JPH0616372B2 - エナメル線用アプリケータおよびエナメル線製造装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、フェルト方式により線条体に均一かつ安定し
てワニスを塗布することを可能にするアプリケータおよ
び該アプリケータを用い高品質のエナメル線を製造する
ためのエナメル線製造装置に関するものである。

［従来の技術］ エナメル線を製造するには、線条体の外周にワニスを塗
布し、これを焼付炉中に通過させて焼付け、この塗布と
焼付けを所要回数繰り返して所要厚さのエナメル皮膜を
形成する。

しかして、前記線条体へのワニスの塗布には、通常サイ
ズの線条体では縦型炉を用い当該線条体をワニス浴中に
通過させてワニスを付着させ、これをダイスで絞り均一
に塗布するのが一般的であるが、細物あるいは極細物サ
イズに対しては上記方法は必ずしも適当ではなく、フェ
ルト方式を採用した横型炉を使用する場合が多い。

すなわち、一部をワニス内に浸漬して回転しているロー
ル表面に線条体を接触して通過させ、ロール表面のワニ
スを線条体に付着させたのち、線条体の進行方向に設け
られたフェルトにより線条体を挾持して前記ワニスを均
一に付着させようとするものである。

第４図に、この種従来構成の塗布装置を示す。

１５は、ワニスタンク１６内のワニス７に一部を浸漬さ
せ図中矢印方向に回転するロールである。ロール１には
通常溝１５ａ，１５ａが形成されており、各溝１５ａ，
１５ａには各パス毎の線条体１０，１０が収容されロー
ルに接しつつ矢印方向に進行するように構成されてい
る。線条体１０，１０の進行する前方にはフェルトホル
ダ１４により保持されたフェルト１２，１３が設けら
れ、当該フェルト１２，１３によって前記線条体１０，
１０が挾持される一方、錘１１により適当な挾持圧が付
与される。

上記のように構成されているから、タンク１６内のワニ
ス７は回転するロール１５の外表面に付着し、線条体１
０，１０に向って供給される。ロール１５に接して進行
する線条体１０，１０はロール１５により供給されたワ
ニス７を表面に付着させるが、それだけでは付着量にむ
らができるため、フェルト１２，１３により線条体全体
に均一な厚さのワニスを付着させようとするものであ
る。この後、ワニスの付着した線条体１０は焼付炉内を
通過し、ワニスの焼付けを行なって再びロール１５側へ
と戻って来て、焼付けられたワニス上に再度ワニス塗布
を行ない、このパスの繰返しにより所望厚さのエナメル
層を形成させる。

［発明が解決しようとする課題］ 第４図に示す供給方式の場合には、ロール１５において
線条体１０に付着するワニス量がつねに変動し、フェル
ト１２，１３に供給されるワニス量が一定せず、従って
ワニス皮膜の厚さが変り、線径も安定しない。

また、すでに説明したようにロール１５には通常各パス
毎にＶ字状の溝１５ａ，１５ａが形成され線条体１０に
ワニスが付着し易くしてあるが、線条体１０には各パス
毎にワニス塗布が繰返されるから線条体１０の外径はパ
ス毎に大きくなり、パスが変る毎に溝１５ａ内で表面に
付着するワニス量が変化する。

近年、エレクトロニクス分野の発達はめざましいものが
あり、装置そのものの高性能化およびそれに伴う高精密
化への要請は日に日に酷しさを増している。このような
装置に使用される極細精密エナメル線に対する品質保証
への要求は強く、前記従来構成のワニス塗布装置によっ
て顧客のそのようなきつい要望に応えることはもはや困
難な状況となりつつある。

本発明は、上記したような実情にかんがみてなされたも
のであり、フェルトに供給されるワニス量を最適量にコ
ントロールすることができ、それにより各パス毎のワニ
ス量をも含め一定かつ均一にワニス塗布を行なうことを
可能ならしめ、線径の精度がよく、外観良好にして品質
安定したエナメル線を入手し得る新規なアプリケータお
よびエナメル線製造装置を提供しようとするものであ
る。

［課題を解決するための手段］ 本発明は、フェルト方式においてワニス塗布ロールを排
除し、線条体を挟持するフェルトに直接ワニス供給を行
ない得るワニス室を形成し、前記フェルトへのワニス供
給をワニス室内に設けられた整均板を介して均一にコン
トロール可能に構成する一方、前記ワニス室へのワニス
供給は、精密定量ポンプによりワニスの送出し量を制御
可能に構成したことにある。

これにより、つねに最適なワニス量をフェルトに供給
し、ワニス塗布の均質安定化を達成せしめるものであ
る。

［実施例］ 以下に、本発明について実施例に基いて説明する。

第１図は、本発明に係るエナメル線製造装置の構成を示
す概略説明図である。

本発明においては、線条体１０にワニス７を塗布するに
当り、前記従来例における塗布ロールを使用せず、アプ
リケータ２０が使用される。

本発明に係るアプリケータ２０の具体的構成例について
第２図に線条体１０の進行方向断面図を、第３図にそれ
と直交方向の断面図をそれぞれ示す。

線条体１０を挟持してワニスを塗布する２枚のフェルト
２２，２３と該フェルト２２，２３に適度の挟持圧を与
える錘２１と前記フェルト２２，２３を保持するホルダ
２４とをもって構成し、ホルダ２４にはフェルト２２，
２３に対して具合よくワニスを供給できる供給孔２８
（この孔は丸孔でもスリット状あるいはこれらの組合せ
でもよく、数は長孔の１個所でも複数個所でもよい）を
有するワニス室２７が形成されており、該ワニス室２７
に制御された量のワニスを供給する後述の配管チューブ
３に連結可能なワニス供給口２９が設けられている。ま
た、図において２５は整均板であり、該整均板２５はそ
れによってフェルトと直接接した第２ワニス室２６を仕
切ることにより連通孔２５ａを介し長手方向のワニス圧
の均一化を図るものである。なお、この整均板の構成に
ついてはワニス圧が均一化されればよいのであり、その
配置や形状あるいは連通孔の形状等について上記実施例
に限定されるものではない。

アプリケータ２０の前記ワニス室２７には第１図に示し
た配管チューブ３が連結され、該配管チューブ３はギヤ
ポンプの如く精度よく定量のワニスを送り出すことので
きる精密定量ポンプ２に連結され、該ポンプ２はさらに
ワニス７を貯蔵したワニスタンク１と連結される一方、
ステッピングモータの如く高精度に回転速度を調整可能
な駆動モータ５により駆動可能に構成される。６はカッ
プリングである。

ここにおいて、可変速モータ５の回転数を線径の皮膜厚
に匹敵するワニス量を供給する定量ポンプ２の吐出量と
の関係で一対一に対応せしめ、当該回転数の設定により
供給されるワニス量が一定となるように構成される。

以上のように構成される本発明に係る装置において、線
条体１０は図中矢印のように進行し、アプリケータ２０
においてワニス塗布され、図示していない焼付炉におい
て焼付けられ、焼付け後またアプリータ２０に戻り、各
パス毎にワニス塗布される。この作業を所要パス繰返す
ことにより任意の皮膜厚を有するエナメル線を製造す
る。このようにアプリケータ２０において線条体１０に
塗布するワニス量が最適なものとなるように常に高精度
かつ均一に調整され、均一の皮膜厚となる最適送出量を
制御することによって長手方向の全長にわたり、外径ム
ラのない高品質のエナメル線を製造することができる。

［発明の効果］ 以上の通り、本発明に係る装置によれば、つぎのような
すぐれた効果を奏することができる。

(1) 精度のよい精密エナメル線を製造することができ
る。

(2) 各パス毎の長手方向の線条体線径の皮膜厚をコン
トロールし、一定範囲内の線径皮膜に抑えることができ
る。

(3) ワニス粘度や温度に影響されず、精密定量ポンプ
の吐出量によりその皮膜厚は決まり、当該吐出量が可変
速モータの調整により可変であるため任意の皮膜厚のエ
ナメル線を製造することができる。

(4) エナメル塗布状態が安定するため品質の良好なエ
ナメル線を製造することができる。

(5) 各パス毎に付着するワニス量を例えば１パス当り
２．５μｍ以下となるような吐出量に小さくすることが
できるため偏平、偏肉のない外観良好なエナメル線を焼
付することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明に係る製造装置の具体例を示す概略説
明図、第２および３図は本発明に係るアプリケータの具
体例を示すそれぞれ直交方向における断面図、第４図は
従来の塗布装置を示す説明見取図である。 １：ワニスタンク、 ２：ギヤポンプ、 ３：配管チューブ、 ５：可変速駆動モータ、 １０：線条体、 ２０：アプリケータ、 ２２，２３：フェルト、 ２４：ホルダ、 ２５：整均板、 ２５ａ：連通孔、 ２６：第２ワニス室、 ２７：ワニス室、 ２８：供給孔、 ２９：供給口。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 三浦 樹四郎 茨城県日立市川尻町1500番地 日立電線株 式会社豊浦工場内 (56)参考文献 特開 昭57−119413（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−158972（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−209608（ＪＰ，Ａ) 実開 昭62−172983（ＪＰ，Ｕ)

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】線条体を挟みワニスを塗布する２枚のフェ
   ルトと該フェルトに隣接して設けられ前記フェルトにワ
   ニスを供給する供給孔を有するワニス室と該ワニス室に
   ワニスを送り込む配管とを有し、前記ワニス室には、前
   記フェルトの長手方向におけるワニス圧を均一化する第
   ２ワニス室と連通する連通孔を有する整均板が設けられ
   てなるエナメル線用アプリケータ。
2. 【請求項２】ワニスを供給する精密定量ポンプと該ポン
   プを駆動する可変速モータと前記ポンプよりワニスを請
   求項１のアプリケータに導く配管と前記可変速モータの
   回転数を調整して前記ポンプのワニス送出し量を制御可
   能になる調整機構とを有してなるエナメル線製造装置。