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JPH0635599B2 - 鋳型製造用洗浄剤 - Google Patents
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JPH0635599B2 - 鋳型製造用洗浄剤 - Google Patents

鋳型製造用洗浄剤

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Publication number
JPH0635599B2
JPH0635599B2 JP13131785A JP13131785A JPH0635599B2 JP H0635599 B2 JPH0635599 B2 JP H0635599B2 JP 13131785 A JP13131785 A JP 13131785A JP 13131785 A JP13131785 A JP 13131785A JP H0635599 B2 JPH0635599 B2 JP H0635599B2
Authority
JP
Japan
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carbon atoms
group
alkyl group
cleaning agent
ammonium
Prior art date
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Expired - Lifetime
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JP13131785A
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JPS61291696A (ja
Inventor
康之 川勝
義宏 青木
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Kao Corp
Original Assignee
Kao Corp
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Publication date
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  • Molds, Cores, And Manufacturing Methods Thereof (AREA)
  • Detergent Compositions (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は鋳型製造用洗浄剤に関する。
〔従来の技術及び問題点〕
従来、鋳型を製造する際には樹脂と砂を混合し、これを
反応させ固着させたものを用いている。この時反応物が
模型、金枠、混練砂ホッパー等へ付着してその除去が従
来から問題になっている。特に、鋳型用粘結剤としてフ
ラン樹脂等の有機バインダーを用いた場合、有機バイン
ダーの付着が多いという問題があった。又、鋳型のベン
ト部（空気抜き部）に洗浄しがたい付着が起こりやすい
という問題もある。
従来、このような付着物を除去する方法として、ハンマ
やブラシ、ショットプラスト等で物理的に除去する方
法、適当な溶媒を用いて溶解除去する方法等が提案され
ている。
しかしながら、物理的方法では複雑な構造の鋳型の場
合、人間が手作業で行わざるを得ず、労力と時間を要
し、その上傷が付き易く、最良の方法とは言い難い。溶
媒法では除去に通常１週間以上を要し、しかもしばしば
除去が不完全で、処理後、更にブラッシング等を行う必
要があった。
又、特開昭59-153542 号公報には、ジメチルスルホキシ
ドと、フッ素系界面活性剤、炭化水素系アニオン界面活
性剤等の界面活性剤を含有する鋳難付着物除去剤が開示
されている。しかしながら、この除去剤も十分に付着物
を除去することができない。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明者らは、かかる従来の問題点を解決すべく鋭意研
究の結果、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、鋳型製造時に付着する汚染物の洗浄剤
であって、次の(a)〜(e)の少なくとも一種の溶剤からな
るか、次の(a)〜(e)の少なくとも一種の溶剤と、次の
(A) 〜(D) の少なくとも一種の界面活性剤とからなる
か、或いは次の(a)〜(e)の少なくとも一種の溶剤と、次
の(A)〜(D)の少なくとも一種の界面活性剤と、次のイ）
〜ホ）の少なくとも一種の溶剤とからなることを特徴と
する鋳型製造用洗浄剤を提供するものである。
(a) R1CN （但しR1は炭素数１〜４のアルキル基又はアルケニル
基）。
(b) R2COOH （但しR2はH 又は炭素数１〜３のアルキル基又はヒドロ
キシル基置換アルキル基）。
(c)炭素数が１〜４のハロゲン化飽和炭化水素 （但し沸点が45℃以下のものは除く）。
(d) R3OCH2CH2OR4 （但しR3は炭素数１〜４のアルキル基で、R4はH 、炭素
数１〜４のアルキル基又はアシル基）。
(e)炭素数４〜６の環状エーテル。
(A) （但しR6は炭素数８〜18の脂肪族炭化水素基で、M はN
a,K, アンモニウムもしくはアルカノールアンモニウム
基）。
(B) R5OSO3M （但しR5は炭素数８〜20の脂肪族炭化水素基で、M はN
a,K, アンモニウムもしくはアルカノールアンモニウム
基）。
(C) （但しR5は炭素数８〜20の脂肪族炭化水素基で、M はN
a,K, アンモニウムもしくはアルカノールアンモニウム
基、n1は１〜20の整数）。
(D) （但し、R5は炭素数８〜20の脂肪族炭化水素基で、n3は
１〜100）。
イ）炭素数３〜８の脂肪族ケトン。
ロ）炭素数５〜８の脂環族ケトン。
ハ）炭素数６〜12の芳香族炭化水素。
ニ）炭素数６〜８のハロゲン化芳香族炭化水素。
ホ）炭素数２〜８の脂肪族エステル。
本発明の洗浄剤の主有効成分である前記(a)〜(e)の少な
くとも一種の化合物の含有量は10重量％以上が好まし
い。又、(A) 〜(D) の少なくとも一種の界面活性剤の含
有量は0.1 〜20重量％の範囲が適当である。上記イ）〜
ホ）の少なくとも一種の溶剤の含有量は上記(a)〜(e)の
少なくとも一種の溶剤及び(A) 〜(D) の少なくとも一種
の界面活性剤の含有量の残部であるが、本発明の洗浄剤
は若干の水を含有していてもよい。
本発明の洗浄剤は、特に常温自硬性又はガス硬化性有機
バインダーを粘結剤とし鋳型を製造する際の模型の洗浄
に使用すると好適である。
〔実施例〕
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本
発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
実施例１〜２及び比較例１〜２ 硅砂にフラン樹脂と有機スルホン酸系硬化剤を添加して
鋳型を製造するフラン自硬性で、30kg/Batのミキサーに
硅砂30kg、フラン樹脂360 ｇ、キシレンスルホン酸系硬
化剤150 ｇを添加して１分間混練後排出した。
これを100 回繰り返し行いミキサー及び混合羽根に付着
した硅砂含有付着物に表１に示す洗浄剤を一定量塗布
し、除去性及び発錆状況、除去後の混練砂の硬化性を評
価した。
結果を表１に示す。
実施例３〜４及び比較例３〜４ 硅砂にフラン樹脂と有機スルホン酸系硬化剤を添加して
鋳型を製造するフラン自硬性で、再生硅砂1000重量部、
フラン樹脂８重量部、トルエンスルホン酸系硬化剤４重
量部を用いて鋳型を製造した。繰り返し50回成型した鋳
型製造用模型、金枠に付着した汚染物除去のため、表２
に示す洗浄剤を塗布し、除去性、発錆、清掃除去後の成
型性を評価した。
結果を表２に示す。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】鋳型製造時に付着する汚染物の洗浄剤であ
    って、次の(a)〜(e)の少なくとも一種の溶剤からなるこ
    とを特徴とする鋳型製造用洗浄剤。 (a) R1CN （但しR1は炭素数１〜４のアルキル基又はアルケニル
    基）。 (b) R2COOH （但しR2はH 又は炭素数１〜３のアルキル基又はヒドロ
    キシル基置換アルキル基）。 (c)炭素数が１〜４のハロゲン化飽和炭化水素 （但し沸点が45℃以下のものは除く）。 (d) R3OCH2CH2OR４ （但しR3は炭素数１〜４のアルキル基で、R4はH 、炭素
    数１〜４のアルキル基又はアシル基）。 (e)炭素数４〜６の環状エーテル。
  2. 【請求項２】(a)〜(e)の少なくとも一種の溶剤の含有量
    が10重量％以上である特許請求の範囲第１項記載の洗浄
    剤。
  3. 【請求項３】鋳型製造時に付着する汚染物の洗浄剤であ
    って、次の(a)〜(e)の少なくとも一種の溶剤と、次の
    (A) 〜(D) の少なくとも一種の界面活性剤とからなるこ
    とを特徴とする鋳型製造用洗浄剤。 (a) R1CN （但しR1は炭素数１〜４のアルキル基又はアルケニル
    基）。 (b) R2COOH （但しR2はH 又は炭素数１〜３のアルキル基又はヒドロ
    キシル基置換アルキル基）。 (c)炭素数が１〜４のハロゲン化飽和炭化水素 （但し沸点が45℃以下のものは除く）。 (d) R3OCH2CH2OR４ （但しR3は炭素数１〜４のアルキル基で、R4はH 、炭素
    数１〜４のアルキル基又はアシル基）。 (e)炭素数４〜６の環状エーテル。 (A) （但しR6は炭素数８〜18の脂肪族炭化水素基で、M はN
    a,K, アンモニウムもしくはアルカノールアンモニウム
    基）。 (B) R5OSO3M （但しR5は炭素数８〜20の脂肪族炭化水素基で、M はN
    a,K, アンモニウムもしくはアルカノールアンモニウム
    基）。 (C) （但しR5は炭素数８〜20の脂肪族炭化水素基で、M はN
    a,K, アンモニウムもしくはアルカノールアンモニウム
    基、n1は１〜20の整数）。 (D) （但し、R5は炭素数８〜20の脂肪族炭化水素基で、n3は
    １〜100 ）。
  4. 【請求項４】(A) 〜(D) の少なくとも一種の界面活性剤
    の含有量が0.1 〜20重量％である特許請求の範囲第３項
    記載の洗浄剤。
  5. 【請求項５】鋳型製造時に付着する汚染物の洗浄剤であ
    って、次の(a)〜(e)の少なくとも一種の溶剤と、次の
    (A) 〜(D) の少なくとも一種の界面活性剤と、次のイ）
    〜ホ）の少なくとも一種の溶剤とからなることを特徴と
    する鋳型製造用洗浄剤。 (a) R1CN （但しR1は炭素数１〜４のアルキル基又はアルケニル
    基）。 (b) R2COOH （但しR2はH 又は炭素数１〜３のアルキル基又はヒドロ
    キシル基置換アルキル基）。 (c)炭素数が１〜４のハロゲン化飽和炭化水素 （但し沸点が45℃以下のものは除く）。 (d) R3OCH2CH2OR４ （但しR3は炭素数１〜４のアルキル基で、R4はH 、炭素
    数１〜４のアルキル基又はアシル基）。 (e)炭素数４〜６の環状エーテル。 (A) （但しR6は炭素数８〜18の脂肪族炭化水素基で、M はN
    a,K, アンモニウムもしくはアルカノールアンモニウム
    基）。 (B) R5OSO3M （但しR5は炭素数８〜20の脂肪族炭化水素基で、M はN
    a,K, アンモニウムもしくはアルカノールアンモニウム
    基）。 (C) （但しR5は炭素数８〜20の脂肪族炭化水素基で、M はN
    a,K, アンモニウムもしくはアルカノールアンモニウム
    基、n1は１〜20の整数）。 (D) （但し、R5は炭素数８〜20の脂肪族炭化水素基で、n3は
    １〜100 ）。 イ）炭素数３〜８の脂肪族ケトン。 ロ）炭素数５〜８の脂環族ケトン。 ハ）炭素数６〜12の芳香族炭化水素。 ニ）炭素数６〜８のハロゲン化芳香族炭化水素。 ホ）炭素数２〜８の脂肪族エステル。
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