JPH0694303B2 - 光ディスク用原盤処理装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は、流れ作業システムに関し、特にターンテーブ
ルによって回転駆動される光ディスク用原盤に対して各
々異なる作業をなす複数の装置を有する光ディスク用原
盤処理装置に関する。

背景技術 映像や音声情報等をディスク（円盤）状の記録媒体に記
録する方式として光学方式がある。この光学方式は、基
板となるガラス円盤にフォトレジストを塗布してレジス
ト原盤を作成し、このレジスト原盤のレジスト膜に微小
な点に集光したレーザビームを映像や音声情報等に応じ
て明滅させるいわゆるビットバイビット方式で照射感光
させ、しかる後にこれを現像して得られるピット（へこ
み）の長さ及びその繰返し周期により情報を記録するも
のである。

かかる方式において、レジスト原盤を作成するまでに
は、ガラス原盤の洗浄、プライマ処理、フォトレジスト
の塗布及びベーキング（熱処理）等の処理が行なわれる
のであるが、これら一連の処理を行なうのに、従来は、
１つの処理工程に対して１つの装置を用意し、１工程が
終了する毎に人手によってガラス原盤を次の装置に移動
する方法が採られていたので、システム全体が大型化す
ると共に作業性に欠けるといる欠点があった。

そこで、光ディスク用原盤に対して異なる処理を施す数
の処理ユニットをクリーンルーム内で１つのラインに沿
って設けて、光ディスク用原盤を回転せしめるターンテ
ーブルを回転指示するターンテーブルユニットを順に処
理ユニット間を移動せしめる光ディスク処理装置が考え
られる。

かかる光ディスク用原盤処理装置においては、エアフィ
ルターによって空気を濾過してクリーンルームの雰囲気
を形成するのであるが、かかる空気濾過によってもな
お、微細な塵埃が残留することは不可避である。そし
て、かかる微細な塵埃は、各処理工程において原盤表面
に付着して得られる光ディスクのドロップアウトの原因
となる。

発明の概要 そこで、本発明は、全体としてコンパクトであり、しか
も処理過程において、空気中の塵埃の光ディスク用原盤
への付着を極力回避した光ディスク用原盤処理装置を提
供することを目的とする。

本発明による光ディスク用原盤処理装置は、クリーンル
ーム内に配置されるターンテーブルを所定回転数にて回
転駆動してこれに載置される光ディスク用原盤に対して
各々異なる作業をなす複数の装置を有する光ディスク用
原盤処理装置であって、前記ターンテーブル及びこれを
回転駆動する駆動源を含むターンテーブルユニットと、
前記ターンテーブルユニットを案内すべく前記複数の装
置間に亘って設けられた案内手段と、前記ターンテーブ
ルユニットを前記複数の装置間において移動せしめる駆
動手段とを備え、前記駆動源は前記ターンテーブルが各
装置間を移動する間においても前記ターンテーブルを回
転駆動し続けることを特徴としている。

実 施 例 以下、本発明の実施例を図に基づいて詳細に説明する。

第１図は、光ディスク用原盤の処理装置である本発明の
一実施例を示す斜視図であり、本装置は、ガラス原盤の
洗浄、プライマ処理及びフォトレジストの塗布の各処理
を行なういわゆるウェットステージとしての装置１と、
ガラス原盤の欠陥検査、レジスト原盤の欠陥検査及び膜
厚の測定を行なういわゆる検査ステージとしての装置２
と、プリベーク処理を行なういわゆるベーキングステー
ジとしての装置３とからなり、これら装置１〜３が一体
的に構成されてクリーンルーム（防塵室）内に設置され
る。本システムにおいては、ガラス原盤の洗浄及びプラ
イマ処理、ガラス原盤の欠陥検査、フォトレジストの塗
布、熱処理並びにレジスト原盤の検査及び膜厚の検査一
連の処理が流れ作業にて自動的に行なわれる構成となっ
ている。

研磨，洗浄されたガラス原盤（図示せず）は、ウェット
ストック室４に一時的に貯蔵されて超音波洗浄等が行な
われて最良の状態に維持され、しかる後例えば自動的に
装置１に略水平状態で送り込まれ、この水平状態を維持
しつつ上述した一連の処理が行なわれる。一連の処理が
終了したガラス原盤は装置３から排出されることにな
る。装置１から装置３へのガラス原盤の流れに対して左
側の装置側方にはクリーンベンチ５が配置されており、
このクリーンベンチ５からは一連の処理が行なわれるガ
ラス原盤に対して略平行に風が送り込まれる。これによ
れば、クリーンルームのフィルタで除去しきれず、大気
中に浮遊している微細なホコリ等がガラス原盤の盤面に
付着するのを防止できることになる。なお、作業者はク
リーンベンチ５からの送風に対して各装置１〜３よりも
風下に位置して作業するようになる。

次に、装置１〜３の具体的な構造について第２図乃至第
４図を参照しつつ説明する。

ガラス原盤６はターンテーブル７により略水平に担持さ
れる。ターンテーブル７、駆動源であるモータ８及び当
該モータの回転駆動力をターンテーブル７に伝達するベ
ルト９等を含むターンテーブルユニット10は、装置本体
11の上面に各装置１〜３間に亘って互いに平行に配置さ
れた一対のガイドレール12a,12b上に載置され、リニア
ベアリング（図示せず）を介して各装置１〜３間を移動
自在な構成となっている。また、装置本体11の上面には
ガイドレール12a,12bと平行にボールねじ13がターンテ
ーブルユニット10のほぼ移動範囲に亘って回転自在に設
けられており、このボールねじ13にはターンテーブルユ
ニット10に取り付けられたボールナット14が螺合してい
る。そして、ボールねじ13が送りモータ15によって回転
駆動されることにより、その回転方向に応じた方向にタ
ーンテーブルユニット10が移動できることになる。

ターンテーブルユニット10においては、第４図に示すよ
うに、ターンテーブル７は軸方向に貫通孔16aを有する
スピンドル16の上端部に嵌着されている。スピンドル16
はベアリング17を介してハウジング18により回転自在に
保持されており、その下端部には大プーリ19が固定さ
れ、この大プーリ19とモータ８の回転軸に固定された小
プーリ21とに架設されたベルト９を介してモータ８によ
り回転駆動される、いわゆるベルトドライブ構成となっ
ている。このベルトドライブ構成によれば、スピンドル
16の最下端に固定されたバキュームシール20の交換を容
易に行なうことができることになる。すなわち、ダイレ
クトドライブ構成の場合には、バキュームシール20を交
換する際に、モータ等の重量物を取り外さなければなら
なく大変であるが、ベルトドライブ構成の場合はその必
要がないので、バキュームシール20の交換を極めて容易
に行ない得るのである。

ターンテーブル７の周りには、最大径のガラス原盤６よ
りも大なる径の受け台21が固定状態で設けられており、
この受け台21にはガラス原盤６のサイズを検出するため
の例えば２個のサイズセンサ22a,22bがその半径方向に
配列されている。また、受け台21の中央孔近傍には、ガ
ラス原盤６の種類を検出するための例えば２個の種類セ
ンサ23a,23bが設けられている。スピンドル16の上端部
には、センターキャップ24が冠着されている。

第２図及び第３図において、装置１は装置本体11に対し
て上下動するカップ25を備えている。このカップ25は通
常はターンテーブルユニット10の移動を妨げないように
上昇位置に保持され、各処理を行なう場合に連結部26
（第１図に示す）を介して直線駆動モータ27により下降
駆動される。カップ25の駆動源としては、直線駆動モー
タ27に限定されるものではなく、要はカップ25を上下駆
動できるものであれば良い。下降したカップ25はターン
テーブルユニット10における受け台21の周縁部に嵌合し
て密閉状態を維持する。この状態において、ターンテー
ブル７上にバキュームポンプ28により真空吸着されたガ
ラス原盤６は、モータ８により回転駆動されつつカップ
25内に設けられたノズル（図示せず）から噴射される洗
浄液によって洗浄され、しかる後プライマ処理が行なわ
れる。洗浄及びプライマ処理が行なわれたガラス原盤６
はターンテーブルユニット10がガイドレール12a,12bに
沿って移動することにより装置２へ移送される。

装置２は検査ユニット29を有しており、この検査ユニッ
ト29は装置本体11に対して２本の支柱30a,30bによって
支持されると共に、フード31によって覆われている。２
本の支柱30a,30bはダクトとしての作用もなし、ガラス
原盤６よりも風下に位置するように、即ちクリーンベン
チ５と反対側に位置するように設けられる。これによれ
ば、クリーンベンチ５からガラス原盤６に対して平行に
送出される風の流れに乱れを生じることがなく、良好に
ガラス原盤６の盤面へのホコリ等の付着防止を行なうこ
とができることになる。装置２では、装置１で洗浄及び
プライマ処理が行なわれたガラス原盤６に傷等の欠陥が
ないか否かの検査が、更に装置３で熱処理されたレジス
ト原盤の盤面上に傷等の欠陥がないか否かの検査が行な
われると同時に、レジスト膜の膜厚の測定も検査ユニッ
ト29によって行なわれる。

一方、装置３はベーキングユニット32を有しており、こ
のベーキングユニット32は装置本体11に対して２本の支
柱33a,33bによって支持されると共に、フード34によっ
て覆われている。２本の支柱33a,33bは装置２の場合と
同様に、ダクトとしての作用もなし、かつガラス原盤６
よりも風下に位置するように設けられている。この装置
３では、フォトレジストが塗布されたレジスト原盤に対
して遠赤外線によるプリベーク処理が行なわれる。この
プリベーク処理においては、放射温度計35によりレジス
ト原盤の表面温度が検出され、この検出温度に基づいて
表面温度のコトロールが行なわれる。

装置2,3におけるフード31,34は各々、第１図から特に明
らかなように、クリーンベンチ５側の端部において、そ
の上面が下方に向って傾斜しかつ両側面が中央に向って
傾斜した構成となっている。これによれば、第１図及び
第３図に矢印で示すように、クリーンベンチ５から送出
された風が各フード31,34の上面及び両側面の傾斜面に
沿って下流方向に良好に流れるので、各装置の周辺にお
ける風の流れに乱れを生じることがないのである。

また、先述したように、検査ユニット29,フート31及び
ベーキングユニット32,フード34を支持する支柱30a,30b
及び33a,33bが、ターンテーブルユニット11により担持
搬送されるガラス原盤６よりも風下に位置するように設
けられ、支柱30a,30b及び33a,33bは、第３図に示すよう
に、装置本体11の上面に形成された保持孔、37a,37b及
び38a,38bにより保持される。一方、本装置が作業者に
対して左右に例えば一対配置され、両側から風を送り込
むようなシステムにした場合、一方の装置では支柱30a,
30b及び33a,33bがガラス原盤６よりも風上に位置すると
共に、フード31,34の傾斜面が風下側に位置し、風のス
ムーズな流れを妨げることになってしまう。そこで、そ
の対策として、保持孔37a,37b及び38a,38bよる支柱30a,
30b及び33a,33bの保持を着脱自在とし、反対側にも保持
孔39a,39b及び40a,40bを穿設しておき、支柱30a,30b及
び33a,33bの取付位置を適宜選択することにより、第５
図に示すように、常に支柱30a,30b及び33a,33bがガラス
原盤６よりも風下に位置すると共に、フード31,34の傾
斜面が風上側に位置するように設定することができるこ
とになる。

第２図において、装置本体11にはターンテーブルユニッ
ト10の移動位置を検出するために、例えば６個の位置セ
ンサ36a〜36fがターンテーブルユニット10の移動方向に
沿って配列されている。６個の位置センサ36a〜36fは各
装置１〜３に２個づつ対応するように設けられており、
これら各センサ36a〜36fの各出力の組合わせからターン
テーブルユニット10の移動位置が検出されるのである。
すなわち、第６図に示すように、位置センサ36a,36bの
みがオン状態にあるときは装置１に、位置センサ36c,36
dのみがオン状態にあるときは装置２に、位置センサ36
e,36fのみがオン状態にあるときは装置３にそれぞれタ
ーンテーブルユニット10が位置することを検出できるの
である。また、ターンテーブルユニット10が移動路の両
端に位置する場合には位置センサ36a又は36fのみがオン
状態にあり、装置間に位置する場合には位置センサ36b,
36cのみ又は36d,36eのみがオン状態となるのである。

従って、位置センサ36a〜36fの各出力の組合わせからタ
ーンテーブルユニット10の移動位置を検出することによ
り、当該ユニット10を各装置の作業位置に確実に停止せ
しめることができ、又ユニット10の移動中に例えば停電
があった場合、停電復旧後の検出位置からその後ユニッ
ト10が移動すべき方向を判断できるので、停電復旧後で
もスムーズに作業を継続できることになる。

以上説明した構成において、ターンテーブルユニット10
の移動及びその停止位置の制御、各装置１〜３における
各作業をなすための動作制御、ターンテーブルの速度制
御等は例えばマイクロコンピュータからなるシステムコ
ントローラ（図示せず）により一括して行なわれる。

次に、本装置において実行される作業手順を第７図のフ
ローチャートに従って説明する。

先ず、装置１においては、ターンテーブル７上にガラス
原盤が載置されると、カップ25が降下してターンテーブ
ルユニット10における受け台21に嵌合して密閉状態を維
持し、この状態においてガラス原盤の洗浄が行なわれ
（ステップS1）、続いてプライマ処理が行なわれる（ス
テップS2）。洗浄及びプライマ処理が行なわれたガラス
原盤はターンテーブル７上に載置されたままターンテー
ブルユニット10の移動に伴って装置２へ移動し、ここで
ガラス原盤の欠陥検査が行なわれる（ステップS3）。検
査を通過したガラス原盤は再び装置１へ移送され、フォ
トレジストが塗布され（ステップS4）、レジスト原盤と
なる。このレジスト原盤はターンテーブルユニット10の
移動に伴って装置２を経て装置３へ移動し、ここで遠赤
外線によるプリベーク処理が行なわれる（ステップS
5）。熱処理が行なわれたレジスト原盤は再び装置２へ
移送され、レジスト原盤の欠陥検査及びレジスト膜の膜
厚の測定が行なわれる（ステップS6）。以上の手順によ
り、レジスト原盤を作成するための一連の処理が完了す
る。

ここで、各装置１〜３では、ターンテーブル７が回転駆
動されることによって各作業が行なわれるのは勿論であ
るが、本システムにおいては、ターンテーブル７は各装
置間を移動する間も回転駆動され、回転が持続されるよ
うになっている。これによれば、ガラス原盤（又はレジ
スト原盤）が常時回転駆動されることになるので、盤面
上へのホコリ等の付着を防止できることになる。また、
各装置においてターンテーブル７の立上げ時間が不要と
なるので、各作業への移行をスムーズに行なうことがで
きることになる。

発明の効果 以上説明したように、本発明による光ディスク用原盤処
理装置においては、各々異なる作業をなす複数の装置が
一体化され、ターンテーブル及びこれを回転駆動する駆
動源を含むターンテーブルユニットが複数の装置間に亘
って移動自在に設けられていると共に、各装置間を移動
するときもターンテーブルが回転駆動される構成となっ
ているので、各装置の一体化によるシステム全体のコン
パクト化及び作業性の向上が図れると共に、被作業体で
ある光ディスク用ガラス原盤の盤面へのホコリ等の付着
を防止できることにもなる。

【図面の簡単な説明】

第１図は例えばレジスト原盤の作成装置に適用された本
発明の一実施例を示す斜視図、第２図及び第３図は第１
図における各装置の具体的な構造を示す一部断面を含む
正面図及び一部断面を含む平面図、第４図は第２図及び
第３図におけるターンテーブルユニットの具体的な構造
を示す断面図、第５図は作業者に対して本装置を左右に
一対配置した場合の構成を示す平面図、第６図は第２図
における位置センサの各動作状態とターンテーブルユニ
ットの移動位置との関係を示す図、第７図はレジスト原
盤を作成するための作業手順を示すフローチャートであ
る。 主要部分の符号の説明 1,2,3……装置、５……クリーンベンチ ６……ガラス原盤、７……ターンテーブル 10……ターンテーブルユニット 11……装置本体、25……カップ 29……検査ユニット 30a,30b,33a,33b……支柱 32……ベーキングユニット 31,34……フード 36a〜36f……位置センサ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 河野 滋 山梨県中巨摩郡田富町西花輪2680番地 パ イオニアビデオ株式会社内 (72)発明者 小塩 千春 山梨県中巨摩郡田富町西花輪2680番地 パ イオニアビデオ株式会社内 (72)発明者 長田 和彦 山梨県中巨摩郡田富町西花輪2680番地 パ イオニアビデオ株式会社内 (56)参考文献 特開 昭59−223623（ＪＰ，Ａ)

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】クリーンルーム内に配置されるターンテー
   ブルを所定回転数にて回転駆動してこれに載置される光
   ディスク用原盤に対して各々異なる作業をなす複数の装
   置を有する光ディスク用原盤処理装置であって、前記タ
   ーンテーブル及びこれを回転駆動する駆動源を含むター
   ンテーブルユニットと、前記ターンテーブルユニットを
   案内すべく前記複数の装置間に亘って設けられた案内手
   段と、前記ターンテーブルユニットを前記複数の装置間
   において移動せしめる駆動手段とを備え、前記駆動源は
   前記ターンテーブルユニットが各装置間を移動する間に
   おいても前記ターンテーブルを回転駆動し続けることを
   特徴とする光ディスク用原盤処理装置。