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JPH0618124B2 - Electrode processing device for chip parts - Google Patents
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JPH0618124B2 - Electrode processing device for chip parts - Google Patents

Electrode processing device for chip parts

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JPH0618124B2
JPH0618124B2 JP62153705A JP15370587A JPH0618124B2 JP H0618124 B2 JPH0618124 B2 JP H0618124B2 JP 62153705 A JP62153705 A JP 62153705A JP 15370587 A JP15370587 A JP 15370587A JP H0618124 B2 JPH0618124 B2 JP H0618124B2
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shaped cylindrical
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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は電子機器の軽量化,薄形化,小形化に寄与する
電子部品の一種であるチップ抵抗器などのチップ部品の
電極処理装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electrode processing apparatus for chip parts such as chip resistors, which is a kind of electronic parts that contributes to weight reduction, thickness reduction, and size reduction of electronic devices. is there.

従来の技術 従来、この種のチップ部品は、第2図に示すような構成
であった。第2図は例として角板形チップ抵抗器の断面
図を示しており、1はアルミナなどの絶縁基板、2は低
抗体、3は銀系電極膜、4はニッケル(Ni)膜、5は電
気メッキ法で析出されたはんだ(Sn−Pb系合金)〔また
はスズ(Sn)あるいは鉛(Pb)〕膜、6は上記低抗体
2を保護するためのガラス被覆膜である。
2. Description of the Related Art Conventionally, this type of chip component has a structure as shown in FIG. FIG. 2 shows a cross-sectional view of a square plate chip resistor as an example. 1 is an insulating substrate such as alumina, 2 is a low antibody, 3 is a silver-based electrode film, 4 is a nickel (Ni) film, and 5 is A solder (Sn-Pb-based alloy) [or tin (Sn) or lead (Pb)] film deposited by electroplating, 6 is a glass coating film for protecting the low antibody 2.

このように従来のチップ部品は、電極部の最外層に低融
点金属メッキ膜または低融点合金メッキ膜(以下、これ
らを低融点金属メッキ膜と総称する)を有し、また下地
層(ここではニッケル膜5)として上記低融点金属メッ
キ膜よりも融点が高く、しかも低融点金属メッキ膜と親
和性のよい材料からなる高融点合金膜または高融点合金
膜(以下、これらを高融点金属膜と総称する)が形成さ
れた構造となっている。
As described above, the conventional chip component has the low melting point metal plating film or the low melting point alloy plating film (hereinafter, these are collectively referred to as the low melting point metal plating film) as the outermost layer of the electrode portion, and the underlayer (here As the nickel film 5), a high melting point alloy film or a high melting point alloy film made of a material having a higher melting point than the low melting point metal plating film and having a good affinity with the low melting point metal plating film (hereinafter referred to as a high melting point metal film). (Collectively referred to) is formed.

このような従来の構成のチップ部品では、電極部の最外
層が低融点金属メッキ膜から構成され、その表面が粗面
になっており、表面積が非常に大きなものとなってい
る。このため、これらの膜は異物の吸蔵やガスの吸着が
しやすくなり、長期間保存した場合には電極表面が酸化
などの化学変化を起こし、プリント基板への実装はんだ
付け時にはんだ付け不良を発生させる可能性が大である
という問題点があった。また、表面を平滑なものとする
ために低融点金属メッキ膜を光沢メッキで構成した場合
には、不純物(有機物)を含んでいるためにはんだ付け
性が悪いという致命的な欠点を有している。
In such a conventional chip component, the outermost layer of the electrode portion is made of a low-melting-point metal plating film, and the surface thereof is rough, so that the surface area is very large. For this reason, these films are more likely to absorb foreign matter and adsorb gas, and when stored for a long period of time, the electrode surface undergoes chemical changes such as oxidation, causing soldering defects during mounting and soldering to the printed circuit board. There was a problem that there was a great possibility of causing it. In addition, when the low melting point metal plating film is formed by gloss plating in order to make the surface smooth, there is a fatal defect that the solderability is poor because it contains impurities (organic substances). There is.

さて、上述したような電極部の表面が粗面になっている
低融点金属メッキ膜を平滑な面とするための電極処理装
置としては、雰囲気炉,赤外線炉,熱風炉,熱板などを
用いる加熱電極処理装置あるいはベーパーフェイズソル
ダリング法(VPS法)を利用する装置などが知られてい
る。その中より、一例として赤外線加熱器を利用したチ
ップ部品の電極処理装置について、以下に説明する。
An atmosphere furnace, an infrared furnace, a hot stove, a hot plate, or the like is used as an electrode processing device for making the low-melting-point metal plating film having a rough surface of the electrode portion as described above a smooth surface. A heating electrode processing device or a device using the vapor phase soldering method (VPS method) is known. Among them, as an example, an electrode processing apparatus for a chip component using an infrared heater will be described below.

第3図はこの赤外線加熱器を利用した電極処理装置の概
略構成図を示すものである。
FIG. 3 is a schematic block diagram of an electrode processing apparatus using this infrared heater.

第3図において、7は第2図に示したような構造を有す
るチップ部品、8はチップ部品整列機、9はフラックス
塗布機、10は赤外線加熱器、11は冷却器、12は電極
処理済チップ部品取出し機、13はベルト駆動部、14
は電極処理装置架台、15はチップ部品搬送ベルト、1
6はベルト洗浄器である。
In FIG. 3, 7 is a chip part having the structure as shown in FIG. 2, 8 is a chip part aligning machine, 9 is a flux applicator, 10 is an infrared heater, 11 is a cooler, and 12 is electrode-treated. Chip part take-out machine, 13 is a belt drive unit, 14
Is an electrode treatment device stand, 15 is a chip component conveying belt, 1
6 is a belt cleaner.

そして、チップ部品の電極部の低融点金属メッキ膜を溶
融させる工程としては、チップ部品整列→フラック
ス塗布→加熱溶融→冷却固化→チップ部品取出し
の5工程からなっている。すなわち、ベルト駆動部13
により搬送されるチップ部品搬送ベルト15上にチップ
部品整列機8よりチップ部品7を供給し、次の工程でチ
ップ部品7にフラックスを塗布した後、トンネル式の赤
外線加熱器10でフラックスを塗布した電極部を加熱溶
融させ、続いてその溶融部を冷却器11によって冷却固
化させ、その後電極処理済チップ部品取出し機12でも
って電極処理の済んだチップ部品7を取出す訳である。
また、チップ部品搬送ベルト15はベルト洗浄器16で
洗浄された後、再びチップ部品7がその上に供給される
ようになっている。
The process of melting the low melting point metal plating film of the electrode part of the chip component includes five processes of chip component alignment → flux application → heat melting → cooling solidification → chip component removal. That is, the belt drive unit 13
The chip components 7 are supplied from the chip component aligning machine 8 onto the chip component transport belt 15 transported by, and flux is applied to the chip components 7 in the next step, and then flux is applied by the tunnel type infrared heater 10. The electrode part is heated and melted, then the melted part is cooled and solidified by the cooler 11, and then the electrode-processed chip parts unloader 12 takes out the electrode-processed chip parts 7.
Further, the chip component conveying belt 15 is cleaned by the belt cleaning device 16 and then the chip component 7 is again supplied thereto.

発明が解決しようとする問題点 このような従来の電極処理装置では、各工程に独立の設
備が必要な上に、チップ部品搬送ベルトがフラックスで
汚れるため、洗浄器を設置しなければならない。また、
そのようなことより設備が大きくならざるを得なく、し
かも各設備間のタイミングをとるために(搬送ベルトで
搬送されるチップ部品の移送速度と、フラックス塗布や
チップ部品取出しのタイミングとを同期させるため)、
精度が必要な設備にならざるを得ないという基本的な問
題点をもつものであった。
Problems to be Solved by the Invention In such a conventional electrode processing apparatus, an independent facility is required for each process, and since the chip component conveyor belt is contaminated with flux, a cleaning device must be installed. Also,
Because of this, the equipment is inevitably larger and moreover, in order to maintain the timing between the equipment (the transfer speed of chip parts conveyed by the conveyor belt is synchronized with the timing of flux application and chip part removal). For),
It had a basic problem that it had to be equipment that required precision.

以下に、この上述した電極処理装置のもつ問題点につい
て列挙する。
The problems of the above-mentioned electrode processing apparatus will be listed below.

チップ部品の電極部を溶融した際に、互いのチップ
部品の電極部がくっつかないように個々のチップ部品の
間隔をとり整列しなければならなく、このことが量産性
を阻害する大きな要因となる。
When the electrode parts of the chip parts are melted, the electrode parts of the chip parts must be aligned so that the electrode parts of the chip parts do not stick to each other, which is a major factor that hinders mass productivity. .

空気中にて加熱溶融させるため、溶融金属表面の酸
化防止としてフラックスが必要である。
Since it is heated and melted in the air, a flux is necessary to prevent oxidation of the surface of the molten metal.

フラックスを使用するため、フラックスが加熱され
てチップ部品に焼付き、チップ部品の洗浄が困難であ
る。
Since the flux is used, the flux is heated and seized on the chip component, making it difficult to clean the chip component.

加熱部はトンネル式になっているため、空気が自由
に出入りし、温度を安定化させることが難しい。
Since the heating part is a tunnel type, air can freely flow in and out, and it is difficult to stabilize the temperature.

搬送ベルトも同時に加熱されているため、加熱およ
び冷却に時間がかかることになり、非常に長い炉が必要
となるとともに、しかも急冷するためには冷却器が必要
となる。
Since the conveyor belt is also heated at the same time, it takes time to heat and cool, which requires a very long furnace and a cooler for rapid cooling.

搬送ベルトにフラックスが付着し、設備の故障の原
因にもなるので、搬送ベルトの洗浄を実施しなければな
らない。
Flux adheres to the conveyor belt, which may cause equipment failure, so the conveyor belt must be cleaned.

設備全体からみても機械的に動く部分が多く、その
上にフラックスを使用しているため、フラックスが設備
の動く部分に付着して故障を起こし、設備の稼働率を落
とす原因となりやすい。このように第3図に示す赤外線
加熱器を利用した電極処理装置では、多くの問題点を有
しており、その改善が強く求められている。
There are many mechanically moving parts from the viewpoint of the entire equipment, and since flux is used on top of them, the flux easily adheres to the moving parts of the equipment and causes a failure, which tends to reduce the operating rate of the equipment. As described above, the electrode processing apparatus using the infrared heater shown in FIG. 3 has many problems, and improvement thereof is strongly demanded.

また、上述したところの他の電極処理装置においても、
大なり小なり、この赤外線加熱器を利用した電極処理装
置と類似した問題点を有している。そして、チップ部品
の寸法は一般的に、3.2mm×1.6mmと小さく、さらには最
近では2.0mm×1.25mmといった非常に小さいチップ部品
が使用されるようになってきており、ますますその小形
化傾向が強くなっている。このようにチップ部品の寸法
が非常に小さいこともあり、また上述したように従来知
られているところの電極処理装置が非常に多くの問題点
を有していることもあって、現在のチップ部品において
は電極部の表面を平滑なものとする処理がほとんどなさ
れていないのが実情である。
Further, also in the other electrode processing apparatus described above,
It has problems similar to those of the electrode processing device using the infrared heater. The dimensions of chip parts are generally as small as 3.2 mm x 1.6 mm, and recently, very small chip parts such as 2.0 mm x 1.25 mm are being used, which is becoming smaller and smaller. The tendency is getting stronger. As described above, the size of the chip component may be very small, and as described above, the conventionally known electrode processing apparatus has many problems. The fact is that almost no treatment for making the surface of the electrode portion smooth is performed on the component.

さて、本発明者は先にこのようなチップ部品の電極処理
装置のもつ欠点を除去するものとして、特願昭61−1
93284号で第4図に示すような構成のチップ部品の
電極処理装置を提案している。この装置は、内部にオイ
ルなどの高沸点液体18を満たし、かつ一方の端に電極
部の最外層に低融点金属メッキ膜を有したチップ部品7
を投入する投入部を備えたU字型の筒状容器17と、上
記高沸点液体18に温度勾配をもたせるように上記U字
型の筒状容器17の一方の端に配された加熱器19を備
え、かつ上記U字型の筒状容器17の加熱器19のない
他方の端は開口部になっており、その開口部は処理済の
チップ部品7を取出す取出し口になっている。
The inventor of the present invention has previously proposed Japanese Patent Application No. 61-1 for removing the drawbacks of such an electrode processing apparatus for chip parts.
No. 93284 proposes an electrode processing apparatus for a chip part having a structure as shown in FIG. This device is a chip part 7 having a high boiling point liquid 18 such as oil filled inside and a low melting point metal plating film at the outermost layer of the electrode portion at one end.
A U-shaped cylindrical container 17 having a charging part for charging, and a heater 19 arranged at one end of the U-shaped cylindrical container 17 so that the high boiling point liquid 18 has a temperature gradient. And the other end of the U-shaped cylindrical container 17 without the heater 19 is an opening, and the opening is a take-out port for taking out the processed chip component 7.

この第4図の装置において、チップ部品7の電極部表面
の処理方法について、以下に説明する。まず、電極処理
を行う段階では、加熱器19でU字型の筒状容器17の
上部(一方の端)を250〜280℃に加熱しておく。
この時、U字型の筒状容器17には高沸点液体18とし
てのやし油が入っているため、この高沸点液体18が2
50〜280℃に加熱される。この加熱された高沸点液
体18は比重が小になり、下部の比重が大である低温部
(U字型の筒状容器17の底部側)へは対流せずに投入
部側の上部のみで対流を起こす。そのためにU字型の筒
状容器17内における高沸点液体18に上部より下部へ
向かって高温状態から低温状態となる温度勾配ができ、
底部側は常温を保つことができる。そして、上記のよう
な準備の整ったところへ、高沸点液体18の液面上方の
投入部よりU字型の筒状容器17内にパーツフィーダ2
0から電極部の最外層に低融点金属メッキ膜を有するチ
ップ部品7を投入する。この投入により、チップ部品7
は高沸点液体18中を落下していく。この時、高沸点液
体18とチップ部品7の摩擦のために、チップ部品7は
個々に分離された状態で落下し、250〜280℃に加
熱された高温部で電極部の最外層に設けられた低融点金
属メッキ膜が溶融され、温度勾配の付いている低温部側
に落下していき、その低温部側で溶融部が固化され、表
面が滑らかな電極を有した処理済チップ部品27として
U字型の筒状容器17内における底部側に溜まる。この
時、U字形の筒状容器17の底部側は常温であるので、
処理済チップ部品27同志がくっつく心配はない。そし
て、電極表面処理を済んだチップ部品27の取出しにつ
いては、加熱器19の設けられていない側の開口部より
連続的に処理済チップ部品27を取出すために、磁石2
2の付いたベルト21をベルト駆動部23を介してU字
型の筒状容器17の他方の端の開口部よりその容器17
の底部まで達するように全体にループを形成した形でた
らし込み、第4図に示す矢印の方向にベルト21を回転
させることにより、底部に溜まった処理済チップ部品2
7を磁石22により吸着させながら引上げ、取出し口と
しての開口部より外に出た処理済チップ部品27を容器
26内に収納する。その後、取出された処理済チップ部
品27は、洗浄することで完成品となる。
A method of treating the surface of the electrode part of the chip part 7 in the apparatus shown in FIG. 4 will be described below. First, at the stage of performing the electrode treatment, the upper portion (one end) of the U-shaped cylindrical container 17 is heated to 250 to 280 ° C. by the heater 19.
At this time, since the U-shaped cylindrical container 17 contains coconut oil as the high boiling point liquid 18, the high boiling point liquid 18 is
Heat to 50-280 ° C. This heated high-boiling-point liquid 18 has a small specific gravity, and does not convect to the low temperature part (bottom side of the U-shaped cylindrical container 17) having a large specific gravity at the lower part, but only at the upper part on the charging part side. Cause convection. Therefore, the high boiling point liquid 18 in the U-shaped cylindrical container 17 has a temperature gradient from a high temperature state to a low temperature state from the upper part to the lower part,
The bottom side can keep room temperature. Then, the parts feeder 2 is inserted into the U-shaped cylindrical container 17 from the charging portion above the liquid surface of the high boiling point liquid 18 to the prepared place as described above.
From 0, the chip component 7 having the low melting point metal plating film on the outermost layer of the electrode portion is put. By this input, chip parts 7
Falls in the high boiling point liquid 18. At this time, due to the friction between the high-boiling liquid 18 and the tip part 7, the tip parts 7 are dropped in a state of being individually separated, and are provided in the outermost layer of the electrode part at a high temperature part heated to 250 to 280 ° C. The low-melting-point metal plating film is melted and dropped to the low temperature side having a temperature gradient, and the melted part is solidified on the low temperature side, and as a processed chip part 27 having an electrode with a smooth surface. It accumulates on the bottom side in the U-shaped cylindrical container 17. At this time, since the bottom side of the U-shaped cylindrical container 17 is at room temperature,
Treated chip parts 27 There is no concern that the two will stick together. Regarding removal of the chip component 27 that has been subjected to electrode surface treatment, the magnet 2 is used to continuously remove the treated chip component 27 from the opening on the side where the heater 19 is not provided.
The belt 21 with 2 is attached to the container 17 through the belt drive unit 23 from the opening at the other end of the U-shaped cylindrical container 17.
Of the processed chip parts 2 accumulated at the bottom by rotating the belt 21 in the direction of the arrow shown in FIG.
7 is pulled up while being attracted by the magnet 22, and the processed chip component 27 that has exited from the opening serving as the outlet is stored in the container 26. Then, the processed chip component 27 taken out is washed to be a finished product.

この本発明者が先に提案した電極処理装置によれば、低
融点金属(低融点合金)からなる膜または層が容器中に
おける高沸点液体の高温部側で溶融され、低温部側で冷
却されるため、溶融時に表面張力が働き、表面積は小さ
くなっており、この状態で冷却されることによって、メ
ッキ膜などで形成された低融点金属膜(低融点合金膜)
のものと比較して極めて表面積が小さくなり、しかも表
面も平滑になって保存中に異物の付着やガスの吸着が極
端に少ないチップ部品を得ることができることとなる。
また、溶融時に表面あるいはくぼみの内部に吸着,吸蔵
していた異物,ガス類も放出されるので、最外層の膜自
体も不純物を含まない清潔な膜になり、はんだ濡れ性お
よびはんだ付け信頼性の向上につながるチップ部品が得
られることとなる。そして、電極処理としては、高沸点
液体中をチップ部品が高温部側より低温部側に移動する
だけであり、複雑な設備を使用することなく、簡単にし
て実施することができる。また、このように高沸点液体
中で溶融,冷却が行われ、しかも低温部側ではチップ部
品の電極同志がくっつくことはないため、チップ部品を
電極処理時に整列させることなく、バラバラの状態で多
量に投入するだけで処理ができ、しかもチップ部品が液
体と接触しているために加熱,冷却が短時間で終了する
ことにより、非常に量産性が高いものとなる。さらに、
高沸点液体中にて溶融,冷却が行われ、空気と触れる機
会がないので、溶融時でも電極部表面が酸化される心配
がないものである。また、液体中で溶融処理を行うとい
うことは、空気と比較して、溶融体(低融点金属や低融
点合金など)と接触している高沸点液体の比重が大で、
しかも粘度が大であるため、周囲より溶融した金属に圧
力をかけることになり、溶融金属表面状態が波打たずに
平滑な面になり、厚みも均一なものができることとな
る。なお、高沸点液体として天然植物系オイルなどのオ
イルやグリセリンといったフラックスの作用を有した液
体を使用することにより、フラックスは不要となり、そ
のために設備は簡素化されるとともに処理済チップ部品
の洗浄も非常に容易なものとなる。
According to the electrode processing apparatus previously proposed by the present inventor, a film or layer made of a low melting point metal (low melting point alloy) is melted on the high temperature side of the high boiling point liquid in the container and cooled on the low temperature side. Therefore, the surface tension becomes small during melting and the surface area becomes small. By cooling in this state, the low melting point metal film (low melting point alloy film) formed by the plating film or the like
The surface area of the chip component is much smaller than that of the chip component, and the surface is smooth, so that it is possible to obtain a chip component in which foreign matter and gas are not adsorbed extremely during storage.
In addition, since foreign substances and gases that have been adsorbed and occluded on the surface or inside the dents are released during melting, the outermost layer itself becomes a clean film that does not contain impurities, and the solder wettability and soldering reliability are improved. It is possible to obtain a chip component that leads to the improvement of Then, the electrode treatment can be carried out simply without moving complicated components in the high boiling point liquid, from the high temperature side to the low temperature side. In addition, since the melting and cooling are performed in the high boiling point liquid and the electrodes of the chip parts do not stick to each other on the low temperature side, the chip parts are not aligned during the electrode treatment, and a large amount of them are scattered. It can be processed simply by throwing it in and the heating and cooling can be completed in a short time because the chip parts are in contact with the liquid, so that the mass productivity becomes very high. further,
Since it is melted and cooled in the high boiling point liquid and there is no opportunity to come into contact with air, there is no risk of the electrode surface being oxidized even when melted. In addition, performing melting treatment in a liquid means that the specific gravity of the high-boiling-point liquid that is in contact with the melt (low-melting point metal, low-melting point alloy, etc.) is higher than that of air,
Moreover, since the viscosity is large, pressure is applied to the molten metal from the surroundings, the surface state of the molten metal becomes a smooth surface without waviness, and the thickness can be made uniform. It should be noted that by using a liquid having a flux function such as oil such as natural plant oil or glycerin as the high boiling point liquid, the flux becomes unnecessary, which simplifies the equipment and also cleans the treated chip parts. It will be very easy.

このように本発明者が先に提案した電極処理装置におい
ては、従来の装置の欠点を大幅に解決するものである
が、処理済チップ部品を取出すために、高沸点液体中に
ベルトを投入しなければならないため、ベルト材料の選
定,ベルトの構造,ベルトを駆動する駆動部の構造,処
理済チップ部品の容器への移し替え方法などに特別の工
夫を要するものである。
As described above, in the electrode treatment apparatus previously proposed by the present inventor, the drawbacks of the conventional apparatus are largely solved, but in order to take out the treated chip parts, the belt is put into the high boiling point liquid. Therefore, it is necessary to specially devise the selection of belt material, the structure of the belt, the structure of the driving unit for driving the belt, the method of transferring the processed chip parts to the container, and the like.

本発明は上述したようなチップ部品の電極部がもつ問題
点を解決し、チップ部品の電極部表面積を小にし、しか
も平滑化してはんだ濡れ性の改善と長期の保存に対して
はんだ付けの信頼性を向上させることのできる電極処理
装置を提供することを第1の目的としている。また、本
発明の第2の目的は従来知られているところの電極処理
装置のもつ問題点を解決し、機械的に動く部分をなく
し、チップ部品を整列することなく投入しても、溶融時
に互いのチップ部品の電極部同志がくっつくことなく、
溶融処理が可能で、溶融温度も制度よくコントロールす
ることができ、しかもフラックスを使用せずに量産性よ
くチップ部品の電極処理を行うことを目的とするもので
ある。さらに、本発明の第3の目的は、本発明者が先に
提案した電極処理装置のもつ欠点、すなわち処理済チッ
プ部品を取出すために使用するベルトにまつわる不具合
を除去し、かつ処理済チップ部品の取出しを容易にした
装置を提供することである。
The present invention solves the problems of the electrode part of the chip component as described above, reduces the surface area of the electrode part of the chip component, and further smoothes it to improve solder wettability and long-term storage reliability of soldering. It is a first object to provide an electrode processing device capable of improving the property. The second object of the present invention is to solve the problems of the conventionally known electrode processing apparatus, to eliminate mechanically moving parts, and to insert chip parts without aligning them, but at the time of melting. Without the electrode parts of the chip parts sticking together,
The purpose of the present invention is to enable melt processing, control the melting temperature accurately, and perform electrode processing of chip parts with good mass productivity without using flux. Further, a third object of the present invention is to eliminate the drawbacks of the electrode treatment apparatus previously proposed by the present inventor, namely, the problems associated with the belt used to take out the treated chip component, and An object of the present invention is to provide a device that can be easily taken out.

問題点を解決するための手段 以上のような問題点を解決するために本発明は、内部に
オイルなどの高沸点液体を満たし、かつ一方の電極部の
最外層に低融点金属または低融点合金からなる膜または
層を有したチップ部品を投入する投入部を備えたS字型
の筒状容器と、上記高沸点液体に温度勾配をもたせるよ
うに上記S字型の筒状容器の一方の端に配された加熱器
と、上記S字型の筒状容器の外壁に沿って可動させるこ
とができるように設けられた磁石とを備え、かつ上記S
字型の筒状容器の他方の端は開口部になっており、この
開口部は上記S字型の筒状容器の底部に溜った処理済の
チップ部品を上記磁石を用いて外部に取出す取出し口と
なっている構成としたものである。また、好ましい実施
形態としては、高沸点液体として、天然植物系オイル,
天然動物系オイル,天然鉱物系オイル,合成シリコン系
オイルまたはグリセリンのいずれか1つを用いてなるも
のである。
Means for Solving the Problems In order to solve the above problems, the present invention is to fill the inside with a high boiling point liquid such as oil, and the outermost layer of one of the electrode parts is a low melting point metal or a low melting point alloy. S-shaped cylindrical container having a charging part for charging a chip component having a film or layer made of, and one end of the S-shaped cylindrical container so that the high boiling point liquid has a temperature gradient. And a magnet provided so as to be movable along the outer wall of the S-shaped cylindrical container, and
The other end of the V-shaped cylindrical container is an opening, and this opening is used to take out the processed chip parts accumulated at the bottom of the S-shaped cylindrical container to the outside by using the magnet. It is designed to be a mouth. In a preferred embodiment, the high boiling point liquid is a natural vegetable oil,
It is made of any one of natural animal oil, natural mineral oil, synthetic silicone oil and glycerin.

作 用 この構成によれば、低融点金属(低融点合金)からなる
膜または層が容器中における高沸点液体の高温部側で溶
融され、低温部側で冷却されるため、溶融時に表面張力
が働き、表面積は小さくなっており、この状態で冷却さ
れることによって、高いものとなる。さらに、高沸点液
体中にて溶融,冷却が行われ、空気と触れる機会がない
ので、溶融時でも電極部表面が酸化される心配がないも
のである。また、液体中で溶融処理を行うということ
は、空気と比較して、溶融体(低融点金属や低融点合金
など)と接触している高沸点液体の比重が大で、しかも
粘度が大であるため、周囲より溶融した金属に圧力をか
けることになり、溶融金属表面状態が波打たずに平滑な
面になり、厚みも均一なものができることとなる。な
お、高沸点液体として天然植物系オイルなどのオイルや
グリセリンといったフラックスの作用を有した液体を使
用することにより、フラックスは不要となり、そのため
に設備は簡素化されるとともに処理済チップ部品の洗浄
も非常に容易なものとなる。また、筒状容器がS字型
で、低温部取出口を常に開放状態で下方に向けておける
ので、電極処理済チップ部品を取出す場合には、高沸点
液体の液面を変化させることなく、しかも高沸点液体中
に空気を混入させることなく、チップ部品の投入のタイ
ミングとは無関係で連続的に取出しが可能なものであ
る。そして、高沸点液体中に処理済チップ部品の取出し
のためにベルトを投入するといった必要もなく、構成が
簡単なものである。
Operation According to this configuration, the film or layer made of a low melting point metal (low melting point alloy) is melted on the high temperature side of the high boiling point liquid in the container and is cooled on the low temperature side. It works, the surface area is small, and it becomes high by cooling in this state. Further, since it is melted and cooled in the high boiling point liquid and there is no opportunity to come into contact with air, there is no concern that the surface of the electrode portion will be oxidized even when melted. In addition, performing melting treatment in a liquid means that the high-boiling-point liquid that is in contact with the melt (low-melting point metal, low-melting point alloy, etc.) has a higher specific gravity and higher viscosity than air. Therefore, pressure is applied to the molten metal from the surroundings, the surface state of the molten metal becomes a smooth surface without waviness, and the thickness can be made uniform. It should be noted that by using a liquid having a flux function such as oil such as natural plant oil or glycerin as the high boiling point liquid, the flux becomes unnecessary, which simplifies the equipment and also cleans the treated chip parts. It will be very easy. Further, since the tubular container is S-shaped and the low temperature part outlet can be always directed downward in the open state, when the electrode-treated chip component is taken out, the liquid surface of the high boiling point liquid is not changed, Moreover, the high boiling point liquid can be continuously taken out without being mixed with air, regardless of the timing of inputting the chip parts. Further, it is not necessary to insert a belt to take out the treated chip parts into the high boiling point liquid, and the structure is simple.

実施例 以下、本発明の一実施例について図面を参照しながら説
明する。
Embodiment An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第1図は本発明におけるチップ部品の電極処理装置の一
例を示す概略構成図である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing an example of an electrode processing apparatus for chip parts according to the present invention.

第1図において、7は第2図に示したような構造を有す
るチップ部品で、第3図,第4図と同一符号を付してあ
る。28は例えば高さ200cm,チップ部品7の投入口
側から取出口側にかけての大部分の外径が約10cmのガ
ラス製のS字型をした筒状容器で、ここでは縦型に設置
されている。29はこの容器28中に入れられた天然植
物系オイルであるやし油、30は上記S字型の筒状容器
28の上部外周に設けられたマントルヒータなどの加熱
器、31は上記S字型の筒状容器28の上面開口部32
より上記チップ部品7をその容器28内に投入するため
のパーツフィーダである。
In FIG. 1, reference numeral 7 is a chip component having the structure shown in FIG. 2, and the same reference numerals as those in FIGS. 28 is, for example, a glass S-shaped cylindrical container having a height of 200 cm and an outer diameter of about 10 cm from the inlet side to the outlet side of the chip component 7, and is installed vertically in this case. There is. 29 is coconut oil which is a natural vegetable oil contained in the container 28, 30 is a heater such as a mantle heater provided on the outer periphery of the upper portion of the S-shaped cylindrical container 28, 31 is the S-shaped -Shaped opening 32 of cylindrical container 28
This is a parts feeder for putting the chip parts 7 into the container 28.

また、33は上記S字型の筒状容器28の底吹から取出
口側にかけての外壁に沿って可動させることができる分
割可能なリング状永久磁石(電磁石を使用する場合は、
分割できなくてもよい)であり、上記磁石33を底部A
点に移動させ、電極処理済の済んだチップ部品34を上
記S字型の筒状容器28の内壁に吸着させ、低温側やし
油液面35から離れた上部B点にしばらく放置させ、処
理済チップ部品34に付着しているやし油29をできる
限り低温側やし油液面35の方へ回収し、その後、取出
口開口部36の上部C点まで移動させ、そのC点で上記
永久磁石33を分割し、上記S字型の筒状容器28の外
壁より分離させることができる構成となっている。そし
て、処理済チップ部品34は、容器37内に落下し取出
される。また、38は高温側やし油液面である。
Reference numeral 33 denotes a divisible ring-shaped permanent magnet that can be moved along the outer wall of the S-shaped cylindrical container 28 from the bottom blow to the outlet side (when an electromagnet is used,
(It may not be divided), and the magnet 33 is connected to the bottom portion A.
To the point, the chip component 34 which has been subjected to the electrode treatment is adsorbed to the inner wall of the S-shaped cylindrical container 28, and left for a while at the upper point B apart from the low temperature side coconut oil liquid surface 35 for treatment. The coconut oil 29 adhering to the finished chip component 34 is collected toward the coconut oil liquid surface 35 on the coldest side as much as possible, then moved to the upper point C of the outlet opening 36, and at the point C The permanent magnet 33 is divided and can be separated from the outer wall of the S-shaped cylindrical container 28. Then, the processed chip component 34 falls into the container 37 and is taken out. Further, 38 is a high temperature side coconut oil liquid level.

次に、この第1図の装置を用いて、チップ部品7の電極
部表面を処理する方法について説明する。まず、電極処
理を行う段階では、加熱器30でガラス製のS字型の筒
状容器28の上部を250〜280℃に加熱する。この
時、S字型の筒状容器28の内部にやし油29が入って
いるため、やし油29が250〜280℃に加熱され
る。この加熱されたやし油29は比重が小になり、下部
の比重が大である低温部へは対流せずに上記のみで対流
を起こす。そのためにS字型の筒状容器28内における
やし油29に上部より下部へ向かって高温状態から低温
状態となる温度勾配ができ、底部側は常温を保つことが
できる。上記のような準備の整ったところへ、やし油2
9の高温部やし油液面38の上方の上面開口部32より
S字型の筒状容器28内にパーツフィーダ31からチッ
プ部品7を投入する。ここで、この実施例で使用したチ
ップ部品7は角板形チップ抵抗器で、電極部の構造が、
最下層はAg−Pd,中間層はNi最外層(低融点金属メッキ
膜)にはSn:Pb=60:40の厚み7〜10μmの電気
メッキ膜を有したものである。また、上記最外層材料の
融点は、180〜190℃である。
Next, a method of treating the surface of the electrode part of the chip part 7 using the apparatus shown in FIG. 1 will be described. First, at the stage of performing the electrode treatment, the upper portion of the glass S-shaped cylindrical container 28 is heated to 250 to 280 ° C. by the heater 30. At this time, since the coconut oil 29 is contained inside the S-shaped cylindrical container 28, the coconut oil 29 is heated to 250 to 280 ° C. The heated coconut oil 29 has a small specific gravity, and does not convection to the low temperature portion having a large specific gravity at the lower portion, but causes convection only by the above. Therefore, the coconut oil 29 in the S-shaped cylindrical container 28 has a temperature gradient from a high temperature state to a low temperature state from the upper part to the lower part, and the bottom part side can keep the room temperature. When you are ready for the above, coconut oil 2
The chip component 7 is loaded from the parts feeder 31 into the S-shaped cylindrical container 28 through the upper surface opening 32 above the high temperature palm oil liquid surface 38 of 9. Here, the chip component 7 used in this embodiment is a rectangular plate type chip resistor, and the structure of the electrode part is
The bottom layer is Ag-Pd, and the intermediate layer is a Ni outermost layer (low melting point metal plating film) having an electroplating film of Sn: Pb = 60: 40 and a thickness of 7 to 10 μm. The melting point of the outermost layer material is 180 to 190 ° C.

そして、上記仕様のチップ部品7をパーツフィーダ31
を使い、250個/分の速度で加熱された高温部やし油
液面38に落下投入する。これにより、チップ部品7は
高温部やし油液面38に当り、やし油29中を落下して
いく。この時、やし油29とチップ部品7の摩擦のため
に、チップ部品7は個々に分離された状態で落下し、2
50〜280℃に加熱された高温部で電極の最外層であ
るSn−Pb合金メッキ膜が溶融され、温度勾配の付いてい
る低温部に落下していき、やし油29の温度があよそ1
80℃以下になった部分を通過した時点より溶融部が固
化され、表面が滑らかな電極を有した処理済のチップ部
品34としてS字型の筒状容器28内における底部側の
A点に溜まる。この時、S字型の筒状容器28の底部は
常温あるので、処理済チップ部品34同志が接触しても
電極同志がくっつく心配はない。そして、電極表面処理
の済んだチップ部品34の取出しについては、リング状
永久磁石33をA点に移動させ、その磁力により電極処
理済チップ部品34をS字型筒状容器28の内壁に吸着
させ、その状態で低温部やし油液面35の上部B点にま
で移動させ、そのB点でしばらく停止させて処理済チッ
プ部品34に付着しているやし油29をできる限り分離
落下させる。その後、取出口開口部36の上部C点に永
久磁石33を移動させ、そのC点で永久磁石33を分割
し、S字型の筒状容器28の外壁より離すと磁石が弱ま
り、処理済チップ部品34は取出口開口部36より容器
37中に落下し、取出しは終了する。この工程を繰り返
すことにより、投入に影響されることなく、連続的な取
出し作業が可能となる。
Then, insert the chip component 7 having the above specifications into the parts feeder 31.
Is used to drop into the high temperature palm oil level 38 heated at a rate of 250 pieces / minute. As a result, the chip component 7 hits the liquid surface 38 of the high temperature palm oil and drops in the palm oil 29. At this time, due to the friction between the coconut oil 29 and the chip component 7, the chip components 7 fall in the state of being individually separated, and
The Sn-Pb alloy plating film, which is the outermost layer of the electrode, is melted in the high temperature portion heated to 50 to 280 ° C and drops into the low temperature portion having a temperature gradient, and the temperature of the coconut oil 29 is almost constant. 1
The molten portion is solidified from the time when it passes through the portion where the temperature becomes 80 ° C. or less, and it accumulates at the point A on the bottom side in the S-shaped cylindrical container 28 as a treated chip component 34 having an electrode with a smooth surface. . At this time, since the bottom of the S-shaped cylindrical container 28 is at room temperature, there is no concern that the electrodes will stick to each other even if the processed chip parts 34 come into contact with each other. Then, in order to take out the chip component 34 after the electrode surface treatment, the ring-shaped permanent magnet 33 is moved to the point A, and the magnetic force causes the electrode-treated chip component 34 to be attracted to the inner wall of the S-shaped cylindrical container 28. In that state, the coconut oil 29 adhering to the processed chip component 34 is separated and dropped as much as possible by moving it to an upper point B of the low temperature coconut oil liquid surface 35 and stopping at the point B for a while. After that, the permanent magnet 33 is moved to the upper point C of the outlet opening 36, the permanent magnet 33 is divided at the point C, and the permanent magnet 33 is separated from the outer wall of the S-shaped cylindrical container 28, the magnet weakens, and the treated chip The component 34 drops into the container 37 through the outlet opening 36, and the removal is completed. By repeating this process, continuous take-out work can be performed without being affected by charging.

このようにしてチップ部品7の低融点金属メッキ膜の溶
融処理が行われる。また、取出された処理済チップ部品
34は、その後、洗浄するだけで完成品となる。
In this way, the low melting metal plating film of the chip component 7 is melted. Further, the processed chip component 34 taken out becomes a finished product only by washing it thereafter.

この電極処理装置によれば、やし油29が流れ出ること
が少なく、S字型の筒状容器28内の液面35,38を
変化させることも少ない。
According to this electrode treatment device, the coconut oil 29 rarely flows out, and the liquid surfaces 35 and 38 in the S-shaped cylindrical container 28 are hardly changed.

ここで、上記の一実施例においては、高沸点液体として
天然植物系オイルであるやし油を使用した場合について
説明したが、これはその他に天然動物系オイル,天然好
物系オイル,合成シリコン系オイル、またはグリセリン
などのフラックスの作用を有した材料が同様の効果をも
つものとして使えるものであり、さらにはこれらの材料
にとどまらず、チップ部品の電極部における溶融体(低
融点金属膜)の融点よりも高い沸点を有する高沸点液体
であれば使用可能なものである。また、加熱器としてマ
ントルヒータなどをS字型の筒状容器の上部外周に設置
した実施例について説明したが、これはS字型の筒状容
器の上方内部に密閉型シーズヒータを設け、内部より高
沸点液体を加熱するようにしてもよいものである。
Here, in the above-mentioned one embodiment, the case where coconut oil which is a natural vegetable oil is used as the high boiling point liquid has been explained. However, other than this, natural animal oil, natural favorite oil, synthetic silicone oil are used. Materials that have the effect of flux such as oil or glycerin can be used as those that have the same effect. Furthermore, not only these materials but also the melt (low melting point metal film) of the electrode part of the chip component Any high boiling point liquid having a boiling point higher than the melting point can be used. Also, an embodiment in which a mantle heater or the like is installed as a heater on the upper outer periphery of an S-shaped cylindrical container has been described. This is a sealed sheathed heater provided inside the upper part of the S-shaped cylindrical container. The higher boiling point liquid may be heated.

そして、本発明装置において溶融されるチップ部品の電
極部最外層としては、電気メッキや化学メッキで構成さ
れた低融点金属メッキ膜(低融点合金メッキ膜)に限ら
れることはなく、溶射や蒸着などにより形成された低融
点金属膜(低融点合金膜)であても差支えないものであ
る。また、これらの低融点金属膜(低融点合金膜)を構
成する材料としては、上記実施例のはんだの他に、一般
によく用いられるスズや、さらには鉛などが使用可能な
ものである。
The outermost layer of the electrode part of the chip component to be melted in the device of the present invention is not limited to the low melting point metal plating film (low melting point alloy plating film) formed by electroplating or chemical plating, and it may be sprayed or vapor deposited. It does not matter even if it is a low melting point metal film (low melting point alloy film) formed by the above. In addition to the solder of the above-described embodiment, tin, which is commonly used, and lead can be used as the material for forming the low melting point metal film (low melting point alloy film).

そして、低融点金属膜(低融点合金膜)の融点は100
〜550℃、膜厚は1μm以上であることが好ましい。
まず、融点が100℃未満の場合ははんだ付けした後、
再融点金属膜が部品使用中に自己発熱で溶融してしまう
ことがあり、550℃を超える場合は低抗体や被覆膜が
破壊されてしまい、チップ部品としての性能を保持でき
なくなる恐れがある。また、膜厚が1μm未満の場合、
熱処理後に均一な膜が形成できなく、実装時におけるは
んだ付けの信頼性が落ちることになり、保管中に酸化し
てしまうことにもなる。この膜厚は、8〜15μmであ
れば非常にはんだ付けがしやすいことが実験により確認
されている。
The melting point of the low melting point metal film (low melting point alloy film) is 100.
˜550 ° C., and the film thickness is preferably 1 μm or more.
First, if the melting point is less than 100 ° C, after soldering,
The refractory metal film may melt due to self-heating during use of the component, and if it exceeds 550 ° C, the low antibody or the coating film may be destroyed, and the performance as a chip component may not be maintained. . When the film thickness is less than 1 μm,
A uniform film cannot be formed after the heat treatment, the reliability of soldering at the time of mounting is deteriorated, and it may be oxidized during storage. It has been confirmed by experiments that the thickness is 8 to 15 μm, which makes soldering very easy.

さらに、本発明による電極処理装置は、鉄や磁性合金な
どのはんだ付け可能な金属膜または合金膜を有し、最外
層に低融点金属ペーストあるいは低融点合金ペーストを
塗布し乾燥させた層を有するチップ部品についても、適
用できるものである。この場合、下地層としてのはんだ
付け可能な金属膜(合金膜)の融点が高沸点液体の融点
よりも高いことはもちろんである。そして、この低融点
金属(低融点合金)ペーストを塗布し乾燥させた層を最
外層に有するチップ部品を本発明装置にて電極処理した
場合、低融点金属(低融点合金)ペーストによる層は電
気メッキ膜や化学メッキ膜で構成されてなるものより、
はんだ付け信頼性に関係する厚みを厚くしかも均一に作
る上で有利なものである。また、低融点金属(低融点合
金)ペースト中には通常クラックスが含まれているが、
このフラックスは溶融時に高沸点液体に溶解するため、
焼付くこともなく、効果を阻害することはないものであ
る。そして、この構造のチップ部品においては、低融点
金属(低融点合金)ペーストによる層の厚みは、乾燥状
態で3μm以上であることが好ましく、特に25〜10
0μmの厚みが適している。
Further, the electrode treatment apparatus according to the present invention has a solderable metal film or alloy film of iron, magnetic alloy, or the like, and has a layer obtained by applying a low melting point metal paste or a low melting point alloy paste to the outermost layer and drying it. It can also be applied to chip parts. In this case, the melting point of the solderable metal film (alloy film) as the underlayer is, of course, higher than the melting point of the high boiling point liquid. Then, when the chip component having the outermost layer having a layer obtained by applying and drying this low melting point metal (low melting point alloy) paste is subjected to electrode treatment by the device of the present invention, the layer formed by the low melting point metal (low melting point alloy) paste is electrically conductive. From what is composed of plating film and chemical plating film,
This is advantageous in making the thickness related to soldering reliability thick and uniform. Also, cracks are usually contained in the low melting point metal (low melting point alloy) paste,
This flux dissolves in the high boiling point liquid when it melts,
It does not seize and does not hinder the effect. In the chip component having this structure, the thickness of the layer made of the low melting point metal (low melting point alloy) paste is preferably 3 μm or more in the dry state, and particularly 25 to 10
A thickness of 0 μm is suitable.

発明の効果 以上のように本発明におけるチップ部品の電極処理装置
は構成されているものであり、数多くの特徴を有してい
る。まず、低融点金属(低融点合金)からなる膜または
層が容器中における高沸点液体の高温部側で溶融され、
低温部側で冷却されるため、溶融時に表面張力が働き、
表面積は小さくなっており、この状態で冷却されること
により、メッキ膜などで形成された低融点金属膜(低融
点合金膜)のものと比較して極めて表面積が小さくな
り、しかも表面も平滑になって保存中に異物の付着やガ
スの吸着が極端に少ないチップ部品を得ることができる
こととなる。また、溶融時に表面あるいはくぼみの内部
に吸着,吸蔵していた異物,ガス類も放出されるので、
最外層の膜自体も不純物を含まない清潔な膜になり、は
んだ濡れ性およびはんだ付け信頼性が向上するチップ部
品が得られることとなる。そして、電極処理としては、
高沸点液体中をチップ部品が高温部側より低温部側に移
動するだけであり、複雑な設備を使用することなく、簡
単にして実施することができる。また、このように高沸
点液体中で溶融,冷却が行われ、しかも低温部側ではチ
ップ部品の電極同志がくっつくことはないため、チップ
部品を電極処理時に整列させることなく、バラバラの状
態で多量に投入するだけで処理ができ、しかもチップ部
品が液体と接触しているために加熱,冷却が短時間で終
了することにより、非常に量産性が高いものとなる。さ
らに、高沸点液体中にて溶融,冷却が行われ、空気と触
れる機会がないので、溶融時でも電極部表面が酸化され
る心配がないものである。また、液体中で溶融処理を行
うということは、空気と比較して、溶融体(低融点金属
や低融点合金など)と接触している高沸点液体の比重が
大で、しかも粘度が大であるため、周囲より溶融した金
属に圧力をかけることになり、溶融金属表面状態が波打
たずに平滑な面になり、厚みも均一なものができること
となる。なお、高融点液体として天然植物系オイルなど
のオイルやグリセリンといったフラックスの作用を有し
た液体を使用することにより、フラックスは不要とな
り、そのために設備は簡素化されるとともに処理済チッ
プ部品の洗浄も非常に容易なものとなる。
EFFECTS OF THE INVENTION As described above, the electrode processing apparatus for a chip component according to the present invention is configured and has many characteristics. First, a film or layer made of a low melting point metal (low melting point alloy) is melted on the high temperature side of the high boiling point liquid in the container,
Since it is cooled on the low temperature side, surface tension works during melting,
The surface area is small, and by cooling in this state, the surface area is much smaller than that of a low melting point metal film (low melting point alloy film) formed of a plating film, etc., and the surface is smooth. As a result, it is possible to obtain a chip component that has extremely little foreign matter or gas adsorption during storage. In addition, since foreign substances and gases that have been adsorbed and occluded on the surface or inside the hollows during melting are also released,
The outermost film itself is also a clean film containing no impurities, and a chip component having improved solder wettability and soldering reliability can be obtained. And as electrode treatment,
Since the chip component only moves from the high temperature side to the low temperature side in the high boiling point liquid, the operation can be easily performed without using complicated equipment. In addition, since the melting and cooling are performed in the high boiling point liquid and the electrodes of the chip parts do not stick to each other on the low temperature side, the chip parts are not aligned during the electrode treatment, and a large amount of them are scattered. It can be processed simply by throwing it in and the heating and cooling can be completed in a short time because the chip parts are in contact with the liquid, so that the mass productivity becomes very high. Further, since it is melted and cooled in the high boiling point liquid and there is no opportunity to come into contact with air, there is no concern that the surface of the electrode portion will be oxidized even when melted. In addition, performing melting treatment in a liquid means that the high-boiling-point liquid that is in contact with the melt (low-melting point metal, low-melting point alloy, etc.) has a higher specific gravity and higher viscosity than air. Therefore, pressure is applied to the molten metal from the surroundings, the surface state of the molten metal becomes a smooth surface without waviness, and the thickness can be made uniform. By using a liquid having a flux function such as oil such as natural plant oil or glycerin as the high-melting point liquid, the flux becomes unnecessary, which simplifies the equipment and cleans the treated chip parts. It will be very easy.

さらに、本発明の効果を以下に列挙する。Furthermore, the effects of the present invention are listed below.

チップ部品を整列することなく投入できるので、チ
ップ部品の寸法に関係なく同一設備で処理することがで
きる。また、寸法の異なったチップ部品を混合して処理
することもできる。
Since the chip parts can be put in without being aligned, they can be processed by the same equipment regardless of the size of the chip parts. It is also possible to mix and process chip parts having different sizes.

フラックスを使用することなく処理できるため、チ
ップ部品の洗浄が容易であり、しかもフラックスの焼付
きがなく、出来上りがきれいである。
Since it can be processed without using flux, the chip parts can be easily cleaned, and there is no burning of the flux, resulting in a clean product.

熱媒体が高沸点液体のため、温度コントロールも精
度が高く、高沸点液体とチップ部品が接触しているた
め、熱伝導が早く、溶融および固化の処理が短時間でで
き、しかも溶融処理の信頼性が高い。すなわち、溶融の
失敗がないものとなる。
Since the heat medium is a high-boiling liquid, temperature control is also highly accurate, and because the high-boiling liquid and the chip parts are in contact with each other, heat conduction is fast, melting and solidification can be done in a short time, and the melting process is reliable. It is highly likely. That is, there is no melting failure.

高沸点液体に温度勾配を付けているため、処理済チ
ップ部品を低温部に一度に山積状態で溜めることがで
き、まとめて一度に取出しが可能で、取出し作業が非常
に簡素化できる。
Since the high-boiling-point liquid has a temperature gradient, the processed chip parts can be accumulated in a pile at a low temperature part at a time and can be taken out all at once, and the taking-out work can be greatly simplified.

高沸点液体の種類または比重を選びことにより、チ
ップ部品の液体中の通過時間を変えることができる。ま
た、高沸点液体の温度勾配を変えることにより、比重が
変化するのでチップ部品の液体中の通過時間を同じく変
えることができる。これにより、チップ部品の低融点金
属または低融点合金からなる膜または層の種類あるいは
寸法形状が変わっても容易に対処することができる。
By selecting the type or specific gravity of the high boiling point liquid, the passage time of the chip component in the liquid can be changed. Further, since the specific gravity is changed by changing the temperature gradient of the high boiling point liquid, the passage time of the chip component in the liquid can be changed as well. This makes it possible to easily cope with the change in the type or size of the film or layer made of the low melting point metal or the low melting point alloy of the chip component.

機械的に動く部分が少なく、特に高沸点液体中での
可動部が全くないので、設備の故障が皆無といってよ
く、稼働率が飛躍的に向上する。
Since there are few mechanically moving parts and there are no moving parts, especially in high boiling point liquids, it can be said that there is no equipment failure and the operating rate is dramatically improved.

S字型の筒状容器のため、処理済チップ部品の取出
し時の高沸点液体の持出しによる液面の下りが少なく、
しかも高沸点液体中に空気を混入させることなく、チッ
プ部品の投入のタイミングとは無関係で、連続的に取出
しが可能なものである。
Since it is an S-shaped cylindrical container, there is little drop in the liquid level due to the carry-out of high boiling point liquid when taking out the processed chip parts,
Moreover, the high boiling point liquid can be continuously taken out without being mixed with air, regardless of the timing of loading the chip parts.

また、液面が下った時でも高沸点液体の補充が常温のま
ま低温部開口部側よりでき、電極処理を一時停止するこ
となく、連続的な処理が可能であり、品質の安定化およ
び量産性に適している。
In addition, even when the liquid level drops, high boiling point liquid can be replenished from the opening side of the low temperature part at room temperature, continuous processing is possible without temporarily stopping the electrode processing, quality stabilization and mass production. Suitable for sex.

磁石に電磁石を使用した場合は、S字型筒状容器の
外壁より、磁石を分離することなく、電流を遮断するの
みで電極処理済チップ部品の取出しができるので、設備
が簡素化できる。
When an electromagnet is used as the magnet, the electrode-treated chip parts can be taken out from the outer wall of the S-shaped cylindrical container without separating the magnet and only by cutting off the current, which simplifies the equipment.

処理済チップ部品の取出しを磁石を利用して行うよ
うにしたため、高沸点液体中に処理済チップ部品の取出
しのためにベルトを投入するといった必要もなく、構成
が簡単となるものである。
Since the processed chip parts are taken out by using the magnet, it is not necessary to insert a belt for taking out the processed chip parts into the high boiling point liquid, and the structure is simplified.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明におけるチップ部品の電極処理装置の一
実施例を示す概略構成図、第2図はチップ部品の一種で
ある角板形チップ抵抗器を示す断面図、第3図は従来知
られているところのチップ部品の電極処理を実施するた
めの装置の一例を示す概略構成図、第4図は本発明者が
先に提案したチップ部品の電極処理装置の概略構成図で
ある。 1……絶縁基板、2……抵抗体、3……銀系電極膜、4
……ニッケル膜、5……はんだ膜、6……ガラス被覆
膜、7……チップ部品、28……S字型の筒状容器、2
9……やし油(高沸点液体)、30……加熱器、31…
…バーツフィーダ、32……上面開口部、33……磁石
(リング状永久磁石)、34……処理済チップ部品、3
5……低温部やし油液面、36……取出口開口部、37
……容器、38……高温部やし油液面。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing an embodiment of an electrode treatment device for chip parts according to the present invention, FIG. 2 is a sectional view showing a square plate type chip resistor which is a kind of chip parts, and FIG. FIG. 4 is a schematic configuration diagram showing an example of an apparatus for performing the electrode treatment of the chip component, which has been proposed, and FIG. 4 is a schematic configuration diagram of the electrode treatment apparatus for the chip component previously proposed by the present inventor. 1 ... Insulating substrate, 2 ... Resistor, 3 ... Silver-based electrode film, 4
...... Nickel film, 5 ...... Solder film, 6 ...... Glass coating film, 7 ...... Chip parts, 28 ...... S-shaped cylindrical container, 2
9 ... Palm oil (high boiling point liquid), 30 ... Heater, 31 ...
... Burts feeder, 32 ... Top opening, 33 ... Magnet (ring-shaped permanent magnet), 34 ... Processed chip parts, 3
5: low temperature part palm oil level, 36: outlet opening, 37
…… Container, 38 …… High temperature palm oil level.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】内部にオイルなどの高沸点液体を満たし、
かつ一方の端に電極部の最外層に低融点金属または低融
点合金からなる膜または層を有したチップ部品を投入す
る投入部を備えたS字型の筒状容器と、上記高沸点液体
に温度勾配をもたせるように上記S字型の筒状容器の一
方の端に配された加熱器と、上記S字型の筒状容器の外
壁に沿って可動させることができるように設けられた磁
石とを備え、かつ上記S字型の筒状容器の他方の端は開
口部になっており、この開口部は上記S字型の筒状容器
の底部に溜った処理済のチップ部品を上記磁石を用いて
外部に取出す取出し口となっている構成としたチップ部
品の電極処理装置。
1. A high boiling point liquid such as oil is filled inside,
And an S-shaped cylindrical container having a charging part for charging a chip part having a film or layer made of a low melting point metal or a low melting point alloy at the outermost layer of the electrode part at one end, and the above high boiling point liquid A heater arranged at one end of the S-shaped cylindrical container so as to have a temperature gradient, and a magnet provided so as to be movable along the outer wall of the S-shaped cylindrical container. And the other end of the S-shaped cylindrical container is an opening, and the opening is a processed chip component accumulated at the bottom of the S-shaped cylindrical container. An electrode treatment device for chip parts, which is configured to take out to the outside by using.
【請求項2】高沸点液体として、天然植物系オイル,天
然動物系オイル,天然鉱物系オイル,合成シリコン系オ
イルまたはグリセリンのいずれか1つを用いてなる特許
請求の範囲第1項記載のチップ部品の電極処理装置。
2. The chip according to claim 1, wherein the high-boiling liquid is any one of natural vegetable oil, natural animal oil, natural mineral oil, synthetic silicone oil or glycerin. Electrode treatment equipment for parts.
【請求項3】加熱器として外部より加熱するマントルヒ
ータまたは内部より加熱する密閉型シーズヒータを用い
てなる特許請求の範囲第1項記載のチップ部品の電極処
理装置。
3. An electrode processing apparatus for a chip component according to claim 1, wherein a mantle heater which is externally heated or a hermetically sealed sheathed heater which is internally heated is used as the heater.
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