JPH0641112B2 - 光ディスク用原盤の処理装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は、クリーンルーム内において平板状部材に対し
て所定の作業をなす装置に関する。

背景技術 映像や音声情報等をディスク（円盤）状の記録媒体に記
録する方式として光学方式がある。この光学方式は、基
板となるガラス円盤にフォトレジストを塗布してレジス
ト原盤を作成し、このレジスト原盤のレジスト膜に微小
な点に集光したレーザビームを映像や音声情報等に応じ
て明滅させるいわゆるビットバイビット方式で照射感光
させ、しかる後にこれを現像して得られるピット（へこ
み）の長さ及びその繰返し周期により情報を記録するも
のである。

かかる方式において、レジスト原盤を作成するまでに
は、ガラス原盤の洗浄、プライマ処理、フォトレジスト
の塗布及びベーキング（熱処理）等の処理が行なわれる
のであるが、レジスト原盤の作成工程等では極度に塵埃
を嫌うので、これらの処理はクリーンルーム（防塵室）
内で行なわれる。また、クリーンルーム内であってもフ
ィルタで除去しきれない微細なホコリ等が大気中に浮遊
しているので、これら微細なホコリ等が盤面上に付着し
ないようにガラス原盤やレジスト原盤に風を送りつつ各
作業が行なわれることになるが、風の流れに乱れ等が生
ずると風による十分な防塵効果が得られない場合があ
る。

発明の概要 本発明は、上述した点に鑑みなされたもので、風の流れ
を良好に維持することにより、風による十分な防塵効果
が得られる光ディスク用原盤の処理装置を提供すること
を目的とする。

本発明による光ディスク用原盤の処理装置は、クリーン
ルーム内に配置された１つのライン上に、光ディスク用
原盤を支持する支持手段と、前記光ディスク用原盤に対
して所定の処理を施す複数の処理ユニットと、前記支持
手段を前記複数の処理ユニット間において移送せしめる
移送手段と、前記光ディスク用原盤の平板面に沿ってか
つ前記ラインと略直交する方向に流れる空気流を発生さ
せる空気流発生手段とを有し、前記複数の処理ユニット
は支柱によって前記支持手段の移動通路上方に支持され
ると共に、前記支柱は前記空気流の通路において前記支
持手段より下流側に設けられていることを特徴としてい
る。

実施例 以下、本発明の実施例を図に基づいて詳細に説明する。

第１図は、例えばレジスト原盤の作成装置に適用された
本発明の一実施例を示す斜視図であり、本システムは、
光ディスク用原盤であるガラス原盤の洗浄、プライマ処
理及びフォトレジストの塗布の各処理を行なういわゆる
ウェットステージとしての装置１と、ガラス原盤の欠陥
検査、レジスト原盤の欠陥検査及び膜厚の測定を行なう
いわゆる検査ステージとしての装置２と、プリベーク処
理を行なういわゆるベーキングステージとしての装置３
とからなり、これら１〜３が一体的に構成されてクリー
ンルーム内に設置される。本システムにおいては、ガラ
ス原盤の洗浄及びプライマ処理、ガラス原盤の欠陥検
査、フォトレジストの塗布、熱処理並びにレジスト原盤
の検査及び膜厚の検査の一連の処理が流れ作業にて自動
的に行なわれる構成となっている。

研磨，洗浄されたガラス原盤（図示せず）は、ウェット
ストック室４に一時的に貯蔵されて超音波洗浄等が行な
われて最良の状態に維持され、しかる後例えば自動的に
装置１に略水平状態で送り込まれ、この水平状態を維持
しつつ上述した一連の処理が行なわれる。一連の処理が
終了したガラス原盤は装置３から排出されることにな
る。装置１から装置３へのガラス原盤の流れに対して左
側の装置側方にはクリーンベンチ５が配置されており、
このクリーンベンチ５からは一連の処理が行なわれるガ
ラス原盤に対して略平行に風が送り込まれる。これによ
れば、クリーンルームのフィルタで除去しきれず、大気
中に浮遊している微細なホコリ等がガラス原盤の盤面に
付着するのを防止できることになる。なお、作業者はク
リーンベンチ５からの送風に対して各装置１〜３よりも
風下に位置して作業するようになる。

次に、装置１〜３の具体的な構造について第２図乃至第
４図を参照しつつ説明する。

ガラス原盤６はターンテーブル７により略水平に担持さ
れる。ターンテーブル７、駆動源であるモータ８及び当
該モータの回転駆動力をターンテーブル７に伝達するベ
ルト９等を含むターンテーブルユニット１０は、装置本
体１１の上面に各装置１〜３間に亘って互いに平行に配
置された一対のガイドレール１２ａ，１２ｂ上に載置さ
れ、リニアベアリング（図示せず）を介して各装置１〜
３間を移動自在な構成となっている。また、装置本体１
１の上面にはガイドレール１２ａ，１２ｂと平行にボー
ルねじ１３がターンテーブルユニット１０のほぼ移動範
囲に亘って回転自在に設けられており、このボールねじ
１３にはターンテーブルユニット１０に取り付けられた
ボールナット１４が螺合している。そして、ボールねじ
１３が送りモータ１５によって回転駆動されることによ
り、その回転方向に応じた方向にターンテーブルユニッ
ト１０が移動できることになる。

ターンテーブルユニット１０においては、た４図に示す
ように、ターンテーブル７は軸方向に貫通孔１６ａを有
するスピンドル１６の上端部に嵌着されている。スピン
ドル１６はベアリング１７を介してハウジング１８によ
り回転自在に保持されており、その下端部には大プーリ
１９が固定され、この大プーリ１９とモータ８の回転軸
に固定された小プーリ２１とに架設されたベルト９を介
してモータ８により回転駆動される。いわゆるベルトド
ライブ構成となっている。このベルトドライブ構成によ
れば、スピンドル１６の最下端に固定されたバキューム
シール２０の交換を容易に行なうことができることにな
る。すなわち、ダイレクトドライブ構成の場合には、バ
キュームシール２０を交換する際に、モータ等の重量物
を取り外さなければならなく大変であるが、ベルトドラ
イブ構成の場合はその必要がないので、バキュームシー
ル２０の交換を極めて容易に行ない得るのである。

ターンテーブル７の周りには、最大径のガラス原盤６よ
りも大なる径の受け台２１が固定状態で設けられてお
り、この受け台２１にはガラス原盤６のサイズを検出す
るための例えば２個のサイズセンサ２２ａ，２２ｂがそ
の半径方向に配列されている。また、受け台２１の中央
孔近傍には、ガラス原盤６の種類を検出するための例え
ば２個の種類センサ２３ａ，２３ｂが設けられている。
スピンドル１６の上端部には、センターキャップ２４が
冠着されている。

第２図及び第３図において、装置１は装置本体１１に対
して上下動するカップ２５を備えている。このカップ２
５は通常はターンテーブルユニット１０の移動を妨げな
いように上昇位置に保持され、各処理を行なう場合に連
結部２６（第１図に示す）を介して直線駆動モータ２７
により下降駆動される。カップ２５の駆動源としては、
直線駆動モータ２７に限定されるものではなく、要はカ
ップ２５を上下駆動できるものであれば良い。下降した
カップ２５はターンテーブルユニット１０における受け
台２１の周縁部に嵌合して密閉状態を維持する。この状
態において、ターンテーブル７上にバキュームポンプ２
８により真空吸着されたガラス原盤６は、モータ８によ
り回転駆動されつつカップ２５内に設けられたノズル
（図示せず）から噴射される洗浄液によって洗浄され、
しかる後プライマ処理が行なわれる。洗浄及びプライマ
処理が行なわれたガラス原盤６はターンテーブルユニッ
ト１０がガイドレール１２ａ，１２ｂに沿って移動する
ことにより装置２へ移送される。

装置２は検査ユニット（作業ユニット）２９を有してお
り、この検査ユニット２９は装置本体１１に対して２本
の支柱３０ａ，３０ｂによって支持されると共に、フー
ド３１によって覆われている。２本の支柱３０ａ，３０
ｂはダクトとしての作用もなし、ガラス原盤６よりも風
下に位置するように、即ちクリーンベンチ５と反対側に
位置するように設けられる。これによれば、クリーンベ
ンチ５からガラス原盤６に対して平行に送出される風の
流れに乱れを生じることがなく、良好にガラス原盤６の
盤面へのホコリ等の付着防止を行なうことができること
になる。装置２では、装置１で洗浄及びプライマ処理が
行なわれたガラス原盤６に傷等の欠陥がないか否かの検
査が、更に装置３で熱処理されたレジスト原盤の盤面上
に傷等の欠陥がないか否かの検査が行なわれると同時
に、レジスト膜の膜厚の測定も検査ユニット２９によっ
て行なわれる。

一方、装置３はベーキングユニット（作業ユニット）３
２を有しており、このベーキングユニット３２は装置本
体１１に対して２本の支柱３３ａ，３３ｂによって支持
されると共に、フード３４によって覆われている。２本
の支柱３３ａ，３３ｂは装置２の場合と同様に、ダクト
としての作用もなし、かつガラス原盤６よりも風下に位
置するように設けられている。この装置３では、フォト
レジストが塗布されたレジスト原盤に対して遠赤外線に
よるプリベーク処理が行なわれる。このプリベーク処理
においては、放射温度計３５によりレジスト原盤の表面
温度が検出され、この検出温度に基づいて表面温度のコ
ントロールが行なわれる。

装置２，３におけるフード３１，３４は各々、第１図か
ら特に明らかなように、クリーンベンチ５側の端部にお
いて、その上面が下方に向って傾斜しかつ両側面が中央
に向って傾斜した構成となっている。これによれば、第
１図及び第３図に矢印で示すように、クリーンベンチ５
から送出された風が各フード３１，３４の上面及び両側
面の傾斜面に沿って下流方向に良好に流れるので、各装
置の周辺における風の流れに乱れを生じることがないの
である。

また、先述したように、検査ユニット２９，フード３１
及びベーキングユニット３２，フード３４を支持する支
柱３０ａ，３０ｂ及び３３ａ，３３ｂが、ターンテーブ
ルユニット１１により担持搬送されるガラス原盤６より
も風下に位置するように設けられ、支柱３０ａ，３０ｂ
及び３３ａ，３３ｂは、第３図に示すように、装置本体
１１の上面に形成された保持孔３７ａ，３７ｂ及び３８
ａ，３８ｂにより保持される。一方、本装置が作業者に
対して左右に例えば一対配置され、両側から風を送り込
むようなシステムにした場合、一方の装置では支柱３０
ａ，３０ｂ及び３３ａ，３３ｂがガラス原盤６よりも風
上に位置すると共に、フード３１，３４の傾斜面が風下
側に位置し、風のスムーズな流れを妨げることになって
しまう。そこで、その対策として、保持孔３７ａ，３７
ｂ及び３８ａ，３８ｂによる支柱３０ａ，３０ｂ及び３
３ａ，３３ｂの保持を着脱自在とし、反対側にも保持孔
３９ａ，３９ｂ及び４０ａ，４０ｂを穿設しておき、支
柱３０ａ，３０ｂ及び３３ａ，３３ｂの取付位置を適宜
選択することにより、第５図に示すように、常に支柱３
０ａ，３０ｂ及び３３ａ，３３ｂがガラス原盤６よりも
風下に位置すると共に、フード３１，３４の傾斜面が風
上側に位置するように設定することができることにな
る。

第２図において、装置本体１１にはターンテーブルユニ
ット１０の移動位置を検出するために、例えば６個の位
置センサ３６ａ〜３６ｆがターンテーブルユニット１０
の移動方向に沿って配列されている。６個の位置センサ
３６ａ〜３６ｆは各装置１〜３に２個づつ対応するよう
に設けられており、これら各センサ３６ａ〜３６ｆの各
出力の組合わせからターンテーブルユニット１０の移動
位置が検出されるのである。すなわち、第６図に示すよ
うに、位置センサ３６ａ，３６ｂのみがオン状態にある
ときは装置１に、位置センサ３６ｃ，３６ｄのみがオン
状態にあるときは装置２に、位置センサ３６ｅ，３６ｆ
のみがオン状態にあるときは装置３にそれぞれターンテ
ーブルユニット１０が位置することを検出できるのであ
る。また、ターンテーブルユニット１０が移動路の両端
に位置する場合には位置センサ３６ａ又は３６ｆのみが
オン状態にあり、装置間に位置する場合には位置センサ
３６ｂ，３６ｃのみ又は３６ｄ，３６ｅのみがオン状態
となるのである。

従って、位置センサ３６ａ〜３６ｆの各出力の組合わせ
からターンテーブルユニット１０の移動位置を検出する
ことにより、当該ユニット１０を各装置の作業位置に確
実に停止せしめることができ、又ユニット１０の移動中
に例えば停電があった場合、停電復旧後の検出位置から
その後ユニット１０が移動すべき方向を判断できるの
で、停電復旧後でもスムーズに作業を継続できることに
なる。

以上説明した構成において、ターンテーブルユニット１
０の移動及びその停止位置の制御、各装置１〜３におけ
る各作業をなすための動作制御、ターンテーブルの速度
制御等は例えばマイクロコンピュータからなるシステム
コントローラ（図示せず）により一括して行なわれる。

次に、本システムにおいて実行される作業手順を第７図
のフローチャートに従って説明する。

先ず、装置１においては、ターンテーブル７上にガラス
原盤が載置されると、カップ２５が降下してターンテー
ブルユニット１０における受け台２１に嵌合して密閉状
態を維持し、この状態においてガラス原盤の洗浄が行な
われ（ステップＳ１）、続いてプライマ処理が行なわれ
る（ステップＳ２）。洗浄及びプライマ処理が行なわれ
たガラス原盤はターンテーブル７上に載置されたままタ
ーンテーブルユニット１０の移動に伴って装置２へ移動
し、ここでガラス原盤の欠陥検査が行なわれる（ステッ
プＳ３）。検査を通過したガラス原盤は再び装置１へ移
送され、フォトレジストが塗布され（ステップＳ４）、
レジスト原盤となる。このレジスト原盤はターンテーブ
ルユニット１０の移動に伴って装置２を経て装置３へ移
動し、ここで遠赤外線によるプリベーク処理が行なわれ
る（ステップＳ５）。熱処理が行なわれたレジスト原盤
は再び装置２へ移送され、レジスト原盤の欠陥検査及び
レジスト膜の膜厚の測定が行なわれる（ステップＳ
６）。以上の手順により、レジスト原盤を作成するため
の一連の処理が完了する。

ここで、各装置１〜３では、ターンテーブル７が回転駆
動されることによって各作業が行なわれるのは勿論であ
るが、本システムにおいては、ターンテーブル７は各装
置間を移動する間も回転駆動され、回転が持続されるよ
うになっている。これによれば、ガラス原盤（又はレジ
スト原盤）が常時回転駆動されることになるので、盤面
上へのホコリ等の付着を防止できることになる。また、
各装置においてターンテーブル７の立上げ時間が不要と
なるので、各作業への移行をスムーズに行なうことがで
きることになる。

なお、上記実施例においては、光ディスク用原盤として
ガラス原盤を用いてレジスト原盤を作成する装置に適用
した場合について説明したが、本発明はこれに限定され
るものではなく、種々の平板状部材に対して所定の作業
をなす装置全てに適用し得るものである。

また、上記実施例では、複数の装置が一体化された場合
について説明したが、単体の装置にも適用し得ることは
勿論である。

発明の効果 以上説明したように、本願発明による光ディスク用原盤
の処理装置においては、光ディスク用原盤の原盤）面に
対して平行になるような空気流を発生させることで、原
盤の表面近傍に層流もしくは層流に近い空気流れを形成
し、浮游状態にあるホコリ等をこの流れに乗せて下流へ
流し除去することによって、原盤表面への付着を完全に
防止することができる。

また、空気流をラインに対して略直交する方向とするこ
とにより、浮游状態にあるホコリの除去を最短経路にて
効率良く行うことができる。

さらに、処理ユニットを支持する支柱を、空気流の通路
において光ディスク用原盤より下流側に配置したこと
で、支柱近傍に生じる乱流状態が原盤領域の空気流れに
影響を及ぼすことはなく、浮游状態にあるホコリを完全
に除去することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は例えばレジスト原盤の作成装置に適用された本
発明の一実施例を示す斜視図、第２図及び第３図は第１
図における各装置の具体的な構造を示す一部断面を含む
正面図及び一部断面を含む平面図、第４図は第２図及び
第３図におけるターンテーブルユニットの具体的な構造
を示す断面図、第５図は作業者に対して本装置を左右に
一対配置した場合の構成を示す平面図、第６図は第２図
における位置センサの各動作状態とターンテーブルユニ
ットの移動位置との関係を示す図、第７図はレジスト原
盤を作成するための作業手順を示すフローチャートであ
る。 主要部分の符号の説明 １，２，３……装置、５……クリーンベンチ ６……ガラス原盤、７……ターンテーブル １０……ターンテーブルユニット １１……装置本体、２５……カップ ２９……検査ユニット ３０ａ，３０ｂ，３３ａ，３３ｂ……支柱 ３２……ベーキングユニット ３１，３４……フード ３６ａ〜３６ｆ……位置センサ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/027 21/304 Ｄ 8831−4Ｍ (72)発明者 河野 滋 山梨県中巨摩郡田富町西花輪2680番地 パ イオニアビデオ株式会社内 (72)発明者 小塩 千春 山梨県中巨摩郡田富町西花輪2680番地 パ イオニアビデオ株式会社内 (72)発明者 長田 和彦 山梨県中巨摩郡田富町西花輪2680番地 パ イオニアビデオ株式会社内 (56)参考文献 実開 昭53−17885（ＪＰ，Ｕ)

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】クリーンルーム内に配置された１つのライ
   ン上に、光ディスク用原盤を支持する支持手段と、前記
   光ディスク用原盤に対して所定の処理を施す複数の処理
   ユニットと、前記支持手段を前記複数の処理ユニット間
   において移送せしめる移送手段と、前記光ディスク用原
   盤の平板面に沿ってかつ前記ラインと略直交する方向に
   流れる空気流を発生させる空気流発生手段とを有し、前
   記複数の処理ユニットは支柱によって前記支持手段の移
   動通路上方に支持されると共に、前記支柱は前記空気流
   の通路において前記支持手段より下流側に設けられてい
   ることを特徴とする光ディスク用原盤の処理装置。