JPH0666352B2 - 高周波半導体装置 - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】 (イ)産業上の利用分野 本発明は、GaAsFET等の高周波型の半導体装置に関す
るもので、特に接続ワイヤのインダクタンスを低減した
半導体装置に関する。
るもので、特に接続ワイヤのインダクタンスを低減した
半導体装置に関する。
(ロ)従来の技術 一般にトランジスタの電極引き出し線(前記金属細線と
リードとを含む)は、微弱ではあるがそれ自体インダク
タンスを有し、又引き出し線相互の間には寄生容量があ
る。周波数の増加につれてこれらのリアクタンスを無視
することができなくなる。従って衛星放送やCATV受
像機のチューナ回路等の様に高周波(例えば1GHz以
上)で使用するトランジスタでは、引き出し線の直列イ
ンダクタンスが小さく、且つ線相互の間に容量が小さい
ことが要求される。このため前記高周波トランジスタに
おいては、モールド型、セラミック型共に素子の大きさ
を小さくして、内部の結線による直列インダクタンスを
減少させている(特開昭62−281458)。
リードとを含む)は、微弱ではあるがそれ自体インダク
タンスを有し、又引き出し線相互の間には寄生容量があ
る。周波数の増加につれてこれらのリアクタンスを無視
することができなくなる。従って衛星放送やCATV受
像機のチューナ回路等の様に高周波(例えば1GHz以
上)で使用するトランジスタでは、引き出し線の直列イ
ンダクタンスが小さく、且つ線相互の間に容量が小さい
ことが要求される。このため前記高周波トランジスタに
おいては、モールド型、セラミック型共に素子の大きさ
を小さくして、内部の結線による直列インダクタンスを
減少させている(特開昭62−281458)。
また、接続ワイヤのインダクタンスを低減する手法とし
て第7図に示す如く、チップ(1)上の電極パッド(2)と外
部接続電極(3)との間を、複数のリードワイヤ(4)で並列
にボンディングを行うことにより、ワイヤ(4)1本当り
の電流値を減らして表皮効果を緩和させ、等価インダク
タンス及び等価インピーダンスを低下することが本願発
明者により提案された。
て第7図に示す如く、チップ(1)上の電極パッド(2)と外
部接続電極(3)との間を、複数のリードワイヤ(4)で並列
にボンディングを行うことにより、ワイヤ(4)1本当り
の電流値を減らして表皮効果を緩和させ、等価インダク
タンス及び等価インピーダンスを低下することが本願発
明者により提案された。
(ハ)発明が解決しようとする課題 しかしながら、チップ(1)上の電極パッド(2)にワイヤ
(4)2本分のボンディングエリアを確保することは、電
極パッド(2)の面積を縮小できないので電極パッド(2)の
持つ寄生容量を低減できないという欠点があった。
(4)2本分のボンディングエリアを確保することは、電
極パッド(2)の面積を縮小できないので電極パッド(2)の
持つ寄生容量を低減できないという欠点があった。
また、2本のワイヤ(4)を平行にボンディングすると相
互インダクタンスを持つので夫々は互いにある程度の距
離を保つ必要があり、すると外部接続用電極(3)の面積
も必然的に大きくなる欠点があった。
互インダクタンスを持つので夫々は互いにある程度の距
離を保つ必要があり、すると外部接続用電極(3)の面積
も必然的に大きくなる欠点があった。
(ニ)課題を解決するための手段 本発明は上記従来の課題に鑑み成されたもので、ワイヤ
(15)をステッチボンドすることにより折り返しボンディ
ングとし、且つ2本のワイヤ(15)が高さ方向でクロスす
るように離間させることにより、寄生容量、寄生インダ
クタンスの減少と装置の小形化を両立させた高周波型半
導体装置を提供するものである。
(15)をステッチボンドすることにより折り返しボンディ
ングとし、且つ2本のワイヤ(15)が高さ方向でクロスす
るように離間させることにより、寄生容量、寄生インダ
クタンスの減少と装置の小形化を両立させた高周波型半
導体装置を提供するものである。
(ホ)作用 本発明によれば、ステッチボンドにより2本のループ(1
6)(19)を並列にホンディングするので、ワイヤ(15)1本
当りの電流値を減らして表皮効果を緩和させ、ワイヤ(1
5)相互の寄生容量と寄生インダクタンスを低下できる。
また、2本のワイヤ(15)が高さ方向で互いに離間するよ
うに第1と第2のループ(16)(19)を作るので、実質的に
ワイヤ(15)相互間のインダクタンスの増大を防げる。さ
らに、ステッチボンドにより電極パッド(14)面積の縮小
による寄生容量の低減が可能になる他、2本のワイヤ(1
5)が高さ方向で離間するような形状とすることにより、
外部接続電極(12)の面積増大をも防ぐことができる。
6)(19)を並列にホンディングするので、ワイヤ(15)1本
当りの電流値を減らして表皮効果を緩和させ、ワイヤ(1
5)相互の寄生容量と寄生インダクタンスを低下できる。
また、2本のワイヤ(15)が高さ方向で互いに離間するよ
うに第1と第2のループ(16)(19)を作るので、実質的に
ワイヤ(15)相互間のインダクタンスの増大を防げる。さ
らに、ステッチボンドにより電極パッド(14)面積の縮小
による寄生容量の低減が可能になる他、2本のワイヤ(1
5)が高さ方向で離間するような形状とすることにより、
外部接続電極(12)の面積増大をも防ぐことができる。
(ヘ)実施例 以下に本発明の一実施例を図面を参照しながら詳細に説
明する。第1図は本発明のワイヤホンドを処して半導体
装置の側面を示す。同図において、(11)はセラミック基
体、(12)は基体(11)表面にマイクロストリップラインを
構成する外部接続用の電極、(13)は表面にMES−FE
T、ショットキーダイオード等のマイクロ波用素子が形
成されたGaAsチップ、(14)はチップ(13)表面に形成され
たアルミニウム材料から成る電極パッド、(15)は直径2
5μ程の金ワイヤである。
明する。第1図は本発明のワイヤホンドを処して半導体
装置の側面を示す。同図において、(11)はセラミック基
体、(12)は基体(11)表面にマイクロストリップラインを
構成する外部接続用の電極、(13)は表面にMES−FE
T、ショットキーダイオード等のマイクロ波用素子が形
成されたGaAsチップ、(14)はチップ(13)表面に形成され
たアルミニウム材料から成る電極パッド、(15)は直径2
5μ程の金ワイヤである。
ワイヤ(15)は先ず基体(11)側の外部接続用の電極(12)に
ボールボンドされ、続いてチップ(13)表面より高い位置
まで垂直に、又はチップ(13)から遠ざかるようにシフト
して上昇し、前記高い位置から弧を描いて斜めに下降し
始める。下降し始めたワイヤ(15)は、チップ(13)上の対
応する電極パッド(14)に向って略直線状に下降し、電極
パッド(14)上でセカンドボンドされる。ここまでのルー
プが第1のワイヤループ(16)を描く。
ボールボンドされ、続いてチップ(13)表面より高い位置
まで垂直に、又はチップ(13)から遠ざかるようにシフト
して上昇し、前記高い位置から弧を描いて斜めに下降し
始める。下降し始めたワイヤ(15)は、チップ(13)上の対
応する電極パッド(14)に向って略直線状に下降し、電極
パッド(14)上でセカンドボンドされる。ここまでのルー
プが第1のワイヤループ(16)を描く。
電極パッド(14)に接続されたワイヤ(15)は、そのまま連
続して折り返し、且つ電極パッド(14)上に弧を描く様に
上昇する。従って、折り返したワイヤ(15)は電極パッド
(14)上近傍において第1のワイヤループ(16)より高い位
置を通過する。上昇してある高さまで達したワイヤ(15)
は、外部接続用の電極(12)に向って略直線状に下降し始
める。下降し始めたワイヤ(15)は、第1のワイヤループ
(16)が前記高い位置から電極パッド(14)に向って直線状
に下降する部分の途中(17)で第1のワイヤループ(16)と
交差し、その先は外部接続用の電極(12)に向って直線状
に第1のワイヤループ(16)より低い位置を通過する。低
い位置を通過したワイヤ(15)は、今度は第1のワイヤル
ープ(16)が垂直に上昇する部分の途中(18)で再度交差
し、外部接続用の電極(12)に接続されて終端する。これ
が第2のワイヤループ(19)を描く。
続して折り返し、且つ電極パッド(14)上に弧を描く様に
上昇する。従って、折り返したワイヤ(15)は電極パッド
(14)上近傍において第1のワイヤループ(16)より高い位
置を通過する。上昇してある高さまで達したワイヤ(15)
は、外部接続用の電極(12)に向って略直線状に下降し始
める。下降し始めたワイヤ(15)は、第1のワイヤループ
(16)が前記高い位置から電極パッド(14)に向って直線状
に下降する部分の途中(17)で第1のワイヤループ(16)と
交差し、その先は外部接続用の電極(12)に向って直線状
に第1のワイヤループ(16)より低い位置を通過する。低
い位置を通過したワイヤ(15)は、今度は第1のワイヤル
ープ(16)が垂直に上昇する部分の途中(18)で再度交差
し、外部接続用の電極(12)に接続されて終端する。これ
が第2のワイヤループ(19)を描く。
上記第1と第2のワイヤループ(16)(19)は、上下方向
(高さ方向)で異る軌跡を描くことにより様々な形態を
とる。第2図右側の第1と第2のワイヤループ(16a)(19
a)は、第2のワイヤループ(19a)が常に第1のワイヤル
ープ(16a)より高い位置を通過する例、左側の第1と第
2のワイヤループ(16b)(19b)は第2のワイヤループ(19
b)が第1のワイヤループ(16b)と1点で交差し、外部接
続用の電極(12)への接続が第1のワイヤループ(16b)の
ものよりチップ(13)側へ近接した位置で行われた例であ
る。
(高さ方向)で異る軌跡を描くことにより様々な形態を
とる。第2図右側の第1と第2のワイヤループ(16a)(19
a)は、第2のワイヤループ(19a)が常に第1のワイヤル
ープ(16a)より高い位置を通過する例、左側の第1と第
2のワイヤループ(16b)(19b)は第2のワイヤループ(19
b)が第1のワイヤループ(16b)と1点で交差し、外部接
続用の電極(12)への接続が第1のワイヤループ(16b)の
ものよりチップ(13)側へ近接した位置で行われた例であ
る。
第3図はショットキーダイオード素子をセラミックパッ
ケージに固着した状態を示す平面図で、(11)はセラミッ
ク基体、(20)はセラミック基体(11)から導出された外部
接続リード、(12)は基体(11)の表面に形成され外部接続
リードと電気的に導通した外部接続用の電極、(13)は表
面に素子と電極パッド(14)が形成されたチップである。
チップ(13)はアノード側外部接続用の電極(12a)パター
ン上に半田等の材料でダイボンドされ、続いて夫々対応
する電極パッド(14)と外部接続用の電極(12)とを第1図
又は第2図に示した形状にワイヤ(15)でステッチボンド
する。その後、基体(11)の上に蓋体を固着することによ
り半導体チップ(13)を封止する。
ケージに固着した状態を示す平面図で、(11)はセラミッ
ク基体、(20)はセラミック基体(11)から導出された外部
接続リード、(12)は基体(11)の表面に形成され外部接続
リードと電気的に導通した外部接続用の電極、(13)は表
面に素子と電極パッド(14)が形成されたチップである。
チップ(13)はアノード側外部接続用の電極(12a)パター
ン上に半田等の材料でダイボンドされ、続いて夫々対応
する電極パッド(14)と外部接続用の電極(12)とを第1図
又は第2図に示した形状にワイヤ(15)でステッチボンド
する。その後、基体(11)の上に蓋体を固着することによ
り半導体チップ(13)を封止する。
第4図はGaAs・MESFET素子を同じくμ−X型と称
されるセラミックパッケージに固着した状態を示す平面
図で、ソース用外部接続電極(12S)パターン上にチップ
(13)が固着され、ゲート用の電極パッド(14G)とゲート
用外部接続電極(12G)を、ドレイン用の電極パッド(14D)
とドレイン用外部接続電極(12D)を夫々ワイヤ(15)で接
続すると共に、ソース用の電極パッド(14S)とソース用
外部接続電極(12S)とを第1図又は第2図に示した形状
にワイヤ(15)でステッチボンドしている。
されるセラミックパッケージに固着した状態を示す平面
図で、ソース用外部接続電極(12S)パターン上にチップ
(13)が固着され、ゲート用の電極パッド(14G)とゲート
用外部接続電極(12G)を、ドレイン用の電極パッド(14D)
とドレイン用外部接続電極(12D)を夫々ワイヤ(15)で接
続すると共に、ソース用の電極パッド(14S)とソース用
外部接続電極(12S)とを第1図又は第2図に示した形状
にワイヤ(15)でステッチボンドしている。
ステッチボンドは、先ず第5図Aに示すように、先端に
ボール部(21)を有するワイヤ(15)が挿通され、X方向及
びY方向に進退自在な取付部材に取付けられたボンディ
ングツール(22)を下降してボール部(21)を外部接続電極
(12)表面に圧接し、この状態でボンディングツール(22)
に超音波振動を与えることによりワイヤ(15)のボール部
(21)を外部接続電極(12)に超音波併用熱圧着する。
ボール部(21)を有するワイヤ(15)が挿通され、X方向及
びY方向に進退自在な取付部材に取付けられたボンディ
ングツール(22)を下降してボール部(21)を外部接続電極
(12)表面に圧接し、この状態でボンディングツール(22)
に超音波振動を与えることによりワイヤ(15)のボール部
(21)を外部接続電極(12)に超音波併用熱圧着する。
次に第5図Bに示すように、ワイヤ(15)の固定を解除す
ると共にボンディングツール(22)を垂直方向に上昇さ
せ、チップ(13)より高いある高さまでワイヤ(15)を伸ば
す。
ると共にボンディングツール(22)を垂直方向に上昇さ
せ、チップ(13)より高いある高さまでワイヤ(15)を伸ば
す。
次に第5図Cに示すように、ボンディングツール(22)を
チップ(13)側に移動させ、続いて下降することによりワ
イヤ(15)を電極パッド(14)表面に超音波併用熱圧着し、
これで第1のワイヤループ(16)を完成させる。
チップ(13)側に移動させ、続いて下降することによりワ
イヤ(15)を電極パッド(14)表面に超音波併用熱圧着し、
これで第1のワイヤループ(16)を完成させる。
次に第5図Dに示すように、ワイヤ(15)を切断せずにそ
のままボンディングツール(22)を上昇させ、 第5図Eに示すように、電極パッド(14)上の折り返し点
からワイヤ(15)が弧を描くようにボンディングツール(2
2)を移動させ、 第5図Fに示すように、外部接続電極(12)上でボンディ
ングツール(22)を下降させることにより、ワイヤ(15)を
外部接続電極(12)表面に超音波併用熱圧着し、ボンディ
ングツール(22)を圧接させた状態でワイヤ(15)を図示せ
ぬクランパで固定し、引張ることによりワイヤ(15)を切
断する。これで第2のワイヤループ(19)が完成する。次
いでワイヤ(15)を固定したままボンディングツール(22)
を垂直に上昇させることにより、ボンディングツール(2
2)の先端にある程度の長さでワイヤ(15)を突出させる。
のままボンディングツール(22)を上昇させ、 第5図Eに示すように、電極パッド(14)上の折り返し点
からワイヤ(15)が弧を描くようにボンディングツール(2
2)を移動させ、 第5図Fに示すように、外部接続電極(12)上でボンディ
ングツール(22)を下降させることにより、ワイヤ(15)を
外部接続電極(12)表面に超音波併用熱圧着し、ボンディ
ングツール(22)を圧接させた状態でワイヤ(15)を図示せ
ぬクランパで固定し、引張ることによりワイヤ(15)を切
断する。これで第2のワイヤループ(19)が完成する。次
いでワイヤ(15)を固定したままボンディングツール(22)
を垂直に上昇させることにより、ボンディングツール(2
2)の先端にある程度の長さでワイヤ(15)を突出させる。
そして第5図Gに示すように、放電電極(23)とワイヤ(1
5)間の放電又はトーチ炎によるワイヤ(15)先端部への瞬
間的な熱処理により、ワイヤ(15)先端にボンディングツ
ール(22)のワイヤ(15)挿通孔の直径より大きいボール部
(21)を形成する。この時の瞬間的な熱処理により、ボン
ディングツール(22)から突出したワイヤ(15)の、特に放
電電極(23)に近接しチップ(13)とは反対側の表面が熱的
影響を受けて若干の焼入れ処理が不可避的に行われる。
焼入れが成されたワイヤ(15)は硬度が増して曲がりにく
くなるので、この部分が外部接続電極(12)上で第1のワ
イヤループ(16)が垂直に上昇する部分を形成し、第1の
ワイヤループ(16)の円弧を大きくできる要因となる。第
2のワイヤループ(19)は、前述した様な熱処理が無いの
で第1のワイヤループ(16)より小さな円弧を描き易い。
5)間の放電又はトーチ炎によるワイヤ(15)先端部への瞬
間的な熱処理により、ワイヤ(15)先端にボンディングツ
ール(22)のワイヤ(15)挿通孔の直径より大きいボール部
(21)を形成する。この時の瞬間的な熱処理により、ボン
ディングツール(22)から突出したワイヤ(15)の、特に放
電電極(23)に近接しチップ(13)とは反対側の表面が熱的
影響を受けて若干の焼入れ処理が不可避的に行われる。
焼入れが成されたワイヤ(15)は硬度が増して曲がりにく
くなるので、この部分が外部接続電極(12)上で第1のワ
イヤループ(16)が垂直に上昇する部分を形成し、第1の
ワイヤループ(16)の円弧を大きくできる要因となる。第
2のワイヤループ(19)は、前述した様な熱処理が無いの
で第1のワイヤループ(16)より小さな円弧を描き易い。
ところで、2本のワイヤ(15)を近接させたことによる相
互インダクタンスの増加は両者間の距離と密接な関係が
ある。第6図はこの様な関係を示す特性図で、周波数f
=12GHzの例を示す。同図から明らかな通り、相互イ
ンダクタンスはワイヤ(15)間の距離が0〜0.1mmの範
囲内で急速に減少し、それ以降はほぼ飽和状態となる。
従って、本願のワイヤ(15)構造は、電極パッド(14)上の
折り返し点を除いて、1点又は2点の交差する部分(17)
(18)を含み左右、上下及び斜め方向に少なくとも50μ
m以上の間隔をもって第1と第2のワイヤループ(16)(1
9)を形成すれば良いことが明らかである。
互インダクタンスの増加は両者間の距離と密接な関係が
ある。第6図はこの様な関係を示す特性図で、周波数f
=12GHzの例を示す。同図から明らかな通り、相互イ
ンダクタンスはワイヤ(15)間の距離が0〜0.1mmの範
囲内で急速に減少し、それ以降はほぼ飽和状態となる。
従って、本願のワイヤ(15)構造は、電極パッド(14)上の
折り返し点を除いて、1点又は2点の交差する部分(17)
(18)を含み左右、上下及び斜め方向に少なくとも50μ
m以上の間隔をもって第1と第2のワイヤループ(16)(1
9)を形成すれば良いことが明らかである。
上記本願発明によれば、折り返しステッチボンディング
により複数本のワイヤループを形成するので、ワイヤ(1
5)1本当りの電流値を減らして表皮効果を緩和させ、半
導体装置が持つ等価インダクタンス及び等価インピーダ
ンスを低下させることができる。また、第1と第2のワ
イヤループ(16)(19)を第1図又は第2図に示す形状とす
ることにより、第1と第2のワイヤループ(16)(19)を上
下又は斜め方向に離間することができ、従って実質的に
2本のワイヤ(15)を離すことによりワイヤ(15)相互のイ
ンダクタンスをも低下させることができる。しかも、2
本のワイヤ(15)は立体的に離間しているので、電極パッ
ド(14)や外部接続電極(12)のパターンサイズを減少して
装置の小形化と等価インダクタンス及び寄生容量の更な
る低下をも可能にできる。
により複数本のワイヤループを形成するので、ワイヤ(1
5)1本当りの電流値を減らして表皮効果を緩和させ、半
導体装置が持つ等価インダクタンス及び等価インピーダ
ンスを低下させることができる。また、第1と第2のワ
イヤループ(16)(19)を第1図又は第2図に示す形状とす
ることにより、第1と第2のワイヤループ(16)(19)を上
下又は斜め方向に離間することができ、従って実質的に
2本のワイヤ(15)を離すことによりワイヤ(15)相互のイ
ンダクタンスをも低下させることができる。しかも、2
本のワイヤ(15)は立体的に離間しているので、電極パッ
ド(14)や外部接続電極(12)のパターンサイズを減少して
装置の小形化と等価インダクタンス及び寄生容量の更な
る低下をも可能にできる。
尚、本実施例はセラミックタイプのパッケージについて
詳述したが、エポキシ樹脂等によるモールドタイプのパ
ッケージについても同様である。また、2回,3回と折
り返して3本,4本のループを形成する際も同様であ
る。
詳述したが、エポキシ樹脂等によるモールドタイプのパ
ッケージについても同様である。また、2回,3回と折
り返して3本,4本のループを形成する際も同様であ
る。
(ト)発明の効果 以上に説明した通り、本発明はワイヤ(15)を複数本化し
たので、ワイヤ(15)の持つインダクタンスを低減できる
利点を有する。また、第1と第2のワイヤループ(16)(1
9)が高さ方向で立体的に離間する形状としたので、ワイ
ヤ(15)相互のインダクタンスをも低減できる利点を有す
る。しかも、折り返しステッチボンドなので、電極パッ
ド(14)のパターンサイズを縮小することにより寄生容量
を低減できる可能性がある利点を有する他、前記立体的
に距離を保つので、外部接続電極(12)のパターンサイズ
をも縮小できる利点を有する。
たので、ワイヤ(15)の持つインダクタンスを低減できる
利点を有する。また、第1と第2のワイヤループ(16)(1
9)が高さ方向で立体的に離間する形状としたので、ワイ
ヤ(15)相互のインダクタンスをも低減できる利点を有す
る。しかも、折り返しステッチボンドなので、電極パッ
ド(14)のパターンサイズを縮小することにより寄生容量
を低減できる可能性がある利点を有する他、前記立体的
に距離を保つので、外部接続電極(12)のパターンサイズ
をも縮小できる利点を有する。
従って、従来よりもワイヤ(15)の低インダクタンス化を
実現し、高利得で安定した高周波半導体装置を提供でき
る。
実現し、高利得で安定した高周波半導体装置を提供でき
る。
第1図と第2図は本発明を説明する為の側面図、第3図
と第4図は本発明を説明する為の平面図、第5図A乃至
第5図Gは本発明を説明する為の側面図、第6図は本発
明を説明する為の特性図、第7図は従来例を説明する為
の斜視図である。
と第4図は本発明を説明する為の平面図、第5図A乃至
第5図Gは本発明を説明する為の側面図、第6図は本発
明を説明する為の特性図、第7図は従来例を説明する為
の斜視図である。
Claims (2)
- 【請求項1】GaAs半導体チップ上の電極と外部接続
用の電極との間を、前記外部接続用の電極から前記チッ
プ上の電極へと向かう第1のワイヤループと、該第1の
ワイヤループから連続し前記チップ上の電極で折り返し
て前記外部接続用の電極へと向かう第2のワイヤループ
とで接続した高周波半導体装置であって、 前記第1又は第2のワイヤループの一方は他方のワイヤ
ループの脇を高さ方向に1点又は2点でクロスした軌跡
を描き、 前記第1と第2のワイヤループは前記折り返した部分を
除き少なくとも50μ以上の間隔を有することを特徴と
する高周波半導体装置。 - 【請求項2】GaAs半導体チップ上の電極と外部接続
用の電極との間を、前記外部接続用の電極から前記チッ
プ上の電極へと向かう第1のワイヤループと、該第1の
ワイヤループから連続し前記チップ上の電極で折り返し
て前記外部接続用の電極へと向かう第2のワイヤループ
とで接続した高周波半導体装置であって、 前記第1又は第2のワイヤループの一方は他方のワイヤ
ループより常に高い位置を通る軌跡を描くことを特徴と
する高周波半導体装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1036557A JPH0666352B2 (ja) | 1989-02-16 | 1989-02-16 | 高周波半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1036557A JPH0666352B2 (ja) | 1989-02-16 | 1989-02-16 | 高周波半導体装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02215137A JPH02215137A (ja) | 1990-08-28 |
| JPH0666352B2 true JPH0666352B2 (ja) | 1994-08-24 |
Family
ID=12473059
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1036557A Expired - Lifetime JPH0666352B2 (ja) | 1989-02-16 | 1989-02-16 | 高周波半導体装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0666352B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9812423B2 (en) * | 2013-11-29 | 2017-11-07 | Aoi Electronics Co., Ltd. | Semiconductor device having wire formed with loop portion and method for producing the semiconductor device |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2567976B2 (ja) * | 1990-08-29 | 1996-12-25 | シャープ株式会社 | 高周波低雑音半導体装置 |
| JP2525558Y2 (ja) * | 1991-01-11 | 1997-02-12 | サンケン電気株式会社 | 半導体装置 |
| JP2532304B2 (ja) * | 1991-01-14 | 1996-09-11 | ローム株式会社 | 半導体チップと、これが搭載される基板との間のワイヤボンディング構造 |
| JP2728052B2 (ja) * | 1995-10-18 | 1998-03-18 | 日本電気株式会社 | 半導体装置 |
| JP4629284B2 (ja) * | 2001-09-10 | 2011-02-09 | ローム株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
| US8016182B2 (en) | 2005-05-10 | 2011-09-13 | Kaijo Corporation | Wire loop, semiconductor device having same and wire bonding method |
| US8008785B2 (en) * | 2009-12-22 | 2011-08-30 | Tessera Research Llc | Microelectronic assembly with joined bond elements having lowered inductance |
| EP2688101A1 (en) * | 2012-07-20 | 2014-01-22 | ABB Technology AG | Method for electrically connecting vertically positioned substrates |
| WO2015024597A1 (en) * | 2013-08-21 | 2015-02-26 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Method for wire bonding and device produced thereby |
| DE102024117141A1 (de) * | 2024-06-18 | 2025-12-18 | Infineon Technologies Ag | Verfahren zum bilden einer elektrischen verbindung und elektrische verbindung |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0625958Y2 (ja) * | 1987-06-16 | 1994-07-06 | 日本電気株式会社 | 半導体装置 |
-
1989
- 1989-02-16 JP JP1036557A patent/JPH0666352B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9812423B2 (en) * | 2013-11-29 | 2017-11-07 | Aoi Electronics Co., Ltd. | Semiconductor device having wire formed with loop portion and method for producing the semiconductor device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02215137A (ja) | 1990-08-28 |
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