JPH065599B2 - 半導体記憶装置 - Google Patents
半導体記憶装置Info
- Publication number
- JPH065599B2 JPH065599B2 JP23361986A JP23361986A JPH065599B2 JP H065599 B2 JPH065599 B2 JP H065599B2 JP 23361986 A JP23361986 A JP 23361986A JP 23361986 A JP23361986 A JP 23361986A JP H065599 B2 JPH065599 B2 JP H065599B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- transistor
- inverter
- memory cell
- drain
- source
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
Landscapes
- Static Random-Access Memory (AREA)
- Shift Register Type Memory (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体記憶装置に関し、特にランダム・アクセ
ス・メモリを含む半導体記憶装置に関する。
ス・メモリを含む半導体記憶装置に関する。
従来のランダム・アクセス・メモリ装置(以下RAMと
記す)は、データの読出し、書込みが任意のアドレスに
対して随時に行なえるため、広い範囲の用途がある。
記す)は、データの読出し、書込みが任意のアドレスに
対して随時に行なえるため、広い範囲の用途がある。
しかしながら、従来のRAMではメモリセルに格納され
たデータを、そのRAM内部で直接シフトすることはで
きない。従って、メモリセルに格納されたデータをその
データが格納されているアドレスの前または後のアドレ
スにシフトするためには、まず、そのデータが格納され
ているアドレスを設定し、そこに格納されているデータ
を一旦外部へ読出した後、アドレスに1を減算または加
算して再び書込むという一連の動作を所要回数行うこと
で目的を達成していた。
たデータを、そのRAM内部で直接シフトすることはで
きない。従って、メモリセルに格納されたデータをその
データが格納されているアドレスの前または後のアドレ
スにシフトするためには、まず、そのデータが格納され
ているアドレスを設定し、そこに格納されているデータ
を一旦外部へ読出した後、アドレスに1を減算または加
算して再び書込むという一連の動作を所要回数行うこと
で目的を達成していた。
上述した従来の半導体記憶装置では、シグナル・プロセ
ッサによりディジタル・フィルタを構成する場合のよう
に、新たに入力されたデータをRAMに書込むと共にそ
れぞれRAMに格納されていたデータをすべて一段シフ
トさせなければならないときは、シフト動作させるだけ
でシグナル・プロセッサの命令数が数ステップ必要にな
るばかりでなく、段数が増えればそれに比例してシフト
動作に要する時間がかかるため、限られた時間のなかで
はすべての処理を終了させることが不可能になることが
あるという問題点があり、このため、ディジタル・フィ
ルタとして実現できる特性を制限してしなうことを余儀
無くされる。
ッサによりディジタル・フィルタを構成する場合のよう
に、新たに入力されたデータをRAMに書込むと共にそ
れぞれRAMに格納されていたデータをすべて一段シフ
トさせなければならないときは、シフト動作させるだけ
でシグナル・プロセッサの命令数が数ステップ必要にな
るばかりでなく、段数が増えればそれに比例してシフト
動作に要する時間がかかるため、限られた時間のなかで
はすべての処理を終了させることが不可能になることが
あるという問題点があり、このため、ディジタル・フィ
ルタとして実現できる特性を制限してしなうことを余儀
無くされる。
本発明の目的は、メモリセルに格納されているデータを
RAM外部へ読出すことなく、隣接するアドレスのメモ
リセル間で直接データをシフトすることが可能な半導体
記憶装置を提供することにある。
RAM外部へ読出すことなく、隣接するアドレスのメモ
リセル間で直接データをシフトすることが可能な半導体
記憶装置を提供することにある。
本発明の半導体記憶装置は、ワード線にゲートが接続し
一方のデータ線にソースが接続する第1のトランジスタ
と、前記ワード線にゲートが接続し他方のデータ線にド
レインが接続する第2のトランジスタと、前記第1のト
ランジスタのドレインに入力端が接続し前記第2のトラ
ンジスタのソースに出力端が接続する第1のインバータ
と、前記第1のインバータの入力端にソースが接続し第
1の制御線にゲートが接続する第3のトランジスタと、
前記第1のインバータの出力端にドレインが接続し前記
第1の制御線にゲートが接続する第4のトランジスタ
と、前記第4のトランジスタのソースに入力端が接続し
前記第3のトランジスタのドレインに出力端が接続する
第2のインバータと、前記第2のインバータの出力端に
ドレインが接続し第2の制御線にゲートが接続する第5
のトランジスタと、前記第2のインバータの入力端にソ
ースが接続し前記第2の制御線にゲートが接続する第6
のトランジスタとからなる第i番目(iは自然数)のメ
モリセルと、前記第i番目のメモリセルと同じ構成から
なる第(i+1)番目のメモリセルとを含み、前記第i
番目のメモリセルの第5のトランジスタのソースが前記
第(i+1)番目のメモリセルの第1のインバータの入
力端に接続し、前記第i番目のメモリセルの第6のトラ
ンジスタのドレインが前記第(i+1)番目のメモリセ
ルの第1のインバータの出力端に接続することを含んで
構成される。
一方のデータ線にソースが接続する第1のトランジスタ
と、前記ワード線にゲートが接続し他方のデータ線にド
レインが接続する第2のトランジスタと、前記第1のト
ランジスタのドレインに入力端が接続し前記第2のトラ
ンジスタのソースに出力端が接続する第1のインバータ
と、前記第1のインバータの入力端にソースが接続し第
1の制御線にゲートが接続する第3のトランジスタと、
前記第1のインバータの出力端にドレインが接続し前記
第1の制御線にゲートが接続する第4のトランジスタ
と、前記第4のトランジスタのソースに入力端が接続し
前記第3のトランジスタのドレインに出力端が接続する
第2のインバータと、前記第2のインバータの出力端に
ドレインが接続し第2の制御線にゲートが接続する第5
のトランジスタと、前記第2のインバータの入力端にソ
ースが接続し前記第2の制御線にゲートが接続する第6
のトランジスタとからなる第i番目(iは自然数)のメ
モリセルと、前記第i番目のメモリセルと同じ構成から
なる第(i+1)番目のメモリセルとを含み、前記第i
番目のメモリセルの第5のトランジスタのソースが前記
第(i+1)番目のメモリセルの第1のインバータの入
力端に接続し、前記第i番目のメモリセルの第6のトラ
ンジスタのドレインが前記第(i+1)番目のメモリセ
ルの第1のインバータの出力端に接続することを含んで
構成される。
次に、本発明について図面を参照して説明する。
第1図は本発明の一実施例の半導体記憶装置を示す回路
図である。
図である。
第1図に示すように、本実施例の半導体記憶装置は、第
i番目(iは自然数)のワード線Wiにゲートが接続し
データ線9にソースが接続するNチャネル・エンハンス
メントMOS型の第1のトランジスタ1と、ワード線W
iにゲートが接続しデータ線10にドレインが接続する
第2のトランジスタ2と、第1のトランジスタ1のドレ
インに入力端が接続し第2のトランジスタ2のソースに
出力端が接続するCMOS型の第1のインバータ7と、
第1のインバータ7の入力端にソースが接続し第1の制
御線C1iにゲートが接続する第3のトランジスタ3
と、インバータ7の出力端にドレインが接続し第1の制
御線C1iにゲートが接続する第4のトランジスタ4
と、第4のトランジスタ4のソースに入力端が接続し第
3のトランジスタ3のドレインに出力端が接続する第2
のインバータ8と、第2のインバータ8の出力端にドレ
インが接続し第2の制御線C2iにゲートが接続する第
5のトランジスタ5と、第2のインバータ8の入力端に
ソースが接続し第2の制御線C2iにゲートが接続する
第6のトランジスタ6とからなる第i番目のメモリセル
Miと、第i番目のメモリセルと同じ構成からなる第
(i+1)番目のメモリセルM(i+1)を含み、第i番目
のメモリセルMiの第5のトランジスタ5のソースが第
(i+1)番目のメモリセルM(i+1)の第1のインバー
タ7の入力端に接続し、第i番目のメモリセルMiの第
6のトランジスタ6のドレインガ第(i+1)番目のメ
モリセルM(i+1)の第1のインバータ7の出力端に接続
する構成からなる。
i番目(iは自然数)のワード線Wiにゲートが接続し
データ線9にソースが接続するNチャネル・エンハンス
メントMOS型の第1のトランジスタ1と、ワード線W
iにゲートが接続しデータ線10にドレインが接続する
第2のトランジスタ2と、第1のトランジスタ1のドレ
インに入力端が接続し第2のトランジスタ2のソースに
出力端が接続するCMOS型の第1のインバータ7と、
第1のインバータ7の入力端にソースが接続し第1の制
御線C1iにゲートが接続する第3のトランジスタ3
と、インバータ7の出力端にドレインが接続し第1の制
御線C1iにゲートが接続する第4のトランジスタ4
と、第4のトランジスタ4のソースに入力端が接続し第
3のトランジスタ3のドレインに出力端が接続する第2
のインバータ8と、第2のインバータ8の出力端にドレ
インが接続し第2の制御線C2iにゲートが接続する第
5のトランジスタ5と、第2のインバータ8の入力端に
ソースが接続し第2の制御線C2iにゲートが接続する
第6のトランジスタ6とからなる第i番目のメモリセル
Miと、第i番目のメモリセルと同じ構成からなる第
(i+1)番目のメモリセルM(i+1)を含み、第i番目
のメモリセルMiの第5のトランジスタ5のソースが第
(i+1)番目のメモリセルM(i+1)の第1のインバー
タ7の入力端に接続し、第i番目のメモリセルMiの第
6のトランジスタ6のドレインガ第(i+1)番目のメ
モリセルM(i+1)の第1のインバータ7の出力端に接続
する構成からなる。
次に、第1図に示す実施例の動作について説明する。
第2図は第1図の実施例を動作させるための信号の波形
図である。
図である。
本実施例の半導体記憶装置をRAMとして動作させると
きには、端子14を低レベル電位に設定する。この設定
によって、NAND回路11の出力に接続された第1の
制御線C1i,C1(i+1)は高レベル電位に設定され、
AND回路12の出力に接続された第2の制御線C
2i,C2(i+1)は低レベル電位に設定される。その結
果、第3のトランジスタ3と第4のトランジスタ4が導
通し、第5のトランジスタ5と第6のトランジスタ6が
非導通となるため、メモリセルMi,M(i+1)のそれぞ
れ独立したメモリセルとなり、ワード線Wi又はW(i+
1)が選択されるとメモリセルMi又はM(i+1)はデータ
線10,11を通してデータの書込み又は読出しができ
る。
きには、端子14を低レベル電位に設定する。この設定
によって、NAND回路11の出力に接続された第1の
制御線C1i,C1(i+1)は高レベル電位に設定され、
AND回路12の出力に接続された第2の制御線C
2i,C2(i+1)は低レベル電位に設定される。その結
果、第3のトランジスタ3と第4のトランジスタ4が導
通し、第5のトランジスタ5と第6のトランジスタ6が
非導通となるため、メモリセルMi,M(i+1)のそれぞ
れ独立したメモリセルとなり、ワード線Wi又はW(i+
1)が選択されるとメモリセルMi又はM(i+1)はデータ
線10,11を通してデータの書込み又は読出しができ
る。
また、メモリセルに格納されているデータを隣接するア
ドレスのメモリセルにシフトする動作のときには、すべ
てのワード線を非選択としてメモリセルをデータ線から
しゃ断した状態で、端子14を高レベル電位に設定し、
同時に第2図に示す信号φ1を端子16に、信号φ2を
端子15に印加する。区間Iでは、第1の制御線C
1i,C1(i+1)および第2の制御線C2i,C2(i+1)
は共に低レベル電位に設定され、第3及至第6のトラン
ジスタ3〜6が非導通となり第1のインバータ7と第2
のインバータ8は互に電気的に分離されるが、それまで
に格納されていたデータはそれぞれのインバータのゲー
トの電位として保持される。区間IIでは、第1の制御線
C1i,C1(i+1)が低レベル電位に、第2の制御線C
2i,C2(i+1)が高レベルに設定され、第3及び第4
のトランジスタ3,4が非導通、第5及び第6のトラン
ジスタ5,6が導通となり、メモリセルMiに含まれる
第2のインバータ8とメモリセルM(i+1)に含まれる第
1のインバータ7とが結合して一時的にメモリセルを構
成し、メモリセルMiに含まれるインバータ8に保持さ
れていたデータがメモリセルM(i+1)に含まれる第1の
インバータ7にシフトされる。区間IIIでは、区間Iと
同様に第1のインバータ7と第2のインバータ8は互に
電気的に分離されるが、メモリセルM(i+1)に含まれる
第1のインバータ7にはメモリセルMiに含まれるイン
バータ8からシフトされたデータが保持される。区間IV
では、第1の制御線C1i,C1(i+1)が高レベル電位
に設定され、第2の制御線C2i,C2(i+1)が低レベ
ル位に設定されるため、第3及び第4のトランジスタ
3,4が導通し、第5及び第6のトランジスタ5,6が
非導通となるため第1のインバータ7と第2のインバー
タ8の組合せによるメモリセルが復旧し、メモリセルM
iに格納されていたデータがメモリセルM(i+1)にシフ
トされる。
ドレスのメモリセルにシフトする動作のときには、すべ
てのワード線を非選択としてメモリセルをデータ線から
しゃ断した状態で、端子14を高レベル電位に設定し、
同時に第2図に示す信号φ1を端子16に、信号φ2を
端子15に印加する。区間Iでは、第1の制御線C
1i,C1(i+1)および第2の制御線C2i,C2(i+1)
は共に低レベル電位に設定され、第3及至第6のトラン
ジスタ3〜6が非導通となり第1のインバータ7と第2
のインバータ8は互に電気的に分離されるが、それまで
に格納されていたデータはそれぞれのインバータのゲー
トの電位として保持される。区間IIでは、第1の制御線
C1i,C1(i+1)が低レベル電位に、第2の制御線C
2i,C2(i+1)が高レベルに設定され、第3及び第4
のトランジスタ3,4が非導通、第5及び第6のトラン
ジスタ5,6が導通となり、メモリセルMiに含まれる
第2のインバータ8とメモリセルM(i+1)に含まれる第
1のインバータ7とが結合して一時的にメモリセルを構
成し、メモリセルMiに含まれるインバータ8に保持さ
れていたデータがメモリセルM(i+1)に含まれる第1の
インバータ7にシフトされる。区間IIIでは、区間Iと
同様に第1のインバータ7と第2のインバータ8は互に
電気的に分離されるが、メモリセルM(i+1)に含まれる
第1のインバータ7にはメモリセルMiに含まれるイン
バータ8からシフトされたデータが保持される。区間IV
では、第1の制御線C1i,C1(i+1)が高レベル電位
に設定され、第2の制御線C2i,C2(i+1)が低レベ
ル位に設定されるため、第3及び第4のトランジスタ
3,4が導通し、第5及び第6のトランジスタ5,6が
非導通となるため第1のインバータ7と第2のインバー
タ8の組合せによるメモリセルが復旧し、メモリセルM
iに格納されていたデータがメモリセルM(i+1)にシフ
トされる。
このようにして、任意のメモリセルに格納されているデ
ータを1ワード分シフトさせることができる。
ータを1ワード分シフトさせることができる。
以上説明したように本発明は、制御線に接続されたトラ
ンジスタを介して交互に接続されたインバータを含むメ
モリセル構成で、制御線に与える電位により通常のRA
Mの構成の他にメモリセルに格納されているデータを隣
接するアドレスのメモリセルへシフトする機能をもたせ
ることにより、RAMに格納されているデータを一時に
シフトさせることができる。そのため、シグナル・プロ
セッサによりディジタル・フィルタを構成する場合で、
シフトさせる段数が増加してもそのために要する時間は
一定であり、ディジタル・フィルタとしての機能を制限
されることがなくなる効果がある。
ンジスタを介して交互に接続されたインバータを含むメ
モリセル構成で、制御線に与える電位により通常のRA
Mの構成の他にメモリセルに格納されているデータを隣
接するアドレスのメモリセルへシフトする機能をもたせ
ることにより、RAMに格納されているデータを一時に
シフトさせることができる。そのため、シグナル・プロ
セッサによりディジタル・フィルタを構成する場合で、
シフトさせる段数が増加してもそのために要する時間は
一定であり、ディジタル・フィルタとしての機能を制限
されることがなくなる効果がある。
第1図は本発明の一実施例を示す回路図、第2図は第1
図の実施例を動作させるための信号の波形図である。 1〜6…Nチャネル・エンハンスメントMOS型トラン
ジスタ、7,8…CMOS型インバータ、9,10…デ
ータ線、11…NAND回路、12…AND回路、13
…インバータ、Wi,W(i+1)…ワード線、Mi,M(i+
1)…メモリセル、C1i,C1(i+1),C2i,C2(i+
1)…制御線。
図の実施例を動作させるための信号の波形図である。 1〜6…Nチャネル・エンハンスメントMOS型トラン
ジスタ、7,8…CMOS型インバータ、9,10…デ
ータ線、11…NAND回路、12…AND回路、13
…インバータ、Wi,W(i+1)…ワード線、Mi,M(i+
1)…メモリセル、C1i,C1(i+1),C2i,C2(i+
1)…制御線。
Claims (1)
- 【請求項1】ワード線にゲートが接続し一方のデータ線
にソースが接続する第1のトランジスタと、前記ワード
線にゲートが接続し他方のデータ線にドレインが接続す
る第2のトランジスタと、前記第1のトランジスタのド
レインに入力端が接続し前記第2のトランジスタのソー
スに出力端が接続する第1のインバータと、前記第1の
インバータの入力端にソースが接続し第1の制御線にゲ
ートが接続する第3のトランジスタと、前記第1のイン
バータの出力端にドレインが接続し前記第1の制御線に
ゲートが接続する第4のトランジスタと、前記第4のト
ランジスタのソースに入力端が接続し前記第3のトラン
ジスタのドレインに出力端が接続する第2のインバータ
と、前記第2のインバータの出力端にドレインが接続し
第2の制御線にゲートが接続する第5のトランジスタ
と、前記第2のインバータの入力端にソースが接続し前
記第2の制御線にゲートが接続する第6のトランジスタ
とからなる第i番目(iは自然数)のメモリセルと、前
記第i番目のメモリセルと同じ構成からなる第(i+
1)番目のメモリセルとを含み、前記第i番目のメモリ
セルの第5のトランジスタのソースが前記第(i+1)
番目のメモリセルの第1のインバータの入力端に接続
し、前記第i番目のメモリセルの第6のトランジスタの
ドレインが前記第(i+1)番目のメモリセルの第1の
インバータの出力端に接続する構成からなることを特徴
とする半導体記憶装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23361986A JPH065599B2 (ja) | 1986-09-30 | 1986-09-30 | 半導体記憶装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23361986A JPH065599B2 (ja) | 1986-09-30 | 1986-09-30 | 半導体記憶装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6387696A JPS6387696A (ja) | 1988-04-18 |
| JPH065599B2 true JPH065599B2 (ja) | 1994-01-19 |
Family
ID=16957884
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23361986A Expired - Lifetime JPH065599B2 (ja) | 1986-09-30 | 1986-09-30 | 半導体記憶装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH065599B2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6098591A (ja) * | 1983-11-01 | 1985-06-01 | Toshiba Corp | 記憶装置 |
-
1986
- 1986-09-30 JP JP23361986A patent/JPH065599B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6387696A (ja) | 1988-04-18 |
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