JPH0664695B2 - Method of manufacturing magnetic head - Google Patents
Method of manufacturing magnetic headInfo
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- JPH0664695B2 JPH0664695B2 JP59176856A JP17685684A JPH0664695B2 JP H0664695 B2 JPH0664695 B2 JP H0664695B2 JP 59176856 A JP59176856 A JP 59176856A JP 17685684 A JP17685684 A JP 17685684A JP H0664695 B2 JPH0664695 B2 JP H0664695B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は磁気ヘッドに係り、特に飽和磁束密度の極めて
高い磁性材料を磁極の一部に用いた磁気ヘッドの製造方
法に関する。Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic head, and more particularly to a method of manufacturing a magnetic head using a magnetic material having an extremely high saturation magnetic flux density for a part of a magnetic pole.
近年、磁気記録技術は高保磁力テープおよび同テープ用
の高性能磁気ヘッド材料の開発により著るしい進展をと
げつつある。特に高保磁力のメタルテープを用いた場合
には、記録波長数μmから1μm以下の高記録密度の領
域において、従来に比して著るしい出力の増加、C/N
(出力−ノイズ比)の増加が達成され、VTRなどの高記
録密度が必要とされる分野において大幅な記録密度の向
上が達成されつつある。しかし、従来VTRなどに用いら
れてきたフェライトを用いた磁気ヘッドでは、フェライ
トの飽和磁束密度が約5000ガウス以下であるために、記
録磁界の大きさが十分でなく、高保磁力メタルテープを
使用するためには飽和磁束密度の大きい金属磁性材料を
用いた磁気ヘッドが必要になってきた。このような金属
磁性材料としては、Fe−Al−Si系合金(飽和磁束密度約
10kG)、Fe−Ni系合金(飽和磁束密度約8kG)、Fe−Si
系合金(飽和磁束密度約18kG)、あるいは、Fe、Co、Ni
の少なくとも一種にB、C、N、Al、Si、Pなどを含有
させた金属−非金属系非晶質合金、もしくは、Fe、Co、
Niの少なくとも一種にY、Ti、Zr、Hf、Nb、Taなどを含
有させた金属−金属系非晶質合金などがある。これらの
うち最大の飽和磁束密度をもつ材料は、Si含有量約6重
量%のFe−Si合金で、その飽和磁束密度は約18kGであ
る。In recent years, the magnetic recording technology has made remarkable progress by developing a high coercive force tape and a high performance magnetic head material for the tape. In particular, when a metal tape having a high coercive force is used, in a high recording density region of a recording wavelength of several μm to 1 μm or less, a marked increase in output and C / N
An increase in (output-noise ratio) is achieved, and a significant improvement in recording density is being achieved in fields such as VTRs that require high recording density. However, in the magnetic head using ferrite which has been used for the conventional VTR etc., the saturation magnetic flux density of ferrite is about 5000 gauss or less, so the magnitude of the recording magnetic field is not sufficient and a high coercive force metal tape is used. Therefore, a magnetic head using a metal magnetic material having a high saturation magnetic flux density has been required. As such a metal magnetic material, an Fe-Al-Si alloy (saturation magnetic flux density of about
10kG), Fe-Ni alloy (saturation magnetic flux density about 8kG), Fe-Si
Series alloy (saturation magnetic flux density about 18kG), Fe, Co, Ni
Of at least one of B, C, N, Al, Si, P, and the like, a metal-nonmetal amorphous alloy, Fe, Co,
There is a metal-metal amorphous alloy containing Y, Ti, Zr, Hf, Nb, Ta, etc. in at least one of Ni. Of these, the material with the highest saturation magnetic flux density is a Fe-Si alloy with a Si content of about 6% by weight, and its saturation magnetic flux density is about 18 kG.
一方、近年のVTR用磁気ヘッドのギャップ長は高密度磁
気記録を実現するために狭小比が進み、従来0.5μmで
あったギャップ長が、近年は0.3μmとなり、さらに将
来には0.1〜0.2μmのギャップ長とすることが要求され
ている。このように、ギャップ長が狭小化した場合に
は、ヘッドからの漏洩磁場の強さが著るしく減少する。
また、近年、高密度磁気記録を実現するために、磁気記
録媒体の保磁力は増加の一途をたどり、従来の酸化物系
の磁気テープの約300Oeの保磁力は約700Oeまで増加し、
近年の金属磁性粉を用いた磁気テープの出現により約15
00Oeの保磁力を持つものまで製造されるようになった。
このように極めて高い保磁力を持つ磁気テープに対し
て、上述のように、ギャップ長の小さい磁気ヘッドを用
いる場合には、特に長波長領域の記録能力の不足が問題
となるため、出来る限り飽和磁束密度の高い磁気ヘッド
材料が必要となる。将来、磁気記録媒体の保磁力はさら
に増加し、磁気ヘッドのギャップ長さらに狭小化する趨
勢にあるため磁気ヘッド材料の高飽和磁束密度化の要求
はますます強まってくる。On the other hand, the gap length of magnetic heads for VTRs in recent years has been narrowed down in order to realize high-density magnetic recording. The gap length, which was 0.5 μm in the past, was 0.3 μm in recent years, and 0.1 to 0.2 μm in the future. The gap length is required to be. As described above, when the gap length is narrowed, the strength of the magnetic field leaked from the head is significantly reduced.
Further, in recent years, in order to realize high-density magnetic recording, the coercive force of the magnetic recording medium has been increasing, and the coercive force of the conventional oxide magnetic tape of about 300 Oe has been increased to about 700 Oe.
With the advent of magnetic tapes using metallic magnetic powder in recent years, approximately 15
Even those with a coercive force of 00 Oe have been manufactured.
As described above, when a magnetic head having a small gap length is used for such a magnetic tape having an extremely high coercive force, the shortage of the recording ability especially in the long wavelength region poses a problem. A magnetic head material having a high magnetic flux density is required. In the future, the coercive force of the magnetic recording medium will further increase and the gap length of the magnetic head tends to be further narrowed, so that the demand for high saturation magnetic flux density of the magnetic head material will become stronger.
さらに、近年、研究の進みつつある垂直磁気記録用磁気
ヘッドにおいては、記録密度を向上するために、垂直磁
気記録媒体に記録・再生を行なう主磁極の厚さを極めて
薄くしなければならない。このように、主磁極が極めて
薄い場合には、記録時に磁極先端の磁気飽和を生じやす
く、磁気飽和を生じた場合には垂直磁気記録媒体への記
録が困難になるという問題がある。こうした問題を解決
するためには主磁極に用いる磁性材料の飽和磁束密度を
出来る限り増加させることが必要となってくる。Further, in a magnetic head for perpendicular magnetic recording, which has been researched in recent years, in order to improve the recording density, the thickness of the main magnetic pole for recording / reproducing on / from the perpendicular magnetic recording medium must be extremely thin. As described above, when the main magnetic pole is extremely thin, magnetic saturation is likely to occur at the tip of the magnetic pole during recording, and when magnetic saturation occurs, recording on the perpendicular magnetic recording medium becomes difficult. In order to solve these problems, it is necessary to increase the saturation magnetic flux density of the magnetic material used for the main pole as much as possible.
同様の問題は計算機用記憶装置等に用いられる従来の面
内記録用薄膜ヘッドの場合にも存在する。すなわち、薄
膜ヘッドはバルク型ヘッドに比較して作動ギャップ近傍
部の磁極の断面積が小さいため磁気飽和が起りやすい。
したがって、薄膜ヘッドにおいても高い飽和磁束密度を
有する磁気ヘッド材料への要求が強い。Similar problems also exist in the case of the conventional in-plane recording thin film head used in a computer storage device or the like. That is, the thin film head has a smaller cross-sectional area of the magnetic pole in the vicinity of the working gap than the bulk type head, so that magnetic saturation easily occurs.
Therefore, there is a strong demand for a magnetic head material having a high saturation magnetic flux density even in a thin film head.
本発明の目的は、上記従来技術の難点を解消し、磁気ヘ
ッドの磁極を従来よりもさらに高い飽和磁束密度を有す
る磁性材料で構成することにより、従来よりもさらに優
れた記録特性を有する磁気ヘッドの製造方法を提供する
ことにある。An object of the present invention is to solve the above-mentioned drawbacks of the prior art and to form a magnetic pole of a magnetic head with a magnetic material having a saturation magnetic flux density higher than that of the conventional magnetic head, so that the magnetic head has better recording characteristics than the conventional magnetic head. It is to provide a manufacturing method of.
本発明は、上記の目的を達成するために、磁気ヘッドの
磁極の少なくとも一方の磁気記録媒体に接する近傍部分
を鉄もしくは鉄基磁性合金膜で構成し、該鉄もしくは鉄
基磁性合金膜の少なくとも一部にイオン打込み法により
窒素、炭素およびホウ素のうちの少なくとも一種の元素
を含有する領域を形成し、該元素含有領域の飽和磁束密
度を従来の高飽和磁束密度磁性材料のそれよりも高くす
ることによって、従来よりも記録特性の優れた磁気ヘッ
ドを得るようにしたものである。In order to achieve the above-mentioned object, the present invention comprises at least one of the magnetic poles of the magnetic head in the vicinity of the magnetic recording medium, which is in contact with the magnetic recording medium, and is made of iron or an iron-based magnetic alloy film. A region containing at least one element of nitrogen, carbon and boron is partially formed by an ion implantation method, and the saturation magnetic flux density of the element containing region is made higher than that of a conventional high saturation magnetic flux density magnetic material. As a result, a magnetic head having better recording characteristics than before can be obtained.
窒素を含有する雰囲気中で、蒸着あるいはスパッタリン
グ法により鉄の薄膜を作製すると、適当な条件の下で、
鉄より高い飽和磁束密度をもった膜が得られることが知
られている(固体物理、Vol.7,No.9(1972)p.483〜49
5)。しかし、この方法により高飽和磁束密度の膜を作
製するためには、雰囲気における窒素の分圧および試料
の温度を正確に制御するという面倒な操作が必要であ
り、この条件から外れると、飽和磁束密度が急激に低下
してしまうという問題がある。When an iron thin film is formed by vapor deposition or sputtering in an atmosphere containing nitrogen, under appropriate conditions,
It is known that a film with a saturation magnetic flux density higher than that of iron can be obtained (Solid State Physics, Vol.7, No.9 (1972) p.483 ~ 49
Five). However, in order to produce a film with a high saturation magnetic flux density by this method, a troublesome operation of accurately controlling the partial pressure of nitrogen in the atmosphere and the temperature of the sample is required. There is a problem that the density drops sharply.
本発明は、鉄もしくは鉄基磁性合金膜にイオン打ち込み
法により窒素を注入、含有させることにより上記の問題
点を解消したもので、イオン打込み法を用いれば、前記
膜の単位面積当りの窒素の含有量を容易に制御すること
ができるという利点があり、したがって、高飽和磁束密
度を有する磁性膜を容易に作製することができる。同様
な結果は窒素のほかに炭素またはホウ素によっても得ら
れる。The present invention solves the above problems by injecting and containing nitrogen in an iron or iron-based magnetic alloy film by an ion implantation method. When the ion implantation method is used, nitrogen per unit area of the film is reduced. There is an advantage that the content can be easily controlled, and therefore, a magnetic film having a high saturation magnetic flux density can be easily manufactured. Similar results are obtained with carbon or boron in addition to nitrogen.
なお、鉄あるいは鉄基合金にイオン打込みにより窒素を
浸入させる例が、Phys.Status Solids,80(1)(198
3)p.211〜222に述べられているが、得られた試料の磁
気特性には何ら言及していない。An example of injecting nitrogen into iron or iron-based alloy by ion implantation is Phys. Status Solids, 80 (1) (198
3) pp. 211-222, but does not mention the magnetic properties of the obtained samples.
さらに詳細に述べれば、本発明の垂直磁気記録用磁気ヘ
ッドにおいては、主磁極を鉄もしくは鉄基磁性合金の薄
膜を用いて形成した後、主磁極の少なくとも磁気記録媒
体摺動面の近傍部分にイオン打込み法により窒素、炭素
およびホウ素のうちの少なくとも一種の元素を注入、含
有させることにより打込み部分の鉄もしくは鉄基合金の
飽和磁束密度を増大させて、記録特性の極めて優れた垂
直磁気記録用磁気ヘッドを得るようにしたものである。More specifically, in the magnetic head for perpendicular magnetic recording of the present invention, after the main pole is formed by using a thin film of iron or an iron-based magnetic alloy, the main pole is formed at least in the vicinity of the sliding surface of the magnetic recording medium. By implanting and containing at least one element of nitrogen, carbon and boron by the ion implantation method, the saturation magnetic flux density of the iron or iron-based alloy in the implanted portion is increased, and for perpendicular magnetic recording with extremely excellent recording characteristics. A magnetic head is obtained.
また、本発明の面内磁気記録用磁気ヘッドにおいては、
磁気ヘッドの少なくとも作動ギャップ形成面近傍部分を
鉄もしくは鉄基磁性合金膜で構成し、磁気ヘッドの作動
ギャップ形成面の鉄もしくは鉄基磁性合金膜にイオン打
込み法により窒素、炭素およびホウ素のうちの一種の元
素を注入、含有させることにより、打込み部分の鉄もし
くは鉄基磁性合金の飽和磁束密度を増大させて、記録特
性の優れた面内記録用磁気ヘッドを得るようにしたもの
である。Further, in the magnetic head for longitudinal magnetic recording of the present invention,
At least the portion near the working gap forming surface of the magnetic head is made of iron or an iron-based magnetic alloy film, and the iron or iron-based magnetic alloy film on the working gap forming surface of the magnetic head is selected from nitrogen, carbon and boron by ion implantation. By injecting and containing one kind of element, the saturation magnetic flux density of iron or an iron-based magnetic alloy in the implanted portion is increased, and an in-plane recording magnetic head having excellent recording characteristics is obtained.
本発明の面内磁気記録用磁気ヘッドにおけるもう一つの
利点は以下のようである。すなわち、磁気ヘッドの作動
ギャップ形成面に、蒸着あるいはスパッタ法により高飽
和磁束密度の磁性膜を被着した場合には、磁性基板とそ
の上に形成した高飽和磁束密度の磁性膜の界面が、ギャ
ップ面と平行になるため、コンター効果を生ずるが、本
発明のように、イオン打込み法により作動ギャップ形成
面に高飽和磁束密度の磁性膜を形成した場合には、打込
まれた元素の濃度が深さ方向に徐々に変化するため、飽
和磁束密度も深さ方向に徐々に変化し、したがって、コ
ンター効果を生じにくいという利点がある。Another advantage of the magnetic head for longitudinal magnetic recording of the present invention is as follows. That is, when a magnetic film having a high saturation magnetic flux density is deposited on the working gap forming surface of the magnetic head by vapor deposition or sputtering, the interface between the magnetic substrate and the magnetic film having a high saturation magnetic flux density formed thereon is Since it becomes parallel to the gap surface, a contour effect occurs, but when a magnetic film having a high saturation magnetic flux density is formed on the operation gap forming surface by the ion implantation method as in the present invention, the concentration of the implanted element is increased. Is gradually changed in the depth direction, the saturation magnetic flux density is also gradually changed in the depth direction, and therefore, there is an advantage that the contour effect is unlikely to occur.
前述のことは、リング型垂直磁気記録用磁気ヘッドにつ
いても適用することができる。The above can also be applied to the ring type magnetic head for perpendicular magnetic recording.
以上のようにして、本発明は記録特性の極めて優れた磁
気ヘッドを提供するものである。As described above, the present invention provides a magnetic head having extremely excellent recording characteristics.
本発明の磁気ヘッドの製造工程におけるイオン打込み後
に、試料を500℃以下、70℃以上の温度に加熱した場合
に、飽和磁束密度の高い磁性膜が安定して得やすい場合
がある。ただし、加熱温度を500℃以上にした場合に
は、高飽和磁束密度を有する相が分解して、飽和磁束密
度が低下してしまうことがあるため好ましくない。When the sample is heated to a temperature of 500 ° C. or lower and 70 ° C. or higher after ion implantation in the manufacturing process of the magnetic head of the present invention, a magnetic film having a high saturation magnetic flux density may be easily obtained in a stable manner. However, if the heating temperature is set to 500 ° C. or higher, the phase having a high saturation magnetic flux density may be decomposed and the saturation magnetic flux density may be decreased, which is not preferable.
一般に、鉄および鉄基磁性合金に窒素、炭素、ホウ素な
どの浸入型元素を含んだ磁性合金は、磁場中熱処理によ
り誘起される磁気異方性を有することが知られている。
これは鉄ないし鉄基磁性合金中の浸入型元素が、磁化の
方向に対してエネルギーを小さくする位置に移動し、磁
化の方向を安定化するためである。このような誘導磁気
異方性が大きくなると透磁率が低下するため、磁気ヘッ
ドとして好ましくない場合がある。また、適当な大きさ
の磁気異方性を一定の方向に付与することは磁気ヘッド
の特性にとって有効である場合がある。It is generally known that iron and iron-based magnetic alloys containing magnetic elements such as nitrogen, carbon and boron, have magnetic anisotropy induced by heat treatment in a magnetic field.
This is because the infiltration type element in iron or the iron-based magnetic alloy moves to a position where the energy is reduced with respect to the magnetization direction and stabilizes the magnetization direction. When the induced magnetic anisotropy becomes large, the magnetic permeability decreases, which may not be preferable as a magnetic head. Further, it may be effective for the characteristics of the magnetic head to give an appropriate amount of magnetic anisotropy in a certain direction.
以上述べたように、誘導磁気異方性の大きさと方向を制
御することは特性の優れた磁気ヘッドを得る上で必要で
ある。上記のような誘導磁気異方性の制御は試料を加熱
しながら磁場を印加することにより行なうことができ
る。また、本発明においては、イオン打込み工程中に試
料の面に一方向磁場あるいは回転磁場を印加することに
より誘導磁気異方性を制御することができる。As described above, controlling the magnitude and direction of the induced magnetic anisotropy is necessary to obtain a magnetic head with excellent characteristics. The control of the induced magnetic anisotropy as described above can be performed by applying a magnetic field while heating the sample. Further, in the present invention, the induced magnetic anisotropy can be controlled by applying a unidirectional magnetic field or a rotating magnetic field to the surface of the sample during the ion implantation step.
本発明に用いるイオン打込み法により形成されるイオン
打込み層の厚さはイオンの加速電圧によって変化する
が、イオン打込み層の厚さを約1μm以上にすることは
困難である。したがって、約1μm以上のイオン打込み
層を得るためには、1μm以下の鉄もしくは鉄基磁性合
金の薄膜を形成する工程とこの膜にイオン打込みを行な
ってイオン打込み層を形成する工程を複数回繰返し、イ
オン打込み層を積層することによって得ることができ
る。また、これらの各々のイオン打込み層の間、また
は、複数のイオン打込み層を一つのイオン打込み層ブロ
ックとして、各イオン打込み層ブロックの間に強磁性ま
たは非磁性の中間層を入れることにより保磁力あるいは
透磁率などの磁気特性を改善することもできる。Although the thickness of the ion-implanted layer formed by the ion-implantation method used in the present invention changes depending on the ion acceleration voltage, it is difficult to make the thickness of the ion-implanted layer about 1 μm or more. Therefore, in order to obtain an ion-implanted layer of about 1 μm or more, the step of forming a thin film of iron or iron-based magnetic alloy of 1 μm or less and the step of ion-implanting this film to form an ion-implanted layer are repeated a plurality of times. , And can be obtained by stacking ion-implanted layers. Further, a coercive force can be obtained by inserting a ferromagnetic or non-magnetic intermediate layer between each of these ion-implanted layers or as a plurality of ion-implanted layers as one ion-implanted layer block. Alternatively, magnetic properties such as magnetic permeability can be improved.
以下に本発明を実施例により詳細に説明する。 The present invention will be described in detail below with reference to examples.
実施例 1 ガラス基板上に厚さ0.15μmの鉄薄膜をスパッタリング
法により作製し、その後、前記鉄薄膜に窒素イオンを打
込みし、さらに基板を350℃で30分間熱処理した。この
鉄膜中の窒素の平均含有量とその飽和磁束密度の変化を
第1図に示した。図から明らかなように、窒素イオン打
込み量の増加とともに鉄膜中の平均窒素濃度は徐々に増
加し、これに伴なって飽和磁束密度は窒素イオン打込み
量約5×101 6イオン/cm2、すなわち平均窒素濃度約
12at%で最大約15%増加する。平均窒素濃度がこれを越
えると飽和磁束密度は急激に減少し、平均窒素濃度20at
%で、鉄膜と同等になる。以上の結果から、飽和磁束密
度は平均窒素濃度Oat%越え、20at%未満、より好まし
くは、5at%〜18at%の範囲で増加させる効果があるこ
とがわかる。Example 1 An iron thin film having a thickness of 0.15 μm was formed on a glass substrate by a sputtering method, then nitrogen ions were implanted into the iron thin film, and the substrate was heat-treated at 350 ° C. for 30 minutes. The average content of nitrogen in this iron film and the change in its saturation magnetic flux density are shown in FIG. As can be seen, the average nitrogen concentration in the iron layer with increasing nitrogen ion implantation amount is gradually increased, which since accompanied by saturation magnetic flux density of about 5 × 10 1 amount implantation of nitrogen ions 6 ions / cm 2 , Ie average nitrogen concentration
At 12at%, the maximum increase is about 15%. When the average nitrogen concentration exceeds this value, the saturation magnetic flux density sharply decreases, and the average nitrogen concentration is 20at.
%, Equivalent to iron film. From the above results, it is understood that the saturation magnetic flux density has an effect of increasing the average nitrogen concentration Oat% to less than 20at%, more preferably in the range of 5at% to 18at%.
つぎに、上記の高飽和磁束密度を有する磁性膜を主磁極
として用いた垂直磁気記録用ヘッドの製造方法の概略を
第2図に示した(特願昭57−179854号明細書参照)。第
2図(イ)に示すように、フォトセラム(米国コーニン
グガラス社製結晶化ガラスの商品名)からなる非磁性基
板1上に主磁極膜として、スパッタリング法により膜厚
0.15μmの鉄薄膜2を被着し、磁極先端部の幅が所定の
トラック幅となるように狭めたヘッドの形状にパターン
形成を行なった。その後、鉄薄膜2上に窒素イオンを5
×101 6個/cm2の密度でイオン打込みを行ない、つい
で350℃で30分間加熱してイオン打込みによる歪を除去
すると同時に高飽和磁束密度を示す相の安定化を行な
い、高飽和磁束密度の主磁極膜2を作製した。さらに、
第2図(ロ)に示すように、主磁極膜2の磁気抵抗を低
減するための膜3を主磁極膜2上にパーマロイ膜を用い
て形成した後、パターニングを行ない、主磁極膜2の先
端近傍上のパーマロイ膜3を2〜5μm程度の長さに除
去する。ついで、全体上にSiO2からなる絶縁層4をス
パッタ法により厚さ約3μmに形成し、さらにその上に
Al膜をマスク蒸着法により蒸着し、幅6μm、高さ4.0
μmで、所定の巻数をもったスパイラル型Al巻線5を形
成し、ついで、巻線間のすきまを埋めると同時に上面を
被覆するように樹脂層6を塗布、硬化し、さらにその上
にCo−W−Zr系非晶質磁性合金膜からなる補助磁極7を
形成した。このようにして製造した垂直磁気ヘッドの平
面図を第3図に示した。この図において、1は非磁性基
板、7は補助磁極、5は巻線、8は巻線5のリード線部
分、9は記録媒体摺動面である。Next, FIG. 2 shows an outline of a method of manufacturing a perpendicular magnetic recording head using the above-mentioned magnetic film having a high saturation magnetic flux density as a main pole (see Japanese Patent Application No. 57-179854). As shown in FIG. 2 (a), the thickness of the main magnetic pole film was formed by the sputtering method on the non-magnetic substrate 1 made of photoceram (trade name of crystallized glass manufactured by Corning Glass Co., USA).
An iron thin film 2 having a thickness of 0.15 μm was deposited, and a pattern was formed in the shape of a head in which the width of the magnetic pole tip was narrowed to a predetermined track width. After that, 5 nitrogen ions are applied on the iron thin film 2.
× 10 1 6 pieces / cm performs ion implantation with the second density, heating to perform the stabilization phase showing a high saturation magnetic flux density and at the same time to remove the distortion due to ion implantation and then at 350 ° C. 30 min, high saturation magnetic flux density The main magnetic pole film 2 of was prepared. further,
As shown in FIG. 2B, after a film 3 for reducing the magnetic resistance of the main magnetic pole film 2 is formed on the main magnetic pole film 2 by using a permalloy film, patterning is performed to form the main magnetic pole film 2. The permalloy film 3 near the tip is removed to a length of about 2 to 5 μm. Then, an insulating layer 4 made of SiO 2 is formed on the entire surface by a sputtering method so as to have a thickness of about 3 μm, and further thereon.
Al film is vapor-deposited by mask vapor deposition method, width 6μm, height 4.0
The spiral type Al winding 5 having a predetermined number of turns is formed with a thickness of μm, and then a resin layer 6 is applied and cured so as to fill the gap between the windings and at the same time coat the upper surface. An auxiliary magnetic pole 7 made of a -W-Zr-based amorphous magnetic alloy film was formed. A plan view of the perpendicular magnetic head thus manufactured is shown in FIG. In this figure, 1 is a non-magnetic substrate, 7 is an auxiliary magnetic pole, 5 is a winding, 8 is a lead wire portion of the winding 5, and 9 is a recording medium sliding surface.
本実施例で作製した磁気ヘッドを用いて、Hc1000OeのCe
−Cr垂直磁気記録媒体に記録した場合に、主磁極にイオ
ン打込みしない磁気ヘッドに比較して、記録密度D5 0
(記録再生出力が低記録密度における出力の半分になる
記録密度)が約30%増加した。以上のように、本発明の
磁気ヘッドにおいては、主磁極にイオン打込みして高い
飽和磁束密度を付与することにより、記録密度を向上で
きることが確認できた。窒素イオンの代りに、炭素ある
いはホウ素イオンを鉄もしくは鉄基磁性合金からなる主
磁極に打込んだ場合にも、窒素イオンの場合と同様に記
録密度を向上させる効果があることが認められた。Using the magnetic head manufactured in this example, Ce of Hc1000Oe
When recorded on -Cr perpendicular magnetic recording medium, as compared to the magnetic head which is not ion-implanted into the main magnetic pole, the recording density D 5 0
(Recording density at which recording / reproducing output is half that at low recording density) was increased by about 30%. As described above, in the magnetic head of the present invention, it was confirmed that the recording density can be improved by ion-implanting the main pole to give a high saturation magnetic flux density. It has been confirmed that when carbon or boron ions are implanted into the main magnetic pole made of iron or an iron-based magnetic alloy instead of nitrogen ions, the effect of improving the recording density is obtained as in the case of nitrogen ions.
実施例 2 実施例1で述べたような磁性薄膜を用いた磁気ヘッド
は、磁性薄膜の磁気異方性を制御することが重要であ
る。一般に、磁性薄膜では磁化容易方向と直角方向の透
磁率が磁化容易方向より大きいという傾向があり、した
がって、磁気ヘッドの中で磁速を流す方向と直角方向が
磁性薄膜の磁化容易方向と一致するように構成するのが
良い。本発明の磁気ヘッドでは、イオン打込みを磁場を
加えながら行なうことにより、主磁極の磁気異方性を制
御することができる。本実施例では、主磁極膜のトラッ
ク幅方向、すなわち、第3図のA方向に50Oeの磁場を加
えながらイオン打込みを行なった。磁場印加以外のイオ
ン打込みにおける条件は実施例1と同じとした。その
後、実施例1と同様の方法で垂直磁気記録用磁気ヘッド
を製造し、実施例1と同様のCo−Cr垂直磁気記録媒体に
記録した。この時の記録・再生出力は、イオン打込み工
程時に主磁極膜に磁場を印加しない磁気ヘッドに比較し
て、約2dB大きかった。以上のように、イオン打込み工
程において磁場を印加し、主磁極膜の磁気異方性を制御
すれば効果があることが確認できた。Example 2 In the magnetic head using the magnetic thin film as described in Example 1, it is important to control the magnetic anisotropy of the magnetic thin film. In general, in a magnetic thin film, the magnetic permeability in the direction perpendicular to the easy magnetization direction tends to be larger than that in the easy magnetization direction. Therefore, the direction perpendicular to the direction in which the magnetic velocity flows in the magnetic head coincides with the easy magnetization direction of the magnetic thin film. It is better to configure it. In the magnetic head of the present invention, the magnetic anisotropy of the main pole can be controlled by performing ion implantation while applying a magnetic field. In this example, ion implantation was performed while applying a magnetic field of 50 Oe in the track width direction of the main magnetic pole film, that is, in the direction A of FIG. The conditions for ion implantation other than the magnetic field application were the same as in Example 1. Then, a magnetic head for perpendicular magnetic recording was manufactured by the same method as in Example 1, and recording was performed on the same Co—Cr perpendicular magnetic recording medium as in Example 1. The recording / reproducing output at this time was about 2 dB higher than that of the magnetic head in which no magnetic field was applied to the main magnetic pole film during the ion implantation process. As described above, it has been confirmed that it is effective to apply a magnetic field in the ion implantation step to control the magnetic anisotropy of the main magnetic pole film.
実施例 3 面内磁気記録用磁気ヘッドとして、Mn−Znフェライトと
鉄基磁性合金のスパッタ膜とからなる本発明による磁気
ヘッドの製造方法の概略を第4図に示した。本実施例の
磁気ヘッドは特開昭58−15513号公報に記載されている
構造を有する。Example 3 As a magnetic head for in-plane magnetic recording, a method of manufacturing a magnetic head according to the present invention comprising Mn-Zn ferrite and a sputtered film of an iron-based magnetic alloy is schematically shown in FIG. The magnetic head of this embodiment has the structure described in JP-A-58-15513.
第4図(イ)に示すように、Mn−Znフェライトからなる
基板11を2枚用意し、それらのギャップ対向面とするべ
き一つの面12に所定間隔で平坦部13を残して、該平坦部
13の間に隣接する一対のV字状溝14を研削等により形成
する。この場合隣接する一対のV字状溝14に挟まれた基
板11の逆V字状突起15の頂部は平坦部23より所定長さだ
け低くなるようにする。As shown in FIG. 4 (a), two substrates 11 made of Mn-Zn ferrite are prepared, and flat surfaces 13 are left at predetermined intervals on one surface 12 which should be the gap opposing surface, and the flat surfaces 13 are formed. Department
A pair of V-shaped grooves 14 adjacent to each other between 13 are formed by grinding or the like. In this case, the top of the inverted V-shaped projection 15 of the substrate 11 sandwiched between the pair of V-shaped grooves 14 adjacent to each other is set to be lower than the flat portion 23 by a predetermined length.
第4図(ロ)に示すように、溝加工を終った基板11の面
12側に鉄膜16を厚さ約10μmにスパッタリング法により
形成する。As shown in FIG. 4B, the surface of the substrate 11 on which the groove processing has been completed.
An iron film 16 having a thickness of about 10 μm is formed on the 12 side by a sputtering method.
第4図(ハ)に示すように、鉄膜16を被着した基板11の
鉄膜16上のV字状溝14が少なくとも埋まるように低融点
ガラス層17を溶融、形成した。As shown in FIG. 4C, a low melting point glass layer 17 was melted and formed so that at least the V-shaped groove 14 on the iron film 16 of the substrate 11 on which the iron film 16 was adhered was filled.
第4図(ニ)に示すように、ガラス層15を形成した基板
11のガラス層側を平坦部13までの研削、研摩する。この
時、基板11の逆V字状突起15の先端部上の鉄膜16は一部
が研摩、除去されて平坦となり、所定のトラック幅を有
する作動ギャップ形成面18が得られる。A substrate on which a glass layer 15 is formed as shown in FIG.
The glass layer side of 11 is ground and polished up to the flat portion 13. At this time, the iron film 16 on the tip portion of the inverted V-shaped projection 15 of the substrate 11 is partially polished and removed to be flat, and an operating gap forming surface 18 having a predetermined track width is obtained.
第4図(ホ)に示すように、図(ニ)の工程を終った基
板11の一方の鉄膜16のある側の面にV字状溝14に直角に
巻線窓用溝19を研削等により形成し、磁気ヘッドコア半
体ブロック20を作製する。図(ニ)で得られた基板11を
磁気ヘッドコア半体ブロック20′とする。ついで、磁気
ヘッドコア半体ブロック20の作動ギャップ形成面18の作
動ギャップ近傍側の鉄膜部分21と磁気ヘッドコア半体ブ
ロック20′のこれと対応する鉄膜部分に窒素イオンを5
×101 6個/cm2の密度でイオン打込み、その後、磁気
ヘッドコア半体ブロック20、20′の作動ギャップ形成面
にギャップ形成層となるSiO2膜を厚さ0.15μmスパッ
タリングにより被着する。As shown in FIG. 4E, a winding window groove 19 is grinded at a right angle to the V-shaped groove 14 on one surface of the substrate 11 on the side having the iron film 16 after the step of FIG. Etc. to form the magnetic head core half block 20. The substrate 11 obtained in FIG. 4D is used as a magnetic head core half block 20 '. Next, nitrogen ions are added to the iron film portion 21 of the magnetic head core half block 20 near the operating gap on the operating gap forming surface 18 and the iron film portion of the magnetic head core half block 20 'corresponding to this.
× 10 1 6 pieces / cm 2 in density ion implantation, then deposited by a thickness of 0.15μm sputtered SiO 2 film serving as the gap-forming layer to the working gap forming surface of the magnetic head core half blocks 20, 20 '.
第4図(ヘ)に示すように、図(ホ)の工程を終った磁
気ヘッドコア半体ブロック20、20′をその鉄膜のイオン
打込み部分を対向させ、ギャップ形成層を介して突き合
せた上、380℃で30分間加熱してガラス層17同志を溶
融、固着して、磁気ヘッドコア半体ブロック20、20′同
志を結合、一体化した。また、この加熱により鉄膜中に
打込まれた窒素と鉄との結合を強化し、高飽和磁束密度
を有する磁性膜の安定化を行なった。ついで、一体化さ
れた磁気ヘッドコア半体ブロック20、20′を一点鎖線部
で切断すれば、第4図(ト)に示すような磁気ヘッド22
が得られる。23は作動ギャップである。As shown in FIG. 4 (f), the magnetic head core half blocks 20 and 20 'after the step shown in FIG. 4 (e) were butted against each other with their ion-implanted portions of the iron film facing each other. Above, by heating at 380 ° C. for 30 minutes, the glass layers 17 were fused and fixed, and the magnetic head core half blocks 20, 20 ′ were joined and integrated. Further, this heating strengthened the bond between nitrogen and iron implanted in the iron film and stabilized the magnetic film having a high saturation magnetic flux density. Then, by cutting the integrated magnetic head core half blocks 20 and 20 'along the alternate long and short dash lines, the magnetic head 22 as shown in FIG.
Is obtained. 23 is an operating gap.
つぎに、比較のために第4図(ホ)に示した巻線窓用溝
17を形成した磁気ヘッドコア半体ブロック20および巻線
窓用溝を形成しない磁気ヘッドコア半体ブロック20′に
おいて、イオン打込みを行わず、その他の形状は第4図
(チ)に示したものと同じ磁気ヘッドを作製した。これ
らの磁気ヘッドを用いて、保磁力Hc=1500Oeのメタルテ
ープに波長5.8μmの信号を記録し、従来のフェライト
磁気ヘッドを用いて信号を再生した場合、前記のイオン
打込みを行なった磁気ヘッドは、イオン打込みを行なわ
なかった磁気ヘッドに比較して、約1.5dBの出力増加が
認められた。このような記録特性の向上の効果は窒素イ
オンの代りに炭素あるいはホウ素イオンを打込むことに
よって得られた。Next, the winding window groove shown in Fig. 4 (e) for comparison.
In the magnetic head core half block 20 having 17 and the magnetic head core half block 20 'having no winding window groove, ion implantation is not performed, and other shapes are the same as those shown in FIG. A magnetic head was produced. When a signal with a wavelength of 5.8 μm is recorded on a metal tape having a coercive force Hc = 1500 Oe using these magnetic heads and the signal is reproduced using a conventional ferrite magnetic head, the magnetic head subjected to the above-mentioned ion implantation is , An output increase of about 1.5 dB was recognized as compared with the magnetic head which was not ion-implanted. Such an effect of improving the recording characteristics was obtained by implanting carbon or boron ions instead of nitrogen ions.
以上述べたように、垂直磁気記録用磁気ヘッドにおいて
は主磁極膜の磁気記録媒体摺動面近傍に、面内磁気記録
用ヘッドにおいては作動ギャップ形成面側に用いる鉄あ
るいは鉄基合金の少なくとも作動ギャップ近傍部分に窒
素、炭素およびホウ素のうちの少なくとも一種の元素を
イオン打込みにより導入することにより、鉄あるいは鉄
基合金の飽和磁束密度を向上させ、記録特性の極めて優
れた磁気ヘッドを得ることができた。As described above, in the magnetic head for perpendicular magnetic recording, at least the operation of iron or iron-based alloy used near the sliding surface of the magnetic recording medium of the main magnetic pole film and in the in-plane magnetic recording head on the operation gap forming surface side. By introducing at least one element of nitrogen, carbon and boron into the vicinity of the gap by ion implantation, it is possible to improve the saturation magnetic flux density of iron or an iron-based alloy and obtain a magnetic head with extremely excellent recording characteristics. did it.
第1図は鉄膜中への窒素イオン打込み量に対する鉄膜中
の平均窒素濃度および飽和磁束密度の変化を示す線図、
第2図は本発明の一実施例である垂直磁気記録用磁気ヘ
ッドの製造方法を説明するための概略図、第3図は第2
図によって得た垂直磁気記録用磁気ヘッドの平面図、第
4図は本発明の他の一実施例である面内磁気記録用磁気
ヘッドの製造方法の概略説明図である。 図において、 1……非磁性基板、2……主磁極膜 3……パーマロイ膜、4……絶縁層 5……巻線、6……樹脂層 7……補助磁極、8、8′……リード線 9……磁気記録媒体摺動面 11……Mn−Znフェライト基板 12……基板11のギャップ対向とするべき一つの面 13……平坦部、14……V字状溝 15……基板11の逆V字状突起部 16……鉄膜、17……ガラス層 18……鉄膜16のギャップ構成面 19……巻線窓用溝 20、20′……磁気ヘッドコア半体ブロック 21……鉄膜16の窒素イオン打込み部分 22……磁気ヘッドFIG. 1 is a diagram showing changes in the average nitrogen concentration and the saturation magnetic flux density in the iron film with respect to the implantation amount of nitrogen ions into the iron film,
FIG. 2 is a schematic diagram for explaining a method of manufacturing a magnetic head for perpendicular magnetic recording according to an embodiment of the present invention, and FIG.
FIG. 4 is a plan view of the magnetic head for perpendicular magnetic recording obtained by the drawing, and FIG. 4 is a schematic explanatory view of a method of manufacturing a magnetic head for in-plane magnetic recording which is another embodiment of the present invention. In the figure, 1 ... Non-magnetic substrate, 2 ... Main magnetic pole film 3 ... Permalloy film, 4 ... Insulating layer 5 ... Winding, 6 ... Resin layer 7 ... Auxiliary magnetic pole, 8, 8 '... Lead wire 9 …… Sliding surface of magnetic recording medium 11 …… Mn-Zn ferrite substrate 12 …… One surface of the substrate 11 that should face the gap 13 …… Flat part, 14 …… V-shaped groove 15 …… Substrate 11 inverted V-shaped protrusions 16 ... Iron film, 17 ... Glass layer 18 ... Gap forming surface of iron film 16 ... Winding window groove 20, 20 '... Magnetic head core half block 21 ... ... Nitrogen ion implantation part of iron film 16 ... Magnetic head
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鈴木 良 東京都国分寺市東恋ヶ窪1丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 杉田 愃 東京都国分寺市東恋ヶ窪1丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (56)参考文献 特開 昭58−105422(JP,A) 特開 昭58−189816(JP,A) 特開 昭56−159820(JP,A) 特開 昭52−4805(JP,A) 特公 昭47−40756(JP,B1) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Ryo Suzuki 1-280 Higashi Koigakubo, Kokubunji City, Tokyo Metropolitan Research Laboratory, Hitachi, Ltd. Central Research Laboratory (56) Reference JP 58-105422 (JP, A) JP 58-189816 (JP, A) JP 56-159820 (JP, A) JP 52-4805 (JP, A) A) Japanese Patent Publication Sho 47-40756 (JP, B1)
Claims (7)
する近傍部分に、鉄もしくは鉄を主成分とする磁性金属
膜を形成する工程と、上記磁性金属膜の少なくとも一部
に、イオン打ち込み法により窒素、炭素および硼素のう
ちから選択される少なくとも一種の元素を平均含有濃度
20原子%未満含有させた後、加熱処理を施して、上記磁
性金属膜単独よりも高い飽和磁束密度を有する磁性金属
膜よりなる磁極を形成する工程を、少なくとも含むこと
を特徴とする磁気ヘッドの製造方法。1. A step of forming iron or a magnetic metal film containing iron as a main component in the vicinity of at least one of the magnetic poles in contact with the magnetic recording medium, and an ion implantation method on at least a part of the magnetic metal film. Average content concentration of at least one element selected from nitrogen, carbon and boron
After containing less than 20 atomic%, a heat treatment is performed to form at least a magnetic pole made of a magnetic metal film having a saturation magnetic flux density higher than that of the magnetic metal film alone. Production method.
合金であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
の磁気ヘッドの製造方法。2. The method of manufacturing a magnetic head according to claim 1, wherein the magnetic metal film is a magnetic alloy containing iron as a main component.
とする特許請求の範囲第1項記載の磁気ヘッドの製造方
法。3. The method for manufacturing a magnetic head according to claim 1, wherein the magnetic metal film is pure iron.
よび硼素のうちの少なくとも一種の元素を平均含有濃度
5原子%ないし18原子%含有させることを特徴とする特
許請求の範囲第1項ないし第3項のうちのいずれか1項
に記載の磁気ヘッドの製造方法。4. The method according to any one of claims 1 to 3, characterized in that at least one element selected from nitrogen, carbon and boron is contained by the ion implantation method at an average content concentration of 5 atom% to 18 atom%. A method of manufacturing a magnetic head according to any one of items.
度で加熱処理を施すことを特徴とする特許請求の範囲第
1項ないし第4項のうちのいずれか1項に記載の磁気ヘ
ッドの製造方法。5. Manufacturing of the magnetic head according to claim 1, wherein after the ion implantation, heat treatment is performed at a temperature of 500 ° C. or less. Method.
膜面内で該膜面と相対的に回転する磁場を印加する工程
を含むことを特徴とする特許請求の範囲第1項ないし第
5項のうちのいずれか1項に記載の磁気ヘッドの製造方
法。6. The method according to claim 1, further comprising the step of applying a magnetic field rotating in the film surface of the magnetic metal film relative to the film surface during the ion implantation. 5. The method for manufacturing a magnetic head according to any one of items 5.
ながら、磁性金属膜の膜面内で該膜面と相対的に回転す
る磁場を印加する工程を含むことを特徴とする特許請求
の範囲第1項ないし第6項のうちのいずれか1項に記載
の磁気ヘッドの製造方法。7. The method according to claim 1, further comprising the step of applying a magnetic field rotating relative to the film surface of the magnetic metal film while performing a heat treatment after the ion implantation. 7. The method of manufacturing a magnetic head according to any one of items 1 to 6.
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1984
- 1984-08-27 JP JP59176856A patent/JPH0664695B2/en not_active Expired - Fee Related
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