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JPH0587175B2 - - Google Patents
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JPH0587175B2 - - Google Patents

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JPH0587175B2
JPH0587175B2 JP27416488A JP27416488A JPH0587175B2 JP H0587175 B2 JPH0587175 B2 JP H0587175B2 JP 27416488 A JP27416488 A JP 27416488A JP 27416488 A JP27416488 A JP 27416488A JP H0587175 B2 JPH0587175 B2 JP H0587175B2
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JP
Japan
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processing
substrate
substrates
unloader
state
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JP27416488A
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Inventor
Kenji Kamei
Hidekazu Inoe
Masashi Takeoka
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Publication date
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、例えば半導体ウエハなどの基板(以
下、単に基板という)にコーテイング材料を多層
に塗布する場合のように、基板に複数回にわたつ
同種の処理を施す基板処理装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION <Industrial Application Field> The present invention is applicable to a substrate such as a semiconductor wafer (hereinafter simply referred to as a substrate) in which a coating material is applied in multiple layers. The present invention relates to a substrate processing apparatus that performs similar types of processing.

〈従来の技術〉 一般に、基板上にコーテイング材料を塗布する
に際し、塗布処理を反復して、基板上にコーテイ
ング材料を多層に塗布するという工程が採用され
ることがある。
<Prior Art> Generally, when applying a coating material onto a substrate, a process may be adopted in which the coating process is repeated to apply multiple layers of the coating material onto the substrate.

従来、このような同種の処理を同じ基板に複数
回にわたつて施す基板処理装置として、次のよう
なものがある。
Conventionally, there are the following substrate processing apparatuses that perform the same type of processing on the same substrate multiple times.

例えば、第8図に示す基板処理装置は、カセツ
ト(図示せず)に収納された基板を一枚ずつ順に
供給するローダ1、このローダ1から供給された
基板に液状のコーテイング材料を所定の条件でス
ピンコートとする第1の処理部としてのコータ
2、コーテイング材料が塗布された基板を加熱乾
燥処理する第2の処理部としてのオーブン3、加
熱処理された基板をカセツトに順に収納するアン
ローダ4が縦列配置され、エアー・トラツク、ベ
ルト・トラツク、あるいはロボツト・アームなど
の基板搬送機構5で上記各ユニツト間をループ状
に連結したものである。
For example, the substrate processing apparatus shown in FIG. 8 includes a loader 1 that sequentially supplies substrates stored in a cassette (not shown) one by one, and a liquid coating material applied to the substrates supplied from the loader 1 under predetermined conditions. a coater 2 as a first processing section that performs spin coating, an oven 3 as a second processing section that heats and dries the substrate coated with the coating material, and an unloader 4 that sequentially stores the heat-treated substrates in a cassette. are arranged in tandem, and the respective units are connected in a loop shape by a substrate transport mechanism 5 such as an air track, a belt track, or a robot arm.

この装置によれば、第1回目の塗布処理を受け
た基板群を収納したアンローダ4のカセツトから
基板を搬出して、再び第2回目の塗布処理を行う
というように、ループ状に連結した前記各ユニツ
ト間にて基板を周回することによつて、基板上に
コーテイング材料を多層に塗布している。
According to this apparatus, the substrates are connected in a loop so that the substrates are unloaded from the cassette of the unloader 4 containing the group of substrates that have undergone the first coating process, and then the second coating process is performed again. By rotating the substrate between each unit, multiple layers of coating material are applied onto the substrate.

〈発明が解決しようとする課題〉 しかしながら、上述した従来装置によれば、次
のような問題点がある。
<Problems to be Solved by the Invention> However, the above-described conventional device has the following problems.

自動化するに際し、処理を1回行う装置なら
ば、処理の完了した基板を、順次アンローダに収
納するように制御しておけばよいから管理が簡単
であるが、しかし、同種の処理を同じ基板に対し
て反復して行う上記装置においては、何回目の処
理が終了した時点で基板をアンローダに収納する
のかを管理する必要がある。この点に関し、特公
昭63−18855号公報(発明の名称『半導体装置の
製造方法』)には、次のような方法が開示されて
いる。この方法は、各基板に処理条件(例えば、
反復処理の設定回数など)を記録した例えばバー
コードなどのマーク・パターンを付与し、各処理
装置に少なくとも1台のアンローダを直列に付設
しておき、各処理装置とそれに付設のアンローダ
との間でマーク・パターンを識別し、個々のマー
ク・パターンに基づいて処理の進行を管理するも
のである。
When automating the process, if the device performs the process once, it is easy to manage it by simply storing the processed substrates in the unloader one after another. However, if the same type of processing is performed on the same substrate On the other hand, in the above-mentioned apparatus that performs processing repeatedly, it is necessary to manage at what point the substrate is stored in the unloader at the end of the processing. Regarding this point, the following method is disclosed in Japanese Patent Publication No. 18855/1985 (title of the invention: ``Method for manufacturing a semiconductor device''). This method requires that each substrate be given processing conditions (e.g.
At least one unloader is attached to each processing device in series, and a mark pattern such as a bar code is attached to record the set number of repetition processing, etc.), and at least one unloader is attached in series between each processing device and the attached unloader. The mark pattern is identified by the mark pattern, and the progress of processing is managed based on the individual mark pattern.

上記方法は、優れた方法ではあるが、各基板に
マーク・パターンを付与する作業が要求されると
いう煩わしさがある。
Although the above method is an excellent method, it is troublesome in that it requires the work of applying a mark pattern to each substrate.

本発明は、このような問題点を解決するために
ためになされたものであつて、基板上に同種の処
理を複数回にわたつて施すに際し、処理回数の変
更などを容易に行うことができ、基板にマーク・
パターンを付与する必要のない基板処理装置を提
供することを目的としている。
The present invention was made to solve these problems, and it is possible to easily change the number of treatments when performing the same type of treatment on a substrate multiple times. , mark on the board
It is an object of the present invention to provide a substrate processing apparatus that does not require patterning.

〈課題を解決するための手段〉 本発明は、上記目的を達成するために、次のよ
うな構成をとる。
<Means for Solving the Problems> In order to achieve the above object, the present invention has the following configuration.

即ち、本発明は、基板を順に供給するローダ
と、前記ローダから供給された基板に所要の処理
を施す処理部と、前記処理の施された基板を順に
収納するアンローダとが、基板搬送機構を介して
ループ状に連結された基板処理装置であつて、 前記処理部から搬送されてきた基板を前記アン
ローダおよびローダを通過またはバイパスして前
記処理部に送り出す状態(スルー状態)と、前記
処理部から搬送されてきた基板を前記アンローダ
に収納する状態(ストア状態)とを切り換え可能
に構成された切り換え搬送機構と、 各基板に必要な処理反復回数(設定処理回数)
を設定する処理回数設定手段と、 前記処理部によつて処理が1回行われるたび
に、処理完了を検知して、処理完了信号を出力す
る処理完了信号検出手段と、 各基板の前記設定処理回数と各基板の処理完了
信号との累計出力回数とを比較し、処理完了信号
の累計出力回数が前記設定処理回数よりも小さい
場合には、前記切り換え搬送機構をスルー状態に
し、前記両回数が一致した場合には、前記切り換
え搬送機構をストア状態にして、処理済みの基板
を前記アンローダに収納するように前記切り換え
搬送機構を制御する制御手段と、 を備えたことを特徴としている。
That is, in the present invention, a loader that sequentially supplies substrates, a processing section that performs required processing on the substrates supplied from the loader, and an unloader that sequentially stores the processed substrates form a substrate transport mechanism. The substrate processing apparatus is connected in a loop through a substrate processing apparatus, and includes a state (through state) in which a substrate transported from the processing section passes through or bypasses the unloader and loader and sends it to the processing section; a switching transport mechanism configured to be able to switch between a state (store state) in which the board transported from
processing number setting means for setting the number of processing times; processing completion signal detection means for detecting processing completion and outputting a processing completion signal each time the processing is performed by the processing section; and the setting processing for each board. The number of times is compared with the cumulative number of outputs of the processing completion signal of each board, and if the cumulative number of outputs of the processing completion signal is smaller than the set processing number, the switching conveyance mechanism is put into the through state, and both the number of times are output. The present invention is characterized by comprising: a control means for controlling the switching transport mechanism so as to place the switching transport mechanism in a store state and storing the processed substrate in the unloader when a match is found.

〈作用〉 本発明の作用は次のとおりである。<Effect> The effects of the present invention are as follows.

まず、処理回数設定手段によつて、各基板に必
要な処理反復回数(設定処理回数)が設定され
る。そして、ローダから順に供給された各基板が
処理部によつて所要の処理が施されるごとに、各
基板の処理完了信号が処理完了信号検出手段によ
つて検出される。制御手段は、各基板ごとに前記
設定処理回数と処理完了信号の累計出力回数とを
比較する。処理完了信号の累計出力回数が設定処
理回数よりも小さい場合、制御手段は、切り換え
搬送機構をスルー状態に設定する。そうすると、
処理部から搬送された基板は、切り換え搬送機構
を介して、再び同じ処理部へと供給されて、同種
の処理を再び施される。処理完了信号の累計出力
回数と設定処理回数とが一致すると、制御手段
は、切り換え搬送機構をストア状態に設定する。
これにより、予め設定された処理反復回数だけ処
理をうけた各基板がアンローダに順に収納され
る。
First, the number of processing repetitions (set processing number) required for each substrate is set by the processing number setting means. Each time the processing section performs the required processing on each substrate sequentially supplied from the loader, a processing completion signal for each substrate is detected by the processing completion signal detection means. The control means compares the set number of times of processing and the cumulative number of times of outputting the processing completion signal for each board. If the cumulative number of times the processing completion signal is output is smaller than the set number of processing times, the control means sets the switching conveyance mechanism to the through state. Then,
The substrate transported from the processing section is again supplied to the same processing section via the switching transport mechanism and subjected to the same type of processing again. When the cumulative number of outputs of the processing completion signal and the set number of processing match, the control means sets the switching conveyance mechanism to the store state.
As a result, each substrate that has been processed a preset number of times is sequentially stored in the unloader.

〈実施例〉 以下、本発明の実施例を図面を参照して説明す
る。
<Example> Hereinafter, an example of the present invention will be described with reference to the drawings.

第1図は、本発明の一実施例に係る基板処理装
置の制御系の構成を示した概略ブロツク図、第2
図は各部機構の配置図を示している。
FIG. 1 is a schematic block diagram showing the configuration of a control system of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG.
The figure shows the layout of each part mechanism.

まず、第2図を参照して本装置における各部機
構の概略を説明する。
First, referring to FIG. 2, the outline of each part mechanism in this device will be explained.

本実施例に係る基板処理装置は、カセツト内に
収納された基板を順に供給するローダ11と、こ
のローダ11から供給された基板にコーテイング
材料を塗布する第1の処理部としてのコータ12
と、コーテイング材料が塗布された基板を加熱乾
燥処理する第2の処理部としてのオーブン13
と、バツフア14と、コーテイング処理が施され
た基板をカセツトに順に収納するアンローダ15
とが、基板搬送機構としての方向転換用コンベア
161,162などを介してループ状に連結された
配置になつている。
The substrate processing apparatus according to this embodiment includes a loader 11 that sequentially supplies substrates stored in a cassette, and a coater 12 as a first processing section that applies coating material to the substrates supplied from the loader 11.
and an oven 13 as a second processing section that heats and dries the substrate coated with the coating material.
, a buffer 14, and an unloader 15 that sequentially stores coated substrates in a cassette.
are connected in a loop shape via direction changing conveyors 16 1 , 16 2 as substrate transport mechanisms.

バツフア14は、ローダ11が全ての基板の送
り出しを完了していないうちに、オーブン13か
ら処理済みの基板が排出されたときに、その基板
を一時的に収納するものであつて、ローダ11や
アンローダ15と同様の基板収納機構を備えてい
る。
The buffer 14 is used to temporarily store processed substrates when they are discharged from the oven 13 before the loader 11 has finished feeding all the substrates. It has a substrate storage mechanism similar to that of the unloader 15.

また、本実施例において、オーブン13からバ
ツフア14へ、バツフア14からアンローダ15
へ、アンローダ15からローダ11へ、ローダ1
1から方向転換用コンベア161への基板搬送機
構としては、後述するアーム式の基板受け渡し装
置が用いられている。ただし、本発明に使用され
る基板搬送機構はこれらに限定されるものではな
く、例えばベルト式基板搬送機構やエアー噴射に
よつて基板を搬送するような機構を採用すること
もできる。
Further, in this embodiment, from the oven 13 to the buffer 14 and from the buffer 14 to the unloader 15
to, unloader 15 to loader 11, loader 1
As a substrate conveyance mechanism from 1 to the direction change conveyor 16 1 , an arm-type substrate transfer device, which will be described later, is used. However, the substrate transport mechanism used in the present invention is not limited to these, and for example, a belt-type substrate transport mechanism or a mechanism that transports the substrate by air injection may be employed.

第3図は、ローダ11、バツフア14、および
アンローダ15に適用される基板受け渡し装置の
構成を示した斜視図である。
FIG. 3 is a perspective view showing the configuration of a substrate transfer device applied to the loader 11, buffer 14, and unloader 15.

基板搬送路A上に設けられた基板受け渡し装置
21の両側に、それぞれアーム式の収納側基板搬
送機構22と取り出し側基板搬送機構23が設け
られている。ここで、ローダ11およびアンロー
ダ15に備えられる収納側基板搬送機構22およ
び取り出し側基板搬送機構23は、基板受け渡し
装置21と関連して、本発明における切り換え搬
送機構を構成している。
On both sides of the substrate transfer device 21 provided on the substrate transfer path A, an arm-type storage-side substrate transfer mechanism 22 and an ejection-side substrate transfer mechanism 23 are provided, respectively. Here, the storage-side substrate transport mechanism 22 and the take-out-side substrate transport mechanism 23 provided in the loader 11 and the unloader 15 constitute a switching transport mechanism in the present invention in conjunction with the substrate transfer device 21.

基板受け渡し装置21は、次のように構成され
ている。
The substrate transfer device 21 is configured as follows.

すなわち、基台24に立設された一対のガイド
ロツド25に、支持枠26が摺動自在に嵌め付け
されており、この支持枠26の基端部にネジ棒2
7を螺合し、このネジ棒27をモータ28でベル
ト駆動することによつて、支持枠26を昇降自在
に構成している。支持枠26の上面には複数個の
スペーサ29を介して天板30が取り付けられて
いる。この天板30に、基板Wを収納するカセツ
トCが着脱自在に取り付けられるようになつてい
る。支持枠26と天板30との間隙は、後述する
基板搬送機構22,23間で基板Wを受け渡すた
めのトンネル部31になつている。このトンネル
部31内には、基板搬送機構22,23間の基板
Wの受け渡しを補助するために、図示しない昇降
可能な基板載置部材などが設けられている。
That is, a support frame 26 is slidably fitted into a pair of guide rods 25 erected on a base 24, and a threaded rod 2 is attached to the base end of the support frame 26.
7 are screwed together, and this threaded rod 27 is driven by a motor 28 with a belt, thereby making the support frame 26 movable up and down. A top plate 30 is attached to the upper surface of the support frame 26 via a plurality of spacers 29. A cassette C for storing substrates W is detachably attached to this top plate 30. The gap between the support frame 26 and the top plate 30 forms a tunnel portion 31 for transferring the substrate W between the substrate transport mechanisms 22 and 23, which will be described later. In this tunnel portion 31, a substrate mounting member (not shown) that can be raised and lowered is provided to assist in transferring the substrate W between the substrate transport mechanisms 22 and 23.

収納側基板搬送機構22および取り出し側基板
搬送機構23それぞれは、基台24に固定された
搬送用モータ321,322に第1アーム331
332の一端側が一体回転自在に取り付けられる
とともに、その第1アーム331,332の他端側
に、規制ベルトを介して第1アーム331,332
と反対方向に回転するように第2アーム341
342が取り付けられている。第2アーム341
342の先端には、基板Wの裏面を吸着保持する
ための空気吸引による吸引口351,352が形成
されている。
The storage side substrate transfer mechanism 22 and the takeout side substrate transfer mechanism 23 each have a first arm 33 1 , a transfer motor 32 1 , 32 2 fixed to a base 24 ,
One end side of 33 2 is attached to the first arm 33 1 , 33 2 so as to be freely rotatable, and the first arm 33 1 , 33 2 is attached to the other end side of the first arm 33 1 , 33 2 via a regulating belt.
the second arm 34 1 so as to rotate in the opposite direction;
34 2 is attached. Second arm 34 1 ,
Suction ports 35 1 and 35 2 for suctioning and holding the back surface of the substrate W are formed at the tip of the substrate 34 2 .

トンネル部31を介して収納側基板搬送機構2
2から取り出し側基板搬送機構23への基板Wの
受け渡し動作(以下、このような基板Wの受け渡
し動作状態をスルー状態という)は、次のように
行われる。
Storage side substrate transfer mechanism 2 via tunnel section 31
The transfer operation of the substrate W from 2 to the take-out side substrate transport mechanism 23 (hereinafter, such a state of transfer operation of the substrate W will be referred to as a through state) is performed as follows.

まず、収納側基板搬送機構22の吸引口351
に基板Wを吸着保持した状態で、搬送用電動モー
タ321を駆動回転して、第2アーム341を第1
アーム331に対して屈伸させ、第2アーム341
の先端を水平移動して、前記基板Wをトンネル部
31へ挿入する。この基板Wはトンネル部31内
の基板配置部材に受け渡される。次に取り出し側
基板搬送機構23の搬送用伝送モータ322が駆
動されて、その第2アーム342がトンネル部3
1内に挿入される。
First, the suction port 35 1 of the storage side substrate transport mechanism 22
While holding the substrate W by suction, the electric transport motor 32 1 is driven and rotated to move the second arm 34 1 to the first
The second arm 34 1 is bent and extended relative to the arm 33 1 .
The substrate W is inserted into the tunnel portion 31 by horizontally moving the tip thereof. This substrate W is delivered to a substrate placement member within the tunnel section 31. Next, the transfer transmission motor 32 2 of the take-out side substrate transfer mechanism 23 is driven, and the second arm 34 2 is transferred to the tunnel portion 3 .
1.

そして、基板載置部に乗つている基板Wを、吸
引口352で吸着保持した後、搬送用電動モータ
322を逆回転させることによつて、基板Wがト
ンネル部31から取り出される。
After the substrate W placed on the substrate platform is sucked and held by the suction port 35 2 , the substrate W is taken out from the tunnel section 31 by rotating the transport electric motor 32 2 in the reverse direction.

次に、カセツトCに対して基板Wを収納あるい
は取り出す場合の動作を説明する。
Next, the operation for storing or removing the substrates W from the cassette C will be explained.

この場合には、モータ28を回転駆動して支持
枠26を、第3図に示した位置よりも下方に移動
させる。カセツトCに基板Wを収納する場合(以
下、このような動作状態をストア状態という)に
は、収納側基板搬送機構23が上述のスルー状態
の場合と同様に動作して、カセツトCの所定溝に
基板Wを収納する。カセツトCから基板Wを取り
出す場合には、上述したスルー状態の場合と同様
に取り出し側基板搬送機構22が駆動される。
In this case, the motor 28 is rotationally driven to move the support frame 26 downward from the position shown in FIG. When storing the substrates W in the cassette C (hereinafter, such an operating state will be referred to as the store state), the storage side substrate transport mechanism 23 operates in the same manner as in the through state described above, and the substrates are placed in the predetermined groove of the cassette C. The substrate W is stored in the. When taking out the substrate W from the cassette C, the take-out side substrate transport mechanism 22 is driven in the same manner as in the through state described above.

次に、第1図を参照して、本実施例の制御系の
構成を説明する。
Next, the configuration of the control system of this embodiment will be explained with reference to FIG.

図中、SW1は、基板Wにコーテイング材料を
何回反復塗布するかを設定する処理回数設定手段
としてのループ回数設定スイツチ、SW2は、基
板の投入開始を指令するスタートスイツチ、
SW3は、基板の投入終了を指令する投入終了ス
イツチである。
In the figure, SW1 is a loop number setting switch serving as a processing number setting means for setting how many times the coating material is repeatedly applied to the substrate W, SW2 is a start switch that commands the start of loading the substrate,
SW3 is a loading end switch that commands the end of board loading.

発光ダイオード41およびホトトランジスタ4
2は、基板Wを検出する基板検出器43を構成し
ている。この基板検出器43は、例えばバツフア
14に取り付けられて、コータ12によるコーテ
イング処理およびオーブン13による加熱処理を
完了した基板Wを検出する。基板検出器43の検
出信号は、パラレル入出力インターフエイス44
を介して、CPU45に取り込まれる。上記基板
検出器43は、本発明における処理完了信号検出
手段に対応している。
Light emitting diode 41 and phototransistor 4
2 constitutes a substrate detector 43 that detects the substrate W. The substrate detector 43 is attached to the buffer 14, for example, and detects the substrate W that has been coated by the coater 12 and heated by the oven 13. The detection signal of the board detector 43 is transmitted to the parallel input/output interface 44.
The data is taken into the CPU 45 via. The substrate detector 43 corresponds to processing completion signal detection means in the present invention.

さらに、CPU45は、本発明における制御手
段に対応し、パラレル入出力インターフエイス4
4を介して、ローダ11、コータ12、オーブン
13、バツフア14、アンローダ15、および上
述した各搬送機構を制御する。なお、符号46
は、制御プログラムを格納されるROM、47
は、第4図に示すように、前記ループ回数設定ス
イツチSW1から入力された設定処理回数DS、お
よびCPU45から与えられた処理完了信号の累
計出力会数DPを後述するように各基板(この例
では、1ロツトを構成している、No.1〜No.25の基
板)に対応付けて記憶する識別(ID)メモリで
ある。
Furthermore, the CPU 45 corresponds to the control means in the present invention, and the parallel input/output interface 4
4, the loader 11, coater 12, oven 13, buffer 14, unloader 15, and each of the above-mentioned transport mechanisms are controlled. In addition, the code 46
is a ROM in which a control program is stored, 47
As shown in FIG. 4, the set processing number DS input from the loop number setting switch SW1 and the cumulative output number DP of the processing completion signal given from the CPU 45 are determined for each board (in this example) as described later. This is an identification (ID) memory that is stored in association with the boards No. 1 to No. 25 that make up one lot.

次に、第5図および第6図に示した動作フロー
チヤートを参照して、実施例の動作を説明する。
Next, the operation of the embodiment will be described with reference to the operation flowcharts shown in FIGS. 5 and 6.

まず、第5図を参照して、ローダ11の処理に
関する動作を説明する。
First, with reference to FIG. 5, the operation of the loader 11 will be described.

スタートスイツチSW2がON状態にされると
(ステツプS1)、ローダ11が駆動されて、カセ
ツトから第1番目の基板が取り出される(ステツ
プS2)。そして、ループ回数設定スイツチSW1に
よる設定値(この例では、『3』を読み取り、第
4図に示したように、第1番目の基板に対応して
IDメモリ47に設定されたメモリエリアに、設
定処理回数DSとして3(すなわち、3回のコーテ
イング処理を行うこと)と、処理完了信号の累計
出力回数DPとして0(未処理)がセツトされる
(ステツプS3)。
When the start switch SW2 is turned on (step S1), the loader 11 is driven and the first substrate is taken out from the cassette (step S2). Then, read the setting value (in this example, "3") by the loop number setting switch SW1, and set the value corresponding to the first board as shown in Figure 4.
In the memory area set in the ID memory 47, 3 is set as the set number of processing times DS (that is, the coating process is performed three times), and 0 (unprocessed) is set as the cumulative number of output times DP of the processing completion signal ( Step S3).

次に、投入スイツチSW3の状態から、ローダ
11から全基板の投入が完了したかどうかを判断
し(ステツプS4)、投入が完了していない場合
は、アンローダ15からの基板の受け入れを禁止
して(ステツプS5)、ステツプS2に戻り、次の
(第2番目)基板をローダ11から取り出し、そ
の基板のメモリエリアに、。DS=3,DP=0を
セツトする。以後、1ロツトを構成している各基
板について同様の処理を繰り返して行う。
Next, based on the state of the input switch SW3, it is determined whether or not loading of all boards from the loader 11 has been completed (step S4), and if loading has not been completed, the acceptance of boards from the unloader 15 is prohibited. (Step S5) Return to step S2, take out the next (second) board from the loader 11, and store it in the memory area of that board. Set DS=3, DP=0. Thereafter, the same process is repeated for each substrate making up one lot.

1ロツトの基板の投入が完了すると、オペレー
タによつて投入終了スイツチSW3が押される。
なお、1カセツトごとに1ロツトとして処理を行
う場合には、ローダ11に投入終了スイツチ
SW3を付設しておいて、1カセツトの基板の投
入が完了すると自動的に投入終了スイツチSW3
がON状態になるようにしておいてもよい。その
ために、例えばカセツトC内の基板が順次下方の
基板から投入されるようにローダ11を動作さ
せ、支持枠26が最下位位置に到達したことを検
出する位置センサーを付設して、その位置センサ
ーを投入終了スイツチSW3として用いればよい。
なお、複数のカセツトを1ロツトとして処理を行
う場合には、減算カウンタを付設し、予め設定入
力したカセツト数から基板を投入したカセツト数
を順次減算し、全てのカセツトの基板が投入され
た時点で、投入終了スイツチSW3が動作するよ
うにしておいてもよい。
When the loading of one lot of substrates is completed, the loading end switch SW3 is pressed by the operator.
In addition, when processing each cassette as one lot, the loader 11 is turned off by the loading end switch.
If SW3 is attached, when loading one cassette of boards is completed, the loading end switch SW3 will be activated automatically.
may be set to be in the ON state. For this purpose, for example, the loader 11 is operated so that the substrates in the cassette C are sequentially loaded from the bottom, and a position sensor is attached to detect when the support frame 26 has reached the lowest position. may be used as the input/end switch SW3.
When processing multiple cassettes as one lot, a subtraction counter is attached to sequentially subtract the number of cassettes into which substrates have been loaded from the number of cassettes set and input in advance, and when the substrates in all cassettes have been loaded. Then, the input/end switch SW3 may be operated.

投入終了スイツチSW3がON状態になつたと判
断されると(ステツプS4)、ステツプS6に進ん
で、ローダ11をスルー状態にセツトして待機す
る。
When it is determined that the loading end switch SW3 is in the ON state (step S4), the process proceeds to step S6, where the loader 11 is set to the through state and stands by.

上述のスルー状態は、全基板の処理が完了する
まで続けられ(ステツプS7)、全基板の処理が完
了すると、ローダ11は基板の取り出し可能な初
期状態に復帰(原点復帰)する(ステツプS8)。
The above-mentioned through state continues until the processing of all the substrates is completed (step S7), and when the processing of all the substrates is completed, the loader 11 returns to the initial state (return to origin) in which the substrates can be taken out (step S8). .

次に、第6図を参照して、バツフア14に関す
る処理の動作を説明する。
Next, the processing operation regarding the buffer 14 will be explained with reference to FIG.

基板の投入が開始されると、CPU45は、基
板検出器43からの出力信号に基づいて、基板が
検出されたかどうか、すなわち、その基板のコー
テイング処理および加熱処理が終了したかどうか
を監視している(ステツプS11)。基板が検出さ
れると、IDメモリ47から、その基板の設定処
理回数DSと処理完了信号の累計出力回数DPとを
読み出し(ステツプS12)、その累計出力回数の
値に『1』を加えて、その加算値を元のDP値と
置き換える(ステツプS13)。そして、新しく置
き換えたDP値が、設定処理回数DSに一致してい
るかどうかを判断する(ステツプS14)。
When inputting the substrate is started, the CPU 45 monitors whether the substrate has been detected based on the output signal from the substrate detector 43, that is, whether the coating process and heating process of the substrate have been completed. (Step S11). When a board is detected, the set processing number DS and the cumulative output number DP of the processing completion signal for that board are read from the ID memory 47 (step S12), and "1" is added to the value of the cumulative output number. The added value is replaced with the original DP value (step S13). Then, it is determined whether the newly replaced DP value matches the set number of processing times DS (step S14).

なお、ステツプS12における設定処理回数DSと
処理完了信号の累計出力回数DPとの読み出しは、
各基板に対応したDSとDPを読み出さねばならな
いが、そのために、IDメモリ47における読み
出しの対象とするメモリエリアを、1回読み出す
たびに、一つずつ次のメモリエリアを読み出すよ
うにシフトすればよい。これは、ループ状に連結
された基板処理装置において、基板はフアース
ト・イン・フアースト・アウトで搬送されている
からである。なお、ステツプS13におけるDP値
の置き換え、およびステツプS14におけるDP値
のDSとの一致の判断も、メモリエリアを順次一
つずつシフトして行う。
Note that reading the set processing number DS and the cumulative output number DP of processing completion signals in step S12 is as follows:
It is necessary to read out the DS and DP corresponding to each board, but in order to do this, the memory area to be read in the ID memory 47 is shifted so that the next memory area is read out one by one each time it is read out. good. This is because substrates are transported in a first-in first-out manner in the substrate processing apparatuses connected in a loop. Note that the replacement of the DP value in step S13 and the determination of whether the DP value matches the DS in step S14 are also performed by sequentially shifting the memory areas one by one.

DP値がDS値に一致してない場合、すなわち、
DP値がDS値よりも小さい場合は、まだその基板
が必要な回数だけ処理を受けていないことになる
から、ステツプS15に進んで、ローダ11および
アンローダ15をスルー状態にセツトする。
If the DP value does not match the DS value, i.e.
If the DP value is smaller than the DS value, it means that the substrate has not been processed the required number of times, so the process advances to step S15 and the loader 11 and unloader 15 are set to the through state.

先に処理された基板がバツフア14に一時的に
格納されている場合には、先入れ先出しの原則に
基づき収納および排出する。一方、バツフア14
に基板が収納されていない場合には、バツフア1
4に到達した基板をそのまま排出する(ステツプ
S16)。
If previously processed substrates are temporarily stored in the buffer 14, they are stored and discharged on a first-in, first-out basis. On the other hand, Batsuhua 14
If no board is stored in buffer 1,
Eject the board that has reached step 4 (step 4).
S16).

バツフア14から排出された基板は、スルー状
態にあるバツフア14およびローダ11を素通り
して、再び、コータ12およびオーブン13によ
る処理を受ける(ステツプS17)。
The substrate discharged from the buffer 14 passes through the buffer 14 and the loader 11 which are in the through state, and is again processed by the coater 12 and oven 13 (step S17).

そして、前記ステツプS11からステツプS13の
手順が繰り返されることにより、各基板が処理さ
れるごとに、処理完了信号の累計出力回数DPが
『1』ずつ加算されていく。ステツプS14におい
て、処理完了信号の累計出力回数DPが、設定処
理回数DSに一致していると判断されると、ステ
ツプS18に進み、アンローダ15をストア状態に
セツトする。続いて、バツフア14から先入れ先
出しの原則に基づいて基板をアンローダ15に排
出する。そして、IDメモリ47の全基板のDP値
がDS値に等しくなつたかどうかによつて全基板
の処理が完了したかどうかを判断し(ステツプ
S20)、全処理が完了していない場合には、前記
ステツプS11に戻り、全処理が完了している場合
には動作を終了する。
Then, by repeating the procedure from step S11 to step S13, the cumulative number of outputs DP of the processing completion signal is incremented by "1" each time each board is processed. If it is determined in step S14 that the total number of outputs of the processing completion signal DP matches the set number of processing times DS, the process proceeds to step S18, where the unloader 15 is set to the store state. Subsequently, the substrates are discharged from the buffer 14 to the unloader 15 on a first-in, first-out basis. Then, based on whether the DP values of all the boards in the ID memory 47 have become equal to the DS value, it is determined whether the processing of all the boards has been completed (step
S20) If all the processing has not been completed, the process returns to step S11, and if all the processing has been completed, the operation ends.

なお、上述の実施例では、切り換え搬送機構
を、基板受け渡し装置21に付設された収納側基
板搬送機構22および取り出し側基板搬送機構2
3によつて構成したが、これは例えば、第7図に
示すように、アンローダ15およびローダ11を
迂回するバイパス搬送路50を設け、スルー状態
のときには、オーブン13から搬送されてきた基
板を、バイパス搬送路50を介してコータ12に
搬送し、ストア状態のときには、バイパス搬送路
50を切り離して、基板をアンローダ15に収納
するようにしてもよい。
In the above-described embodiment, the switching transport mechanism is the storage-side substrate transport mechanism 22 and the take-out-side substrate transport mechanism 2 attached to the substrate delivery device 21.
For example, as shown in FIG. 7, a bypass conveyance path 50 is provided to bypass the unloader 15 and loader 11, and in the through state, the substrate conveyed from the oven 13 is The substrate may be transported to the coater 12 via the bypass transport path 50, and when in the store state, the bypass transport path 50 may be disconnected and the substrate may be stored in the unloader 15.

また、実施例では、処理部をコータ12とオー
ブン13によつて構成したが、これは、基板の洗
浄処理装置など、その他の処置装置で構成しても
よいことは勿論である。
Further, in the embodiment, the processing section is composed of the coater 12 and the oven 13, but it goes without saying that it may be composed of other processing apparatuses such as a substrate cleaning processing apparatus.

さらに、実施例の装置に含まれるバツフア14
は、各機構部の動作時間の調整や、不測の故障が
発生した場合の安全対策として設けられたもので
あるから、本発明において、必ずしも必要とされ
るものではない。
Furthermore, the buffer 14 included in the device of the embodiment
This is provided as a safety measure for adjusting the operating time of each mechanical section and for unexpected failure, and is therefore not necessarily required in the present invention.

〈発明の効果〉 以上の説明から明らかなように、本発明に係る
基板処理装置によれば、ローダ、処理部、アンロ
ーダを基板搬送機構を介してループ状に連結し、
基板の処理完了信号の累計出力回数が設定処理回
数に満たない場合には、アンローダおよびローダ
を通過またはバイパスさせて基板を再処理し、処
理完了信号の累計出力回数が設定処理回数に一致
した場合には、基板をアンローダに収納するよう
に構成したから、基板上に同種の処理を複数回に
わたつて施すのを自動的に行うことができる。ま
た、設定処理回数を適宜に変更することによつ
て、基板の処理反復回数を容易に変更することも
できる。
<Effects of the Invention> As is clear from the above description, according to the substrate processing apparatus according to the present invention, the loader, the processing section, and the unloader are connected in a loop shape via the substrate transport mechanism,
If the total number of times the board processing completion signal is output is less than the set number of processing times, the board is reprocessed by passing or bypassing the unloader and loader, and when the total number of times the processing completion signal is output matches the number of set processing times. Since the substrate is stored in the unloader, it is possible to automatically perform the same type of processing on the substrate multiple times. Further, by appropriately changing the set number of times of processing, the number of repetitions of substrate processing can be easily changed.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図ないし第6図は本発明の一実施例の説明
図であり、第1図はその制御系の概略ブロツク
図、第2図は各部の配置例を示したブロツク図、
第3図はローダ、アンローダ、バツフアに共通に
使用される基板受け渡し装置とこれに付設される
基板搬送機構の斜視図、第4図は制御系に含まれ
るIDメモリの説明図、第5図はローダに関する
動作フローチヤート、第6図はバツフアに関する
動作フローチヤートである。また、第7図は切り
換え搬送機構の別実施例の説明図である。第8図
は従来の基板処理装置の概略ブロツク図である。 11……ローダ、12……コータ、13……オ
ーブン、14……バツフア、15……アンロー
ダ、161,162……方向転換用コンベア、21
……基板受け渡し装置、22……収納側基板搬送
機構、23……取り出し側基板搬送機構、43…
…基板検出器、45……CPU、47……IDメモ
リ、50……バイパス搬送路、SW1……ループ
回数設定スイツチ。
1 to 6 are explanatory diagrams of one embodiment of the present invention, in which FIG. 1 is a schematic block diagram of its control system, FIG. 2 is a block diagram showing an example of the arrangement of each part,
Fig. 3 is a perspective view of a substrate transfer device commonly used in loaders, unloaders, and buffers and a substrate transport mechanism attached thereto, Fig. 4 is an explanatory diagram of the ID memory included in the control system, and Fig. 5 is an illustration of the ID memory included in the control system. An operational flowchart regarding the loader, and FIG. 6 is an operational flowchart regarding the buffer. Further, FIG. 7 is an explanatory diagram of another embodiment of the switching conveyance mechanism. FIG. 8 is a schematic block diagram of a conventional substrate processing apparatus. 11...Loader, 12...Coater, 13...Oven, 14...Buffer, 15...Unloader, 16 1 , 16 2 ...Direction change conveyor, 21
...Substrate transfer device, 22...Storing side substrate transport mechanism, 23...Takeout side substrate transport mechanism, 43...
...Substrate detector, 45...CPU, 47...ID memory, 50...Bypass transport path, SW1...Loop number setting switch.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 基板を順に供給するローダと、前記ローダか
ら供給された基板に所要の処理を施す処理部と、
前記処理の施された基板を順に収納するアンロー
ダとが、基板搬送機構を介してループ状に連結さ
れた基板処理装置であつて、 前記処理部から搬送されてきた基板を前記アン
ローダおよびローダを通過またはバイパスして前
記処理部に送り出す状態(スルー状態)と、前記
処理部から搬送されてきた基板を前記アンローダ
に収納する状態(ストア状態)とを切り換え可能
に構成された切り換え搬送機構と、 各基板に必要な処理反復回数(設定処理回数)
を設定する処理回数設定手段と、 前記処理部によつて処理が1回行われるたび
に、処理完了を検知して、処理完了信号を出力す
る処理完了信号検出手段と、 各基板の前記設定処理回数と各基板の処理完了
信号の累計出力回数とを比較し、処理完了信号の
累計出力回数が前記設定処理回数よりも小さい場
合には、前記切り換え搬送機構をスルー状態に
し、前記両回数が一致した場合には、前記切り換
え搬送機構をストア状態にして、処理済みの基板
を前記アンローダに収納するように前記切り換え
搬送機構を制御する制御手段と、 を備えたことを特徴とする基板処理装置。
[Claims] 1. A loader that sequentially supplies substrates, a processing section that performs required processing on the substrates supplied from the loader,
An unloader that sequentially stores the processed substrates is a substrate processing apparatus connected in a loop via a substrate transport mechanism, and the substrates transported from the processing section are passed through the unloader and the loader. or a switching transport mechanism configured to be able to switch between a state where the substrates are bypassed and sent to the processing section (through state) and a state where the substrates transported from the processing section are stored in the unloader (store state); Number of processing repetitions required for the board (set processing number)
processing number setting means for setting the number of processing times; processing completion signal detection means for detecting processing completion and outputting a processing completion signal each time the processing is performed by the processing section; and the setting processing for each board. The number of times is compared with the cumulative number of outputs of processing completion signals for each board, and if the cumulative number of outputs of processing completion signals is smaller than the set number of processing, the switching transfer mechanism is put into a through state, and the two numbers match. a control means for controlling the switching and transporting mechanism so as to place the switching and transporting mechanism in a store state and storing the processed substrate in the unloader when the switching and transporting mechanism is stored in the unloader.
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