JPH0672844B2 - Crystal orientation analysis method - Google Patents
Crystal orientation analysis methodInfo
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- JPH0672844B2 JPH0672844B2 JP8578586A JP8578586A JPH0672844B2 JP H0672844 B2 JPH0672844 B2 JP H0672844B2 JP 8578586 A JP8578586 A JP 8578586A JP 8578586 A JP8578586 A JP 8578586A JP H0672844 B2 JPH0672844 B2 JP H0672844B2
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Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は結晶方位解析方法に関し、特にラマン散乱光の
偏光特性を利用する結晶方位解析方法に関するものであ
る。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a crystal orientation analysis method, and more particularly to a crystal orientation analysis method utilizing polarization characteristics of Raman scattered light.
[従来の技術] ラマン散乱光の偏光特性を利用する結晶方位解析の原理
は、たとえば応用物理,第55巻,第1号,1986年,第73
−80頁において述べられている。初めに、この原理の概
略を述べる。ラマン散乱強度Iと入射光の偏光および散
乱光の偏光との関係は、次式(I)によって表わされ
る。[Prior Art] The principle of crystal orientation analysis utilizing the polarization characteristics of Raman scattered light is described in, for example, Applied Physics, Volume 55, No. 1, 1986, No. 73.
-80 pages. First, an outline of this principle will be described. The relationship between the Raman scattering intensity I and the polarization of the incident light and the polarization of the scattered light is expressed by the following equation (I).
ここで、 はそれぞれ入射光と散乱光の偏光ベクトルを表し、Rjは
ラマンテンソルを表わしている。このラマンソルRjは、
当業者に周知のように結晶の方位に依存して定まるもの
である。 here, Represents the polarization vector of the incident light and the scattered light respectively, and Rj represents the Raman tensor. This Raman Sol Rj is
As known to those skilled in the art, it is determined depending on the crystal orientation.
第1図を参照して、顕微ラマン測定における入射光およ
び散乱光と結晶との関係が概略的に例示されている。入
射光1が試料結晶5に集光され、ラマン散乱光3が結晶
から散乱される。今の場合、入射光1は偏光の基準方向
ψ0から偏光ψ1だけ回転した偏光方向2を有してお
り、ラマン散乱光3は偏光の基準方向ψ0から偏光角ψ
2だけ回転された偏光方向4を有している。この偏光方
向4の成分が検光子によって取出され、その散乱強度I
が測定される。種々の偏光方向で測定した散乱強度を上
式(1)で理論的に得られる散乱強度と比較してフィッ
ティングすることによって、入射光1の軸に対して結晶
5の3次元方位が決定され得る。With reference to FIG. 1, a relationship between incident light and scattered light and crystals in a Raman microscopic measurement is schematically illustrated. Incident light 1 is condensed on the sample crystal 5, and Raman scattered light 3 is scattered from the crystal. In this case, the incident light 1 has a polarization direction 2 rotated by a polarization ψ 1 from the polarization reference direction ψ 0 , and the Raman scattered light 3 has a polarization angle ψ 0 from the polarization reference direction ψ 0.
It has a polarization direction 4 rotated by 2 . The component of this polarization direction 4 is taken out by the analyzer, and its scattering intensity I
Is measured. The three-dimensional orientation of the crystal 5 with respect to the axis of the incident light 1 can be determined by fitting the scattering intensities measured in various polarization directions to the theoretically obtained scattering intensities in the above equation (1) and fitting. .
第2図を参照して、このような結晶方位解析方法に用い
られる装置が概略的に図解されている。レーザ源11から
放射されたたレーザ光ビーム12は、フィルタ分光器13に
通されて、レーザ光以外の自然光が除去される。次い
で、偏光回転子1によって任意の偏光方向に選択された
レーザ光12はビームエキスパンダ15によってビーム径が
拡げられ、その後ハーフミラー16によって方向が変えら
れ、そしてレンジ17によって試料結晶5上に焦点合わせ
される。このとき、元のレーザ光12とエネルギの異なる
光がラマン散乱光として結晶5から放射される。レンズ
17によって集光された散乱光19はミラー20で方向を変え
られ、検光子21によって或る偏光方向を有する散乱光の
みが取出され、偏光解消板22を通過した後、レンズ23に
よって分光器24のスリット上に集光される。そして、分
光された散乱光が検知器25によって検出され、コンピュ
ータ26でデータ処理されて結晶方位の解析が行なわれ
る。An apparatus used for such a crystal orientation analysis method is schematically illustrated with reference to FIG. The laser light beam 12 emitted from the laser source 11 is passed through a filter spectroscope 13 to remove natural light other than laser light. Next, the laser beam 12 selected to have an arbitrary polarization direction by the polarization rotator 1 is expanded in beam diameter by the beam expander 15, then changed in direction by the half mirror 16, and then focused on the sample crystal 5 by the range 17. Be matched. At this time, light having energy different from that of the original laser light 12 is emitted from the crystal 5 as Raman scattered light. lens
The scattered light 19 collected by 17 is redirected by a mirror 20, only the scattered light having a certain polarization direction is taken out by an analyzer 21, passes through a depolarizing plate 22, and then a spectroscope 24 by a lens 23. It is focused on the slit. Then, the dispersed light scattered is detected by the detector 25, and the computer 26 processes the data to analyze the crystal orientation.
従来、このような結晶方位解析方法において、ラマン散
乱光の偏光特性の測定は、偏光回転子14または検光子21
のいずれか一方のみの偏光方向を回転させるか、または
両方の偏光方向を一致させて同時に回転させることによ
って行なわれている。Conventionally, in such a crystal orientation analysis method, the polarization characteristic of the Raman scattered light is measured by the polarization rotator 14 or the analyzer 21.
Either one of them is rotated, or both polarization directions are matched and simultaneously rotated.
[発明が解決しようとする問題点] 従来、ラマン散乱光の偏光特性の測定において、入射光
と散乱光の偏光方向のうちいずれか一方のみを変化させ
るか、または両方を一致させて同時に変化させている。
この場合、入射光が結晶の或る特定の軸に沿って入射す
るときに、ラマン散乱強度が偏光方向の変化にもかかわ
らず一定となることがある。このとき、入射光に垂直な
面内での結晶軸の方位を決定することができず、すなわ
ち結晶の3次元方位を決定することができないという問
題があった。[Problems to be Solved by the Invention] Conventionally, in the measurement of the polarization characteristics of Raman scattered light, either one of the polarization directions of incident light and scattered light is changed, or both are changed at the same time. ing.
In this case, when the incident light is incident along a certain axis of the crystal, the Raman scattering intensity may be constant despite the change in the polarization direction. At this time, there is a problem that the orientation of the crystal axis in the plane perpendicular to the incident light cannot be determined, that is, the three-dimensional orientation of the crystal cannot be determined.
本発明の目的は、このような問題点を解消し、方位解析
されるべき結晶が入射光に対してどのような方位にあっ
ても、容易かつ迅速にその3次元方位を解析することが
できる結晶方位解析方法を提供することである。An object of the present invention is to solve such a problem and to easily and promptly analyze the three-dimensional orientation of the crystal whose orientation is to be analyzed, whatever orientation the incident light has. It is to provide a crystal orientation analysis method.
[問題点を解決するための手段] 本発明の1つの態様によるラマン散乱光の偏光特性を利
用する結晶方位解析方法は、入射光と散乱光の偏光方向
を一致させて変化させながら散乱強度の変化を測定する
第1のステップと、その第1のステップにおいて散乱強
度が変化しないことを検知したときにのみ入射光と散乱
光の偏光方向のうちの一方を固定して他方のみを変化さ
せながら散乱強度の変化を測定する第2のステップと、
測定された散乱強度の変化と理論的計算によって得られ
る散乱強度の変化との比較から結晶の三次元方位を決定
する第3のステップとを含んでいることを特徴としてい
る。[Means for Solving the Problems] A crystal orientation analysis method utilizing the polarization characteristics of Raman scattered light according to one aspect of the present invention is a method of changing the scattering intensity while changing the polarization directions of incident light and scattered light so as to match each other. The first step of measuring the change, and only when one of the polarization directions of the incident light and the scattered light is fixed and the other is changed only when it is detected that the scattered intensity does not change in the first step A second step of measuring the change in scattering intensity,
And a third step of determining the three-dimensional orientation of the crystal by comparing the change in the measured scattering intensity with the change in the scattering intensity obtained by theoretical calculation.
本発明のもう1つの態様によるラマン散乱光の偏光特性
を利用する結晶方位解析方法は、顕微ラマン分光装置を
用いることを特徴としている。A crystal orientation analysis method using the polarization characteristic of Raman scattered light according to another aspect of the present invention is characterized by using a microscopic Raman spectroscope.
[作用] この発明の結晶方位解析方法におけるラマン散乱強度の
測定では、解析パラメータを減らすために第1ステップ
で入射光と散乱光の両方の偏光方向を一致させて変化さ
せながら散乱強度が測定されるが、第1ステップの偏光
方向の変化によっても散乱強度が変化しない場合にのみ
第2ステップを導入して、入射光または散乱光のいずれ
か一方のみの偏光方向を変化させることによって変化さ
せた散乱強度を測定するので、入射光に対していかなる
方位を有する結晶でも容易かつ迅速にその3次元的方位
解析を行なうことができる。[Operation] In the measurement of the Raman scattering intensity in the crystal orientation analysis method of the present invention, the scattering intensity is measured while changing the polarization directions of both the incident light and the scattered light in the first step in order to reduce the analysis parameter. However, the second step is introduced only when the scattering intensity does not change due to the change of the polarization direction in the first step, and the change is made by changing the polarization direction of only one of the incident light and the scattered light. Since the scattering intensity is measured, it is possible to easily and quickly perform a three-dimensional orientation analysis of a crystal having any orientation with respect to the incident light.
[実施例] 本実施例では、一例としてシリコン結晶の方位解析につ
いて述べる。まず、ラマン散乱光の理論的な偏光特性を
示す曲線の説明の都合上、偏光の基準方向を第3図のよ
うに定める。直線1,3は入射光または散乱光の光軸であ
る。φは光軸1,3を結晶の(001)面に投影した直線と結
晶の[100]時とがなす角であり、θは光軸1,3と[00
1]軸とのなす角である。eは光軸1,3に垂直な偏光方向
を示し、その偏光角ψは光軸1,3と[001]軸を含む平面
となす角として定められる。言い換えれば、θ,φ,ψ
が決定されれば、光軸1,3に関する結晶の3次元方位が
決定されることになる。[Example] In this example, the orientation analysis of a silicon crystal will be described as an example. First, for the convenience of explanation of the curve showing the theoretical polarization characteristic of Raman scattered light, the reference direction of polarization is determined as shown in FIG. Lines 1 and 3 are the optical axes of incident light or scattered light. φ is the angle formed by the straight line obtained by projecting the optical axes 1 and 3 on the (001) plane of the crystal and the [100] time of the crystal, and θ is the optical axis 1 and 3 and [00
1] The angle with the axis. e indicates a polarization direction perpendicular to the optical axes 1 and 3, and its polarization angle ψ is defined as an angle formed between the optical axes 1 and 3 and a plane including the [001] axis. In other words, θ, φ, ψ
If is determined, the three-dimensional orientation of the crystal with respect to the optical axes 1 and 3 is determined.
第4図を参照して、入射光が結晶の<110>方向に入射
する場合において、式(1)において計算された散乱光
の偏光特性曲線が示されている。この場合、入射光の偏
光方向ψ1は固定されていて、散乱光の偏光方向ψ2の
みが変えられている。横軸は散乱光の偏光角ψ2を示
し、縦軸はその偏光角における散乱光強度Iを示してい
る。図からわかるように、入射光の各偏光角ψ1ごとに
異なった偏光特性曲線が得られる。すなわち、未知の方
位の結晶を解析する場合、入射光の偏光角ψ1が未知で
あるので、測定された偏光特性をコンピュータによって
種々の論理曲線と照合して光軸に垂直な結晶軸方位を決
定しなければならない。また、入射光の偏光角ψ1=0
゜付近では、散乱光の偏光角ψ2を変化させても散乱光
強度Iは全く変化しないかまたはほとんど変化しない。
したがって、測定された偏光特性を理論結果と比較して
も、偏光角ψ1,ψ2を正確に決定することが困難であ
る。すなわち、光軸に垂直な結晶の軸方位を正確に決定
することが困難である。Referring to FIG. 4, there is shown a polarization characteristic curve of scattered light calculated in the equation (1) when incident light is incident in the <110> direction of the crystal. In this case, the polarization direction ψ 1 of the incident light is fixed and only the polarization direction ψ 2 of the scattered light is changed. The horizontal axis represents the polarization angle ψ 2 of the scattered light, and the vertical axis represents the scattered light intensity I at that polarization angle. As can be seen from the figure, different polarization characteristic curves are obtained for each polarization angle ψ 1 of the incident light. That is, when analyzing a crystal with an unknown orientation, since the polarization angle ψ 1 of the incident light is unknown, the measured polarization characteristics are compared with various logical curves by a computer to determine the crystal axis orientation perpendicular to the optical axis. I have to decide. In addition, the polarization angle of incident light ψ 1 = 0
In the vicinity of °, even if the polarization angle ψ 2 of the scattered light is changed, the scattered light intensity I does not change at all or hardly changes.
Therefore, even if the measured polarization characteristics are compared with the theoretical results, it is difficult to accurately determine the polarization angles ψ 1 and ψ 2 . That is, it is difficult to accurately determine the axis orientation of the crystal perpendicular to the optical axis.
第5図を参照して、入射光は第4図の場合と同様に<11
0>方向に入射されているが、入射光と散乱交の両方の
偏光角ψ1,ψ2を一致させながら変化させた場合におい
て、式(1)の計算から求められた偏光特性曲線が示さ
れている。この場合、得られる曲線はただ1つである。
すなわちψ1=ψ2であって、方位解析におけるパラメ
ータが1つ減少していることになる。したがって、測定
された偏光特性曲線を1つの理論曲線と照合することに
よって偏光角ψ1,ψ2が容易に求まり、入射光軸に垂直
な方向の結晶軸方向が容易に決定され得る。入射光が<
100>方向に入射される場合も同様であって、式(1)
から求められたその偏光特性曲線は第6図に示されてい
る。Referring to FIG. 5, the incident light is <11 as in the case of FIG.
Although the light is incident in the 0> direction, the polarization characteristic curve obtained from the calculation of the equation (1) is shown when the polarization angles ψ 1 and ψ 2 of both the incident light and the scatter are changed while matching. Has been done. In this case, only one curve is obtained.
That is, ψ 1 = ψ 2 , and the parameter in the azimuth analysis is decreased by one. Therefore, the polarization angles ψ 1 and ψ 2 can be easily obtained by comparing the measured polarization characteristic curve with one theoretical curve, and the crystal axis direction perpendicular to the incident optical axis can be easily determined. The incident light is <
The same applies to the case of incidence in the 100> direction, and the formula (1)
The polarization characteristic curve obtained from is shown in FIG.
第7図を参照して、入射光は<111>方向に入射され、
入射光と散乱光の両方の偏光角ψ1,ψ2を一致させなが
ら変化させた場合に、式(1)から求められた偏光特性
曲線が示されている。この場合、図から明らかなよう
に、偏光角ψ1,ψ2の変化にかかわらず散乱光強度は一
定である。したがって、測定された偏光特性を理論結果
と照合しても偏光角ψ1,ψ2は全く決定することができ
ない。Referring to FIG. 7, incident light is incident in the <111> direction,
The polarization characteristic curve obtained from the equation (1) is shown when the polarization angles ψ 1 and ψ 2 of both the incident light and the scattered light are changed while being matched. In this case, as is clear from the figure, the scattered light intensity is constant regardless of changes in the polarization angles ψ 1 , ψ 2 . Therefore, the polarization angles ψ 1 and ψ 2 cannot be determined at all even if the measured polarization characteristics are compared with the theoretical results.
しかし、このようなとき、第4図における場合のように
入射光または散乱光のいずれか一方の偏光角を固定して
他方の偏光角のみを変化させてやれば、たとえば第8図
に示されているような偏光特性曲線が式(1)から得ら
れる。したがって、同様にして測定された偏光特性曲線
を第8図のような理論曲線と照合することによって偏光
角ψ1,ψ2を決定することができる。すなわち、入射光
軸に垂直な方向の結晶軸方位をも決定することができ、
3次元方位が定まる。However, in such a case, if the polarization angle of either the incident light or the scattered light is fixed and only the other polarization angle is changed as in the case of FIG. 4, for example, as shown in FIG. The polarization characteristic curve as described above is obtained from the equation (1). Therefore, the polarization angles ψ 1 and ψ 2 can be determined by comparing the polarization characteristic curve measured in the same manner with the theoretical curve as shown in FIG. That is, the crystal axis orientation perpendicular to the incident optical axis can be determined,
The three-dimensional azimuth is determined.
上述のように、本発明においては、第1ステップでは方
位解析におけるパラメータを少なくするために入射光と
散乱光の両方の偏光方向を一致させて変化させながら偏
光特性の測定を行ない、第1ステップにおいて散乱光強
度が変化しないことを検知したときにのみ、第2ステッ
プとして入射光と散乱光のいずれか一方のみの偏光方向
を変化させて偏光特性の測定を行なう。As described above, in the present invention, in the first step, the polarization characteristics are measured while changing the polarization directions of both the incident light and the scattered light so as to reduce the parameters in the azimuth analysis. Only when it is detected that the scattered light intensity does not change in the second step, the polarization characteristic is measured by changing the polarization direction of only one of the incident light and the scattered light as the second step.
[発明の効果] 以上のように、この発明によれば、入射光と散乱光の両
方の偏光方向を一致させて変化させる場合といずれか一
方の偏光方向のを変化させる場合とを適切に組合わせて
偏光特性の測定を行なうので、入射光が結晶に対してい
かなる方向から入射しても容易かつ迅速に結晶の3次元
方位を一義的に決定することができる。[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, the case where both the polarization directions of incident light and scattered light are changed to match and the case where one of the polarization directions is changed is appropriately combined. Since the polarization characteristics are also measured together, the three-dimensional orientation of the crystal can be uniquely determined easily and quickly no matter which direction the incident light enters the crystal.
第1図は、入射光および散乱光の偏光方向と方位解析さ
れる結晶との関係を概略的に示す図である。 第2図は、本発明の結晶方位解析方法に用いられる装置
を概略的に示す図である。 第3図は、結晶の軸方向と偏光の基準方向との関係を説
明する図である。 第4図は、入射光方向が<110>の場合において、入射
光の偏光角を固定して散乱光の偏光角を変化させた場合
の散乱光の偏光特性曲線を示している。 第5図は、入射光方向が<110>であるが入射光と散乱
光の両方の偏光角を一致させて変化させた場合の偏光特
性を示す図である。 第6図は、第5図と同様であるが、入射光方向が<100
>の場合の偏光特性曲線を示す図である。 第7図は、入射光方向が<111>であって、入射光と散
乱光の両方の偏光角を一致させて変化させた場合の散乱
光の偏光特性を示す図である。 第8図は、入射光方向が<111>であるが、散乱光の偏
光角のみが変化された場合の偏光特性曲線を示す図であ
る。 図において、1は入射光、2は入射光の偏光方向、3は
散乱光、4は散乱光の偏光方向、5は試料結晶、ψ0は
偏光の基準方向、ψ1は入射光の偏光角、ψ2は散乱光
の偏光角を示す。FIG. 1 is a diagram schematically showing the relationship between the polarization directions of incident light and scattered light and the crystal whose direction is analyzed. FIG. 2 is a diagram schematically showing an apparatus used in the crystal orientation analysis method of the present invention. FIG. 3 is a diagram for explaining the relationship between the crystal axial direction and the polarization reference direction. FIG. 4 shows a polarization characteristic curve of scattered light when the polarization angle of the incident light is fixed and the polarization angle of the scattered light is changed when the incident light direction is <110>. FIG. 5 is a diagram showing the polarization characteristics when the incident light direction is <110> but the incident light and scattered light are both changed in the same polarization angle. FIG. 6 is similar to FIG. 5, but the incident light direction is <100
It is a figure which shows the polarization characteristic curve in case of>. FIG. 7 is a diagram showing polarization characteristics of scattered light when the incident light direction is <111> and the polarization angles of both the incident light and the scattered light are changed so as to match. FIG. 8 is a diagram showing a polarization characteristic curve when the incident light direction is <111> but only the polarization angle of scattered light is changed. In the figure, 1 is the incident light, 2 is the incident light polarization direction, 3 is the scattered light, 4 is the scattered light polarization direction, 5 is the sample crystal, ψ 0 is the reference direction of polarization, and ψ 1 is the polarization angle of the incident light. , Ψ 2 indicates the polarization angle of scattered light.
Claims (4)
位を解析する方法において、 入射光と散乱光の偏光方向を一致させて変化させながら
散乱強度の変化を測定する第1のステップと、 前記第1のステップにおいて散乱強度が変化しないこと
を検知したときにのみ、入射光と散乱光の偏光方向のう
ちの一方を固定して他方のみを変化させながら散乱強度
の変化を測定する第2のステップと、 測定された散乱強度の変化と理論的計算によって求めら
れた散乱強度の変化との比較から結晶の3次元方位を決
定する第3のステップとを含むことを特徴とする結晶方
位解析方法。1. A method for analyzing a crystal orientation by utilizing a polarization characteristic of Raman scattered light, which comprises a first step of measuring a change in scattering intensity while changing the polarization directions of incident light and scattered light so as to match each other. Measuring the change in the scattering intensity while fixing one of the polarization directions of the incident light and the scattered light and changing only the other, only when it is detected that the scattering intensity does not change in the first step. A crystal orientation comprising the following two steps: a third step of determining the three-dimensional orientation of the crystal by comparing the change in the measured scattering intensity with the change in the scattering intensity obtained by theoretical calculation. analysis method.
る特許請求の範囲第1項記載の結晶方位解析方法。2. The crystal orientation analysis method according to claim 1, wherein the crystal is silicon.
の偏光特性から結晶方位を解析する方法において、 入射光と散乱光の偏光方向を一致させて変化させながら
散乱強度の変化を測定する第1のステップと、 前記第1のステップにおいて散乱強度が変化しないこと
を検知したときにのみ、入射光と散乱光の偏光方向のう
ちの一方を固定して他方のみを変化させながら散乱強度
の変化を測定する第2のステップと、 測定された散乱強度の変化と理論的計算によって求めら
れた散乱強度の変化との比較から結晶の3次元方位を決
定する第3のステップとを含むことを特徴とする結晶方
位解析方法。3. A method for analyzing a crystal orientation from a polarization characteristic of Raman scattered light by using a microscopic Raman spectroscope, in which a change in scattering intensity is measured while the polarization directions of incident light and scattered light are changed so as to match each other. 1 and only when it is detected that the scattering intensity does not change in the first step, the scattering intensity changes while fixing one of the polarization directions of the incident light and the scattered light and changing only the other. And a third step of determining the three-dimensional orientation of the crystal from the comparison between the change in the measured scattering intensity and the change in the scattering intensity obtained by theoretical calculation. And the crystal orientation analysis method.
る特許請求の範囲第3項記載の結晶方位解析方法。4. The crystal orientation analysis method according to claim 3, wherein the crystal is silicon.
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8578586A JPH0672844B2 (en) | 1986-04-14 | 1986-04-14 | Crystal orientation analysis method |
| FR878701460A FR2594227B1 (en) | 1986-02-08 | 1987-02-06 | METHOD FOR DETERMINING THE ORIENTATION OF A CRYSTAL |
| US07/011,511 US4778269A (en) | 1986-02-08 | 1987-02-06 | Method for determining crystal orientation |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8578586A JPH0672844B2 (en) | 1986-04-14 | 1986-04-14 | Crystal orientation analysis method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62242842A JPS62242842A (en) | 1987-10-23 |
| JPH0672844B2 true JPH0672844B2 (en) | 1994-09-14 |
Family
ID=13868539
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8578586A Expired - Lifetime JPH0672844B2 (en) | 1986-02-08 | 1986-04-14 | Crystal orientation analysis method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0672844B2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014025793A (en) * | 2012-07-26 | 2014-02-06 | Sigma Koki Co Ltd | Method and apparatus for evaluating crystalline samples |
-
1986
- 1986-04-14 JP JP8578586A patent/JPH0672844B2/en not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 応用物理、55[1(1986)P.73−80 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62242842A (en) | 1987-10-23 |
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