JPH0611070B2 - Wafer counter - Google Patents
Wafer counterInfo
- Publication number
- JPH0611070B2 JPH0611070B2 JP63020958A JP2095888A JPH0611070B2 JP H0611070 B2 JPH0611070 B2 JP H0611070B2 JP 63020958 A JP63020958 A JP 63020958A JP 2095888 A JP2095888 A JP 2095888A JP H0611070 B2 JPH0611070 B2 JP H0611070B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- cassette
- wafers
- counter
- sensor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Landscapes
- Controlling Sheets Or Webs (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は、ウエハカセットに収納された半導体ウエハの
位置検知及び枚数検出を可能にしたウエハカウンタに関
する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application] The present invention relates to a wafer counter capable of detecting the position and the number of semiconductor wafers stored in a wafer cassette.
(従来の技術) 半導体集積回路(Semiconductor integrated circuit)
を製造する場合、製造工程中の各ロッド毎にウエハ(w
afer)有無の監視や次工程に供給するウエハの枚数
の確認を行うためにウエハカウンタを使用している。ウ
エハカウンタは、ウエハカセットに収納したウエハの収
納位置及び枚数を検出する。(Prior Art) Semiconductor integrated circuit
When manufacturing a wafer, a wafer (w
The wafer counter is used to monitor the presence or absence of the wafer and to confirm the number of wafers to be supplied to the next process. The wafer counter detects the storage position and the number of wafers stored in the wafer cassette.
このようなウエハカウンタとして例えば実開昭61-12934
0号(Japanese utility model disclosure No.86-12934
0)がある。第1図は、このウエハカウンタによるウエ
ハの位置及び枚数の検出の仕方を示している。すなわ
ち、図中の符号(1)は、ウエハカセット(図示せず)に
収納されたウエハを示している。このウエハ(1)の表面
に対して、所定の角度(θ)で傾斜した状態で光軸(2)を
設定するようにして、投光素子(3)と受光素子(4)が対向
配置されている。投光素子(3)と受光素子(4)は、ウエハ
(1)の配列方向に沿って、ウエハ(1)の配置ピッチ(D)に
等しい移動ピッチで間欠的に移動するようになってい
る。そして、投光素子(3)から受光素子(4)に向って光軸
(2)に沿って投光された赤外線をウエハ(1)が遮断して、
受光素子(4)に入力される赤外線の光量が減衰した場合
に、ウエハ(1)が存在していることを検出する。逆に赤
外線の光量の減衰がない場合に、ウエハ(1)が存在して
いないことを検出する。かかるウエハ(1)の有無の検出
を、投光素子(3)と受光素子(4)の間欠的な移動毎に行う
ことにより、ウエハ(1)の枚数を検出する。An example of such a wafer counter is, for example, SHOkai 61-12934.
No. 0 (Japanese utility model disclosure No.86-12934
There is 0). FIG. 1 shows how to detect the position and the number of wafers by the wafer counter. That is, reference numeral (1) in the figure indicates a wafer stored in a wafer cassette (not shown). The light projecting element (3) and the light receiving element (4) are arranged so as to face each other with respect to the surface of the wafer (1) so that the optical axis (2) is set in a state of being inclined at a predetermined angle (θ). ing. The light emitting element (3) and the light receiving element (4) are
The wafers (1) are intermittently moved along the arrangement direction at a movement pitch equal to the arrangement pitch (D) of the wafers (1). The optical axis goes from the light emitting element (3) to the light receiving element (4).
The wafer (1) blocks the infrared light projected along (2),
The presence of the wafer (1) is detected when the amount of infrared light input to the light receiving element (4) is attenuated. On the contrary, when the amount of infrared light is not attenuated, it is detected that the wafer (1) does not exist. The number of wafers (1) is detected by detecting the presence or absence of the wafer (1) at each intermittent movement of the light projecting element (3) and the light receiving element (4).
上記ウエハカウンタの他にも、反射型のセンサーを用い
て、ウエハカセットの上方からウエハに向けて赤外線を
投光し、その反射光を受光することによりウエハの有無
を検出するウエハカウンタもある。この場合も、赤外線
の投光素子と反射光の受光素子をウエハの配列方向に沿
って間欠的にスキャニング(scanning)するこ
とにより、ウエハの枚数を検出する。In addition to the above-mentioned wafer counter, there is also a wafer counter which uses a reflective sensor to project infrared rays from above the wafer cassette toward the wafer and receives the reflected light to detect the presence or absence of the wafer. Also in this case, the number of wafers is detected by intermittently scanning the infrared light projecting element and the reflected light receiving element along the wafer arrangement direction.
(発明が解決しようとする課題) しかし、このような従来のウエハカウンタでは、投光し
た赤外線がウエハの表面やウエハの端部で乱反射する場
合がある。この場合、受光素子がウエハの誤検出をして
しまう。その結果、ウエハの位置及び枚数を正確に検知
できない問題があった。さらにウエハカウンタとして実
開昭60-101746号,実開昭61-55431号,実開昭61-127639
号,実開昭61-153345号,実開昭61-129340号,実開昭62
-14733号などの手段がある。しかしウエハの移換えなど
の工程に実用化難い問題があった。(Problems to be Solved by the Invention) However, in such a conventional wafer counter, the projected infrared rays may be diffusely reflected on the surface of the wafer or the edge of the wafer. In this case, the light receiving element erroneously detects the wafer. As a result, there is a problem that the position and the number of wafers cannot be detected accurately. Further, as wafer counters, actual development number Sho 101-101746, actual development number 61-55431, actual development number 61-127639
No., No. 61-153345, No. 61-129340, No. 62
There are means such as -14733. However, there is a problem that it is difficult to put it into practical use in processes such as wafer transfer.
本発明は、上記課題を解決するためになされたもので、
省スペース化を図ることができ、しかも、多数枚の半導
体ウエハの位置及び枚数を半導体ウエハのオリエンテー
ションフラットの向きに左右されることなく、全ウエハ
を漏らさずに正確かつ瞬時に一括して検出することがで
きるウエハカウンタを提供することを目的としている。The present invention has been made to solve the above problems,
Space saving can be achieved, and moreover, the positions and the number of a large number of semiconductor wafers are not affected by the orientation of the orientation flat of the semiconductor wafers, and all the wafers can be detected accurately and instantly without leaking. It is an object of the present invention to provide a wafer counter that can be used.
(課題を解決するための手段) 本発明のウエハカウンタは、複数枚のウエハをそれぞれ
予め定めた間隔で離隔してウエハカセットに収納したウ
エハの位置検出及び枚数検出を行なうウエハカウンタに
おいて、上記ウエハカセットに収納されたウエハを1枚
置きに挟むように対向配置した発光素子と受光素子とか
らなる透過型センサをウエハカセットの長手方向に直線
状に配列して上記各ウエハを1枚置きに検出する第1の
センサ列と、この第1のセンサ列で検出するウエハ以外
の1枚置きのウエハを検出するように上記第1のセンサ
列と同構成の透過型センサを直線状に配列した第2のセ
ンサ列と、これらの各センサ列を構成する各透過型セン
サの発光素子と受光素子がそれぞれ上記各ウエハのオリ
エンテーションフラットよりもウエハの中心寄りに位置
するように各センサ列をそれぞれ互いに並列に支持する
ベースとを備えたことを特徴とする。(Means for Solving the Problems) A wafer counter of the present invention is a wafer counter for detecting the position and the number of wafers stored in a wafer cassette, each of which is a plurality of wafers separated by a predetermined interval. Detecting each of the above wafers by arranging transmissive sensors consisting of a light emitting element and a light receiving element, which are arranged so as to face each other so as to sandwich every other wafer stored in the cassette, in a straight line in the longitudinal direction of the wafer cassette. A first sensor array and a transmissive sensor having the same structure as the first sensor array so as to detect every other wafer other than the wafer detected by the first sensor array. The two sensor rows and the light-emitting elements and light-receiving elements of each transmissive sensor that constitutes each of these sensor rows are located in the wafer more than the orientation flat of each wafer. And a base for supporting the respective sensor rows in parallel with each other so as to be located closer to the center.
(作用) 本発明によれば、ウエハカセットに収納されたウエハの
位置及び枚数を検出する際に、第1のセンサ列は各透過
型センサの発光素子と受光素子がウエハカセット内で1
枚置きのウエハをそれぞれのオリエンテーションフラッ
トよりもウエハの中心寄りで挟んで対向すると共に、第
2のセンサ列も第1のセンサ列と同様に各透過型センサ
の発光素子と受光素子がウエハカセット内の残りの1枚
置きのウエハをそれぞれのオリエンテーションフラット
よりもウエハの中心寄りで挟んだ状態で対向し、ウエハ
のオリエンテーションフラットの向きとは関係なく第
1、第2のセンサ列により全ウエハを漏らすことなく一
括して同時且つ確実にそれぞれその位置及び枚数を検出
することができる。(Operation) According to the present invention, when detecting the position and the number of wafers stored in the wafer cassette, the first sensor row has the light emitting element and the light receiving element of each transmissive sensor within the wafer cassette.
The wafers placed every other wafer are opposed to each other by sandwiching the wafers closer to the center of the wafer than the orientation flats, and the light emitting element and the light receiving element of each transmissive sensor in the wafer cassette are arranged in the wafer cassette in the second sensor row as in the first sensor row. The remaining wafers, which are placed every other wafer, face each other in a state of being sandwiched closer to the center of the wafer than the respective orientation flats, and leak all wafers by the first and second sensor rows regardless of the orientation of the wafer orientation flats. It is possible to detect the position and the number of sheets simultaneously and surely collectively without any operation.
(実施例) 以下、本発明の一実施例について図面を参照して説明す
る。(Example) Hereinafter, one example of the present invention will be described with reference to the drawings.
第2図は、本発明のウエハカウンタ(20)を収容したウエ
ハカセット(21)の斜視図である。このウエハカセット(2
1)は、断面U字状のデルリン(商品名)製容器で、その
両側壁(21a)(21b)に複数枚の各ウエハ(22)を夫々所定の
間隔で保持しウエハの周縁部の有効な半導体チップに影
響しない深さ例えば1.5mmの収容溝(21c)が多数個形成さ
れている。このカセット(21)は6インチウエハの場合大
きさ例えば長さ180mm、幅145mm、高さ165mmで底面には
多数のウエハ(22)配列方向に落下しない程度の長方形状
長さ130mm、幅88mmの貫通孔(21d)が設られている。上記
ウエハカウンタ(20)は、図示しない昇降機構により、ウ
エハカセット(21)の底部下方から上記貫通孔(21d)を通
り抜け、上記ウエハ(22)の周縁がくい込む如く昇降可能
で、各ウエハ(22)の間隔を維持した状態でカウントする
構成になっている。上記ウエハ(22)のくい込み量はウエ
ハの有効素子に影響しない領域である。FIG. 2 is a perspective view of the wafer cassette (21) accommodating the wafer counter (20) of the present invention. This wafer cassette (2
1) is a container made of Delrin (trade name) having a U-shaped cross section, and a plurality of wafers (22) are held on both side walls (21a) (21b) of the wafer at predetermined intervals, so that the peripheral edge of the wafer is effective. A large number of housing grooves (21c) having a depth of, for example, 1.5 mm that do not affect the semiconductor chip are formed. In the case of a 6-inch wafer, this cassette (21) has a size of, for example, a length of 180 mm, a width of 145 mm, and a height of 165 mm. A through hole (21d) is provided. The wafer counter (20) can be lifted and lowered by an elevator mechanism (not shown) so as to pass through the through hole (21d) from below the bottom of the wafer cassette (21), and the peripheral edge of the wafer (22) is bitten in. It is configured to count while maintaining the interval of 22). The amount of biting of the wafer 22 is a region that does not affect effective elements of the wafer.
第3図は第2図のウエハカウンタ(20)の拡大斜視図であ
る。図中符号(23)は、直方体状の樹脂例えばデルリン製
ベースである。このベース(23)面上の両側部及び中央部
には、ベース(23)の長手方向に沿ってウエハガイド(24
a)(24b)(24c)が多数個突設されている。各々のウエハガ
イド(24a)(24b)(24c)は、上記ウエハカセット(21)の収
容溝(21c)と対応した配列にして設けられている。すな
わち、夫々のウエハガイド(24a)(24b)(24c)は、ウエハ
(22)が円滑に出入れできる間隔で互に離間している。ウ
エハの周縁部が挿入される深さは、半導体チップに影響
しない深さに選択される。ウエハガイド(24a)(24b)(24
c)は、ウエハとの接触による防塵対策として例えばデル
リンからなる材質で形成されている。一方のウエハガイ
ド(24a)と中央部のウエハガイド(24b)との間には、多数
個の電気絶縁体(25)が突設している。電気絶縁体(25)の
配列は、ウエハガイド(24a)(24b)(24c)の配列に対応し
て、複数枚のウエハ(22)が自在に出入れできる間隔に設
定されている。このようにウエハガイド(24a)(24b)(24
c)及び電気絶縁体(25)は、カセット(21)に収容されたウ
エハ(22)をカウンタ(20)を上昇させることにより取り上
げ、下降させることによりカセット(21)に収納される如
くベース(23)上に3列くし歯状に突設されている。これ
らのウエハガイド(24a)(24b)(24c)及び電気絶縁体(25)
の夫々の間隔は、例えば4.7625mmに設定されている。両
側部のウエハガイド(24a)(24c)の形状は、四角柱状でそ
の先端部はナイフエッジ状が望ましい。また、中央部の
ウエハガイド(24b)の先端部は、台形状になっている。
これらの形状によってウエハ(22)の出入れを容易にして
いる。電気絶縁体(25)には、半導体ウエハが挿入された
時光路を遮断する如く検知素子対(26)が夫々取付けられ
ている。検知素子対(26)は、信号増幅部(27a)を介して
信号処理部(27b)に電気的に接続されている。FIG. 3 is an enlarged perspective view of the wafer counter (20) shown in FIG. Reference numeral (23) in the drawing is a rectangular parallelepiped resin, for example, a base made of Delrin. At both sides and the center of the surface of the base (23), a wafer guide (24
Many a), (24b) and (24c) are projected. The respective wafer guides (24a) (24b) (24c) are provided in an array corresponding to the accommodation groove (21c) of the wafer cassette (21). That is, each wafer guide (24a) (24b) (24c)
(22) are separated from each other so that they can be put in and taken out smoothly. The depth into which the peripheral portion of the wafer is inserted is selected so that it does not affect the semiconductor chip. Wafer guide (24a) (24b) (24
c) is formed of a material such as Delrin as a dust-proof measure due to contact with the wafer. A large number of electrical insulators (25) are projected between the one wafer guide (24a) and the central wafer guide (24b). The arrangement of the electrical insulators (25) is set to an interval that allows a plurality of wafers (22) to be freely taken in and out, corresponding to the arrangement of the wafer guides (24a) (24b) (24c). In this way, the wafer guides (24a) (24b) (24
The c) and the electrical insulator (25) pick up the wafer (22) contained in the cassette (21) by raising the counter (20), and lower it so as to be contained in the cassette (21). 23) Three rows of comb teeth are projected on the top. These wafer guides (24a) (24b) (24c) and electrical insulator (25)
The distance between the two is set to 4.7625 mm, for example. The shape of the wafer guides (24a), (24c) on both sides is preferably a quadrangular prism shape, and the tips thereof are preferably knife-edge shaped. Further, the tip end of the wafer guide (24b) at the center has a trapezoidal shape.
These shapes facilitate the loading and unloading of the wafer (22). A pair of detection elements (26) is attached to the electrical insulator (25) so as to block the optical path when a semiconductor wafer is inserted. The detection element pair (26) is electrically connected to the signal processing section (27b) via the signal amplification section (27a).
検知素子対(26)は、第4図に示す如く、透過型センサか
らなる発光素子(26a)と受光素子(26b)が対向配置された
もので構成されている。As shown in FIG. 4, the detection element pair (26) is composed of a light emitting element (26a) and a light receiving element (26b) which are transmissive sensors and are arranged to face each other.
検知素子対(26)は、第4図に示すように空間(a)を挟ん
で対向配置された発光素子(26a)と受光素子(26b)のホト
カプラで構成されている。このためこの空間(a)内のウ
エハ(22)の有無を光学的に検知素子対(26)によって検知
することができる。すなわち、ウエハ(22)のないとき
は、受光素子(26b)が発光素子(26a)からの光を受光し、
ウエハ(22)のある時は、受光素子(26b)の出力が零にな
る。同様に空間(b)以降もウエハ(22)の存在を検知でき
る。このとき、検知素子対(26)の列中の素子の配置は、
1列に直線的センサー(7)列を1列に形成すると、ウエ
ハカセット(21)内に収納したウエハ(22)の収納間隔に合
った発光素子(26a)び受光素子(26b)間の空間形成がスペ
ース的に困難なため、検知素子対(26)のセンサ列を電気
絶縁体(25)上に第1のセンサ列及び第2のセンサ列とし
て2列に配設し、隣り合う上記空間における発光素子(2
6a)及び受光素子(26b)の位置をずらして設ける。このこ
とにより省スペース化を行なうことが可能となりウエハ
カセット(21)のサイズに合う空間を形成することができ
る。As shown in FIG. 4, the detection element pair (26) is composed of a photocoupler of a light emitting element (26a) and a light receiving element (26b) which are opposed to each other across a space (a). Therefore, the presence or absence of the wafer (22) in this space (a) can be optically detected by the detection element pair (26). That is, when there is no wafer (22), the light receiving element (26b) receives the light from the light emitting element (26a),
When there is a wafer (22), the output of the light receiving element (26b) becomes zero. Similarly, the presence of the wafer (22) can be detected after the space (b). At this time, the arrangement of the elements in the row of the sensing element pair (26) is
When the linear sensor (7) rows are formed in one row, the space between the light emitting element (26a) and the light receiving element (26b) that matches the storage interval of the wafers (22) stored in the wafer cassette (21). Since it is difficult to form in space, the sensor rows of the sensing element pair (26) are arranged in two rows on the electric insulator (25) as the first sensor row and the second sensor row, and the adjacent space is provided. Light-emitting element in (2
The positions of 6a) and the light receiving element (26b) are shifted. This makes it possible to save space and form a space that matches the size of the wafer cassette (21).
次に、上述した機構のウエハカウンタ(20)によるウエハ
(22)の位置検知及び枚数検知方法を説明する。Next, the wafer by the wafer counter (20) of the mechanism described above
The position detection method and the number detection method of (22) will be described.
上述したウエハガイド(24a)(24c)列及び検知素子対(26)
列を備えたウエハカウンタ(20)を、第5図に示すように
昇降機構(28)により押し上げる。これにより複数枚のウ
エハ(22)を収納したウエハカセット(21)内へ、ウエハカ
ウンタ(20)を挿入する。この時、ウエハカウンタ(20)の
ウエハカセット(21)内への挿入の方法は、逆にウエハカ
セット(21)を下降させてもよい。また、ウエハ(22)が水
平状態になるようにウエハカセット(21)を立てて、ウエ
ハカセット(21)内にウエハカウンタ(20)を挿入してもよ
い。Wafer guide (24a) (24c) row and sensing element pair (26) described above
The wafer counter (20) provided with rows is pushed up by the elevating mechanism (28) as shown in FIG. As a result, the wafer counter (20) is inserted into the wafer cassette (21) containing a plurality of wafers (22). At this time, as a method of inserting the wafer counter (20) into the wafer cassette (21), the wafer cassette (21) may be lowered. Alternatively, the wafer cassette (21) may be set up so that the wafer (22) is horizontal, and the wafer counter (20) may be inserted into the wafer cassette (21).
そして、ウエハカセット(21)内に挿入されたウエハカウ
ンタ(20)は第6図に示すようにウエハガイド(24a)(24b)
によりウエハ(22)をくし歯状に配設された隣り合う検知
素子対(26)との空間にウエハ(22)が挿入される。そし
て、発光素子(26a)から赤外線を発光し、ウエハ(22)の
有無を検知する。この時、ウエハ(22)の位置及び枚数を
信号処理部(27b)で最終的に検知し、次工程装置へ報告
したり、モニター等で表示する。The wafer counter (20) inserted in the wafer cassette (21) has a wafer guide (24a) (24b) as shown in FIG.
As a result, the wafer (22) is inserted into the space between the adjacent sensing element pairs (26) arranged in a comb shape. Then, infrared rays are emitted from the light emitting element (26a) to detect the presence or absence of the wafer (22). At this time, the position and number of the wafers (22) are finally detected by the signal processing unit (27b), and are reported to the next process apparatus or displayed on a monitor or the like.
上記実施例では、ウエハカウンタを位置検知及び枚数検
知のみで説明したが、同時にウエハの搬送を行なっても
よい。In the above embodiment, the wafer counter has been described only by detecting the position and the number of wafers, but the wafers may be simultaneously conveyed.
以上述べたようにこの実施例によれば、両端に設けたウ
エハガイド(24a)(24c)列の間にウエハガイド(24b)を設
けたことにより、ウエハ(22)をずらすことなく正確にガ
イド収納することが可能となる。As described above, according to this embodiment, by providing the wafer guide (24b) between the wafer guide (24a) (24c) rows provided at both ends, the wafer (22) can be accurately guided without being displaced. It becomes possible to store.
更に、ウエハカセットに収納されたウエハを一括検知可
能なため、短時間で位置検知及び枚数検知が可能とな
る。Further, since the wafers stored in the wafer cassette can be collectively detected, the position and the number of wafers can be detected in a short time.
また、ウエハカセット収納枚数以上の数のセンサーを設
けたため、特別な検知機構も必要とせず、従来装置の半
分以下のコストにより検知することが可能となる。Further, since the number of sensors that are equal to or greater than the number of wafer cassettes accommodated is provided, a special detection mechanism is not required, and detection can be performed at a cost that is less than half that of the conventional apparatus.
次に上記したウエハカウンタの応用例は半導体装置の各
工程において有効に活用できる。さらにCVD炉,拡散
炉,酸化炉などの加熱炉で加熱処理する際耐熱性ボート
にウエハを移換る必要がある。Next, the above-mentioned application example of the wafer counter can be effectively utilized in each step of the semiconductor device. Further, it is necessary to transfer the wafer to a heat-resistant boat when performing heat treatment in a heating furnace such as a CVD furnace, a diffusion furnace, or an oxidation furnace.
この移換え工程において、カセット内ウエハが途中空に
なっているとボートへ移換えた際当該ボートにおいて
も、当該位置のウエハが空になる。空の状態ではその部
分についてウエハの配列が不揃いになる。In this transfer process, if the wafer in the cassette is emptied midway, the wafer at that position will also be emptied in the boat when transferred to the boat. In the empty state, the wafers are not aligned in that portion.
このウエハの不揃いは、炉内反応中の反応ガスの流れを
乱す結果を招く。This non-uniformity of the wafers results in disturbing the flow of the reaction gas during the reaction in the furnace.
ガスの乱流は、処理の不均一を招き、歩留りに直接影響
する。The turbulent flow of gas causes non-uniformity of processing and directly affects the yield.
これらの問題を回避するためにこの発明のカウンタが適
用される。The counter of the present invention is applied to avoid these problems.
この例を第7図に示めす。This example is shown in FIG.
即ち、例えば25枚のウエハが収納されたウエハカセット
をストックするウエハストッカ(61)を設け、前工程が終
了したウエハを一時ストックする。That is, for example, a wafer stocker (61) for stocking a wafer cassette accommodating, for example, 25 wafers is provided to temporarily stock the wafers for which the previous process has been completed.
このストッカ(61)は第8図に示めすように横方向に4個
のウエハカセット(71)を配列し、縦方向に5段のカセッ
ト載置棚(72)を奥側に5段配列されたカセット列を、カ
セットの水平状態を維持した状態即ち各段の棚板(72)が
水平状態を維持した状態で回転させ、所望のカセットを
取り出し位置に移送する。このようなカセットの保存機
構は平面的に配列してもよいことは説明するまでもな
い。As shown in FIG. 8, this stocker (61) has four wafer cassettes (71) arranged in the horizontal direction, and five cassette loading shelves (72) arranged in the vertical direction in five stages on the inner side. The cassette row is rotated while the cassettes are maintained in a horizontal state, that is, the shelf plates (72) of each stage are maintained in a horizontal state, and a desired cassette is transferred to the take-out position. It goes without saying that the storage mechanism of such a cassette may be arranged in a plane.
このようにして取り出されたカセットは搬送例えばベル
ト搬送されてオリエンテーションフラット部を合わせる
位置即ちオリフラ合せ部(62)に搬送する。The cassette thus taken out is conveyed, for example, conveyed by a belt to a position where the orientation flat portion is aligned, that is, an orientation flat aligning portion (62).
このオリフラ合せ部(62)では第9図に示めす如く、カセ
ット(81)内に配列された25枚のウエハ(82)を下方からロ
ーラ(83)上に載せた状態でローラ(83)回転させると、図
に示めす如くオリフラ部(84)が対向した位置でウエハ(8
2)の回転は停止する。従ってローラ(83)も停止させる。
このローラ(83)による整列では25枚のウエハ(82)につい
てみるとわずかではあるがオリフラ部が面一に整列して
いない。このわずかな不整列を下方から表面平板(85)を
当接させて、完全面一に整列させる。この整列手段は上
記ローラ(83)を2個並列に配置し、2個のローラの頂線
で形成される平面にオリフラ面を合わせると平板(85)が
不要である。この整列後上記したウエハカウンタ(63)に
カセットを搬送する。このカウンタ(63)は上記実施例で
説明したようにカウンタ(63)の溝に各ウエハを嵌合さ
せ、ウエハの枚数空位置の検出などを行って、処理ボー
トへの移換部(64)へ移送する。In this orientation flat aligning portion (62), as shown in FIG. 9, the roller (83) is rotated with the 25 wafers (82) arranged in the cassette (81) placed on the roller (83) from below. Then, as shown in the figure, the wafer (8
The rotation of 2) stops. Therefore, the roller (83) is also stopped.
In the alignment by the roller (83), the orientation flat portion is not aligned flush with the 25 wafers (82), although it is slight. This slight misalignment is brought into contact with the surface flat plate (85) from below to align them in a completely flush manner. The aligning means does not require the flat plate (85) when the two rollers (83) are arranged in parallel and the orientation flat surface is aligned with the plane formed by the top lines of the two rollers. After this alignment, the cassette is carried to the above-mentioned wafer counter (63). As described in the above embodiment, this counter (63) fits each wafer into the groove of the counter (63), detects the empty position of the number of wafers, etc., and transfers to the processing boat (64). Transfer to.
この移換部(64)では第10図に示めすように1カセット(9
1)に25枚収容されたウエハ列(92)を、円弧面に25本のウ
エハの周縁部が嵌合される溝の設けられたロボット操作
によりウエハ把持体(94)に移換える。この移換えはカセ
ット(91)の下方からウエハ支持体(図示せず)を上昇さ
せることにより、各ウエハの自重で各溝に25枚のウエ
ハ列(92)が嵌合する。At this transfer section (64), one cassette (9
The wafer array (92) accommodating 25 wafers in 1) is transferred to the wafer gripper (94) by robot operation in which a circular groove is provided with a groove into which the peripheral edges of the 25 wafers are fitted. For this transfer, a wafer support (not shown) is lifted from below the cassette (91), so that 25 wafer rows (92) are fitted in the respective grooves by the weight of each wafer.
このようにしてウエハ支持体に収納されたウエハ列をさ
らにカセット(91)上方に押し上げた状態でロボット操作
によりウエハ列の側面方向から25枚同時にウエハ把持体
(94)により挟持する。この挟持した状態でボート例えば
耐熱性の石英ボート(93)の収納溝に搬送路(95)に沿って
搬送する。In this state, the wafer row stored in the wafer support is further pushed up above the cassette (91), and 25 wafers are simultaneously grasped from the side of the wafer row by robot operation.
Hold by (94). In this sandwiched state, the boat is transported along the transport path (95) into the storage groove of the heat-resistant quartz boat (93).
これを例えば4つのカセット(91)についてこの操作を実
行することにより100枚のウエハ(92)を上記石英ボート
(93)に移換えを行うことができる。このようにしてウエ
ハが収納された石英ボートを処理室例えば拡散炉の反応
管内に搬入する。By performing this operation for, for example, four cassettes (91), 100 wafers (92) are transferred to the quartz boat.
Transfer to (93). The quartz boat in which the wafers are thus stored is carried into the processing chamber, for example, the reaction tube of the diffusion furnace.
上記例において処理の都合でウエハの配列を変えたい
場合例えばプラズマCVD炉への挿入がある。In the above example, when it is desired to change the arrangement of the wafers for convenience of processing, the wafer may be inserted into a plasma CVD furnace.
この場合には、カセットストッカ(61)から取り出したカ
セット一個毎にカセットを回転台(66)で180度回転さ
せ、回転させたウエハと回転させないカセットからのウ
エハとを交互に一枚づつ取り出して配列すれば良い。In this case, the cassette is rotated 180 degrees by the turntable (66) for each cassette taken out from the cassette stocker (61), and the rotated wafer and the wafer from the cassette not rotated are taken out alternately one by one. Just arrange them.
さらに処理ボートのウエハ収納溝ピッチとカセットのウ
エハ収納溝ピッチが異なる場合がある。この場合は、カ
ウンタでウエハの配列をチェックしたのち、ピッチ変換
工程(67)を実行するようにすることにより実行できる。Further, the wafer storage groove pitch of the processing boat and the wafer storage groove pitch of the cassette may be different. This case can be performed by checking the wafer arrangement with a counter and then executing the pitch conversion step (67).
この発明は上記実施例に限定されるものではない。The present invention is not limited to the above embodiment.
ここで、検知素子対は、透過型の素子で構成する。その
理由は、反射型の素子の場合に生ずるウエハ面での投光
の乱反射を防止して、検出精度を高めるためである。Here, the sensing element pair is composed of a transmissive element. The reason is to prevent irregular reflection of light projection on the wafer surface, which occurs in the case of a reflection type element, and improve detection accuracy.
検知素子対は、例えばホトカプラからなる発光素子と受
光素子で構成するのが望ましい。特に、受光素子は、例
えば太陽電池型の薄肉のものを使用し、その占有空間を
小さくしてウエハカセットのウエハ収納容量を大きくす
るのが望ましい。It is desirable that the detection element pair be composed of a light emitting element and a light receiving element, which are photocouplers, for example. In particular, it is desirable to use, for example, a thin solar cell type light receiving element, and to occupy a small space to increase the wafer storage capacity of the wafer cassette.
検知素子対は、例えばガラスエポキシ樹脂等からなる電
気絶縁体に取付けるのが望ましい。その理由は、検知素
子対に対する電気的ノイズの影響を小さくして、検出精
度も高めるためである。The sensing element pair is preferably attached to an electrical insulator made of, for example, glass epoxy resin or the like. The reason is that the influence of electrical noise on the sensing element pair is reduced and the detection accuracy is improved.
検知素子対は、投光素子と受光素子間に出現する光軸
が、ウエハカセットに収納されたウエハのオリエンテー
ションフラット面よりもウエハの中心側に位置するよう
にして、ウエハカセットに設けるのが望ましい。その理
由は、ウエハカセットに収納するウエハの方向の自由度
を大きくするためである。It is desirable to provide the detection element pair in the wafer cassette such that the optical axis appearing between the light projecting element and the light receiving element is located closer to the center of the wafer than the orientation flat surface of the wafer housed in the wafer cassette. . The reason is to increase the degree of freedom in the direction of the wafers stored in the wafer cassette.
また、検知素子対は、投光素子と受光素子間に出現する
光軸が、ウエハカセットに収納されたウエハの表面に対
して、ほぼ直交する状態になるようにして、ウエハカセ
ットに設けるのが望ましい。その理由は、投光がウエハ
の表面で乱反射するのを防止するためである。Further, the detection element pair is provided in the wafer cassette such that the optical axis appearing between the light projecting element and the light receiving element is substantially orthogonal to the surface of the wafer housed in the wafer cassette. desirable. The reason is to prevent the light projection from being irregularly reflected on the surface of the wafer.
また、検知素子対は、ウエハの各収納領域に着脱自在に
してウエハカセットに設けても良い。その理由は、ウエ
ハカウンタによるウエハの位置検出及び枚数検出と同時
に、ウエハの各処理工程への搬出、或は各処理工程から
の搬入を容易にするためである。Further, the detection element pair may be provided in the wafer cassette so as to be attachable to and detachable from each wafer storage area. The reason is that the wafer can be easily carried into or out of each processing step at the same time as the wafer position and the number of wafers are detected by the wafer counter.
ウエハカセットには、各々のウエハの各収納領域毎にウ
エハガイドを設けて、ウエハの収納操作を容易にするこ
とが望ましい。このウエハガイド及びウエハカセット
は、塵埃対策の面からは例えば樹脂例えば弗素系樹脂デ
ルリン(商品名)製のものとするのが望ましい。It is desirable that the wafer cassette be provided with a wafer guide for each storage area of each wafer to facilitate the wafer storage operation. It is desirable that the wafer guide and the wafer cassette are made of, for example, a resin such as a fluororesin Delrin (trade name) from the viewpoint of measures against dust.
以上説明したように本発明によれば、複数枚のウエハを
それぞれ予め定めた間隔で離隔してウエハカセットに収
納したウエハの位置検出及び枚数検出を行なうウエハカ
ウンタにおいて、上記ウエハカセットに収納されたウエ
ハを1枚置きに挟むように対向配置した発光素子と受光
素子とからなる透過型センサをウエハカセットの長手方
向に直線状に配列して上記各ウエハを1枚置きに検出す
る第1のセンサ列と、この第1のセンサ列で検出するウ
エハ以外の1枚置きのウエハを検出するように上記第1
のセンサ列と同構成の透過型センサを直線状に配列した
第2のセンサ列と、これらの各センサ列を構成する各透
過型センサの発光素子と受光素子がそれぞれ上記各ウエ
ハのオリエンテーションフラットよりもウエハの中心寄
りに位置するように各センサ列をそれぞれ互いに並列に
支持するベースとを設けたため、省スペース化を図るこ
とができ、しかも、多数枚の半導体ウエハの位置及び枚
数を半導体ウエハのオリエンテーションフラットの向き
に左右されることなく、全ウエハを漏らさずに正確かつ
瞬時に一括して検出することができるウエハカウンタを
提供することができる。As described above, according to the present invention, in the wafer counter for detecting the position and the number of wafers stored in the wafer cassette with a plurality of wafers separated by a predetermined interval, each wafer is stored in the wafer cassette. A first sensor for detecting every other wafer by arranging transmissive sensors composed of a light emitting element and a light receiving element, which are arranged so as to face each other so as to sandwich every other wafer, linearly in the longitudinal direction of the wafer cassette. The row and the first sensor row to detect every other wafer other than the wafer to be detected by the first sensor row.
Second sensor row in which transmissive sensors having the same configuration as that of the sensor row are linearly arranged, and the light emitting element and the light receiving element of each transmissive sensor forming each of these sensor rows are respectively arranged from the orientation flat of each wafer. Since the bases for supporting the respective sensor rows in parallel with each other are provided so as to be located closer to the center of the wafer, space saving can be achieved, and moreover, the positions and the number of the plurality of semiconductor wafers can be adjusted to those of the semiconductor wafer. It is possible to provide a wafer counter that can detect all wafers accurately and instantaneously at once without being influenced by the orientation of the orientation flat.
第1図は、従来のウエハカウンタによるウエハの位置及
び枚数の検出の仕方を示す説明図、第2図は、本発明の
一実施例のウエハカウンタを収容したウエハカセットの
斜視図、第3図は、第2図のウエハカセットの拡大斜視
図、第4図は、第2図の検知素子対の配置状態を示す説
明図、第5図は、第2図のウエハカウンタを昇降させる
状態を示す説明図、第6図は、第2図ウエハカウンタに
よるウエハの位置及び枚数を検出する方法を示す説明
図、第7図・第8図・第9図および第10図は第2図のウ
エハカウンタを利用した他の実施例を説明するための図
である。FIG. 1 is an explanatory view showing a method of detecting the position and the number of wafers by a conventional wafer counter, and FIG. 2 is a perspective view of a wafer cassette accommodating a wafer counter of one embodiment of the present invention, and FIG. 2 is an enlarged perspective view of the wafer cassette shown in FIG. 2, FIG. 4 is an explanatory view showing an arrangement state of the detection element pair shown in FIG. 2, and FIG. 5 shows a state where the wafer counter shown in FIG. FIG. 6 is an explanatory view showing a method for detecting the position and number of wafers by the wafer counter shown in FIG. 2, and FIGS. 7, 8, 9 and 10 are wafer counters shown in FIG. It is a figure for explaining other examples using the.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 長田 厚 東京都新宿区西新宿1丁目26番2号 東京 エレクトロン株式会社内 (72)発明者 原 功三 東京都新宿区西新宿1丁目26番2号 東京 エレクトロン株式会社内 (72)発明者 阿部 靖二 東京都新宿区西新宿1丁目26番2号 東京 エレクトロン株式会社内 (56)参考文献 特開 昭63−13344(JP,A) 実開 昭61−153345(JP,U) 実開 昭60−170869(JP,U) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Atsushi Nagata 1-226-2 Nishishinjuku, Shinjuku-ku, Tokyo Within Tokyo Electron Ltd. (72) Kozo Hara 1-226-2 Nishishinjuku, Shinjuku-ku, Tokyo No. Tokyo Electron Co., Ltd. (72) Inventor, Yasuji Abe, 1-2-6-2, Nishishinjuku, Shinjuku-ku, Tokyo Tokyo Electron Co., Ltd. (56) Reference JP-A-63-13344 (JP, A) -153345 (JP, U) Actually opened 60-170869 (JP, U)
Claims (1)
で離隔してウエハカセットに収納したウエハの位置検出
及び枚数検出を行なうウエハカウンタにおいて、 上記ウエハカセットに収納されたウエハを1枚置きに挟
むように対向配置した発光素子と受光素子とからなる透
過型センサをウエハカセットの長手方向に直線状に配列
して上記各ウエハを1枚置きに検出する第1のセンサ列
と、 この第1のセンサ列で検出するウエハ以外の1枚置きの
ウエハを検出するように上記第1のセンサ列と同構成の
透過型センサを直線状に配列した第2のセンサ列と、 これらの各センサ列を構成する各透過型センサの発光素
子と受光素子がそれぞれ上記各ウエハのオリエンテーシ
ョンフラットよりもウエハの中心寄りに位置するように
各センサ列をそれぞれ互いに並列に支持するベースとを
備えた ことを特徴とするウエハカウンタ。1. A wafer counter for detecting the position and the number of wafers stored in a wafer cassette, wherein a plurality of wafers are separated from each other by a predetermined interval, and every other wafer is stored in the wafer cassette. A first sensor array for detecting every other wafer by arranging transmissive sensors composed of a light emitting element and a light receiving element, which are opposed to each other so as to sandwich them, linearly in the longitudinal direction of the wafer cassette; and Second sensor array in which transmissive sensors having the same configuration as the first sensor array are linearly arranged so as to detect every other wafer other than the wafer detected by the sensor array, and each of these sensor arrays. Each of the sensor rows is arranged so that the light emitting element and the light receiving element of each transmissive sensor constituting the above are located closer to the center of the wafer than the orientation flat of each wafer. Wafer counter, characterized in that a base for supporting parallel with each other.
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| JPS64743A JPS64743A (en) | 1989-01-05 |
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1988
- 1988-01-29 JP JP63020958A patent/JPH0611070B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
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| JPS64743A (en) | 1989-01-05 |
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