JPH0667466B2 - 被加工物の処理方法 - Google Patents
被加工物の処理方法Info
- Publication number
- JPH0667466B2 JPH0667466B2 JP1174024A JP17402489A JPH0667466B2 JP H0667466 B2 JPH0667466 B2 JP H0667466B2 JP 1174024 A JP1174024 A JP 1174024A JP 17402489 A JP17402489 A JP 17402489A JP H0667466 B2 JPH0667466 B2 JP H0667466B2
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- JP
- Japan
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- temperature
- liquid
- processing
- pipe
- work piece
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- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/0006—Controlling or regulating processes
- B01J19/002—Avoiding undesirable reactions or side-effects, e.g. avoiding explosions, or improving the yield by suppressing side-reactions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 本発明は液体処理装置、特にフォトレジストを一定温度
で注入するシステム、とりわけ固体撮像素子のウェーハ
へのゼラチン塗布に好適なフォトレジスト定温注入シス
テムに関するものである。
で注入するシステム、とりわけ固体撮像素子のウェーハ
へのゼラチン塗布に好適なフォトレジスト定温注入シス
テムに関するものである。
一般に固体撮像素子には、色分解フィルタとして一種の
フォトレジストであるゼラチンが使用されており、この
ゼラチンはウェーハ上に形成された絵素上に回転塗布法
により被着形成される。そして、このゼラチンは、約25
℃程度の常温でゲル状態を呈しているため、約25℃以上
に温め、ゾル状態にしておかなかれば塗布できない。さ
らにゼラチンは、またウェーハも塗布膜厚が均一で膜欠
点もない良好な塗布を行うためには所定の温度に温調す
る必要がある。
フォトレジストであるゼラチンが使用されており、この
ゼラチンはウェーハ上に形成された絵素上に回転塗布法
により被着形成される。そして、このゼラチンは、約25
℃程度の常温でゲル状態を呈しているため、約25℃以上
に温め、ゾル状態にしておかなかれば塗布できない。さ
らにゼラチンは、またウェーハも塗布膜厚が均一で膜欠
点もない良好な塗布を行うためには所定の温度に温調す
る必要がある。
これらの条件を踏まれた従来のゼラチン塗布システムを
第１図に示す。同図において、従来のシステムは、恒温
槽1,ヒータ2,温度センサ3,攪拌器４および温度調節器５
により恒温に温調される液体６に、ゼラチン７の収容容
器８が入れられた加圧容器９を浸け、ゼラチン７をゾル
状態にしておくとともに、一定温度に保温させる。また
恒温槽１から塗布室10までの注入系を内部に注入管11が
通された弗素樹脂製チューブ12と、この外部を覆った断
熱材13と、これとチューブ12との間に入れられたヒータ
14および温度センサ15と、温度調節器16とにより温調
し、ゼラチン７を一定温度で吐出させる。さらに図示し
ないファンと、ヒータおよびフィルタとからなるファン
ヒータユニットとにより、温風17をダクト18を通じて塗
布室10へ送り込み、回転するように構成されているチャ
ック19に吸着されたウェーハ20を一定温度に加熱するよ
うになっている。なお、21は廃液回収容器、22はウェー
ハ20の回転時に発生するゼラチン飛沫吸引用ブロア、23
はゼラチンを吐出させるための所定の圧力に制御された
N2ガス、24はフィルタ、25,26は注入管11の開閉，吐出
側ゼラチンのサックバック用ベローズである。
第１図に示す。同図において、従来のシステムは、恒温
槽1,ヒータ2,温度センサ3,攪拌器４および温度調節器５
により恒温に温調される液体６に、ゼラチン７の収容容
器８が入れられた加圧容器９を浸け、ゼラチン７をゾル
状態にしておくとともに、一定温度に保温させる。また
恒温槽１から塗布室10までの注入系を内部に注入管11が
通された弗素樹脂製チューブ12と、この外部を覆った断
熱材13と、これとチューブ12との間に入れられたヒータ
14および温度センサ15と、温度調節器16とにより温調
し、ゼラチン７を一定温度で吐出させる。さらに図示し
ないファンと、ヒータおよびフィルタとからなるファン
ヒータユニットとにより、温風17をダクト18を通じて塗
布室10へ送り込み、回転するように構成されているチャ
ック19に吸着されたウェーハ20を一定温度に加熱するよ
うになっている。なお、21は廃液回収容器、22はウェー
ハ20の回転時に発生するゼラチン飛沫吸引用ブロア、23
はゼラチンを吐出させるための所定の圧力に制御された
N2ガス、24はフィルタ、25,26は注入管11の開閉，吐出
側ゼラチンのサックバック用ベローズである。
このように構成された従来システムは、ゼラチン注入系
の温調方法に問題があった。すなわち、温度調節器５の
設定温度とゼラチン７の吐出温度とが異なるため、吐出
液温調整が不便であった。また塗布室10内のゼラチン温
度を調節できないという欠点もあった。さらにこのた
め、ウェーハ加熱用温風を塗布室10へ送り込まなければ
注入管11の末端からゼラチンが凝固してくる問題もあっ
た。
の温調方法に問題があった。すなわち、温度調節器５の
設定温度とゼラチン７の吐出温度とが異なるため、吐出
液温調整が不便であった。また塗布室10内のゼラチン温
度を調節できないという欠点もあった。さらにこのた
め、ウェーハ加熱用温風を塗布室10へ送り込まなければ
注入管11の末端からゼラチンが凝固してくる問題もあっ
た。
したがって本発明は、上述した従来技術の問題点を解消
するためになされたものであり、その目的とするところ
は、注入系の末端まで温調できるフォトレジスト定温注
入システムを提供することにある。
するためになされたものであり、その目的とするところ
は、注入系の末端まで温調できるフォトレジスト定温注
入システムを提供することにある。
このような目的を達成するために本発明は、被加工物に
吐出されるべき処理液を収容する収容容器と、温度を感
知する温度センサと、上記処理液の温度を調節するため
の液体の温度を調節するヒーターと、上記温度センサと
上記ヒーターとに接続された温度調節機とを有する処理
液の温度を調節するための液体を供給するための手段
と、を有する液体処理装置を用いた被加工物の処理方法
において、上記処理液は第１の管を経由して上記被加工
物に供給され、上記処理液の温度を調節するための液体
は、第２の管に供給され上記第２の管は、上記第１の管
を上記処理液の吐出部分先端近傍まで覆い、上記処理液
の温度を調節するための液体を上記第１の管の外側で、
かつ、上記第２の管の内側に流すことにより、上記処理
液の温度を、上記処理液の吐出部まで調節し、更に、上
記被加工物を、回転可能な回転台に載せる工程と、上記
処理液の収容容器中の上記処理液液面に圧力をかけるこ
とにより上記処理液を上記収容容器から上記第１の管に
送り出し、これにより上記処理液を上記被加工物上に吐
出させる工程とを有することを特徴とする被加工物の処
理方法とし、更に上記処理液の温度を調節するための液
体の流れる方向と、上記処理液の流れる方向とを逆向き
にする被加工物の処理方法とし、更に上記被加工物に吐
出される処理液はフォトレジストである被加工物の処理
方法とし、更に上記被加工物に吐出される処理液はゼラ
チンである被加工物の処理方法とし、更に上記被加工物
は、ウェーハである被加工物の処理方法とし、更に上記
温度センサは、処理液の温度を調節するための液体の温
度を感知する被加工物の処理方法とした。
吐出されるべき処理液を収容する収容容器と、温度を感
知する温度センサと、上記処理液の温度を調節するため
の液体の温度を調節するヒーターと、上記温度センサと
上記ヒーターとに接続された温度調節機とを有する処理
液の温度を調節するための液体を供給するための手段
と、を有する液体処理装置を用いた被加工物の処理方法
において、上記処理液は第１の管を経由して上記被加工
物に供給され、上記処理液の温度を調節するための液体
は、第２の管に供給され上記第２の管は、上記第１の管
を上記処理液の吐出部分先端近傍まで覆い、上記処理液
の温度を調節するための液体を上記第１の管の外側で、
かつ、上記第２の管の内側に流すことにより、上記処理
液の温度を、上記処理液の吐出部まで調節し、更に、上
記被加工物を、回転可能な回転台に載せる工程と、上記
処理液の収容容器中の上記処理液液面に圧力をかけるこ
とにより上記処理液を上記収容容器から上記第１の管に
送り出し、これにより上記処理液を上記被加工物上に吐
出させる工程とを有することを特徴とする被加工物の処
理方法とし、更に上記処理液の温度を調節するための液
体の流れる方向と、上記処理液の流れる方向とを逆向き
にする被加工物の処理方法とし、更に上記被加工物に吐
出される処理液はフォトレジストである被加工物の処理
方法とし、更に上記被加工物に吐出される処理液はゼラ
チンである被加工物の処理方法とし、更に上記被加工物
は、ウェーハである被加工物の処理方法とし、更に上記
温度センサは、処理液の温度を調節するための液体の温
度を感知する被加工物の処理方法とした。
以下、図面を用いて本発明の実施例を詳細に説明する。
第２図は本発明によるフォトレジスト定温注入システム
の一例を示す断面構成図であり、第１図と同符号は同一
要素となるのでその説明は省略する。第２図において、
恒温槽１から塗布室10を経由し、再び恒温槽１までポン
プ27を通してチューブ28が配管されている。そして、こ
のチューブ28の内部にはゼラチン７の注入管11が塗布室
10まで通されている。また塗布室10内のゼラチン吐出部
分は第３図に要部断面図で示すような構造を湯してい
る。すなわち、第３図において、29はコネクタであり、
このコネクタ29には前記チューブ28が通常用いられてい
るチューブ継手30により接続されている。また、前記注
入管11の先端はフランジ加工され、コネクタ29の一端に
ねじ込まれるノズル31により、コネクタ29に締付固定さ
れている。なお、32はシール材である。
の一例を示す断面構成図であり、第１図と同符号は同一
要素となるのでその説明は省略する。第２図において、
恒温槽１から塗布室10を経由し、再び恒温槽１までポン
プ27を通してチューブ28が配管されている。そして、こ
のチューブ28の内部にはゼラチン７の注入管11が塗布室
10まで通されている。また塗布室10内のゼラチン吐出部
分は第３図に要部断面図で示すような構造を湯してい
る。すなわち、第３図において、29はコネクタであり、
このコネクタ29には前記チューブ28が通常用いられてい
るチューブ継手30により接続されている。また、前記注
入管11の先端はフランジ加工され、コネクタ29の一端に
ねじ込まれるノズル31により、コネクタ29に締付固定さ
れている。なお、32はシール材である。
このように配管された注入系において、ポンプ27を作動
させることにより、恒温槽１内に液体６が注入管11のま
わりを包むようにしてチューブ28とコネクタ29とを通っ
て循環する。一方、液体６は前述したように恒温となる
ように常時加熱温調されている。したがって、この定温
注入システムによれば、収入容器８内のゼラチン７の温
度を一定に保つと同時に注入管11内のゼラチン温度も一
定に保つことが出来る。また、液体６の温度はそのまま
収容容器８および注入管11内のゼラチン温度となるた
め、温度調節器５の設定温度とゼラチン吐出温度とが同
一となる。
させることにより、恒温槽１内に液体６が注入管11のま
わりを包むようにしてチューブ28とコネクタ29とを通っ
て循環する。一方、液体６は前述したように恒温となる
ように常時加熱温調されている。したがって、この定温
注入システムによれば、収入容器８内のゼラチン７の温
度を一定に保つと同時に注入管11内のゼラチン温度も一
定に保つことが出来る。また、液体６の温度はそのまま
収容容器８および注入管11内のゼラチン温度となるた
め、温度調節器５の設定温度とゼラチン吐出温度とが同
一となる。
このように、温度調節機５の設定温度とゼラチン吐出温
度とが同一になるように温度調節できるのは、所定の圧
力に加圧されたN2ガス23を供給することにより、処理液
液面に圧力をかけ、これにより処理液７を被加工物20上
に吐出させる方法を採用していることが、大きく寄与し
ている。すなわち、恒温槽１から塗布室10までの間で、
処理液７を搬送するポンプ等の手段を設ける必要が無
く、これらを設けた場合の処理液の温度変化を避けるこ
とが出来るからである。
度とが同一になるように温度調節できるのは、所定の圧
力に加圧されたN2ガス23を供給することにより、処理液
液面に圧力をかけ、これにより処理液７を被加工物20上
に吐出させる方法を採用していることが、大きく寄与し
ている。すなわち、恒温槽１から塗布室10までの間で、
処理液７を搬送するポンプ等の手段を設ける必要が無
く、これらを設けた場合の処理液の温度変化を避けるこ
とが出来るからである。
また、処理液の注入管11と容器８とを同じ液体６で温度
調節しているので、或いは、それらを共通の温度制御系
２、３及び５で温度調整しているので、温度制御性が良
い。ポンプ27は注入管が内側に挿入されていないチュー
ブ28の部分に取り付けられているため、取り付けが簡単
である。
調節しているので、或いは、それらを共通の温度制御系
２、３及び５で温度調整しているので、温度制御性が良
い。ポンプ27は注入管が内側に挿入されていないチュー
ブ28の部分に取り付けられているため、取り付けが簡単
である。
また、チューブ28が注入管11を包含する二重管構造から
チューブ28だけの単管にする位置は、第２図、第３図に
示すように、チューブ28の端部でなく、チューブ28の途
中であり、チューブ28をＴ字状に分岐させて二重管から
単管にしているので構造が簡単であり、また、処理液を
被加工物に供給するときの邪魔になることもない。
チューブ28だけの単管にする位置は、第２図、第３図に
示すように、チューブ28の端部でなく、チューブ28の途
中であり、チューブ28をＴ字状に分岐させて二重管から
単管にしているので構造が簡単であり、また、処理液を
被加工物に供給するときの邪魔になることもない。
以上説明したように本発明によれば、温度調節器の設定
温度通りに制御された液体で、収容容器内から吐出部ま
でにわたってゼラチン温調することができるので、吐出
液温度調整が簡単となり、かつ吐出先端からのゼラチン
の凝固が全く起らなくなるなどの極めて優れた効果が得
られる。
温度通りに制御された液体で、収容容器内から吐出部ま
でにわたってゼラチン温調することができるので、吐出
液温度調整が簡単となり、かつ吐出先端からのゼラチン
の凝固が全く起らなくなるなどの極めて優れた効果が得
られる。
第１図は従来のゼラチン塗布システムの一例を説明する
ための要部断面構成図、第２図は本発明に係わるゼラチ
ン塗布システムの一例を説明するための要部断面構成
図、第３図は第２図のゼラチン吐出部分を示す断面構成
図である。 １……恒温槽、２……ヒータ、３……温度センサ、４…
…攪拌器、５……温度調節器、６……液体、７……ゼラ
チン、８……収容容器、９……加圧容器、10……塗布
室、11……注入管、12……チューブ、13……断熱材、14
……ヒータ、15……温度センサ、16……温度調節器、17
……温風、18……ダクト、19……チャック、20……ウェ
ーハ、21……廃液回収容器、22……ブロア、23……N2ガ
ス、24……フィルタ、25,26……ベローズ、27……ポン
プ、28……チューブ、29……コネクタ、30……チューブ
継手、31……ノズル、32……シール材。
ための要部断面構成図、第２図は本発明に係わるゼラチ
ン塗布システムの一例を説明するための要部断面構成
図、第３図は第２図のゼラチン吐出部分を示す断面構成
図である。 １……恒温槽、２……ヒータ、３……温度センサ、４…
…攪拌器、５……温度調節器、６……液体、７……ゼラ
チン、８……収容容器、９……加圧容器、10……塗布
室、11……注入管、12……チューブ、13……断熱材、14
……ヒータ、15……温度センサ、16……温度調節器、17
……温風、18……ダクト、19……チャック、20……ウェ
ーハ、21……廃液回収容器、22……ブロア、23……N2ガ
ス、24……フィルタ、25,26……ベローズ、27……ポン
プ、28……チューブ、29……コネクタ、30……チューブ
継手、31……ノズル、32……シール材。
Claims (6)
- 【請求項１】被加工物に吐出されるべき処理液を収容す
る収容容器と、 温度を感知する温度センサと、上記処理液の温度を調節
するための液体の温度を調節するヒータと、上記温度セ
ンサと上記ヒータとに接続された温度調節機とを有する
処理液の温度を調節するための液体を供給するための手
段と、を有する液体処理装置を用いた被加工物の処理方
法において、 上記処理液は第１の管を経由して上記被加工物に供給さ
れ、 上記処理液の温度を調節するための液体は、第２の管に
供給され、 上記第２の管は、上記第１の管を上記処理液の吐出部分
先端近傍まで覆い、上記処理液の温度を調節するための
液体を上記第１の管の外側で、かつ、上記第２の管の内
側に流すことにより、上記処理液の温度を、上記処理液
の吐出部分まで、調節し、更に、 上記被加工物を、回転可能な回転台に載せる工程と、 上記処理液の収容容器中の上記処理液液面に圧力をかけ
ることにより上記処理液を上記収容容器から上記第１の
管に送りだし、これにより上記処理液を上記被加工物上
に吐出させる工程とを有することを特徴とする被加工物
の処理方法。 - 【請求項２】上記処理液の温度を調節するための液体の
流れる方向と、上記処理液の流れる方向とを逆向きにす
ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の被加工
物の処理方法。 - 【請求項３】上記被加工物に吐出される処理液はフォト
レジストであることを特徴とする特許請求の範囲第１項
または第２項記載の被加工物の処理方法。 - 【請求項４】上記被加工物に吐出される処理液はゼラチ
ンであることを特徴とする特許請求の範囲第１項又は第
２項記載の被加工物の処理方法。 - 【請求項５】上記被加工物は、ウェーハであることを特
徴とする特許請求の範囲第１項乃至第４項の何れかに記
載の被加工物の処理方法。 - 【請求項６】上記温度センサは、処理液の温度を調節す
るための液体の温度を感知することを特徴とする特許請
求の範囲第１項乃至第５項の何れかに記載の被加工物の
処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1174024A JPH0667466B2 (ja) | 1989-07-07 | 1989-07-07 | 被加工物の処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1174024A JPH0667466B2 (ja) | 1989-07-07 | 1989-07-07 | 被加工物の処理方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57118586A Division JPS599654A (ja) | 1982-07-09 | 1982-07-09 | フオトレジスト定温注入システム |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7179800A Division JP2616748B2 (ja) | 1995-07-17 | 1995-07-17 | 半導体装置の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0286828A JPH0286828A (ja) | 1990-03-27 |
| JPH0667466B2 true JPH0667466B2 (ja) | 1994-08-31 |
Family
ID=15971305
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1174024A Expired - Lifetime JPH0667466B2 (ja) | 1989-07-07 | 1989-07-07 | 被加工物の処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0667466B2 (ja) |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5478981A (en) * | 1977-12-07 | 1979-06-23 | Hitachi Ltd | Photo resist coating unit |
| JPS5747086Y2 (ja) * | 1978-04-18 | 1982-10-16 | ||
| JPS57166032A (en) * | 1981-04-03 | 1982-10-13 | Toshiba Corp | Spray type developing device for positive resist |
| JPS599654A (ja) * | 1982-07-09 | 1984-01-19 | Hitachi Ltd | フオトレジスト定温注入システム |
-
1989
- 1989-07-07 JP JP1174024A patent/JPH0667466B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0286828A (ja) | 1990-03-27 |
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