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JPH0675044B2 - X-ray cotsel diffraction image automatic analyzer - Google Patents
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JPH0675044B2 - X-ray cotsel diffraction image automatic analyzer - Google Patents

X-ray cotsel diffraction image automatic analyzer

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JPH0675044B2
JPH0675044B2 JP60070186A JP7018685A JPH0675044B2 JP H0675044 B2 JPH0675044 B2 JP H0675044B2 JP 60070186 A JP60070186 A JP 60070186A JP 7018685 A JP7018685 A JP 7018685A JP H0675044 B2 JPH0675044 B2 JP H0675044B2
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JP
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diffraction
ray
cossel
memory
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千寿子 前田
征夫 井口
庸 伊藤
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川崎製鉄株式会社
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    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/20Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
    • G01N23/2055Analysing diffraction patterns

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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は微小領域の結晶方位測定試料の走査電子顕微鏡
像または光顕像を画像処理したディジタル画像に従い測
定試料を自動駆動させて各測定点のX線コッセル回折像
を逐次画像メモリに入力し、画像処理を行なったのち測
定試料のディジタル化を行なった微小領域の結晶方位を
自動的に解析し、極点図の作成、結晶方位カラーマップ
の作成をする装置に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Use) The present invention automatically drives a measurement sample in accordance with a digital image obtained by image-processing a scanning electron microscope image or a light microscope image of a crystal orientation measurement sample in a minute region to measure each measurement point. X-ray Cossel diffraction images are sequentially input to the image memory, image processing is performed, and then the crystallographic orientation of the minute area where the measurement sample is digitized is automatically analyzed, and a pole figure is created and a crystal orientation color map is created. It relates to a device for

(従来の技術) 微小領域の結晶方位を測定する手法として、走査電子顕
微鏡像(以下、SEM像という)を利用したコッセル回折
線解析手法が従来のマイクロラウエ法やエッチピット法
に代わって使用されつつある。この手法は、発明者らが
さきに特開昭55-33660号および実公昭57-47791号公報に
おいて開示したように走査型電子顕微鏡とコッセルカメ
ラとを組合わせ、結晶解析すべき微小領域に走査電子顕
微鏡用の直径数ミクロンまで絞りこんだ電子線を照射し
て、微小領域中の原子が励起されて発生したコッセル回
折線の像をコッセルカメラによって撮影するものであ
る。
(Conventional technology) As a method for measuring the crystal orientation of a minute region, a Cossel diffraction line analysis method using a scanning electron microscope image (hereinafter referred to as SEM image) is used instead of the conventional micro-laue method or etch pit method. It's starting. This method is a combination of a scanning electron microscope and a Kossel camera, as disclosed by the inventors in Japanese Patent Laid-Open No. 55-33660 and Japanese Utility Model Publication No. 57-47791. An electron beam for an electron microscope, which has been narrowed down to a few microns in diameter, is irradiated, and an image of a Kossel diffraction line generated by exciting atoms in a minute region is photographed by a Kossel camera.

しかしながら、X線フィルムを用いている都合上、装置
へのフィルムのセッティング、フィルムの現像、定着、
フィルムの解析等に時間と労力がかかり、広範囲の集合
組織に関する情報を得るのは大変困難であった。
However, because of the use of X-ray film, setting the film in the device, developing and fixing the film,
It took time and labor to analyze the film, and it was very difficult to obtain information on a wide range of textures.

上述した欠点を解決するため、発明者らは特開昭56-262
48号公報においてX線イメージインテンシファイャを用
いたX線コッセル回折像観察装置を開示した。この装置
は、従来のX線フィルムに代わって、X線イメージイン
テンシファイャの出力をディジタルデータに変換してブ
ラウン管上に表示させることができる。しかしながら、
このようにして得られるX線コッセル回折像もこのまま
では実験データとして使用することはできず、コッセル
回折像解析にあたり誤差を最小限に抑えるためにも、ま
た省力化のためにも、解析の自動化が必要不可欠のもの
であった。
In order to solve the above-mentioned drawbacks, the inventors of the present invention have disclosed JP-A-56-262
No. 48 discloses an X-ray Cossel diffraction image observation apparatus using an X-ray image intensifier. This device can replace the conventional X-ray film and convert the output of the X-ray image intensifier into digital data for display on a cathode ray tube. However,
The X-ray Cossel diffraction image obtained in this way cannot be used as it is as experimental data. In order to minimize the error in the analysis of the Cossel diffraction image and to save labor, automation of analysis is performed. Was essential.

1960年代初頭からコンピュータによる画像解析法が発達
し、X線ラウエ法や電子線回折法による回折スポットの
距離の自動測定などが行なわれてきているが、発明者ら
はX線イメージインテンシファイャに画像解析装置を接
続することによりコッセル回折線の像の方位、歪み量解
析の自動化が可能であると考え、多数のデータを高精度
にしかも短時間に処理できるものとして、特開昭60-166
847号において上述した欠点を解消し、自動的にコッセ
ル回折線の像の方位、歪み量を解析することによって、
多数のデータを高精度、短時間に処理でき誤差も少ない
X線コッセル回折像解析装置を提案した。
Computer-aided image analysis methods have been developed since the early 1960s, and automatic measurement of the distance of a diffraction spot by the X-ray Laue method or electron beam diffraction method has been performed. It is considered that it is possible to automate the analysis of the orientation of the image of the Cossel diffraction line and the amount of distortion by connecting an image analysis device, and as a device capable of processing a large amount of data with high precision and in a short time, Japanese Patent Laid-Open No. 60-166.
By eliminating the above-mentioned drawbacks in No. 847 and automatically analyzing the orientation and distortion amount of the image of the Kossel diffraction line,
We proposed an X-ray Cossel diffraction pattern analyzer that can process a large amount of data with high accuracy and in a short time with few errors.

このX線コッセル回折像解析装置は、 X線イメージインテンシファイャとその出力を記憶する
イメージメモリとイメージメモリに記憶したデータを読
出して信号処理を行なう信号処理装置とよりなり、X線
イメージインテンシファイャにコッセル回折線を投射し
て得たデータを信号処理することによってコッセル回折
線をディジタル画像として観察可能ならしめるX線コッ
セル回折像観察装置において、 コッセル回折線上における画面上の原点からの最短距離
部を求めるために必要な処理を行なう画像処理装置と、
最短距離部におけるコッセル回折線の線幅および曲率を
求める画像解析装置と、求めたコッセル回折線の線幅お
よび曲率から歪み量および結晶方位を求める換算装置
と、求めた歪み量および結晶方位をを表示する表示装置
とを具えるものである。
This X-ray Cossel diffraction image analyzer comprises an X-ray image intensifier, an image memory for storing its output, and a signal processing device for reading out the data stored in the image memory and performing signal processing. In the X-ray Cossel diffraction image observation device that makes it possible to observe the Cossel diffraction line as a digital image by processing the data obtained by projecting the Cossel diffraction line on the ear, the shortest distance from the origin on the screen on the Cossel diffraction line An image processing device that performs a process necessary to obtain a copy;
The image analysis device for obtaining the line width and curvature of the Cossel diffraction line at the shortest distance portion, the conversion device for obtaining the strain amount and crystal orientation from the obtained line width and curvature of the Cossel diffraction line, and the obtained strain amount and crystal orientation And a display device for displaying.

(発明が解決しようとする問題点) しかしながら、このX線コッセル回折像解析装置では、 (1)結晶粒個々の測定位置への駆動は光顕像またはSE
M像に従いマニュアル操作で行なうため、測定の完全自
動化が行なえない。また、 (2)ディジタル化されたX線コッセル回折像から解析
して出力される表示は、コッセル回折ディジタル像から
任意に抽出したステレオ投影による(hkl)極点が求め
られるだけであり、これのみでは、結晶方位の記述とし
て完全であるとはいえない。
(Problems to be solved by the invention) However, in this X-ray Cossel diffraction image analyzer, (1) driving of each crystal grain to a measurement position is performed by an optical microscope or SE
Since it is performed manually according to the M image, the measurement cannot be fully automated. In addition, (2) the display that is analyzed and output from the digitized X-ray Cossel diffraction image only finds the (hkl) pole point by stereo projection arbitrarily extracted from the Kossel diffraction digital image, and this alone However, it cannot be said that the description of the crystal orientation is perfect.

すなわち微小領域に存在する結晶粒個々の結晶方位を自
動的に測定し、結果を明解に表示する(たとえば金属組
織のマップ化)という最終的な要求を実現させるため
に、解決しなければならない問題点である。
In other words, the problems that must be solved in order to realize the final requirement of automatically measuring the crystal orientation of each crystal grain existing in a minute region and displaying the result clearly (for example, mapping of the metal structure). It is a point.

(問題点を解決するための手段) 1980年代に入り、画像処理・解析装置は、これまでのよ
うな汎用コンピュータでなくパソコンを用いた専用のプ
ロセッサーの導入により、データ処理が高速化し、かつ
現場に即したソフトプログラムが組めるようになったた
め、工業、通信、医療、商業などの分野で幅拡く活用さ
れるようになり、またメモリーの大容量化にともない異
なる種類の入力データを並行して処理、解析できる(マ
ルチメモリーチャンネル)ほかカラー画像メモリを設け
ることができ、処理、解析結果をカラー表示することも
可能となった。
(Means for solving problems) In the 1980s, the image processing / analyzing device was introduced to the dedicated processor using a personal computer instead of a general-purpose computer as in the past, resulting in faster data processing, and at the site. Since it has become possible to compose software programs suitable for the above, it can be widely used in fields such as industry, communication, medical care, and commerce, and different types of input data can be processed in parallel with the increase in memory capacity. In addition to being able to process and analyze (multi-memory channel), a color image memory can be provided, and the result of processing and analysis can be displayed in color.

発明者らは、前掲の特開昭56-26248号公報に開示したX
線コッセル回折像観察装置に上述のマルチメモリーチャ
ンネルシステムを導入した画像処理/解析専用のイメー
ジプロセッサー、オートフォーカス/ステージコントロ
ーラおよびカラーディスプレィ装置(CRT,プリンター
等)を接続することにより電子線の逐次自動照射、極点
図の自動作成およびカラーマッピング可能なX線コッセ
ル回折像自動解析装置を開発した。
The inventors disclosed the X disclosed in the above-mentioned JP-A-56-26248.
Sequential automatic emission of electron beam by connecting image processor / autofocus / stage controller and color display device (CRT, printer, etc.) for image processing / analysis in which the above-mentioned multi-memory channel system is introduced to the line-COSSEL diffraction image observation device We have developed an automatic X-ray Cossel diffraction image analyzer that can perform irradiation, automatically create pole figures, and perform color mapping.

すなわちこの発明は、X線イメージインテンシファイヤ
とその出力を記憶するイメージメモリとイメージメモリ
に記憶したデータを読出して信号処理を行なう信号処理
装置とよりなるX線コッセル回折像観察装置と、コッセ
ル回折線上における画面上の原点からの最短距離部を求
める画像処理装置と、最短距離部におけるコッセル回折
線の曲率を求める画像解析装置と、求めたコッセル回折
線の曲率から結晶方位を求める換算装置と、求めた結晶
方位を表示する表示装置とより成るX線コッセル回折像
解析装置において、 試料の結晶組織を検出する光学顕微鏡像検出装置3と、 試料から散乱される反射電子線によるSEM像を検出するS
EM像検出装置4と、 これら光学顕微鏡像、SEM像並びにX線コッセル回折像
の信号を処理、変換する入力インターフェース5と、 画像データを記憶する濃淡画像メモリ、結晶粒界の2値
化データを記憶する2値化メモリおよびカラー画像デー
タを記憶するカラーメモリより成る画像メモリ6−1
と、X線コッセル回折像を2値化し、結晶方位解析を行
う画像処理/回折専用CPU6−2と結晶方位測定座標を入
力し全システムの起動および制御を行なう制御/編集専
用CPU6−3とより成るイメージプロセッサ6と、 該制御/編集専用CPU6−3の出力信号により、X線コッ
セル回折像観察装置1内の試料位置を移動させ、かつ、
電子銃の起動停止を自動的に行なうステージ駆動/電子
銃起動停止装置9と、 カラー画像を表示するカラーディスプレイ装置8と、 極点図を作成するプロッターと を具えることを特徴とするX線コッセル回折像自動解析
装置である。
That is, the present invention relates to an X-ray image intensifier, an X-ray Kossel diffraction image observation apparatus including an image memory for storing the output thereof, and a signal processing apparatus for reading out the data stored in the image memory and performing signal processing, and the Kossel diffraction image observation apparatus. An image processing device for obtaining the shortest distance portion from the origin on the screen on the line, an image analysis device for obtaining the curvature of the Cossel diffraction line at the shortest distance portion, and a conversion device for obtaining the crystal orientation from the obtained curvature of the Cossel diffraction line, In an X-ray Cossel diffraction image analyzer comprising a display device for displaying the obtained crystal orientation, an optical microscope image detection device 3 for detecting the crystal structure of the sample, and an SEM image by the reflected electron beam scattered from the sample are detected. S
An EM image detection device 4, an input interface 5 for processing and converting the signals of these optical microscope image, SEM image and X-ray Cossel diffraction image, a grayscale image memory for storing image data, and binary data of grain boundaries. Image memory 6-1 comprising a binary memory for storing and a color memory for storing color image data
And the image processing / diffraction CPU6-2 for binarizing the X-ray Cossel diffraction image and crystal orientation analysis, and the control / editing dedicated CPU6-3 for starting and controlling the entire system by inputting crystal orientation measurement coordinates. The image processor 6 and the output signal of the control / editing dedicated CPU 6-3 move the sample position in the X-ray Cossel diffraction image observation apparatus 1, and
An X-ray cossel comprising a stage drive / electron gun start / stop device 9 for automatically starting and stopping the electron gun, a color display device 8 for displaying a color image, and a plotter for making a pole figure. This is an automatic diffraction image analyzer.

以下に図面を参照してこの発明の構成を、より詳細に説
明する。
Hereinafter, the configuration of the present invention will be described in more detail with reference to the drawings.

第1図はこの発明のX線コッセル回折像観察装置のブロ
ックダイヤグラムの一例であり、第1図において、X線
コッセル回折像観察装置1の本体内部の電子銃1−1を
出射した電子線は、収束レンズ1−2、対物レンズ1−
3を介して試料1−4上の微小領域に焦点を結ぶ。試料
1−4はこの電子線の照射により励起され、特性X線
(コッセル線)を放出する。
FIG. 1 is an example of a block diagram of the X-ray Cossel diffraction image observation apparatus of the present invention. In FIG. 1, the electron beam emitted from the electron gun 1-1 inside the main body of the X-ray Cossel diffraction image observation apparatus 1 is , Convergent lens 1-2, objective lens 1-
Focus on a microscopic area on the sample 1-4 through 3. The sample 1-4 is excited by the irradiation of this electron beam and emits a characteristic X-ray (Cossel line).

このX線が々試料1−4によって回折される結果回折X
線は種々な円錐面を作り、これらの円錐面のある平面に
おける断面がX線コッセル回折像となる。
As a result of the X-ray being diffracted by each of the samples 1-4, the diffraction X
The lines form various conical surfaces, and the cross section in the plane with these conical surfaces becomes the X-ray Kessel diffraction pattern.

X線コッセル回折像はX線イメージインテンシファイャ
1−5の受像面に設けられた高感度X線センサー1−5
−1上に形成される。
The X-ray Cossel diffraction image is a high-sensitivity X-ray sensor 1-5 provided on the image receiving surface of the X-ray image intensifier 1-5.
-1 is formed.

X線コッセル回折像の解析の簡便のため、通常、このX
線イメージインテンシファイャ1−5の受像面は測定試
料面と平行に、試料の下方(透過コッセル法)か又は上
方(反射コッセル法)に設置される。
In order to simplify the analysis of X-ray Cossel diffraction images, this X-ray is usually used.
The image receiving surface of the line image intensifier 1-5 is installed parallel to the measurement sample surface, below the sample (transmission cossel method) or above the sample (reflection cossel method).

上述した電子銃1−1からX線イメージインテンシファ
イャ1−5までの部分は真空容器中に置かれる。
The parts from the electron gun 1-1 to the X-ray image intensifier 1-5 described above are placed in a vacuum container.

結晶組織の2値化画像処理は第1図における矢印にそ
って行なわれる。測定試料1−4の結晶組織は光学顕微
鏡像検出装置3の光学顕微鏡3−1に、高感度撮像素子
を備えた撮像管、この場合はテレビカメラ3−2を接続
することにより画像処理/解析専用のイメージプロセッ
サー6に入力されるほか、測定試料1−4から散乱され
る反射電子線によるSEM像をSEM像検出装置4の検出器4
−1で検出し、スキャニングコンバータ4−2を通して
イメージプロセッサー6に入力される。
The binary image processing of the crystal structure is performed along the arrow in FIG. The crystal structure of the measurement sample 1-4 is image-processed / analyzed by connecting the optical microscope 3-1 of the optical microscope image detection device 3 to an image pickup tube equipped with a high-sensitivity image pickup device, in this case, a television camera 3-2. In addition to being input to the dedicated image processor 6, the SEM image by the reflected electron beam scattered from the measurement sample 1-4 is detected by the detector 4 of the SEM image detecting device 4.
It is detected by -1 and input to the image processor 6 through the scanning converter 4-2.

なお、これらSEM像および光顕像のイメージプロセッサ
ー6への入力は入力インターフェース5により必要な信
号処理、A/D変換等を行なう。
Input of these SEM images and optical microscope images to the image processor 6 is performed by the input interface 5 as necessary signal processing, A / D conversion and the like.

画像処理/解析専用のイメージプロセッサー6は画像メ
モリ6−1、画像処理/解析専用CPU6−2、制御、編集
用CPU6−3から構成される。
The image processor 6 dedicated to image processing / analysis comprises an image memory 6-1, a CPU 6-2 dedicated to image processing / analysis, and a CPU 6-3 for control and editing.

このうち、画像メモリ6−1は、濃淡画像メモリ、2値
化画像メモリ、カラー専用メモリ等に分かれており、メ
モリ容量を大きくして複数の画像を並行に入力すること
ができる。(マルチメモリーチャンネル)。
Of these, the image memory 6-1 is divided into a grayscale image memory, a binarized image memory, a color dedicated memory, etc., and it is possible to increase the memory capacity and input a plurality of images in parallel. (Multi-memory channel).

画像処理/解析専用CPU6−2は、画像メモリ6−1に貯
えられた画像に各種処理(例えば、空間フィルタ、濃淡
階調変換、2値化、マスキング、領域分割等)を行なっ
たのち、処理画像の解析(例えば、画像間演算、特徴抽
出、計測、数値解析等)を行なう。
The image processing / analysis-dedicated CPU 6-2 performs various kinds of processing (for example, spatial filter, grayscale conversion, binarization, masking, area division, etc.) on the image stored in the image memory 6-1 and then performs the processing. Image analysis (for example, calculation between images, feature extraction, measurement, numerical analysis, etc.) is performed.

制御、編集専用CPU6−3は、この発明のX線コッセル回
折像自動解析装置のシステム全体の起動や制御を行ない
外部記憶装置群11や、外部入力装置群12を接続すること
により必要に応じて画像メモリ6−1のデータをディス
クに保存したり、プログラムを作成したり、グラフィツ
クターミナルやディジタイザーを用いてシステム全体へ
の制御を行なうことができる。
The CPU 6-3 for exclusive use in control and editing performs activation and control of the entire system of the X-ray Cossel diffraction image automatic analyzer of the present invention, and connects the external storage device group 11 and the external input device group 12 as necessary. The data in the image memory 6-1 can be stored in a disk, a program can be created, and the entire system can be controlled using a graphics terminal or a digitizer.

イメージプロセッサー6に入力された結晶組織画像は、
外部入力装置群12のディジタイザーやライトペン等を用
いて対話による画像処理を行なったのち、粒界だけの2
値化画像として出力され、外部記憶装置群11に記憶させ
るとともに出力インターフェース7を通してディスプレ
イ群8のCRT上に表示される。
The crystal structure image input to the image processor 6 is
After performing image processing by dialogue using the digitizer or light pen of the external input device group 12,
It is output as a binarized image, stored in the external storage device group 11, and displayed on the CRT of the display group 8 through the output interface 7.

次に試料ステージ駆動ならびに電子線照射の自動化の機
構について述べる。
Next, a mechanism for driving the sample stage and automating electron beam irradiation will be described.

電子線の照射位置(結晶方位の測定位置)は、外部入力
装置群12によりCRT上の2値化画面に直接指示するが、
各結晶粒の重心位置とし、さらに結晶粒と出力データ、
(結晶方位と、そのカラー画像)との対応をつめるため
に測定する結晶粒のラベル付けを行なう。
The electron beam irradiation position (crystal orientation measurement position) is directly indicated on the binarized screen on the CRT by the external input device group 12,
The position of the center of gravity of each crystal grain, the crystal grain and output data,
The crystal grains to be measured are labeled in order to make a correspondence between (crystal orientation and its color image).

すなわち、1面がixj画素の画像メモリの第1面には結
晶粒のラベルを示すラベルナンバーnが入り、第2面に
は試料ステージ、焦点合わせ、および電子線の照射(YE
S/NO)を示す発信信号(1/0)が入る。
That is, the label number n indicating the label of the crystal grain is entered on the first surface of the image memory of which one surface is ixj pixels, and the second surface is provided with the sample stage, focusing, and electron beam irradiation (YE
An outgoing signal (1/0) indicating S / NO) is input.

たとえば、(i,j)画素および横同列の(i+3,j)画素
のラベルナンバーおよび発信信号がそれぞれ(m,1)お
よび(m,0)であるとすれば、(i,j)画素と(i+3,
j)画素は同じ結晶粒に属するが、電子線照射は前者の
位置においてだけ行なわれる。電子線照射を示す発信信
号は制御、編集専用CPU6−3を通りステージ駆動/電子
銃起動停止装置9のオートフォーカス/ステージコント
ローラ9−1に伝えられ、3軸(X−Y−Z)用パルス
モータ9−2によりX線コッセル回折像観察装置1の試
料ステージ1−8を駆動させ、電子線プローブをCRTの
(i,j)画素で指示した位置にあわせる。
For example, if the label numbers of the (i, j) pixel and the (i + 3, j) pixel in the same row and the transmitted signals are (m, 1) and (m, 0), respectively, (I + 3,
j) Pixels belong to the same crystal grain, but electron beam irradiation is performed only at the former position. The transmission signal indicating the electron beam irradiation is transmitted to the autofocus / stage controller 9-1 of the stage drive / electron gun starting / stopping device 9 through the CPU6-3 dedicated to control and editing, and is a pulse for three axes (XYZ). The sample stage 1-8 of the X-ray Cossel diffraction image observation apparatus 1 is driven by the motor 9-2, and the electron beam probe is aligned with the position designated by the (i, j) pixel of the CRT.

さらにこの信号は電子線発生、制御用高圧電源部9−3
に伝えられることにより電子銃1−1のON/OFFが行なわ
れる。
Further, this signal is a high voltage power source 9-3 for electron beam generation and control.
The electronic gun 1-1 is turned on / off by being transmitted to the.

(作用) X線イメージインテンシファイャ1−5の受像面に形成
されたX線コッセル回折像の画像解析について述べる。
(Operation) The image analysis of the X-ray Kossel diffraction image formed on the image receiving surface of the X-ray image intensifier 1-5 will be described.

X線コッセル回折像は第1図の矢印 にそって結晶方位解析が行なわれる。The X-ray Cossel diffraction image is the arrow in Fig. 1. The crystal orientation analysis is carried out along with.

すなわち、X線コッセル回折像はX線イメージインテン
シファイャ1−5の受像面に設けられた高感度X線セン
サー1−5−1に検知され、電気信号として入力インタ
ーフェース5に入力される。ここで信号レベル処理、X
線センサー1−5−1のファイバーとイメージプロセッ
サー6の画像メモリ6−1の容量(1画面の画素数)の
マッチング、A/D変換等を行なったのち、矢印 にそってイメージプロセッサーの画像メモリ6−1に入
力される。
That is, the X-ray Cossel diffraction image is detected by the high-sensitivity X-ray sensor 1-5-1 provided on the image receiving surface of the X-ray image intensifier 1-5, and is input to the input interface 5 as an electric signal. Signal level processing, X
After matching the fiber of the line sensor 1-5-1 and the capacity of the image memory 6-1 of the image processor 6 (the number of pixels of one screen), A / D conversion, etc., the arrow Then, the image data is input to the image memory 6-1 of the image processor.

この入力画像は生データとして従来のX線フィルム上に
うつるそれに相当するので、画像処理が行なわれる前に
ディスプレイ群8のディスクに保存されるとともに必要
に応じてCRTに表示し、カメラにより撮影する。
Since this input image is equivalent to that transmitted on a conventional X-ray film as raw data, it is stored in the disk of the display group 8 before image processing is performed, and is displayed on the CRT as necessary and photographed by the camera. .

画像メモリ6−1に入力されたX線コッセル回折像の原
画像データは標準試料にもとづいて画像解析に必要な画
像処理が行なわれる。X線コッセル回折像は電子線のプ
ローブ径、X線発生源の形状およびエバルト球面の平面
写像により回折線の線幅、強度は一定とはならない。
The original image data of the X-ray Cossel diffraction image input to the image memory 6-1 is subjected to image processing necessary for image analysis based on the standard sample. In the X-ray Cossel diffraction image, the line width and the intensity of the diffraction line are not constant due to the probe diameter of the electron beam, the shape of the X-ray generation source, and the plane map of the Ewald spherical surface.

このため、あらかじめ標準試料を用いて解析に必要な前
処理(たとえば階調の変換、ノイズカット)を行なわせ
るためのプログラムを作成し制御/編集専用CPUに入力
しておく。このプログラムの指示に従いX線コッセル回
折像は画像処理/解析専用CPU6−2で2値化され、結晶
方位解析が行なわれる。
For this reason, a program is prepared in advance using a standard sample to carry out preprocessing (eg, gradation conversion, noise cut) necessary for analysis and is input to the control / edit dedicated CPU. According to the instructions of this program, the X-ray Cossel diffraction image is binarized by the image processing / analysis dedicated CPU 6-2, and the crystal orientation analysis is performed.

コッセル回折像から結晶方位を決定する方法はFerranら
による方法(G.Ferran & R.A.Wood :J.Appl.Cryst.vo
l.3(1970))を使用する。すなわち、試料に垂直に電
子ビームを照射すると、試料内で洋梨型の特性X線が発
生し、これが試料内を通過するにあたりその結晶格子に
よりブラッグ回折をおこしX線発生源を頂点とする回折
円錐が形成される。この像はX線発生源から垂直方向に
l離れたX線イメージインテンシファイャ1−5の水平
な受像面1−5−1上では(1)式で示される2次曲線
として近似される。
The method for determining the crystal orientation from the Cossel diffraction image is the method by Ferran et al. (G. Ferran & RAWood: J.Appl.Cryst.vo.
l.3 (1970)) is used. That is, when a sample is vertically irradiated with an electron beam, a pear-shaped characteristic X-ray is generated in the sample, and when the sample passes through the sample, Bragg diffraction is caused by its crystal lattice and a diffraction cone with the X-ray generation source as an apex. Is formed. This image is approximated as a quadratic curve represented by the equation (1) on the horizontal image receiving surface 1-5-1 of the X-ray image intensifier 1-5 which is vertically away from the X-ray generation source by l.

ここで は受像面1−5−1と平行な試料面(圧延面)上の直交
座標系で 軸は試料面と(hkl)回折面の交線である。θhklは(hk
l)回折面のブラッグ角、またγは(hkl)回折面と、試
料面のなす角である。(hkl)正極点図は試料座標系x
−y−z(x軸=R.D.y軸=T.D.z軸=N.D.)を基準とし
た場合の結晶座標系X−Y−Z(立方晶の場合は単位格
子ベクトルに相当)の記述で、すべての{hkl}面法線
のステレオ投影点として表わされる。
here Is an orthogonal coordinate system on the sample surface (rolling surface) parallel to the image receiving surface 1-5-1. The axis is the line of intersection between the sample plane and the (hkl) diffraction plane. θhkl is (hk
l) Bragg angle of the diffractive surface, and γ is the angle between the (hkl) diffractive surface and the sample surface. (Hkl) Positive pole diagram is sample coordinate system x
-Y-z (x-axis = RDy-axis = TDz-axis = ND) is the description of the crystal coordinate system X-Y-Z (corresponding to the unit cell vector in the case of cubic), all {hkl } It is represented as a stereo projection point of the surface normal.

すなわち、(1)式の 座標系と、試料座標系x−yの回転角φ( とzは一致している。)と、γの値を求めることにより
(hkl)極点が決定される。
That is, in equation (1) Rotation angle φ (of coordinate system and sample coordinate system xy And z are in agreement. ) And the value of γ, the (hkl) pole is determined.

(1)式で についてとくと は(2)式の となる。In equation (1) About Of (2) Becomes

この は、原点から(hkl)回折線までの最短距離に相当す
る。この点をpとし、x−y座標系における点pの座標
を(xp,yp)、点pにおける(hkl)回折線の曲率をξp
とおくと、γおよびφは(3)および(4)式から求め
られる。(ただし (3)式によればγを決定するためには任意に選択した
回折線の回折面指数(hkl)を判別しなければならな
い。例えば、α鉄のコッセル回折線の場合、ブラッグ条
件を満足する回折面は{200},{110}{211},{22
0}の4種類に限られる。点pにおける回折線の曲率ξp
は、 であるから、γについての各θhklのルックアップテー
ブルを作成しておけばξpを測定することにより(hkl)
の判別を行なうことができる。
this Is the shortest distance from the origin to the (hkl) diffraction line. Let this point be p, the coordinates of the point p in the xy coordinate system are (x p , y p ), and the curvature of the (hkl) diffraction line at the point p is ξ p
In other words, γ and φ can be obtained from equations (3) and (4). (However According to the equation (3), in order to determine γ, the diffractive surface index (hkl) of the arbitrarily selected diffracted line must be discriminated. For example, in the case of α iron Cossel diffraction line, the diffraction planes that satisfy the Bragg condition are {200}, {110} {211}, and {22}.
0} only. Curvature of diffraction line at point p ξ p
Is Therefore, if a lookup table for each θhkl for γ is created, by measuring ξ p (hkl)
Can be determined.

次に、画像解析により決定された任意の(hkl)回折線
の(γ,φ)から(hkl)極点図を作成する方法につい
て述べる。
Next, a method of creating a (hkl) pole figure from (γ, φ) of an arbitrary (hkl) diffraction line determined by image analysis will be described.

ステレオ投影によれば回折面法線を示す(hkl)極点は
第2図の点Aで表わされる。すなわち、点AはR.D.から
時計まわりにφ回転した 軸上の (tは極点図の半径)を満たす点である。
According to the stereo projection, the (hkl) pole point showing the diffractive surface normal is represented by the point A in FIG. That is, point A has rotated φ clockwise from RD. On axis (T is the radius of the pole figure).

(hkl)極点図は空間的に等価な{hkl}の組み合わせの
すべての極点を、示す必要があるが、結晶の回転対称性
から{200}極点であれば2点{110}極点であれば3点
が決まれば残りのすべての極点の位置が決定できる。
The (hkl) pole figure needs to show all the poles of spatially equivalent combinations of {hkl}, but from the rotational symmetry of the crystal, if it is the {200} pole, if it is the {110} pole, If three points are decided, the positions of all remaining poles can be decided.

(200)極点図の作成例を第3図に示す。An example of creating a (200) pole figure is shown in FIG.

点A,点Bは、コッセル回折線から求めた(200)および
(002)極点でそれぞれの測定値は(γA,φA)および
(γB,φB)である。これら2点から点C(γC,φC
を決定する。
Points A and B are (200) and (002) poles obtained from the Cossel diffraction line, and their measured values are (γ A , φ A ) and (γ B , φ B ). From these two points, point C (γ C , φ C )
To decide.

2点A,Bを通る晶帯軸(大円のステレオ投影)はOAB面
と、圧延面の交線ROSに垂直な によりRAQBSと決まる。点Q(γOO)とすれば のなす角度φ1′はステレオ投影による角度∠AOQにより
(6)式で表わされる。
The zone axis passing through the two points A and B (the stereo projection of the great circle) is perpendicular to the intersection line ROS between the OAB surface and the rolling surface. Is decided as RAQBS. If the point is Q (γ O , φ O ), When The angle φ 1 ′ formed by is expressed by the equation (6) by the angle ∠AOQ by stereo projection.

ステレオ投影では、一般に(8),(9)式が成立す
る。
In stereo projection, the equations (8) and (9) generally hold.

tanγO=tanγAcos(φOA)…(8) tanγO=tanγBcos(φBO)…(9) (8),(9)式を(6),(7)式に代入し、 のなす角度 であるから、γOは(10)式から計算できる。tan γ O = tan γ A cos (φ OA ) ... (8) tan γ O = tan γ B cos (φ BO ) ... (9) Equations (8) and (9) are represented by (6) and (7). Substituting into the expression, Angle formed by Therefore, γ O can be calculated from equation (10).

これを(8)または(9)式に代入すれば、φOが(1
1)式により計算できる。
By substituting this into equation (8) or (9), φ O becomes (1
It can be calculated by the formula 1).

いずれにも垂直な とも垂直でありかつ∠QOC=πあるから、点Cは(1
2),(13)式により決定される。
Vertical to both Since both are vertical and ∠QOC = π, the point C is (1
It is determined by equations (2) and (13).

この(200)極点図から(110)極点図への変換は、点A
とB,点BとC,点CとAの各晶帯軸を(6)〜(11)式よ
り求め、{200}面と{110}面の面間角度 ならびに{110}面と{110}面の面間角度 の関係から表示に必要な6つの{110}極点を決定する
ことができる。
The conversion from this (200) pole figure to the (110) pole figure is point A
And B, points B and C, and points C and A, the crystal zone axes are obtained from equations (6) to (11), and the interplane angle between the {200} plane and the {110} plane And the angle between {110} and {110} planes The six {110} poles required for display can be determined from the relationship of.

次に、正極点図から逆極点図への変換について説明す
る。
Next, the conversion from the positive pole figure to the reverse pole figure will be described.

一般にBCC結晶系の場合は(200)正極点図からN.Dおよ
びR.D.の逆極点図への変換が容易である。第3図の(20
0)正極点図からN.DおよびR.D.の逆極点図の作成例を第
4図(i)および(ii)に示す。
Generally, in the case of BCC crystal system, it is easy to convert the (200) positive pole figure to the reverse pole figure of ND and RD. In Fig. 3, (20
0) An example of creating a reverse pole figure of ND and RD from a positive pole figure is shown in FIGS. 4 (i) and (ii).

逆極点図は、(200)正極点図を(200)標準投影図に合
致するように、等角回転させたときのN.DとR.D.(第4
図点NおよびR)の座標で表されるが、通常は、空間的
に等価な48個の{001}−{011}−{111}ステレオ三
角形のうち、原点にいちばん近いもので代表させる。こ
のため、N.DとR.D.では移動経路が異なる。まずはじめ
にN.D逆極点図の作成法について説明する。
The inverse pole figure shows ND and RD (4th) when the (200) positive pole figure is rotated equiangularly so as to match the (200) standard projection.
It is represented by the coordinates of the drawing points N and R), but is usually represented by the one of the 48 spatially equivalent {001}-{011}-{111} stereo triangles that is closest to the origin. Therefore, the travel route is different between ND and RD. First, the method of creating the ND inverse pole figure will be described.

3つの{200}極点のうち、N.Dすなわち第3図の原点O
に一番近いものを原点まで、回転移動させる。第3図で
であるから第4図(i)に示すように点Cは原点C′に
移る。点A,点Bおよび点O(N.D)は、それぞれ回転軸
のまわりに等角移動し、点A′,点B′および点Nとな
る。点Nを含むステレオ三角形において、点Nは、(1
4),(15)式で決る▲▼で表示される。
Of the three {200} poles, ND, that is, the origin O in FIG.
Rotate the closest one to the origin. In Figure 3 Therefore, the point C moves to the origin C'as shown in FIG. 4 (i). Point A, point B, and point O (ND) are moved equiangularly around the rotation axis to become point A ′, point B ′, and point N, respectively. In a stereo triangle containing the point N, the point N is (1
Displayed with ▲ ▼ determined by Eqs. 4) and (15).

次にR.D.逆極点図の作成法について説明する。 Next, a method of creating the RD inverse pole figure will be described.

3つの{200}極点のうちR.D.に一番近いものすなわち
第3図の点Aを原点まで回転移動させ点Aとする。点B,
点CおよびR.D.はそれぞれ回転軸のまわりの等角移動に
より点B″,点C″および点Rとなる。∠RA″Aおよび
∠AA″C″(第4図θ1およびθ2)は、(16),(17)
式となる。
Of the three {200} poles, the one closest to RD, that is, the point A in FIG. 3 is rotationally moved to the origin to be the point A. Point B,
Points C and RD become points B ″, C ″, and R, respectively, by conformal movement about the axis of rotation. ∠RA ″ A and ∠AA ″ C ″ (Fig. 4, θ 1 and θ 2 ) are (16), (17)
It becomes an expression.

点Rを含むステレオ三角形において点Rは(18),(1
9)式で決まる で表示される。
In the stereo triangle including the point R, the point R is (18), (1
9) determined by Is displayed.

以上のような演算から求めた解析結果は、コッセル回折
像、測定値とともにディスクに保存され、かつ必要に応
じてプロッターにより正、逆極点図の作図が行なわれ
る。
The analysis result obtained from the above calculation is stored in the disk together with the Cossel diffraction image and the measured value, and if necessary, the plotter plots the forward and reverse pole figures.

次に金属組織の結晶方位によるカラーマップの作成法に
ついて説明する。
Next, a method of creating a color map based on the crystal orientation of the metal structure will be described.

このカラーマップは金属の集合組織を正しく明解に表示
することができ、とくに結晶方位の優先形成状況(たと
えば方向性珪素鋼の2次再結晶核形成状況、冷延鋼板の
{111}集合組織形成状況、熱延集合組織の板厚内不均
一性、等)を詳細かつ正確に把握することが可能とな
る。
This color map can accurately and clearly display the texture of metal, especially the preferential formation of crystal orientation (eg, secondary recrystallization nucleation of grain-oriented silicon steel, {111} texture formation of cold-rolled steel sheet). The situation, the non-uniformity within the plate thickness of the hot rolled texture, etc.) can be grasped in detail and accurately.

CRT上のカラーディスプレィはイメージプロセッサー内
の画像メモリーに設けられているR(赤)、G(緑)、
B(青)の3面から構成されるカラーメモリーに通常の
濃淡画像と同様、個々の灰調レベルを入力し、重ね合わ
せることにより混色が行なわれる。これによればRGB個
々の灰調レベル数がそれぞれ256であれば、2563色の表
示が可能である。
The color display on the CRT is R (red), G (green), which is provided in the image memory in the image processor.
Similar to a normal grayscale image, each gray level is input to the color memory composed of three B (blue) planes, and the colors are mixed to superimpose colors. According to this, if each gray level of each RGB is 256, 256 3 colors can be displayed.

結晶方位のカラー表示法としては、R,G,Bの三原色をそ
れぞれ逆極点図の基本ステレオ三角形の{011},{11
1},{001}極点に配し、それぞれの頂点からの角度を
灰調レベルとして混色を行なう。すなわち、ステレオ三
角形内の任意の点Pの座標を(ω,φ)とすれば(ω:
緯度、φ:経度)点Pにおける色関数 は(20)式で表わされる。
As a color display method of crystal orientation, the three primary colors of R, G, and B are {011} and {11} of the basic stereo triangle of the inverse pole figure, respectively.
1}, {001} poles are placed, and the angle from each vertex is used as the gray level to perform color mixing. That is, if the coordinates of an arbitrary point P in the stereo triangle are (ω, φ), (ω:
Latitude, φ: longitude) Color function at point P Is expressed by equation (20).

ここで C=1−(a+b) R=Rad・G=Green・B=Blueの原色a・b・cはR・
G・Bの灰調レベル N.Dを表示する場合、点Pは第4図の点Nに相当するの
で、(14),(15)式から、 (21),(22)式から点N(ω,φ)を求め(20)式の
a,b,cを計算することにより が決定される。
here C = 1- (a + b) R = Rad ・ G = Green ・ B = Blue primary colors a ・ b ・ c are R ・
When displaying the gray level ND of G and B, the point P corresponds to the point N in FIG. 4, so from equations (14) and (15), The point N (ω, φ) is calculated from equations (21) and (22), and
by computing a, b, c Is determined.

同様に、R.D.を表示する場合は点Pが第4図の点Rに相
当するので、(16)〜(19)式から、 (23),(24)式から点R(ω,φ)を求め、(20)式
のa,b,cを計算することにより が決定される。
Similarly, when displaying RD, since point P corresponds to point R in FIG. 4, from equations (16) to (19), By calculating the point R (ω, φ) from equations (23) and (24) and calculating a, b, and c in equation (20), Is determined.

このように決定された (a,b,c)および (a,b,c)はN.D.およびR.D.のR,G,B各3面存在するカラ
ー画像メモリの結晶方位を測定した結晶粒に対応する画
素領域にa,b,cが並列に入力される。1つの測定領域に
つき、これらR,G,B個々のカラー画面と、結晶粒界の2
値化画面をカラーCRT上で重ね合わせることにより結晶
方位のカラーマップが作成される。
Thus determined (A, b, c) and (A, b, c) are a, b, and c input in parallel to the pixel area corresponding to the crystal grain of the crystal orientation of the color image memory with three faces of R, G, and B of ND and RD. . Each R, G, B color screen and 2 of grain boundaries per measurement area
A color map of crystal orientation is created by superimposing the digitized screen on the color CRT.

以上要するに、走査電子顕微鏡の構成を用い、X線イメ
ージインテンシファイャとその画像を記憶/処理/解析
するためのイメージプロセッサーと解析後の画像を表示
するためのディスプレィ装置から構成されるX線コッセ
ル回折像解析装置にして、イメージプロセッサーの画像
メモリがX線イメージインテンシファイャからの出力を
記憶する以外に走査像と光学顕微鏡像をスキャニングコ
ンバータまたは撮像管を通して入力記憶することができ
るマルチチャンネルシステムであり、金属組織を画像処
理後、ディスプレイ装置に出力したディジタル画像を用
いて結晶方位測定座標をイメージプロセッサーの編集/
制御専用CPUに入力することによりオートフォーカス/
ステージコントローラで試料ステージを駆動させて焦点
と試料位置を自動制御し、さらに高圧制御により電子線
のON/OFFを自動的に行なうことにより、逐次入力される
コッセル回折像を2値化し、原点から2本または3本の
200まは110回折線におろした垂線の足の座標と、この点
における回折線の曲率を計測することにより(hkl)正
極点図とN.D.逆極点図とR.D.逆極点図と金属組織の2値
化画像を用いたN.D.とR.D.の逆極点による結晶方位のカ
ラーイメージをイメージプロセッサーで自動的に解析し
たのち、プロッター、カラーCRTを含むディスプレイ装
置に測定データとともに解析データと、極点図とカラー
マップを表示する。
In short, the configuration of the scanning electron microscope is used to construct an X-ray image intensifier, an image processor for storing / processing / analyzing the image, and a display device for displaying the image after the analysis. In a multi-channel system that can be used as a diffraction image analysis device, in which the image memory of the image processor stores the output from the X-ray image intensifier, and the scanning image and the optical microscope image can be input and stored through the scanning converter or the image pickup tube. Yes, after processing the image of the metallographic structure, edit the crystal orientation measurement coordinates of the image processor using the digital image output to the display device.
By inputting to the control CPU, auto focus /
By driving the sample stage with the stage controller, the focus and sample position are automatically controlled, and the electron beam is automatically turned ON / OFF by the high voltage control, so that the sequentially input Cossel diffraction image is binarized, and from the origin Two or three
By measuring the coordinates of the foot of the perpendicular line drawn on the 200 or 110 diffraction line and the curvature of the diffraction line at this point, (hkl) positive pole figure, ND reverse pole figure, RD reverse pole figure, and binary metallographic structure After automatically analyzing the color image of the crystal orientation by the opposite poles of ND and RD using the digitized image with the image processor, display the measurement data together with the analysis data, the pole figure and the color map on the display device including the plotter and color CRT. indicate.

(発明の効果) この発明のX線コッセル回折像自動解析装置は、該回折
像観察系における、電子線の逐次自動照射、極点図の自
動作成およびカラーマッピングの実現を可能とすること
ができる。
(Effect of the Invention) The X-ray Cossel diffraction image automatic analysis apparatus of the present invention can realize sequential automatic irradiation of electron beams, automatic creation of a pole figure, and color mapping in the diffraction image observation system.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図はこの発明のX線コッセル回折像自動解析装置の
ブロック図、 第2図は測定値と正極点図の関係図、 第3図は(200)極点図の作成例の説明図 第4図は正極点図から、N.D.およびとR.D.逆極点図間の
作成例の説明図である。 1……X線コッセル回折像観察装置 1−1……電子銃、1−2……収束レンズ 1−3……対物レンズ、1−4……試料 1−5……X線イメージインテンシファイャ 1−5−1……高感度X線センサ 3……光学顕微鏡像検出装置 3−1……光学顕微鏡、3−2……テレビカメラ 4……SEM像検出装置、4−1……検出器 4−2……スキャニングコンバータ 5……入力インターフェース 6……イメージプロセッサー 6−1……画像メモリ 6−2……画像処理/回折専用CPU 6−3……制御/編集専用CPU 7……出力インターフェース 8……ディスプレィ 9……ステージ駆動/電子銃駆動停止装置 9−1……オートフォーカス/ステージコントローラ 9−2……X−Y−Zパルスモータ
FIG. 1 is a block diagram of an X-ray Cossel diffraction image automatic analyzer according to the present invention, FIG. 2 is a relationship diagram between measured values and a positive pole figure, and FIG. 3 is an explanatory view of an example of creating a (200) pole figure. The figure is an explanatory view of an example of creation between the ND and RD reverse pole figures from the positive pole figure. 1 ... X-ray Cossel diffraction image observation device 1-1 ... Electron gun 1-2 ... Converging lens 1-3 ... Objective lens 1-4 ... Sample 1-5 ... X-ray image intensifier 1-5-1 ... High-sensitivity X-ray sensor 3 ... Optical microscope image detection device 3-1 ... Optical microscope 3-2 ... TV camera 4 ... SEM image detection device, 4-1 ... Detector 4-2 Scanning converter 5 Input interface 6 Image processor 6-1 Image memory 6-2 Image processing / diffraction CPU 6-3 Control / editing CPU 7 Output interface 8: Display 9: Stage drive / electron gun drive stop device 9-1: Autofocus / stage controller 9-2: X-Y-Z pulse motor

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】X線イメージインテンシファイヤとその出
力を記憶するイメージメモリとイメージメモリに記憶し
たデータを読出して信号処理を行なう信号処理装置とよ
りなるX線コッセル回折像観察装置と、コッセル回折線
上における画面上の原点からの最短距離部を求める画像
処理装置と、最短距離部におけるコッセル回折線の曲率
を求める画像解析装置と、求めたコッセル回折線の曲率
から結晶方位を求める換算装置と、求めた結晶方位を表
示する表示装置とより成るX線コッセル回折像解析装置
において、 試料の結晶組織を検出する光学顕微鏡像検出装置(3)
と、 試料から散乱される反射電子線によるSEM像を検出するS
EM像検出装置(4)と、 これら光学顕微鏡像、SEM像並びにX線コッセル回折像
の信号を処理、変換する入力インターフェース(5)
と、 画像データを記憶する濃淡画像メモリ、結晶粒界の2値
化データを記憶する2値化メモリおよびカラー画像デー
タを記憶するカラーメモリより成る画像メモリ(6−
1)と、X線コッセル回折像を2値化し、結晶方位解析
を行なう画像処理/解析専用CPU(6−2)と、結晶方
位測定座標を入力し全システムの起動および制御を行な
う制御/編集専用CPU(6−3)とより成るイメージプ
ロセッサ(6)と、 該制御/編集専用CPU(6−3)の出力信号により、X
線コッセル回折像観察装置1内の試料位置を移動させ、
かつ、電子銃の起動停止を自動的に行なうステージ駆動
/電子銃起動停止装置(9)と、 カラー画像を表示するカラーディスプレイ装置(8)
と、 極点図を作成するプロッターと を具えることを特徴とするX線コッセル回折像自動解析
装置。
1. An X-ray Kossel diffraction image observation apparatus comprising an X-ray image intensifier, an image memory for storing the output thereof, and a signal processing device for reading out the data stored in the image memory and performing signal processing, and the Kossel diffraction. An image processing device for obtaining the shortest distance portion from the origin on the screen on the line, an image analysis device for obtaining the curvature of the Cossel diffraction line at the shortest distance portion, and a conversion device for obtaining the crystal orientation from the obtained curvature of the Cossel diffraction line, An X-ray Cossel diffraction image analyzer comprising a display device for displaying the obtained crystal orientation, and an optical microscope image detection device (3) for detecting the crystal structure of a sample.
And S that detects the SEM image by the backscattered electron beam scattered from the sample.
EM image detector (4) and input interface (5) for processing and converting the signals of these optical microscope image, SEM image and X-ray Cossel diffraction image
And an image memory including a grayscale image memory for storing image data, a binarized memory for storing binarized data of crystal grain boundaries, and a color memory for storing color image data (6-
1), CPU for image processing / analysis for binarizing X-ray Cossel diffraction image and analyzing crystallographic orientation (6-2), Controlling / editing for inputting crystallographic orientation measurement coordinates and starting and controlling the entire system The image processor (6) including the dedicated CPU (6-3) and the output signal of the control / edit dedicated CPU (6-3)
The sample position in the line-COSSEL diffraction image observation apparatus 1 is moved,
Also, a stage drive / electron gun start / stop device (9) for automatically starting and stopping the electron gun, and a color display device (8) for displaying a color image
And an plotter that creates a pole figure, an automatic X-ray Kessel diffraction image analyzer.
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