JPH0624622B2 - Liquid processing device - Google Patents
Liquid processing deviceInfo
- Publication number
- JPH0624622B2 JPH0624622B2 JP1174026A JP17402689A JPH0624622B2 JP H0624622 B2 JPH0624622 B2 JP H0624622B2 JP 1174026 A JP1174026 A JP 1174026A JP 17402689 A JP17402689 A JP 17402689A JP H0624622 B2 JPH0624622 B2 JP H0624622B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid
- temperature
- tube
- gelatin
- workpiece
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/0006—Controlling or regulating processes
- B01J19/002—Avoiding undesirable reactions or side-effects, e.g. avoiding explosions, or improving the yield by suppressing side-reactions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 本発明は液体処理装置、特にフォトレジストを一定温度
で注入するシステム、とりわけ固体撮像素子のウエーハ
へのゼラチン塗布に好適なフォトレジスト定温注入シス
テムに関するものである。The present invention relates to a liquid processing apparatus, in particular, a system for injecting a photoresist at a constant temperature, and more particularly to a photoresist constant temperature injection system suitable for coating gelatin on a wafer of a solid-state image pickup device.
一般に固体撮像素子には、色分解フィルタとして一種の
フォトレジストであるゼラチンが使用されており、この
ゼラチンはウエーハ上に形成された絵素上に回転塗布法
により被着形成される。そして、このゼラチンは、約２
５℃程度の常温でゲル状態を呈しているため、約２５℃
以上に温め、ゾル状態にしておかなければ塗布できな
い。さらにゼラチンは、またウエーハも塗布膜厚が均一
で膜欠点もない良好な塗布を行なうためには所定の温度
に温調する必要がある。In general, a solid-state image pickup device uses gelatin, which is a kind of photoresist, as a color separation filter, and this gelatin is formed on a picture element formed on a wafer by spin coating. And this gelatin is about 2
Since it is in a gel state at room temperature of about 5 ℃, it is about 25 ℃.
It cannot be applied unless it is warmed and kept in the sol state. Further, gelatin has a uniform coating film thickness on a wafer, and it is necessary to control the temperature to a predetermined temperature in order to perform good coating without film defects.
これらの条件を踏まれた従来のゼラチン塗布システムを
第１図に示す。同図において、従来のシステムは、恒温
槽１，ヒータ２，温度センサ３，撹拌器４および温度調
節器５により恒温に温調される液体６に、ゼラチン７の
収容容器８が入れられた加圧容器９を浸け、ゼラチン７
をゾル状態にしておくとともに、一定温度に保温させ
る。また恒温槽１から塗布室１０までの注入系を内部に
注入管１１が通された弗素樹脂製チューブ１２と、この
外部を覆った断熱材１３と、これとチューブ１２との間
に入れられたヒータ１４および温度センサ１５と、温度
調節器１６とにより温調し、ゼラチン７を一定温度で吐
出させる。さらに図示しないファンと、ヒータおよびフ
ィルタとからなるファンヒータユニットとにより、温風
１７をダクト１８を通じて塗布室１０へ送り込み、回転
するように構成されているチャック１９に吸着されたウ
エーハ２０を一定温度に加熱するようになっている。な
お、２１は廃液回収容器、２２はウエーハ２０の回転時
に発生するゼラチン飛沫吸引用ブロア、２３はゼラチン
を吐出させるための所定の圧力に制御されたN2ガス、２
４はフィルタ、２５，２６は注入管１１の開閉，吐出側
ゼラチンのサックバック用ベローズである。FIG. 1 shows a conventional gelatin coating system that has been subjected to these conditions. In the figure, in the conventional system, a container 6 for gelatin 7 is placed in a liquid 6 whose temperature is controlled to a constant temperature by a constant temperature bath 1, a heater 2, a temperature sensor 3, a stirrer 4 and a temperature controller 5. Dip the pressure vessel 9 into gelatin 7
Is kept in a sol state and kept at a constant temperature. In addition, the injection system from the constant temperature bath 1 to the coating chamber 10 has a tube made of a fluororesin having an injection tube 11 inserted therein, a heat insulating material 13 covering the outside, and a tube 12 between this and the heat insulation material 13. The temperature is adjusted by the heater 14, the temperature sensor 15, and the temperature controller 16, and the gelatin 7 is discharged at a constant temperature. Further, by a fan (not shown) and a fan heater unit including a heater and a filter, the hot air 17 is sent into the coating chamber 10 through the duct 18, and the wafer 20 adsorbed by the chuck 19 configured to rotate is kept at a constant temperature. It is designed to heat up. In addition, 21 is a waste liquid collection container, 22 is a blower for sucking gelatin droplets generated when the wafer 20 is rotated, 23 is N 2 gas controlled to a predetermined pressure for discharging gelatin, 2
Reference numeral 4 is a filter, and 25 and 26 are bellows for opening and closing the injection tube 11 and sucking back the gelatin on the discharge side.
このように構成された従来システムは、ゼラチン注入系
の温調方法に問題があった。すなわち、温度調節器５の
設定温度とゼラチン７の吐出温度とが異なるため、吐出
液温調整が不便であった。また塗布室１０内のゼラチン
温度を調節できないという欠点もあった。さらにこのた
め、ウエーハ加熱用の温風を塗布室１０へ送り込まなけ
れば注入管１１の末端からゼラチンが凝固してくる問題
もあった。The conventional system configured as described above has a problem in the temperature control method of the gelatin injection system. That is, since the set temperature of the temperature controller 5 and the discharge temperature of the gelatin 7 are different, adjusting the discharge liquid temperature is inconvenient. There is also a drawback that the temperature of gelatin in the coating chamber 10 cannot be adjusted. Therefore, there is also a problem that gelatin is coagulated from the end of the injection pipe 11 unless hot air for heating the wafer is sent to the coating chamber 10.
したがって本発明は、上述した従来技術の問題点を解消
するためになされたものであり、その目的とするところ
は、注入系の末端まで温調できるフォトレジスト定温注
入システムを提供することにある。Therefore, the present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems of the prior art, and an object thereof is to provide a photoresist constant temperature injection system capable of controlling the temperature to the end of the injection system.
このような目的を達成するために本発明は、被加工物に
塗布される処理液を収容する収容容器と、上記処理液を
被加工物に塗布する塗布室と、上記処理液の温度を調節
するための液体を供給するための手段とを具備して成
り、上記処理液は第１の管を経由して上記塗布室に配置
された被加工物に供給され、上記処理液の温度を調節す
るための液体は、第２の管に供給され、上記第１の管
は、上記第２の管の内側に設けることにより、上記処理
液の温度を調節するための液体を上記第１の管の外側
で、上記第２の管の内側に流すことにより、上記処理液
の温度を調節し、上記処理液の温度を調節するための液
体を供給するための手段は、温度を感知する温度センサ
と、上記液体の温度を調節するヒーターと、上記温度セ
ンサと上記ヒーターとに接続された温度調節機とを有
し、上記塗布室に温風を送りこむ手段を有し、かつ、上
記第１の管を上記第２の管の内側に設ける部分は、上記
塗布室まで設けられていることを特徴とする液体処理装
置とし、更に、上記被加工物に塗布される処理液はフォ
トレジストである液体処理装置とし、更に、上記被加工
物に塗布される処理液はゼラチンである液体処理装置と
し、更に、上記被加工物は、ウェーハである液体処理装
置とし、更に、上記温度センサは、処理液の温度を調節
するための液体の温度を感知する液体処理装置とした。In order to achieve such an object, the present invention provides a container for containing a treatment liquid applied to a workpiece, an application chamber for applying the treatment liquid to the workpiece, and a temperature of the treatment liquid. And a means for supplying a liquid for controlling the temperature of the processing liquid, the processing liquid being supplied to a workpiece arranged in the coating chamber via a first pipe. The liquid for controlling the temperature of the processing liquid is supplied to the second pipe, and the first pipe is provided inside the second pipe so that the liquid for adjusting the temperature of the treatment liquid is supplied to the first pipe. Means for adjusting the temperature of the processing liquid by supplying the liquid for adjusting the temperature of the processing liquid by flowing the liquid inside the second tube on the outside of the temperature sensor for sensing the temperature. And a heater for adjusting the temperature of the liquid, the temperature sensor and the heater. And a means for blowing hot air into the coating chamber, and a portion where the first pipe is provided inside the second pipe is provided up to the coating chamber. And a processing liquid applied to the object to be processed is a photoresist, and a processing liquid applied to the object to be processed is gelatin. The liquid processing apparatus is a liquid processing apparatus in which the workpiece is a wafer, and the temperature sensor is a liquid processing apparatus that senses the temperature of the liquid for adjusting the temperature of the processing liquid.
以下、図面を用いて本発明の実施例を詳細に説明する。Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
第２図は本発明によるフォトレジスト定温注入システム
の一例を示す断面構成図であり、第１図と同符号は同一
要素となるのでその説明は省略する。第２図において、
恒温槽１から塗布室１０を経由し、再び恒温槽１までポ
ンプ２７を通してチューブ２８が配管されている。そし
て、このチューブ２８の内部にはゼラチン７の注入管１
１が塗布室１０まで通されている。また塗布室１０内の
ゼラチン吐出部分は第３図に要部断面図で示すような構
造を有している。すなわち、第３図において、２９はコ
ネクタであり、このコネクタ２９には前記チューブ２８
が通常用いられているチューブ継手３０により接続され
ている。また、前記注入管１１の先端はフランジ加工さ
れ、コネクタ２９の一端にねじ込まれるノズル３１によ
り、コネクタ２９に締付固定されている。なお、３２は
シール材である。FIG. 2 is a cross-sectional configuration diagram showing an example of a photoresist constant temperature injection system according to the present invention, and the same reference numerals as those in FIG. In FIG.
A tube 28 is piped from the constant temperature bath 1 through the coating chamber 10 to the constant temperature bath 1 again through a pump 27. Inside the tube 28, a gelatin 7 injection tube 1 is provided.
1 is passed to the coating chamber 10. Further, the gelatin discharging portion in the coating chamber 10 has a structure as shown in FIG. That is, in FIG. 3, 29 is a connector, and the connector 29 has the tube 28
Are connected by a tube joint 30 which is normally used. The tip of the injection pipe 11 is flanged and is fixed to the connector 29 by a nozzle 31 screwed into one end of the connector 29. In addition, 32 is a sealing material.
このように配管された注入系において、ポンプ２７を作
動させることにより、恒温槽１内に液体６が注入管１１
のまわりを包むようにしてチューブ２８とコネクタ２９
とを通って循環する。一方、液体６は前述したように恒
温となるように常時加熱温調されている。したがって、
この定温注入システムによれば、収入容器８内のゼラチ
ン７の温度を一定に保つと同時に注入管１１内のゼラチ
ン温度も一定に保つことが出来る。また、液体６の温度
はそのまま収容容器８および注入管１１内のゼラチン温
度となるため、温度調節器５の設定温度とゼラチン吐出
温度とが同一となる。In the injection system thus piped, the liquid 6 is injected into the constant temperature tank 1 by operating the pump 27.
A tube 28 and a connector 29 that wrap around the
Circulates through. On the other hand, the liquid 6 is constantly heated and controlled so as to have a constant temperature as described above. Therefore,
According to this constant temperature injection system, it is possible to keep the temperature of the gelatin 7 in the income container 8 constant and at the same time keep the gelatin temperature in the injection pipe 11 constant. Further, since the temperature of the liquid 6 becomes the gelatin temperature in the storage container 8 and the injection pipe 11 as it is, the set temperature of the temperature controller 5 and the gelatin discharge temperature become the same.
このように、温度調節機５の設定温度とゼラチン吐出温
度とが同一になるように温度調節できるのは、上述のい
わば２重の管状にした部分を塗布室１０まで設けてお
り、かつ、この塗布室１０に温風を送りこむ手段を有し
ているので、処理液の温度変化を被加工物に吐出する瞬
間まで極めて少なくすることが出来るからである。In this way, the temperature can be adjusted so that the set temperature of the temperature controller 5 and the gelatin discharge temperature are the same, that the above-mentioned double tubular portion is provided up to the coating chamber 10, and This is because a means for blowing hot air into the coating chamber 10 is provided, so that the temperature change of the treatment liquid can be extremely reduced until the moment of discharging the treatment liquid onto the workpiece.
また、処理液の注入管１１と容器８とを同じ液体６で温
度調節しているので、或は、それらを共通の温度制御系
２、３及び５で温度調整しているので、温度制御性が良
い。ポンプ２７は注入管が内側に挿入されていないチュ
ーブ２８の部分に取り付けられているため、取り付けが
簡単である。Further, since the temperature of the treatment liquid injection pipe 11 and the container 8 is adjusted by the same liquid 6, or the temperature of them is adjusted by the common temperature control systems 2, 3 and 5, the temperature controllability is improved. Is good. Since the pump 27 is attached to the portion of the tube 28 where the injection tube is not inserted inside, the attachment is easy.
また、チューブ２８が注入管１１を包含する二重管構成
からチューブ２８だけの単管にする位置は、第２図、第
３図に示すように、チューブ２８の端部でなく、チュー
ブ２８の途中であり、チューブ２８をＴ字状に分岐させ
て二重管から単管にしているので構造が簡単であり、ま
た、処理液を被加工物に供給するときの邪魔になること
もない。Further, as shown in FIGS. 2 and 3, the position where the tube 28 is changed from the double tube structure including the injection tube 11 to the single tube 28 is not at the end of the tube 28 but at the end of the tube 28. In the middle of the process, the tube 28 is branched into a T-shape to form a double tube into a single tube, so that the structure is simple and does not interfere with the supply of the processing liquid to the workpiece.
以上説明したように本発明によれば、温度調節器の設定
温度通りに制御された液体で、収容容器内から吐出部ま
でにわたってゼラチン温調することができるので、吐出
液温度調整が簡単となり、かつ吐出部先端からのゼラチ
ンの凝固が全く起らなくなるなどの極めて優れた効果が
得られる。As described above, according to the present invention, the temperature of the liquid is controlled according to the set temperature of the temperature controller, and the gelatin temperature can be adjusted from the inside of the container to the discharge portion, so that the discharge liquid temperature can be adjusted easily. In addition, an extremely excellent effect such as no solidification of gelatin from the tip of the discharge portion can be obtained.
第１図は従来のゼラチン塗布システムの一例を説明する
ための要部断面構成図、第２図は本発明に係わるゼラチ
ン塗布システムの一例を説明するための要部断面構成
図、第３図は第２図のゼラチン吐出部分を示す断面構成
図である。 １……恒温層、２……ヒータ、３……温度センサ、４…
…撹拌器、５……温度調節器、６……液体、７……ゼラ
チン、８……収容容器、９……加圧容器、１０……塗布
室、１１……注入管、１２……チューブ、１３……断熱
材、１４……ヒータ、１５……温度センサ、１６……温
度調節器、１７……温風、１８……ダクト、１９……チ
ャック、２０……ウエーハ、２１……廃液回収容器、２
２……ブロア、２３……Ｎ2ガス、２４……フィルタ、
２５，２６……ベローズ、２７……ポンプ、２８……チ
ューブ、２９……コネクタ、３０……チューブ継手、３
１……ノズル、３２……シール材。FIG. 1 is a cross-sectional configuration diagram of an essential part for explaining an example of a conventional gelatin coating system, FIG. 2 is a cross-sectional configuration diagram of an essential part for explaining an example of a gelatin coating system according to the present invention, and FIG. FIG. 3 is a cross-sectional configuration diagram showing a gelatin discharging portion of FIG. 2. 1 ... Constant temperature layer, 2 ... Heater, 3 ... Temperature sensor, 4 ...
... Stirrer, 5 ... Temperature controller, 6 ... Liquid, 7 ... Gelatin, 8 ... Storage container, 9 ... Pressurization container, 10 ... Coating chamber, 11 ... Injection tube, 12 ... Tube , 13 ... Insulating material, 14 ... Heater, 15 ... Temperature sensor, 16 ... Temperature controller, 17 ... Warm air, 18 ... Duct, 19 ... Chuck, 20 ... Wafer, 21 ... Waste liquid Collection container, 2
2 …… Blower, 23 …… N 2 gas, 24 …… Filter,
25, 26 ... Bellows, 27 ... Pump, 28 ... Tube, 29 ... Connector, 30 ... Tube fitting, 3
1 ... Nozzle, 32 ... Sealing material.
Claims (5)
容容器と、上記処理液を被加工物に塗布する塗布室と、
上記処理液の温度を調節するための液体を供給するため
の手段とを具備して成り、 上記処理液は第１の管を経由して上記塗布室に配置され
た被加工物に供給され、 上記処理液の温度を調節するための液体は、第２の管に
供給され、 上記第１の管は、上記第２の管の内側に設けることによ
り、上記処理液の温度を調節するための液体を上記第１
の管の外側で、上記第２の管の内側に流すことにより、
上記処理液の温度を調節し、 上記処理液の温度を調節するための液体を供給するため
の手段は、温度を感知する温度センサと、上記液体の温
度を調節するヒーターと、上記温度センサと上記ヒータ
ーとに接続された温度調節機とを有し、 上記塗布室に温風を送りこむ手段を有し、かつ、 上記第１の管を上記第２の管の内側に設ける部分は、上
記塗布室まで設けられていることを特徴とする液体処理
装置。1. An accommodating container for accommodating a processing liquid applied to a workpiece, and a coating chamber for applying the processing liquid to the workpiece.
And a means for supplying a liquid for adjusting the temperature of the treatment liquid, wherein the treatment liquid is supplied to a workpiece arranged in the coating chamber via a first pipe, The liquid for adjusting the temperature of the treatment liquid is supplied to the second pipe, and the first pipe is provided inside the second pipe to adjust the temperature of the treatment liquid. Liquid above first
By flowing inside the second tube inside the second tube,
The means for adjusting the temperature of the treatment liquid and supplying the liquid for adjusting the temperature of the treatment liquid include a temperature sensor for sensing the temperature, a heater for adjusting the temperature of the liquid, and the temperature sensor. A portion having the temperature controller connected to the heater, a unit for blowing warm air into the coating chamber, and the first tube provided inside the second tube is the coating section. A liquid processing apparatus including a chamber.
レジストであることを特徴とする特許請求の範囲第１項
記載の液体処理装置。2. The liquid processing apparatus according to claim 1, wherein the processing liquid applied to the workpiece is a photoresist.
ンであることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
液体処理装置。3. The liquid processing apparatus according to claim 1, wherein the processing liquid applied to the workpiece is gelatin.
徴とする特許請求の範囲第１項乃至第３項の何れかに記
載の液体処理装置。4. The liquid processing apparatus according to claim 1, wherein the workpiece is a wafer.
るための液体の温度を感知することを特徴とする特許請
求の範囲第１項乃至第４項の何れかに記載の液体処理装
置。5. The liquid processing apparatus according to any one of claims 1 to 4, wherein the temperature sensor senses the temperature of the liquid for adjusting the temperature of the processing liquid. .
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1174026A JPH0624622B2 (en) | 1989-07-07 | 1989-07-07 | Liquid processing device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1174026A JPH0624622B2 (en) | 1989-07-07 | 1989-07-07 | Liquid processing device |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57118586A Division JPS599654A (en) | 1982-07-09 | 1982-07-09 | System for injecting photoresist at constant temperature |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0290934A JPH0290934A (en) | 1990-03-30 |
| JPH0624622B2 true JPH0624622B2 (en) | 1994-04-06 |
Family
ID=15971337
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1174026A Expired - Lifetime JPH0624622B2 (en) | 1989-07-07 | 1989-07-07 | Liquid processing device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0624622B2 (en) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0498821A (en) * | 1990-08-16 | 1992-03-31 | Nec Yamagata Ltd | Rotational coater for manufacture of semiconductor |
| JP5302236B2 (en) * | 2010-02-09 | 2013-10-02 | 信越化学工業株式会社 | Resist coating apparatus and resist coating method |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5747086Y2 (en) * | 1978-04-18 | 1982-10-16 |
-
1989
- 1989-07-07 JP JP1174026A patent/JPH0624622B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0290934A (en) | 1990-03-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CA2306927A1 (en) | Patient thermal regulation system | |
| EP0793259A3 (en) | Apparatus and method for drying substrates | |
| JPH0624622B2 (en) | Liquid processing device | |
| JPH0667465B2 (en) | Processing method of work piece | |
| JPH0667466B2 (en) | Processing method of work piece | |
| JPH0286831A (en) | Liquid treating device | |
| JPH0286827A (en) | Liquid treating device | |
| JP2616748B2 (en) | Method for manufacturing semiconductor device | |
| JPH0286830A (en) | Liquid treating device | |
| JPH0286829A (en) | Liquid treating device | |
| JPS599654A (en) | System for injecting photoresist at constant temperature | |
| JP3587893B2 (en) | Hot spray system | |
| JP2000019056A (en) | Wind tunnel testing device | |
| JP2842652B2 (en) | Air conditioner | |
| JPH0312257A (en) | Thermoplastic coating liquid coating equipment and coating method | |
| JPH0574698A (en) | Resist coating device | |
| JP3447195B2 (en) | Method and apparatus for controlling inner surface heating of heat insulating bottle | |
| JPS6125537Y2 (en) | ||
| JPS6234574A (en) | Heated and wet air feeder for treating nasitis | |
| JPH04122672U (en) | High viscosity fluid coating equipment | |
| JP2952630B2 (en) | Processing equipment | |
| JP2638260B2 (en) | Heating equipment for paint | |
| JPS6216146B2 (en) | ||
| JP2510699Y2 (en) | Temperature and humidity control device for air supplied to the paint booth | |
| JPS63250820A (en) | Coating device |