JPH0666401B2 - Inspection method for lead frame - Google Patents
Inspection method for lead frameInfo
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- JPH0666401B2 JPH0666401B2 JP60092229A JP9222985A JPH0666401B2 JP H0666401 B2 JPH0666401 B2 JP H0666401B2 JP 60092229 A JP60092229 A JP 60092229A JP 9222985 A JP9222985 A JP 9222985A JP H0666401 B2 JPH0666401 B2 JP H0666401B2
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-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P74/00—Testing or measuring during manufacture or treatment of wafers, substrates or devices
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、IC,LSI等の半導体装置の構成部品であるリー
ドフレームの検査方法に関するものであり、さらに詳し
く言えば、リードフレーム各部の面内での変形(以下横
変形)と面と垂直な方向での変形(以下上下変形)と、
部分メツキ部の位置不良を検査する方法に関するもので
ある。Description: FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a method for inspecting a lead frame, which is a component of a semiconductor device such as an IC or LSI, and more specifically, in-plane of each part of the lead frame. Deformation (hereinafter horizontal deformation) and deformation in the direction perpendicular to the surface (hereinafter vertical deformation),
The present invention relates to a method for inspecting a defective position of a partial plating portion.
リードフレームとは、エツチング法又はプレス法で厚さ
100〜300μmの金属板を第2図示の様な形状に加工し、
アイランド1及びインナーリード2先端部に金,銀等の
金属を部分的にメツキしたもので、このリードフレーム
のアイランド1に反動体チツプを装着(ダンボンデイン
グ)し、さらにインナーリード先端部と半導体チツプの
電極を金,アルミなどの細い金属線で接続(ワイヤーボ
ンデイング)して半導体装置を製造するものである。な
お、第2図で、3はダム,4はアウターリード、5は外
枠、6は部分メツキ領域をそれぞれ表わす。Lead frame is made by etching method or pressing method.
Process a metal plate of 100-300 μm into the shape shown in the second illustration,
The tip of the island 1 and the inner lead 2 is partially plated with metal such as gold and silver. A reaction body chip is attached to the island 1 of the lead frame (damping), and the tip of the inner lead and the semiconductor chip are further attached. The electrodes are connected with thin metal wires such as gold and aluminum (wire bonding) to manufacture a semiconductor device. In FIG. 2, 3 is a dam, 4 is an outer lead, 5 is an outer frame, and 6 is a partial plating area.
以上はリードフレームの説明であるが、リードフレーム
自体は前述の様に板圧が小さく、かつインナーリード2
など各部の巾は100〜数100μmと細いため、製造途中で
変形を起こす場合があり、また製造装置の誤動作等によ
り部分メツキ領域6の位置精度不良が生ずる場合もあ
り、製品の中にこの様な不良品が混入する事がある。こ
の様な不良品を使用するとダイボンデイングあるいはワ
イヤーボンデイング工程での不良品の発生及び完成した
半導体装置を信頼性の低下などの原因となる為、リード
フレーム製造後検査を行い不良品を排除する事が不可欠
となつている。Although the lead frame has been described above, the lead frame itself has a small plate pressure as described above, and the inner lead 2
Since the width of each part is as thin as 100 to several hundreds of μm, it may be deformed during manufacturing, and the positioning accuracy of the partial plating area 6 may be defective due to malfunction of the manufacturing equipment. Incorrect defective products may be mixed. If such defective products are used, defective products may be generated in the die bonding or wire bonding process and the reliability of the completed semiconductor device may be deteriorated. Is essential.
従来、この様なリードフレームの検査には、裸眼又は顕
微鏡を用いての目視により行なわれているのが通例であ
るが、多数の製品を検査するためには多大な人手を要
し、また、官能検査であるため、検査精度及び信頼性に
問題があった。Conventionally, inspection of such a lead frame is usually conducted by naked eyes or visual observation using a microscope, but it takes a lot of manpower to inspect a large number of products, and Since it was a sensory test, there was a problem in inspection accuracy and reliability.
この様な問題を解決するために、例えばリードフレーム
の横変形を検査する方法に関しては、ITVを用いてリー
ドフレームを透過照明で撮影して得たビデオ信号を基準
パターン又は隣接するパターンを同様に撮影して得た信
号と比較して変形を検出する方法が、また、部分メツキ
部分の検査に関しては、反射照明を用いて同様の処理を
行ってメツキ部の位置不良を検出する方法が、そして上
下変形の検査に関しては、光学式非接触高さ測定器を用
いた方法、などがそれぞれ提案されている。In order to solve such a problem, for example, regarding a method for inspecting the lateral deformation of the lead frame, a video signal obtained by shooting the lead frame with transillumination using ITV is similarly used as a reference pattern or an adjacent pattern. A method of detecting the deformation by comparing with the signal obtained by photographing, and for the inspection of the partial plating portion, a method of performing a similar process using reflected illumination to detect a defective position of the plating portion, and Regarding the inspection of the vertical deformation, a method using an optical non-contact height measuring device, etc. have been proposed.
しかして、これらの方法によれば、各々個別には目的を
達らされるものの検査項目毎に異なる方法を用いなけれ
ばならないから、検査工程が複雑になり、また、ITVを
用いた方法では、リードフレームに付着したゴミやキズ
等不良原因とならないものを検出して不良判定する場合
があり、さらに、非接触高さ測定器を用いた方法では、
測定点がパターンのエツジ上にあるときに測定値が不安
定となるなど信頼性の面で問題が多く、実用化が困難で
あった。However, according to these methods, the method is different for each inspection item although the purpose is achieved individually, so the inspection process becomes complicated, and the method using ITV, There is a case of detecting defects that do not cause defects such as dust and scratches adhering to the lead frame, and it may be judged as defective, and further, in the method using the non-contact height measuring device,
There were many problems in terms of reliability, such as the measurement values becoming unstable when the measurement point was on the edge of the pattern, and practical application was difficult.
本発明の目的は、上記した従来技術の欠点を除き、一工
程でリードフレームの横変形、縦変形、それにメッキの
有無などの表面状態の全ての検査を高い信頼性のもとで
行なうことができるリードフレームの検査方法を提供す
るにある。The object of the present invention is to perform all inspections of the surface condition such as lateral deformation, vertical deformation of the lead frame and the presence or absence of plating in a single process with high reliability, except for the above-mentioned drawbacks of the prior art. It is to provide a method of inspecting a lead frame that can be performed.
この目的を達成するため、本発明は、検査すべきリード
フレームの面を光スポツトで走査し、このときの透過光
と走査位置によりリードフレームの横変形を検出し、こ
のときのリードフレームによる反射光の量によりリード
フレームの表面状態を検出し、さらに、このときのリー
ドフレーム上での光スポツトの像を、この光スポツトの
照射光軸に対して斜めの方向に投影結像したときの結像
位置の変位による光学的三角測量方式にもとずく計測に
よりリードフレームの上下変形を検出するようにした点
を特徴とする。In order to achieve this object, the present invention scans the surface of the lead frame to be inspected with an optical spot, detects the lateral deformation of the lead frame by the transmitted light and the scanning position at this time, and reflects by the lead frame at this time. The surface condition of the lead frame is detected by the amount of light, and the image of the optical spot on the lead frame at this time is projected and imaged in a direction oblique to the irradiation optical axis of the optical spot. The feature is that the vertical deformation of the lead frame is detected by the measurement based on the optical triangulation method based on the displacement of the image position.
以下、本発明によるリードフレームの検査方法につい
て、図示の実施例により詳細に説明する。Hereinafter, a lead frame inspection method according to the present invention will be described in detail with reference to the illustrated embodiments.
第1図は本発明の一実施例で、図において、7は光源側
検出部、8は点光源として働く半導体レーザ、9は光ス
ポツト照射用のレンズ、10は光スポツトの像を結像する
レンズ、11は一次元入射位置検出素子として働くPSD
(半導体位置検出素子)、12はPSD11からの信号S1,S2を
処理する信号処理部、13は透過検出部、14は集光用のレ
ンズ、15はフオトダイオード、光導動素子などからなる
受光素子、16は受光素子15の信号Tの信号処理部、17は
デジタルメモリからなる波形記憶装置、18はコンピユー
タなどからなる制御判定部、19は走査用のXYステージ、
20はXYステージ19を駆動するモータ、21はXYステージの
位置を検出するリニアエンコーダ、22は検査すべきリー
ドフレームである。FIG. 1 shows an embodiment of the present invention. In the figure, 7 is a light source side detection unit, 8 is a semiconductor laser that acts as a point light source, 9 is a lens for illuminating a light spot, and 10 is an image of the light spot. Lens, 11 is a PSD that acts as a one-dimensional incident position detection element
(Semiconductor position detecting element), 12 is a signal processing section for processing the signals S 1 and S 2 from the PSD 11, 13 is a transmission detecting section, 14 is a condenser lens, 15 is a photodiode, an optical element, etc. A light receiving element, 16 is a signal processing unit for the signal T of the light receiving element 15, 17 is a waveform storage device including a digital memory, 18 is a control determination unit including a computer, 19 is an XY stage for scanning,
20 is a motor for driving the XY stage 19, 21 is a linear encoder for detecting the position of the XY stage, and 22 is a lead frame to be inspected.
次に、この実施例の動作について説明する。Next, the operation of this embodiment will be described.
まず、検出部7内の半導体レーザ8より射出された光は
レンズ9でリードフレーム22上に直径約100μmの光ス
ポツトを形成する。この光スポツトの反射散乱光を照射
光軸に対して光軸を40゜の角度を持たせた受光レンズ10
で一次元位置検出用PSD11上に光スポットの像を形成す
る。PSD11は2個の出力端子をもち、それらから得られ
る信号S1,S2はPSD上に結像した光スポツトの光強度情報
とPSD上での結像位置情報を持ち、(S1+S2)が光強
度、(S1−S2)/(S1+S2)が位置の信号となる。そこ
で、このPSD11に接続されている信号処理部12は、PSDの
信号S1,S2に基づいて上記の演算を行った後、光学系及
びPSD11自体の受光特性の補正を行い、リードフレーム2
2上の光スポットの高さ及び散乱光強度に比例した信号
を出力する。First, the light emitted from the semiconductor laser 8 in the detecting portion 7 forms an optical spot having a diameter of about 100 μm on the lead frame 22 by the lens 9. The reflected and scattered light of this optical spot is a light-receiving lens 10 whose optical axis is at an angle of 40 ° with respect to the irradiation optical axis.
The image of the light spot is formed on the PSD 11 for one-dimensional position detection by. The PSD11 has two output terminals, and the signals S 1 and S 2 obtained from them have the light intensity information of the light spot imaged on the PSD and the image formation position information on the PSD, (S 1 + S 2 ) Is the light intensity, and (S 1 −S 2 ) / (S 1 + S 2 ) is the position signal. Therefore, the signal processing unit 12 connected to the PSD 11 performs the above calculation based on the PSD signals S 1 and S 2 and then corrects the light receiving characteristics of the optical system and the PSD 11 itself, and the lead frame 2
Outputs a signal proportional to the height of the light spot on 2 and the scattered light intensity.
一方、透過光検出器13は前記照射光がリードフレームパ
ターンの間を通過した光をレンズ14により受光素子15上
に入射させ信号処理16で透過光量に比例した信号STを17
及び18へ出力する。On the other hand, the transmitted light detector 13 causes the light passing through the lead frame pattern of the irradiation light to be incident on the light receiving element 15 by the lens 14, and the signal processing 16 outputs a signal S T that is proportional to the transmitted light amount.
And output to 18.
第3図はインナーリード2の先端部2aを光スポツトSが
走査したときの各検出器12,16の信号の変化とリード先
端部2aとの位置関係を示す図で、図中でリード先端部2a
に施こしてある斜線部はメツキされている事を示す。ま
た、この図で、Tは透過光量の変化を示し実線はリード
の横変形がある部分を走査したときの信号、破線は変形
のない対応する部分を走査したときの信号を、TSは両者
の差を示し、Rは反射光量信号を、Hは高さ信号を示
す。FIG. 3 is a diagram showing the positional relationship between the lead tip 2a and changes in the signals of the detectors 12 and 16 when the optical spot S scans the tip 2a of the inner lead 2. 2a
The shaded area on the bottom shows that it has been plated. Further, in this figure, T indicates a change in the amount of transmitted light, a solid line indicates a signal when scanning a portion with lateral deformation of the lead, a broken line indicates a signal when scanning a corresponding portion without deformation, and T S is both. , R represents the reflected light amount signal, and H represents the height signal.
透過光量信号Tは、パターンの水平位置情報と、光スポ
ツトとパターンエツジとの位置関係情報の双方を持ち、
水平変形のある部分Aを走査したときの信号(実線)
と、あらかじめ変形のないリードフレームの対応する部
分Bを走査して記憶してあるデータ(破線)とを源算す
るとTSで示す様に変形発生している部分のみ値が大きく
なっている信号が得られ、これを所定のスライスレベル
と比較すれば水平変形があるか否かを検出する事ができ
る。The transmitted light amount signal T has both horizontal position information of the pattern and positional relationship information of the light spot and the pattern edge,
Signal when scanning part A with horizontal deformation (solid line)
And the data (broken line) stored by scanning the corresponding portion B of the lead frame which is not deformed in advance, the signal whose value is increased only in the deformed portion as shown by T S. It is possible to detect whether or not there is horizontal deformation by comparing this with a predetermined slice level.
一方、アイランド1など、その変位量が問題になる部分
では、透過光量が50%となる点でのステージ座標信号に
よりパターンのエツジ座標を検出し、設計値等の基準値
と比較して変形量を検出する事ができる。また、透過光
量が0又は所定のスライスレベル以下となる位置で、光
スポツトの全て又は大部分がパターン上にある事を認識
できるから、これによりPSD11による検査を正しく行な
うタイミングを知ることができる。すなわち、反射光量
信号Rはメツキ面と非メツキ面の表面粗度の相異により
メツキ面上で大きく非メツキ面上で小さくなり、メツキ
の有無に関する情報をもつ。しかし、反射光量信号を一
定のレベルと比較するだけでは、光スポツトがリードの
中間にある場合にはメツキ無しの信号となり、パターン
エツジ上にある場合には、非メツキ部であっても端面で
の光散乱によりメツキ有りの信号となるため、前記の様
に透過光量信号Tにより光スポツトの全て又は大部分が
パターン上にある事を条件としてメツキ部非メツキ部の
反射光量レベルの中間値をスライスレベルとして比較す
れば、メツキの有無を確実に検出でき、例えば部分メツ
キ指定領域境界線の内側を走査しているときにメツキ無
しの信号が検出されればメツキ位置不良を検出した事に
なる。On the other hand, in areas such as the island 1 where the amount of displacement is a problem, the edge coordinates of the pattern are detected by the stage coordinate signal at the point where the amount of transmitted light is 50%, and the amount of deformation is compared with the reference value such as the design value. Can be detected. Further, it is possible to recognize that all or most of the light spots are on the pattern at the position where the amount of transmitted light is 0 or less than a predetermined slice level, so that it is possible to know the timing at which the inspection by the PSD 11 is performed correctly. That is, the reflected light amount signal R has a large value on the non-meta surface and a small value on the non-meta surface due to the difference in surface roughness between the non-meta surface and the non-meta surface, and has information on the presence or absence of the mat. However, by simply comparing the reflected light amount signal with a certain level, if the optical spot is in the middle of the lead, it becomes a signal with no plating, and if it is on the pattern edge, even if it is a non-plating portion, it is Since the light scattering causes a signal with a scattering, as described above, the intermediate value of the reflected light amount level of the non-spotted portion is set by the transmitted light amount signal T on condition that all or most of the light spots are on the pattern. By comparing the slice levels, it is possible to reliably detect the presence or absence of a mesh. For example, if a signal indicating no mesh is detected while scanning the inside of the boundary line of the partial mesh designated area, it means that the defective position of the mesh is detected. .
同様に高さ信号Hも図示の様に光スポツトがパターンの
間にある場合は値が不定となり、また、エツジ上では端
面の反射光の影響及びPSD上に結像した光スポツトの輝
度分布が変化するために測定誤差を生ずるが、前記のメ
ツキの有無の検出の場合と同様に、光スポツトの全ての
又は大部分がパターン上にある事を条件として高さ検出
を行えば常に正確な値が得られ、基準値、例えばダム中
央部の高さ等と比較することにより上下変形が検出でき
る。Similarly, as shown in the figure, the height signal H has an indefinite value when the light spot is between the patterns, and on the edge, the influence of the reflected light from the end face and the brightness distribution of the light spot imaged on the PSD are A measurement error occurs due to the change, but as in the case of detecting the presence or absence of the above-mentioned mess, if the height is detected on condition that all or most of the optical spots are on the pattern, an accurate value is always obtained. The vertical deformation can be detected by comparing with a reference value, for example, the height of the dam central portion.
ここで、PSD11による上下変形検出の原理について、さ
らに詳しく説明する。Here, the principle of vertical deformation detection by the PSD 11 will be described in more detail.
第4図に示すように、半導体レーザ8からレンズ9を介
してビーム先端部2aに照射された光スポツトの像はレン
ズ10によってPSD11の検出面上の位置(イ)に結像され
ている。As shown in FIG. 4, the image of the light spot emitted from the semiconductor laser 8 to the beam tip 2a through the lens 9 is formed by the lens 10 at the position (a) on the detection surface of the PSD 11.
この状態でリード先端部2aが実線の位置から破線の位置
に移ったとすれば、このときにはPSD11上の光スポツト
像の位置は(ロ)に変位する。If the lead tip 2a moves from the solid line position to the broken line position in this state, the position of the optical spot image on the PSD 11 is displaced to (b) at this time.
従って、PSD11により光スポツト像の移動距離lを検出
してやれば、リードフレームの上下変形hを測定するこ
とができるのである。Therefore, if the PSD 11 detects the moving distance 1 of the optical spot image, the vertical deformation h of the lead frame can be measured.
ところで、このときの光軸L1とL2のなす角度θは、90度
未満に保つ必要があり、実用上は上記実施例のように40
度付近にするのが望ましい。By the way, the angle θ formed by the optical axes L 1 and L 2 at this time must be kept below 90 degrees, and in practice, as in the above-mentioned embodiment,
It is desirable to set it to around.
なお、このような一次元光入社位置検出手段としてのPS
Dについては、例えば、「電子材料」1980年2月号など
により公知である。In addition, PS as such one-dimensional light entering position detection means
D is known, for example, from "Electronic Materials" February 1980 issue.
以上が本発明の実施例による上下変形、横変形及びメツ
キ位置不良を検出する方法の説明である。The above is the description of the method for detecting vertical deformation, lateral deformation, and defective plating position according to the embodiment of the present invention.
次に、本発明の実施例によりリードフレームを検査する
場合のさらに具体的な動作について説明する。第5図は
リードフレーム22のパターン上を走査して変形及びメツ
キ位置不良の検査を行う例を示したもので、図中斜線部
はメツキされている領域を示す。Next, a more specific operation in the case of inspecting the lead frame according to the embodiment of the present invention will be described. FIG. 5 shows an example in which the pattern of the lead frame 22 is scanned to inspect for deformation and defective plating position, and the shaded area in the drawing indicates the area where the plating is performed.
この図において、30〜46は走査径路を示す点で、まず、
30は走査開始点で、点30−31でダム部両端のX座標を、
点31−32でインナーリード2の両端のY座標を検出し、
各々の中点を求めてリードフレームの原点座標とし、以
後の走査経路がリードフレームの座標系で定められた経
路となる用に補正を行う。また、点30−31の走査デダム
部の高さを測定し、高さの基準値とする。点33−34−35
−36−33の経路はインナーリード先端部の水平及び上下
方向の変形を検出する部分で、水平変形に関しては点33
の座標からリニアエンコーダ21の信号により移動距離10
μm毎の透過光量信号をあらかじめ変形のないリードフ
レームの同一の経路を走査して得た同一の場所の透過光
量データと比較し、その差が所定のレベル以上の部分を
変形不良と判定する。In this figure, 30 to 46 are points indicating scanning paths, and
30 is the scanning start point, and the X coordinate of both ends of the dam at points 30-31,
Detect the Y coordinates of both ends of the inner lead 2 at points 31-32.
The respective midpoints are obtained and used as the origin coordinates of the lead frame, and correction is performed so that the subsequent scanning path becomes the path defined by the lead frame coordinate system. In addition, the height of the scanning Dedham portion at points 30-31 is measured and used as the height reference value. Point 33−34−35
The path of -36-33 is a part to detect horizontal and vertical deformation of the tip of the inner lead.
Moving distance 10 from the coordinates of
The transmitted light amount signal for each μm is compared with the transmitted light amount data at the same location obtained by scanning the same path of the lead frame without deformation in advance, and a portion where the difference is equal to or higher than a predetermined level is determined to be defective.
また、上下変形に関しては透過光量レベルが所定のレベ
ル以下のときの高さ信号と基準値との差が所定のレベル
以上の部分を上下変形不良と判定する。Regarding vertical deformation, a portion in which the difference between the height signal and the reference value when the transmitted light amount level is equal to or lower than the predetermined level is equal to or higher than the predetermined level is determined to be vertical deformation failure.
次に、点37−38−39−40−41の経路はメツキ部の検査を
行う経路で、指定されているメツキ領域境界線の100μ
m程度内側を走査する。この経路で透過光量が所定レベ
ル以下のときに反射光量がメツキ有無判定レベル以下の
所が検出されたときにメツキ位置不良と判定する。Next, the route of points 37-38-39-40-41 is the route for inspecting the metallurgical part, and it is 100μ of the specified metallurgical region boundary line.
Scan inside about m. In this path, when the amount of transmitted light is below a predetermined level and the amount of reflected light is below the level of determination of presence / absence of a defect, it is determined that the defective position of the defect is defective.
また、点41−42−43−44−45−46はアイランド部の検査
経路で、点41−42及び点45−46で検出される二つのX座
標の平均値と基準値の差がアイランドのX方向の変形量
となり、2つのX座標の差がアイランドの回転量とな
る。Further, point 41-42-43-44-45-46 is an inspection route of the island portion, and the difference between the average value of the two X-coordinates detected at points 41-42 and 45-46 and the reference value is the island. The amount of deformation is in the X direction, and the difference between the two X coordinates is the amount of rotation of the island.
一方、点42−43及び点44−45で検出される2つのY座標
の平均値と基準値との差がY方向の変形量となる。On the other hand, the difference between the average value of the two Y coordinates detected at points 42-43 and 44-45 and the reference value is the amount of deformation in the Y direction.
さらに、点41−45の走査に測定するアイランド4隅の高
さの平均値と基準値の差がアイランドの上下変形量、4
隅の高さと最大値と最小値の差がアイランドの傾き量と
なり、各々の変形量を交差として比較して良、不良の判
定を行う。Furthermore, the difference between the average value of the heights of the four corners of the island measured in the scanning of points 41-45 and the reference value is the amount of vertical deformation of the island.
The height of the corner and the difference between the maximum value and the minimum value become the amount of inclination of the island, and the deformation amounts of the islands are compared as intersections to determine whether the shape is good or bad.
ところで、以上の例は、インナーリード及びアイランド
部の変形と、メツキ位置不良を検査する場合を示したも
のであるが、これ以外にアウターリード、外枠部などを
走査経路中に設定すればリードフレームの全体的なソ
リ、ネジレなども検出可能であり、また、検査不要な部
分を省略すれば検査時間を短縮する事もできる。By the way, the above example shows the case of inspecting the deformation of the inner lead and the island portion and the defective plating position, but in addition to this, if the outer lead, the outer frame portion, etc. are set in the scanning path, the lead The entire warp and twist of the frame can be detected, and the inspection time can be shortened by omitting unnecessary portions for inspection.
以上説明した様に、本発明によれば、リードフレームの
変形不良及びメツキ位置不良が一組の検出系で自動的
に、かつ、一工程で検査でき、かつ、線走査であるため
にゴミ、キズによる誤検出の確立も非常に小さく、検査
精度と信頼性の向上が容易に得られる。As described above, according to the present invention, the deformation of the lead frame and the defective plating position can be automatically inspected by one set of detection systems, and can be inspected in one step, and since the line scanning is performed, dust, The probability of false detection due to scratches is very small, and it is easy to improve inspection accuracy and reliability.
第1図は本発明にかかるリードフレームの検査方法の一
実施例を示すブロツク図、第2図はリードフレームの一
例を示す平面図、第3図は本発明の一実施例の動作を示
す波形図、第4図は本発明の一実施例における上下変形
の検出原理を示す説明図、第5図は本発明の一実施例に
おける動作をさらに具体的に示した説明図である。 1……アイランド、2……インナーリード、3……ダ
ム、4……アウターリード、5……外枠、6……部分メ
ツキ領域、7……光源側検出部、8……半導体レーザ、
9,10,14……レンズ、11……PSD、12……信号処理部、13
……透過光量検出器、15……受光素子、16……信号処理
部、17……波形記憶装置、18……制御判定部、19……XY
ステージ、20……モータ、21……リニアエンコーダ、22
……リードフレーム、L……光スポツト、A……変形し
たインナーリード、B……変形していないインナーリー
ド、T……透過光量信号、R……反射光量信号、H……
高さ信号、TS……横変形信号、30〜46……リードフレー
ム上の走査点。FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of the lead frame inspection method according to the present invention, FIG. 2 is a plan view showing an example of the lead frame, and FIG. 3 is a waveform showing the operation of the embodiment of the present invention. 4 and FIG. 4 are explanatory diagrams showing the principle of vertical deformation detection in one embodiment of the present invention, and FIG. 5 is an explanatory diagram more specifically showing the operation in one embodiment of the present invention. 1 ... Island, 2 ... Inner lead, 3 ... Dam, 4 ... Outer lead, 5 ... Outer frame, 6 ... Partial plating area, 7 ... Light source side detection section, 8 ... Semiconductor laser,
9,10,14 …… Lens, 11 …… PSD, 12 …… Signal processing unit, 13
...... Transmitted light amount detector, 15 ...... Light receiving element, 16 ...... Signal processing unit, 17 ...... Waveform storage device, 18 ...... Control determination unit, 19 ...... XY
Stage, 20 …… Motor, 21 …… Linear encoder, 22
...... Lead frame, L ... Optical spot, A ... Deformed inner lead, B ... Undeformed inner lead, T ... Transmitted light amount signal, R ... Reflected light amount signal, H ...
Height signal, T S …… Transverse deformation signal, 30 to 46 …… Scanning points on the lead frame.
Claims (2)
に検出する方式のリードフレームの検査方法において、
リードフレームの表面状態を検査すべき方の面に垂直に
光スポツトを照射する光源手段と、このリードフレーム
をはさんで上記光源手段と反対側に延びる光スポツトの
光軸上に位置する受光手段と、上記リードフレーム上に
照射された光スポツトの像をこの光スポツトの照射光軸
に対して90度未満の所定の角度方向の所定の位置に結像
させる結像光学手段と、この結像光学手段による上記光
スポツトの像の結像位置近傍に位置する一次元光入射位
置検出手段と、上記光スポツトの光軸を上記リードフレ
ームの面に沿つて相対的に移動させる走査手段と、この
走査手段による相対的な移動量を検出する計測手段とを
設け、上記受光手段の出力信号と上記計測手段の出力信
号によりリードフレームの面方向内での変形を検出し、
上記一次元光入射位置検出手段の出力信号によりリード
フレームの面方向に対して垂直な方向での変形と表面状
態とを検出するように構成したことを特徴とするリード
フレームの検査方法。1. A method for inspecting a lead frame which optically detects the shape and surface condition of the lead frame,
Light source means for irradiating a light spot perpendicular to the surface of the lead frame to be inspected, and light receiving means positioned on the optical axis of the light spot extending on the side opposite to the light source means with the lead frame sandwiched therebetween. And image forming optical means for forming an image of the light spot irradiated on the lead frame at a predetermined position in a predetermined angle direction of less than 90 degrees with respect to the irradiation optical axis of the light spot, and the image forming means. One-dimensional light incident position detecting means located near the image forming position of the image of the optical spot by the optical means, scanning means for relatively moving the optical axis of the optical spot along the surface of the lead frame, and The measuring means for detecting the relative movement amount by the scanning means is provided, and the deformation in the in-plane direction of the lead frame is detected by the output signal of the light receiving means and the output signal of the measuring means,
A method of inspecting a lead frame, which is configured to detect a deformation and a surface state in a direction perpendicular to a surface direction of the lead frame by an output signal of the one-dimensional light incident position detecting means.
手段が半導体レーザで、上記一次元光入射位置検出手段
が半導体位置検出素子でそれぞれ構成されていることを
特徴とするリードフレームの検査方法。2. A lead frame inspection according to claim 1, wherein the light source means is a semiconductor laser and the one-dimensional light incident position detecting means is a semiconductor position detecting element. Method.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60092229A JPH0666401B2 (en) | 1985-05-01 | 1985-05-01 | Inspection method for lead frame |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60092229A JPH0666401B2 (en) | 1985-05-01 | 1985-05-01 | Inspection method for lead frame |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61252653A JPS61252653A (en) | 1986-11-10 |
| JPH0666401B2 true JPH0666401B2 (en) | 1994-08-24 |
Family
ID=14048605
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60092229A Expired - Lifetime JPH0666401B2 (en) | 1985-05-01 | 1985-05-01 | Inspection method for lead frame |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0666401B2 (en) |
Families Citing this family (3)
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| JPH0770872B2 (en) * | 1989-01-27 | 1995-07-31 | 富士機械製造株式会社 | Electronic component mounting device |
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-
1985
- 1985-05-01 JP JP60092229A patent/JPH0666401B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61252653A (en) | 1986-11-10 |
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