素イオン濃度:40ボーメエツチング液に接
着剤のみ10gを40℃で1時間浸漬し、その後簡
単に洗浄した後、100℃の純水100c.c.で煮沸抽出
し、その抽出水の塩素イオン濃度を測定する。 6 有機絶縁フイルムとの接着力(JIS C6481)。 7 電導度:接着剤のみ10gを純水100c.c.で121℃
で250時間煮沸抽出した時の抽出水の電導度。
Industrial Application Fields The present invention is applicable to TAB (Tape), which is attracting attention in the semiconductor device assembly process when devices are made to have a larger number of pins, are made smaller, and are mounted at a higher density.
The present invention relates to a tape (hereinafter referred to as "TAB tape") consisting of a three-layer structure of a protective layer, an adhesive layer, and an organic insulating film used in the Automated Bonding method. Prior Art Conventionally, TAB tape is processed as follows to form a film carrier tape. 1. Drill the sprocket device hole by stamping. 2. After thermally pressing the copper foil onto the perforated tape, the adhesive is cured by heating. 3. Apply photoresist, irradiate it with ultraviolet rays, etc. through a mask, and then develop it. 4 Device hole lining, copper etching,
Remove the resist and lining, fabricate the circuit, and apply solder resist. 5 Perform tin and gold plating. After the chip is inner lead bonded to the tape produced through the above steps, the leads are cut, outer lead bonded to a printed circuit board, etc., and sealed with resin. Alternatively, after performing inner lead bonding, it is sealed with resin, and peripheral circuits are also cut, and outer lead bonding is performed. Adhesives and organic insulating films often remain in peripheral circuits and sealing resins. In such cases, as density increases, ionic impurities that affect the reliability of insulation between copper foil patterns and corrosion of Al wiring on chips become a problem. Insulation reliability and ionic impurities are mainly caused by the characteristics of the adhesive.
That is, ionic impurities occur in steps 3 to 5 when the adhesive is alkaline (for example, contains potassium ions during gold plating or resist peeling);
Acid (for example, contains chlorine ions and sulfate ions when tin plating), etching solution (contains chlorine ions)
It may occur due to exposure to other substances, or it may be contained in the adhesive itself. Furthermore, the insulation reliability is controlled by the adhesive's moisture and heat resistance, electrical resistance, the above-mentioned ionic impurities, and the like. The adhesive for TAB tape that has traditionally been used is
Although it is an epoxy-based product, it a) tends to contain ionic impurities (particularly CI ions) during processing, and b) is easily hydrolyzed by moist heat.
c) Due to properties such as low electrical resistance, insulation deterioration, including metal transfer between patterns, has become a problem. Therefore, an object of the present invention is to provide a TAB tape that does not cause the above-mentioned problems in conventional TAB tapes. Problems to be Solved by the Invention The TAB tape of the present invention includes an adhesive layer and a protective layer containing at least a polyamide resin and a phenol resin on an organic insulating film, and the average amide group equivalent of the polyamide resin is 200
to 400. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of the TAB tape of the present invention, in which a semi-cured adhesive layer 2 and a protective film 3 serving as a protective layer are formed on one side of an organic insulating film 1.
It has a layered structure in which these are sequentially laminated. As an organic insulating film, the thickness is 25 to 188μm,
Preferably, a heat-resistant film of 50 to 125 μm such as polyimide, polyetherimide, polyphenylene sulfide, polyether ether ketone, or a composite heat-resistant film such as epoxy resin-glass cloth or epoxy resin-polyimide-glass cloth is used. Insulating film can be used. The adhesive layer must be thermosetting and semi-cured, containing at least polyamide resin and phenolic resin, and having a thickness of 10 to 40 μm.
Preferably it consists of a layer of 15 to 30 μm. In this adhesive layer, the polyamide resin is added mainly to obtain adhesion and flexibility with the organic insulating film. Polyamide resins generally have high hygroscopicity, and as a result, their electrical resistance decreases by about 3 orders of magnitude due to moisture absorption, resulting in poor moisture resistance. is 200 to 400
By using this polyamide resin, the above-mentioned problems are eliminated. That is, the amide group equivalent
When a polyamide resin of 200 to 400 is used, the hygroscopicity of the adhesive layer is lowered, the decrease in electrical resistance due to moisture absorption can be suppressed to about one digit, and the resistance to moisture such as hydrolysis is improved. As a result, insulation deterioration can be prevented. On the contrary,
When the amide group equivalent of the polyamide resin is 400 or more, the adhesion between the copper and the adhesive layer decreases, and vice versa.
If it is less than 200, the adhesive layer has high hygroscopicity,
Hydrolyzability increases and insulation properties decrease. In addition, as a polyamide resin, the molecular weight of the hydrocarbon between the amide groups in one molecular chain is from 100 to
A wide range of 800, and a mixture of randomly arranged hydrocarbon molecules between amide groups with different molecular weights may be used. These polyamide resins are preferably used because they have adhesive properties and great flexibility despite having a large amide group equivalent. The molecular weight of polyamide resin is related to its flexibility, the thermocompression bonding between the tape and the copper foil, and the melting properties when the adhesive hardens (protrusion of the adhesive from the device hole). If it is too high, the melting temperature will be low and a problem of extrusion will occur. Moreover, if the molecular weight is too high, there will be a problem that the thermocompression bonding temperature with the copper foil will be too high. Therefore, in the present invention, molecular weight of 30,000 to
It is preferable to use a polyamide resin with a softening temperature of 100 to 180°C in the range of 150,000°C. Furthermore, molecular weight distribution is a factor that affects the melting characteristics related to adhesive extrusion from device holes, etc. If the molecular weight distribution is narrow, the viscosity decreases rapidly due to heat, and the tape and copper foil At the time of hot-pressing, the hot-pressing conditions without protrusion from the device hole become narrow, which is not preferable. Therefore, the polyamide resin used in the present invention preferably has a wide molecular weight distribution. Generally, polyamide resins have high solubility in chlorinated hydrocarbon solvents due to short chains between amide bonds, high molecular weight, etc.
Difficult to dissolve in general purpose solvents such as alcohol. However, the polyamide resin having the above-mentioned amide group equivalent and molecular weight in the present invention is soluble in general-purpose solvents such as alcohol. There is also the advantage that corrosion of wiring and metal migration phenomena are less likely to occur. Examples of the phenolic resin to be contained in the adhesive layer include known phenolic resins such as alkyl phenol resins, novolak phenol resins such as paraphenyl phenol resins, and resol phenol resins. In the present invention, these phenolic resins are preferably used in an amount of 5 to 60 parts by weight based on 100 parts by weight of the polyamide resin. In the TAB tape of the present invention, the adhesive layer may further contain a thermosetting polyvinyl paraphenol resin, an epoxy resin, and an imidazole compound. As the polyvinyl paraphenol resin, those having a polymerization degree of 25 to 200, preferably 40 to 200 can be used. The epoxy resin reacts at the molecular terminal of the polyamide resin, and easily reacts with the action of polyvinyl paraphenol or imidazole compounds, thereby improving heat resistance and chemical resistance. Epoxy resins that can be used include bisphenol A diglycidyl ether, epoxidized phenol novolak,
Examples include epoxidized cresol novolak. Examples of imidazole compounds include those that dissolve in general-purpose solvents such as methyl ethyl ketone such as 2-methylimidazole and 2-ethyl-4-methylimidazole, and those that are difficult to dissolve in general-purpose solvents such as 2-phenyl-4-benzyl-5-hydroxymethylimidazole. Examples include molten ones. In the present invention, a preferable composition of the adhesive layer is a composition containing 5 to 60 parts by weight of a phenolic resin, 9 to 88 parts by weight of an epoxy resin, and 0.03 to 10 parts by weight of an imidazole compound to 100 parts by weight of a polyamide resin. It will be done. As a protective film serving as a protective layer for the adhesive layer, a polyester film such as polyethylene terephthalate can be used. Next, a method for manufacturing the TAB tape of the present invention will be explained. Figure 2 shows the manufacturing process.
An adhesive having a predetermined composition is applied onto the protective film 3 so that the film thickness after drying falls within the above range.
At this time, in order to obtain a semi-cured state, the heating conditions require drying at 150 to 180° C. for 2 minutes. Next, the organic insulating film 1 is superimposed on the surface of the formed adhesive layer 2, and the film is heated to 1 kg/kg at 100 to 130°C.
Heat and press under conditions of cm 2 or more. The obtained TAB tape is wound to obtain a tape having a width of 30 to 200 mm and a length of 30 to 300 m, for example. Examples Hereinafter, the present invention will be explained using examples. Example 1 An adhesive layer paint having the following composition was applied to a protective film made of polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 μm, and was dried by heating at 160° C. for 2 minutes to form an adhesive layer having a thickness of 20 μm. 25% isopropyl alcohol/toluene mixed solution of polyamide resin (Macromelt 6238, amide group equivalent 220, weight average molecular weight 40000, Henkel Hakusui Co., Ltd.) 400 parts Epoxy resin (Epicote 828, Yuka Ciel Co., Ltd.) 50 parts Novolac phenol Resin (CKM2400, manufactured by Showa Kobunshi Co., Ltd.) 30 parts of 50% methyl ethyl ketone solution 0.3 parts of 1% 2-methylimidazole solution in methyl ethyl ketone Next, an organic insulating film made of polyimide film with a thickness of 50 μm was overlaid and heated at 130°C, 1 kg/
A TAB tape was produced by heating and pressing under conditions of cm 2 . Next, the protective film of this TAB tape was peeled off, and a 1 ounce electrolytic copper foil (thickness: 35 to 40 μm) was bonded to the tape, followed by heat and pressure treatment at 130° C. and 1 Kg/cm 2 . Thereafter, the adhesive layer was cured by successively heating at 60°C for 6 hours, 80°C for 6 hours, 120°C for 3 hours, and 150°C for 5 hours. Furthermore, a photoresist film was formed and treated on the copper foil by a conventional method, and the copper foil was etched to form a comb-shaped circuit to produce a film carrier tape. Example 2 A TAB tape and a film carrier tape were produced in the same manner as in Example 1, except that a paint having the following composition was used as the paint for the adhesive layer. Polyamide resin (DPX1175, amide group equivalent
280, weight average molecular weight 100000 (manufactured by Henkel Hakusuisha)
25% isopropyl alcohol/toluene mixed solution 400 parts Epoxy resin (Epicote 828, manufactured by Yuka Shell Co., Ltd.) 50 parts Novolac phenol resin (CKM2400, manufactured by Showa Kobunshi Co., Ltd.) in 50% methyl ethyl ketone solution
30 parts 1% methyl ethyl ketone solution of 2-methylimidazole 0.3 parts Example 3 In Example 1, except that Macromelt 6212 manufactured by Henkel Hakusuisha (amide group equivalent: 310, weight average molecular weight: 40,000) was used as the polyamide resin, TAB tape and film carrier tape were produced in the same manner. Comparative Example A TAB tape and a film carrier tape were produced in the same manner as in Example 1, except that a paint having the following composition was used as the paint for the adhesive layer. Isopropyl alcohol/water mixed solution of polyamide resin (Platabonda M1276, amide group equivalent 120, manufactured by Nippon Rilsan Co., Ltd.) 500 parts Epoxy resin (Epicote 828, manufactured by Yuka Shell Co., Ltd.) 50 parts Novolac phenol resin (CKM2400, manufactured by Showa Kobunshi Co., Ltd.) 50% methyl ethyl ketone solution
30 parts 1% 2-methylimidazole solution in methyl ethyl ketone 0.3 parts The film carrier tapes of Examples 1 to 3 and Comparative Example were subjected to the following characteristic evaluation tests. 1 Initial surface resistivity: 22℃, 0%RH (JIS
C6481) 2 Initial surface resistivity: 22℃, 65%RH (JIS
C6481) 3 Surface resistivity after treatment: at 85℃, 85%RH
Surface resistivity after 1000 hours treatment, (22℃, 0%R.
H.) 4 Moisture absorption rate of adhesive: ASTM-D-570 Moisture absorption rate after 24 hours. 5 Chlorine ion concentration: 40 Soak 10g of adhesive in Baume etching solution at 40℃ for 1 hour, then wash briefly, boil and extract with 100c.c. of pure water at 100℃, and remove chlorine ions from the extracted water. Measure concentration. 6 Adhesive strength with organic insulating film (JIS C6481). 7 Conductivity: 10g of adhesive at 121℃ with 100c.c. of pure water
Electrical conductivity of extracted water when extracted by boiling for 250 hours.

【表】 発明の効果 本発明のTAB用テープは、上記のような構成
を有するから、次の様な利点がある。(1)接着剤が
低吸湿性であり、エツチング、メツキ等の加工工
程中にイオン性不純物が含有されにくい。(2)接着
剤層は、低吸湿性で加水分解が低く、吸湿による
表面抵抗の低下が小さい。またPCT等による劣
化、特に絶縁劣化が従来に比べて起こり難く、パ
ターン間の絶縁信頼性が高い。 したがつて、本発明のTAB用テープは、高密
度化した回路に適用することが可能になる。ま
た、本発明のTAB用テープは、絶縁信頼性が高
く、リード間の絶縁性に問題が生じないので、チ
ツプと外部回路との接続に使用される際に、リー
ドの数が増えても、リード部分にテープを残留さ
せることができる。したがつて、多ピンチツプを
実装する場合、ボンデイングミスが生じ難く、搬
送工程、ボンデイング工程等において、リードの
変形が少なく歩留まりが大巾に上昇する。
[Table] Effects of the Invention Since the TAB tape of the present invention has the above structure, it has the following advantages. (1) The adhesive has low hygroscopicity and is unlikely to contain ionic impurities during processing steps such as etching and plating. (2) The adhesive layer has low hygroscopicity and low hydrolysis, and the decrease in surface resistance due to moisture absorption is small. In addition, deterioration due to PCT etc., especially insulation deterioration, is less likely to occur than in the past, and insulation reliability between patterns is high. Therefore, the TAB tape of the present invention can be applied to high-density circuits. In addition, the TAB tape of the present invention has high insulation reliability and does not cause problems with insulation between leads, so when used to connect a chip to an external circuit, even if the number of leads increases, Tape can be left on the lead part. Therefore, when a multi-pin chip is mounted, bonding errors are less likely to occur, leads are less likely to be deformed during the transportation process, bonding process, etc., and the yield is greatly increased.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明のTAB用テープの模式的断面
図であり、第2図は本発明のTAB用テープの製
造工程図である。 1……有機絶縁フイルム、2……接着剤層、3
……保護フイルム。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of the TAB tape of the present invention, and FIG. 2 is a manufacturing process diagram of the TAB tape of the present invention. 1...Organic insulating film, 2...Adhesive layer, 3
...protective film.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 有機絶縁フイルム上に、少なくともポリアミ
ド樹脂及びフエノール樹脂を含有する接着剤層及
び保護層を設けてなり、該ポリアミド樹脂の平均
アミド基当量が200ないし400であることを特徴と
するTAB用テープ。 2 接着剤層が更にエポキシ樹脂を含有すること
を特徴とする請求項1記載のTAB用テープ。 3 接着剤層がイミダゾール化合物を含有するこ
とを特徴とする請求項1記載のTAB用テープ。 4 ポリアミド樹脂の重量平均分子量が30000な
いし150000であることを特徴とする請求項1記載
のTABテープ。
[Claims] 1. An adhesive layer and a protective layer containing at least a polyamide resin and a phenol resin are provided on an organic insulating film, and the polyamide resin has an average amide group equivalent of 200 to 400. Tape for TAB. 2. The TAB tape according to claim 1, wherein the adhesive layer further contains an epoxy resin. 3. The TAB tape according to claim 1, wherein the adhesive layer contains an imidazole compound. 4. The TAB tape according to claim 1, wherein the polyamide resin has a weight average molecular weight of 30,000 to 150,000.
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