Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JPH0614149B2 - 投影光学系 - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JPH0614149B2 - 投影光学系 - Google Patents

投影光学系

Info

Publication number
JPH0614149B2
JPH0614149B2 JP60296330A JP29633085A JPH0614149B2 JP H0614149 B2 JPH0614149 B2 JP H0614149B2 JP 60296330 A JP60296330 A JP 60296330A JP 29633085 A JP29633085 A JP 29633085A JP H0614149 B2 JPH0614149 B2 JP H0614149B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
image
real image
plane
optical
inverted real
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP60296330A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS62153927A (ja
Inventor
敬介 荒木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP60296330A priority Critical patent/JPH0614149B2/ja
Priority to DE19863644354 priority patent/DE3644354A1/de
Priority to US06/946,967 priority patent/US4750022A/en
Publication of JPS62153927A publication Critical patent/JPS62153927A/ja
Publication of JPH0614149B2 publication Critical patent/JPH0614149B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Exposure Or Original Feeding In Electrophotography (AREA)
  • Optical Systems Of Projection Type Copiers (AREA)
  • Facsimile Scanning Arrangements (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は電子写真複写機、ファクシミリ等の光学機器に
おいて原画である物体面を像面上に投影する際に好適な
投影光学系に関し、特に集光性光伝送体若しくはマイク
ロレンズ等から成るレンズ素子を複数個、列状に配置し
た所謂複眼系を用い物体面を像面上に縮小若しくは拡大
等各種の倍率で投影させる際に好適な投影光学系に関す
るものである。
(従来の技術) 従来より電子写真複写機やファクシミリ等の光学機器に
おいては複眼系を利用して物体面を所定の倍率で像面上
に投影している。投影方法としては物体面を正立実像と
して像面上に投影する正立実像系による方法と倒立実像
として像面上に投影する倒立実像系による方法の2つの
方法が用いられている。このうち倒立実像系は正立実像
系の2回結像に比べて1回結像で良い為、光学全長を短
くすることが出来、光学系全体が簡素化され装置全体が
小型化しやすい等の特長を有している。
この為、倒立実像系は多くの電子写真複写機に用いられ
ている。しかしながら倒立実像系では物体像が像面上で
180度回転する為、複眼系を用いる場合、各々の倒立
実像系による物体像を反射鏡等を用いて各々像面上で所
定の関係を維持しつつ重ね合わす必要がある。
又、前述の180度の回転ずれを適当な手段で補正した
としても変倍の場合には複眼系の結像性能を決定するも
のとして変倍特有で生じる像の『像ずれ』と『倍ずれ』
があす。これらの生じる原因は原理的には同じである
為、以下の説明では従来の正立実像系を例にとり説明す
る。
正立実像系において投影倍率が等倍の所謂正立等倍系が
例えば実公昭48−18204号公報等で提案されてい
る。同公報では第2図に示すように微少レンズより成る
複数の正立実像系21より複眼系20を構成し、物体面
1の所定範囲の部分像を像面2上に投影し、重ね合わせ
て一体像を形成している。これにより1つの正立実像系
ではカバー出来ない大きな物体面を像面上に投影してく
る。
第2図に示す複眼系は投影倍率が等倍である為各々の正
立実像系21の光軸が平行となるように構成され、かつ
光軸上の各光線が物体面1及び像面2と垂直に交わうよ
うに構成されている。これにより各々の正立実像系21
による像面上の投影像、所謂多重像を像面上で互いに重
ね合わせて一体像を形成するのを可能としている。
一般に複眼系を有する投影光学系を微少系若しくは拡大
系とする為に等倍系の状態より物体距離を変化させると
各正立実像系の倍率は変化するのに対し、各正立実像系
の光軸間隔は等倍のままなので、各々の正立実像系によ
る多重像が像面上で重ならず、ずれてしまい、所謂像ず
れを起してくる。このときの像ずれ現状は投影像の光学
性能を著しく低下させる原因となっている。複数の正立
実像系から成る複眼系を用い縮少投影若しくは拡大投影
したときの多重像の像ずれを補正する方法が例えば特開
昭57−16415号公報で提案されている。同公報で
は第3図に示すように複眼系30を構成する複数の成立
実像系31をその光軸が中央の正立実像系310の光軸
311に対して序々に傾くように配置し、これによって
多重像のずれを補正している。しかしながらこの複眼系
では正立実像系毎にその光学性能や光軸長(物体面から
像面までの光軸の光学的な長さ)が異っており、又この
複眼系では物体面周辺の投影を行う正立実像系の光軸上
の光線が物体面と像面に交わう際、垂直から大きく外れ
てくる。この為第4図に示すようにその傾きが大きくな
っている正立実像系41では、投影倍率が等しくなる物
体面が正規の物体面1より傾いて物体面42の如くにな
ってくる。
一方、投影倍率の等しくなる像面も同様に正規の像面2
に対して傾いて像面43の如くになってくる。この結
果、物体面周辺では第4図に示す光路長l41とl42の長
さの差に相当する量だけ同一視野範囲内において部分的
に結像倍率が異ってくる所謂『倍率ずれ』が生じてく
る。
このように従来の複眼系を用いた投影光学系では多重像
のずれを補正しても倍率ずれが生じており、等倍以外の
投影では高い光学性能を有した投影像を得るのが難しく
なっている。
又、同公報では必要に応じて各正立実像系の入射端面若
しくは射出端面を偏芯させたり、屈折力の付加させたり
して、倍率ずれを軽減しようとしているが、これでは投
影光学系全体が複雑になってくる。そして原理的にも、
各正立実像系の光軸は物体面、像面に垂直になり得ない
ので、こういう補正には限度があり、こうした手段では
倍率ずれを大幅に除去することが困難である。
この他、複数の正立実像系より成る複眼系を用い縮少投
影若しくは拡大投影を行った際の多重像の像ずれを補正
したものが、例えば特開昭59−45420号公報、特
開昭59−216115号公報等で提案されている。
特開昭59−45420号公報では第5図に示すように
複数の正立実像系51より成る複眼系50の物体面1側
若しくは像面2側の少なくとも一方に各々の正立実像系
毎に偏向角の異なるフレネルレンズ等から成る光束偏向
部材52、53を配置することによって多重像の像ずれ
を補正した投影光学系を提案している。
又、特開昭59−216115号公報では第6図に示す
ように複数の正立実像系61より成る複眼系60の物体
面1側若しくは像面2側の少なくとも一方に複数の球面
レンズ62、63を配置して多重像の像ずれを補正した
投影光学系を提案している。
しかしながら前記2つの公報で提案されている投影光学
系はいずれも各々の正立実像系の光軸長が異っており、
しかも物体面周辺を投影する正立実像系の光軸が物体面
と像面に対して大きく傾いている。この為、前述の如く
多重像の像ずれを補正することはできるが倍率ずれが生
じ、投影像の光学性能を大きく低下させる原因となって
いる。
以上の倍率ずれは複眼系を倒立実像系で構成した場合も
正立実像系の場合と同じ原因により同様に生じてくる。
(発明が解決しようとする課題) 本発明は複数の倒立実像系より成る複眼系を用いて物体
面を縮少若しくは拡大等の等倍以外の倍率を含んで投影
する際、多重像の像ずれを補正すると共に倍率ずれを同
時に減少あるいは除去させることにより投影像の光学性
能の向上を図った投影光学系の提供を目的とする。
本発明の更なる目的は、物体面の一方向に対する倒立実
像系の配列密度を上げることにより、各々の倒立実像系
による光量分布の重ね合わせにより生じる光量ムラを軽
減させ、全体的に良好なる投影像を得られる投影光学系
の提供にある。
(課題を解決するための手段) 本発明の投影光学系は、複数の倒立実像系を有する複眼
系により物体面の一方向を縮小又は拡大倍率で像面上に
投影し重ね合わせる際、光路中に光束を偏向させる複数
の光学部材を一方向に列状に配置した光学部材列を複数
個段状に設けた偏向手段を配置し、該複数の倒立実像系
をその光軸上の各光線が互いに空間内で交差するように
構成し、該複数の倒立実像系の光軸上の各光線が物体面
若しくは像面の少なくとも一方の面と垂直となるように
構成したことを特徴としている 特に、前記複数の光学部材を各々前記複数の倒立実像系
毎に対向させた複数の反射鏡より構成し、該複数の反射
鏡の角度を各々該倒立実像系毎に変化させて配置したこ
とや、 前記偏向手段を物体面と前記複眼系との間若しくは像面
と該複眼系との間の少なくとも一方に設けたこと そして、前記光学部材を反射鏡より構成し、該1つの反
射鏡により前記複数の倒立実像系のうちの少なくとも2
つを通過する光束を偏向させるようにしたこと等を特徴
としている。
この他、本発明の特徴は実施例において記載されてい
る。
(実施例) 第1図は本発明の投影光学系を縮少系で構成したときの
一実施例の光学系の概略図である。同図において1は物
体面、2は像面、10は複眼系であり、複数の倒立実像
系11,12,13より成っている。
点A2,B2,C2と点A3,B3,C3は各々倒立実
像系を通過した光束を各々所定方向に偏向させる為の光
学部材を列状に配置している位置である。特に本実施例
では光学部材の反射鏡より構成し所定の傾きを有して配
置している。
尚、本実施例では反射鏡は簡単の為省略し、反射鏡で反
射したときの各倒立実像系の光軸上の光線の光路のみを
示している。
物体面1上における点1,B1,C1及び像面2上にお
ける点A4,B4,C4は倒立実像系11,12,13
の光軸上の光線L1,L2,L3が各々交わう位置であ
る。
本実施例では物体面の各点を1つおきにとった点A2,
C2の列状の反射点を点B2(本実施例では1つである
が実際には倒立実像系が3つ以上存在する為、複数個あ
る。)の列状の反射点に比べ、物体面方向から離れて配
置している。そしてこれに対応させて複数の倒立実像系
の配列を1つおきに物体面1に対して上下方向に2段に
配置している。
そして点A2,C2に列状に配置した2つ光学部材で1
つの光学部材列を構成し、同様に点B2に列状に配置し
た光学部材で他の光学部材列を構成し、これら2つの光
学部材列より1つの偏向手段を構成している。像面2側
の各点A3,B3,C3の配置状態も、物体側の各点A
2,B2,CDと同様である。そして点A3とC3に列
状に配置した光学部材列と点B3に列状に配置した光学
部材列より1つの偏向手段を構成している。
本実施例では物体面1の所定範囲を、例えば点C1近傍
の物体面を位置C2の所定の傾きをもって配置した反射
鏡を介し、正立実像系13により点C3に配置している
反射鏡で反射された後、像面2上の点C4近傍に縮少投
影させている。このとき本実施例では点C1,C2,C
3,C4が同一平面上に位置するように構成している。
これによって倒立実像系の光軸の軌跡が同一平面上に存
在するようにして各倒立実像系の投影像が相対的に回転
して『回転ぶれ』を起さないようにしている。これらの
ことは他の倒立実像系についても全く同様であり、各々
物体面1の所定範囲を像面上に縮少投影させている。
尚、投影倍率をmとしたとき物体面1上の点A1と点B
1との間隔 と像面2上の点A4と点B4との間隔 との比がm倍となるようにしている。他の各点における
間隔についても同様である。
第1図に示す座標系において、例えば点B1,B2,B
3,B4の座標を表わすと B1=(x,l/2,h/2) B2=(x,l/2,−h) B3=(−mx,−l/2,h) B4=(−mx,−l/2,−h/2) となる。
このとき、点B2,B3のZ軸方向の座標点h,h
はLを1つの倒立実像系の光軸長とすると となるように構成されている。尚、ここで光軸長Lは投
影倍率mの関数として表わされ、投影倍率mにより種々
変化する値である。
本実施例では各々の倒立実像系によって形成された像面
上の投影像、所謂多重像を物体面1及び像面2側に設け
た複数の反射鏡の形状、傾きを各々変え、各倒立実像系
の光軸が空間内で交差するように、即ち各光軸を一平面
上に投影したとき互いに交わるように構成することによ
り互いに重なり合わせて全体として一体像を形成し、像
ずれを防止している。
又、本実施例では各々の倒立実像系の光軸上の光線L1
〜L3が物体面1及び像面2と垂直に交わうように各倒
立実像系と各反射鏡の傾きを設定している。即ち各倒立
実像系の光軸上の光線L1〜L3が反射鏡で反射した
後、互いに平行となり物体面1及び像面2に垂直に交わ
うように構成している。
これにより第4図で説明した光軸上の光線が物体面若し
くは像面と傾いて交ったときに生ずる『倍率ずれ』の発
生を防止している。第7図はこのときの第1図の上面
図、第8図は第1図の側面図である。
第7,第8図において各符番は第1図で示したものと全
く同様である。
第7図において物体面1上の各点A1,B1,C1を結
ぶ直線D1と像面2上の各点A4,B4,C4を結ぶ直
線D4は平行になっている。そして複数の倒立実像系1
1,12,13の光軸を各々延長させたときに空間内に
おいて一点Oで立体交差若しくは単に交差する各要素が
設定されている。
尚、このときの投影光学系の投影倍率mを第7図に示す
各要素間の距離D71,D72を用いて表わすと m=D72/D71 となっている。
本実施例では複数の倒立実像系を各々同一のレンズ素子
より構成している。この為、各々の倒立実像系を各々異
った平面上に3次元的に配置させて各々の光軸長が同じ
になるようにしている。これにより全ての倒立実像系を
同一条件で投影させて各倒立実像系における光学諸特性
の均一化を図っている。
各々の反射鏡の位置A2,B2,C2と位置A3,B
3,C3は(1)式を満たす範囲で任意に設定することが
出来るが、一度一方の反射面の各位置を決定すれば、あ
とは倒立実像系の特性により順次決めることができる。
本実施例では、このような構成をとることにより複眼系
を構成する際、一方向に配置する倒立実像系の配置密度
を上げ、光学性能の向上を図っている。
尚、本実施例において光学部材列を上下方向に2段以上
複数段に配置しても良く、これによれば更に一方向の配
置密度を向上させることが出来る。
又、本実施例において複数の倒立実像系を各々異った光
学特性を有するレンズ素子より構成し、各々の光学部材
列に相当する複数の倒立実像系を各々同一平面内に位置
させ各々の光軸長を変えて構成しても良い。これによれ
ば光学部材及び倒立実像系の配置上の簡素化を図ること
ができるので好ましい。
本実施例では光学部材として反射鏡を用いた場合を示し
たが、例えば第9図に示すようにプリズム材90,91
を用いて倒立実像系13の光軸上の光線L3が物体面1
と像面2に各々垂直に交わうように構成しても、同様に
像ずれよ倍率ずれの発明を防止することができる。
第1図に示す実施例においては倒立実像系の光軸上の光
線が物体面及び像面といずれも垂直に交わうようにして
倍率ずれを完全を補正した場合について説明したが、多
少の倍率ずれが許容されるならば光軸上の光線が物体面
若しくは像面の少なくとも一方と垂直に交わうようにし
ても良い。
以上の実施例において各倒立実像系に対する反射面が別
個になっている最初の反射鏡から倒立実像系を通り、反
射面が別個になっている最後の反射鏡までは各倒立実像
系のクロストークの防ぐ為に遮光部材を配置するのが良
い。
又、以上の実施例では投影光学系を縮少系に適用した場
合について説明したが、拡大系に適用する場合には縮少
系全体を逆にした構成とすれば全く同様に本発明を適用
することができる。
尚、本実施例において物体面と偏向手段との間若しくは
像面と偏向手段との間の少なくとも一方に、単に光束を
偏向させる為の共通反射面を設けて投影光学系全体の構
成上の配置を任意に設定しても良い。
こうした設定は物体面と像面の相対関係を所定の位置関
係にもってくる場合や像の表裏関係の補正に有効であ
る。
本実施例において多少の像ずれや倍率ずれが許容されれ
ば1つの反射鏡で複数の倒立実像系からの光束を偏向さ
せるように構成しても良い。
本実施例では複眼系を3つの倒立実像系より成る場合に
ついて示したが、倒立実像系を2つ以上設ければ本発明
の目的を達成することができる。
本実施例では2つの偏向手段を用い、1つの偏向手段と
して1枚の反射鏡を用いた場合を示したが前述の如く
『回転ぶれ』、『像ずれ』、『倍率ずれ』等を補正する
構成と物体面、像面部分で各々独立に等価構成にすれば
複数枚の反射鏡又は屈折部材を用いて構成しても良い。
例えば第10図(A)に示すように物体面1からの光線を
一平面内に限らず一度他の平面内に導光し、再び元の平
面内に戻すように構成しても良い。又、第10図(B)の
ように偏向手段を構成する反射鏡の数を増加させて、物
体面1の一方向の線分101が各々の倒立実像系により
像面2上に投影させる際、各物体面の線分101の像が
像面2上で一方の線分102にして、所謂回転ずれがな
いようにすれば物体面と像面の相対的位置関係に応じた
任意の構成をとることができる。
これによれば配置上の自由度を増し、物体面と像面の相
対位置関係に応じた任意の構成をとることができるので
好ましい。
又、第11図(A),(B)に示すように複数の倒立実像系よ
り成る複眼系111を投影倍率及び物像間距離に応じて
は物体面1と偏向手段との間若しくは像面2と偏向手段
との間のいずれか一方向に設けるようにしても良い。
これによれば全ての倒立実像系の光軸をそろえることが
出来、構成上簡素化されるので好ましい。
本実施例において倒立実像系がマイクロレンズ等のよう
に光学系中に空間を有する場合には第12図(A),(B),
(C)に示すように、その空間位置に偏向手段を設けても
良い。尚、同図において121はマイクロレンズであ
る。
(発明の効果) 本発明によれば複数の倒立実像系より成る複眼系を用い
て物体面を縮少投影若しくは拡大投影する際、光束を偏
向させる複数の光学部材より成る偏向手段を用いること
により像面上における多重像の像ずれ及び倍率ずれの双
方を良好に補正した投影光学系を達成することができ
る。
更に複数の光学部材列を用いることにより光学性能及び
投影効率の向上を図った投影光学系を達成することがで
きる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の光学系の概略図、第7図は
第1図の上面図、第8図は第1図の一部側面図、第9
図,第10図(A),(B)、第11図(A),(B)、第12図
(A),(B),(C)は各々本発明の他の実施例の一部側面
図、第2,第3,第5,第6図は各々従来の投影光学系
の一部分の説明図、第4図は第3図の一部分の投影像の
説明図である。 図中1は物体面、2は像面、10,20,30,50,
60は各々複眼系、11,12,13は各々倒立実像
系、A2,B2,C2,A3,B3,C3は各々光学部
材の配置されている位置、L1〜L3は各々倒立実像系
の光軸上の光線である。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】複数の倒立実像系を有する複眼系により物
    体面の一方向を縮小又は拡大倍率で像面上に投影し重ね
    合わせる際、光路中に光束を偏向させる複数の光学部材
    を一方向に列状に配置した光学部材列を複数個段状に設
    けた偏向手段を配置し、該複数の倒立実像系をその光軸
    上の各光線が互いに空間内で交差するように構成し、該
    複数の倒立実像系の光軸上の各光線が物体面若しくは像
    面の少なくとも一方の面と垂直となるように構成したこ
    とを特徴とする投影光学系。
  2. 【請求項2】前記複数の光学部材を各々前記複数の倒立
    実像系毎に対向させた複数の反射鏡より構成し、該複数
    の反射鏡の角度を各々該倒立実像系毎に変化させて配置
    したことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の投影
    光学系。
  3. 【請求項3】前記偏向手段を物体面と前記複眼系との間
    若しくは像面と該複眼系との間の少なくとも一方に設け
    たことを特徴とする特許請求の範囲第2項記載の投影光
    学系。
  4. 【請求項4】前記光学部材を反射鏡より構成し、該1つ
    の反射鏡により前記複数の倒立実像系のうちの少なくと
    も2つを通過する光束を偏向させるようにしたことを特
    徴とする特許請求の範囲1項記載の投影光学系。
JP60296330A 1985-12-27 1985-12-27 投影光学系 Expired - Lifetime JPH0614149B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60296330A JPH0614149B2 (ja) 1985-12-27 1985-12-27 投影光学系
DE19863644354 DE3644354A1 (de) 1985-12-27 1986-12-24 Optisches projektionssystem
US06/946,967 US4750022A (en) 1985-12-27 1986-12-29 Optical projection system

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60296330A JPH0614149B2 (ja) 1985-12-27 1985-12-27 投影光学系

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS62153927A JPS62153927A (ja) 1987-07-08
JPH0614149B2 true JPH0614149B2 (ja) 1994-02-23

Family

ID=17832139

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60296330A Expired - Lifetime JPH0614149B2 (ja) 1985-12-27 1985-12-27 投影光学系

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0614149B2 (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
JPS62153927A (ja) 1987-07-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3541576B2 (ja) 結像光学系
US6603608B2 (en) Variable focal length optical element and optical system using the same
US7101052B2 (en) Projection optical system and optical system
JP3304694B2 (ja) 斜め投影光学装置
JPH0614149B2 (ja) 投影光学系
JPH0614150B2 (ja) 投影光学系
JPH0614141B2 (ja) 投影光学系
JPH0614147B2 (ja) 投影光学系
JPH0614146B2 (ja) 投影光学系
JPH0614143B2 (ja) 投影光学系
JPH0614151B2 (ja) 投影光学系
JPH0614148B2 (ja) 投影光学系
JPH0795157B2 (ja) 投影光学系
JP3275634B2 (ja) 投影光学装置
JPH0614144B2 (ja) 投影光学系
JPH0614142B2 (ja) 投影光学系
JPH0614145B2 (ja) 投影光学系
JPH075391A (ja) 投影光学系
JP3351018B2 (ja) 焦点検出装置
JP2001320736A (ja) 全周立体カメラ
JP5098491B2 (ja) 光走査装置
US5652424A (en) Focus state detection device and method
JP3680893B2 (ja) 光走査装置
JPH06250119A (ja) 結像素子
JPS62153923A (ja) 投影光学系