JPH069291B2 - Ink for lift-off - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、スクリーン印刷工程においてパターンを形成
するためのリフトオフ用インクに関する。The present invention relates to a lift-off ink for forming a pattern in a screen printing process.
[従来の技術] 一般に、平板ディスプレイにはITO膜やSnO2膜を
形成した透明導電性ガラス基板が用いられる。このガラ
ス基板には電気回路を形成するために必要なパターン加
工が施される。In the prior art] Generally, the flat panel display transparent conductive glass substrate having an ITO film or S n O 2 film. This glass substrate is subjected to patterning necessary for forming an electric circuit.
このような透明導電膜のパターン加工方法としては、エ
ッチング法、レーザスクライブ法、電蝕法、リフトオフ
法が用いられるが、これらの方法の中では製造コスト、
大量生産性の面などからリフトオフ法が優れている。As a pattern processing method for such a transparent conductive film, an etching method, a laser scribing method, an electrolytic corrosion method, and a lift-off method are used. Among these methods, the manufacturing cost,
The lift-off method is superior in terms of mass productivity.
リフトオフ法は、第2図に示すように、簡易なプロセス
により実施される。The lift-off method is carried out by a simple process as shown in FIG.
第2図において、(A)は印刷工程を示し、ガラス基板
11上にインク12がスクリーン印刷される。次に、B
の加熱工程でガラス基板11を加熱し、インク12から
ガスを脱離させる。次に、(C)の成膜工程ではガラス
基板11とインク12の上に熱CVD法により所定の厚
さの透明導電膜13を生成させる。次に、(D)のイン
ク剥離工程ではインク12を除去して、透明導電膜13
によるパターンを形成する。In FIG. 2, (A) shows a printing process, in which the ink 12 is screen-printed on the glass substrate 11. Then B
In the heating step, the glass substrate 11 is heated to desorb the gas from the ink 12. Next, in the film forming step (C), the transparent conductive film 13 having a predetermined thickness is formed on the glass substrate 11 and the ink 12 by the thermal CVD method. Next, in the ink peeling step (D), the ink 12 is removed and the transparent conductive film 13 is removed.
To form a pattern.
上記工程を熱CVDプロセスを例にとって説明したが、
これらの工程からわかるように、リフトオフ法によるパ
ターン加工では印刷するインクの組成が非常に大きな意
味を持つ。The above steps have been described by taking the thermal CVD process as an example.
As can be seen from these steps, the composition of the ink to be printed has a very significant meaning in the pattern processing by the lift-off method.
そして、一般に、インクの必要性能は次に述べる通りで
ある。And, generally, the required performance of the ink is as described below.
(1)耐熱性が良いこと。(1) Good heat resistance.
(2)インクとガラスが反応しないこと。(2) The ink and glass do not react.
(3)加熱工程でインクがめくれ上がったり、割れたり
しないこと。(3) The ink should not turn up or break during the heating process.
(4)CVDガスの遮蔽性能が高いこと。(4) High CVD gas shielding performance.
(5)CVD成膜後剥離工程でインクを簡単に落とせる
こと。(5) The ink can be easily dropped in the peeling process after the CVD film formation.
(6)インク組成上毒性のないこと。(6) The ink composition has no toxicity.
ところで、従来、リフトオフ用インクとして、その組成
中にポリ塩化ビニルの塩素基を有するものをパターン加
工に使用していた。By the way, conventionally, as a lift-off ink, one having a chlorine group of polyvinyl chloride in its composition has been used for patterning.
[発明が解決しようとする課題] しかしながら、このような従来のリフトオフ用インクは
その組成中にポリ塩化ビニルの塩素基を有しているた
め、この塩素基とガラス表面のNaが反応して、ガラス
とインクとの密着性が低下し、ガラス基板上にインクを
印刷すると、加熱した後インクが剥れるという問題点が
あった。[Problems to be Solved by the Invention] However, since such a conventional lift-off ink has a chlorine group of polyvinyl chloride in its composition, the chlorine group reacts with Na on the glass surface, There is a problem that the adhesion between the glass and the ink deteriorates, and when the ink is printed on the glass substrate, the ink peels off after heating.
このような問題点に対処するため、ガラス表面に予めS
iO2膜をアンダーコートとすると、 SiO2膜がガラスのNaイオンの拡散防止の役目を果
すため、インクがNaと反応せず、インクの剥れを防止
することができる。しかしこの場合には、SiO2膜を
予め形成するため、ガラス基板の製造コストが上昇する
という問題点が生じる。In order to deal with such a problem, S is preliminarily attached to the glass surface.
When the iO 2 film is used as an undercoat, the S i O 2 film plays a role of preventing diffusion of Na ions in the glass, so that the ink does not react with Na and the ink can be prevented from peeling off. However, in this case, since the previously formed S i O 2 film, a problem that the manufacturing cost of the glass substrate is increased occurs.
また、前述したようにインクが剥れる場合には、剥れた
インクが炉内に飛散し、他のガラス基板上にのり、その
上から熱CVD法で成膜すると、その飛散インク部がピ
ンホール(膜抜け)となるという欠点もあった。In addition, as described above, when the ink is peeled off, the peeled ink scatters in the furnace and is deposited on another glass substrate, and when the film is formed on the glass substrate by the thermal CVD method, the scattered ink part is pinned. There was also a drawback that it would be a hole (film missing).
更に塩素が発生すると、これが大気中のH2Oと水と反
応して、HClが発生するためガス処理設備が必要とな
るという問題点もあった。Further, when chlorine is generated, the chlorine reacts with H 2 O in the atmosphere and water to generate HCl, which requires a gas treatment facility.
本発明は、このような従来の問題点に鑑みてなされたも
のであって、ガラス基板中のNaの反応性の高い塩素を
インク組成から除くことにより、ガラス基板に直接印刷
することができ、剥離することなく、良好なパターンを
加工することができるリフトオフ法用インクを提供する
ことを目的としている。The present invention has been made in view of such conventional problems, by removing the highly reactive chlorine of Na in the glass substrate from the ink composition, it is possible to print directly on the glass substrate, It is an object of the present invention to provide an ink for a lift-off method that can process a good pattern without peeling.
[課題を解決するための手段] 前記目的を達成するために、本発明は、重量比を30〜
70%の範囲としたフェノールノボラックアクリレー
ト、オリゴエステルアクリレート、トリメチロールプロ
パイントリアクリレートと、同比を1〜2%の範囲とし
たアントラキノンと、同比を30%以上としたタルク
と、同比を8〜20%の範囲とした酸化チタンと、同比
を0.3〜1%の範囲としたシリコンオイルと、同比を
1〜3%の範囲としたシリカと、同比を0.01〜1%
の範囲としたハイドロキノンと、からなるものである。[Means for Solving the Problems] In order to achieve the above object, the present invention provides a weight ratio of 30 to 30.
Phenol novolac acrylate, oligoester acrylate, trimethylolpropaine triacrylate in the range of 70%, anthraquinone in the range of 1 to 2%, talc in the range of 30% or more, and the ratio of 8 to 20. % Of titanium oxide, the same ratio of 0.3 to 1% of silicon oil, the same ratio of 1 to 3% of silica, and the same ratio of 0.01 to 1%.
And hydroquinone in the range of.
[作用] 本発明においては、インク組成中からガラス基板のNa
と反応する塩素を除くようにしたため、インクが焼成さ
れた後もガラス面から剥れることがない。[Operation] In the present invention, Na of the glass substrate is selected from the ink composition.
Since chlorine that reacts with is removed, it does not peel off from the glass surface even after the ink is baked.
したがって、ガラス基板上へ直接インクを印刷すること
ができる。Therefore, the ink can be printed directly on the glass substrate.
また、予めSiO2膜をガラス基板上にアンダーコート
として形成する必要がないので、パターン付き透明導電
膜ガラス基板の製造コストを大幅に低減することができ
る。Also, pre-S i O 2 film need not be formed as an undercoat on a glass substrate, it is possible to greatly reduce the manufacturing cost of the patterned transparent conductive film glass substrates.
また、インクが剥れなくなるので、従来のように剥れた
インクが飛散して他のガラス基板上にのることがなく、
ピンホール(膜付け)を減少させることができる。Also, since the ink does not peel off, unlike the conventional case, the peeled ink does not scatter and ride on other glass substrates,
Pinholes (film attachment) can be reduced.
さらに、塩素を含まないインクを用いるため、インク加
熱後発生するガスを処理するガス処理設備が不要となる
という利点もある。Further, since chlorine-free ink is used, there is also an advantage that gas processing equipment for processing gas generated after heating the ink is not required.
[実施例] 以下、本発明をさらに具体的に明らかにするために、本
発明の実施例を説明するが、本発明がかかる実施例の記
載により何等の制約を受けるものではない。EXAMPLES Hereinafter, examples of the present invention will be described in order to more specifically clarify the present invention, but the present invention is not limited by the description of the examples.
この実施例ではリフトオフ用インクの組成を以下のよう
に構成した。In this example, the composition of the lift-off ink was configured as follows.
組成 重量比 フェノールノボラックアクリレート 2.9 % オリゴエステルアクリレート 23.5 % トリメチロールプロパインアクリレート 32.1 % アントラキノン 0.75% タルク 30 % 酸化チタン 0.2 % シリコンオイル 0.3 % シリカ 2.24% ハイドロキノン 0.01% オリゴエステルアクリレート(オリゴマー)は、光硬化
の作用を有し、一方、フェノールノボラックアクリレー
ト(モノマー)およびトリメチロールプロパインアクリ
レート(モノマー)は希釈用として使用される。これら
の3者のうち、フェノールノボラックアクリレートとト
リメチロールプロパインアクリレートの合計量が3者の
合計の50%を越えると、特性がでない。したがって、
これらの2者を50%以下にする必要がある。オリゴエ
ステルアクリレート、フェノールノボラックアクリレー
ト、およびトリメチルプロパインアクリレートはいずれ
も塩素を含有していない。また、他の組成にも塩素を含
有していない。Composition Weight ratio Phenol novolac acrylate 2.9% Oligoester acrylate 23.5% Trimethylolpropain acrylate 32.1% Anthraquinone 0.75% Talc 30% Titanium oxide 0.2% Silicon oil 0.3% Silica 2.24% Hydroquinone 0.01% Oligoester acrylate (oligomer) is photocurable While phenol novolac acrylate (monomer) and trimethylolpropaine acrylate (monomer) are used for dilution. Of these three, if the total amount of phenol novolac acrylate and trimethylolpropain acrylate exceeds 50% of the total of the three, the properties are not good. Therefore,
It is necessary to reduce these two to 50% or less. Neither oligoester acrylate, phenol novolac acrylate, nor trimethylpropaine acrylate contains chlorine. Moreover, chlorine is not contained in other compositions.
アントラキノンは、ラジカル反応をおこし、増感剤とし
て作用する。Anthraquinone causes a radical reaction and acts as a sensitizer.
フイラーであるタルクは、寸法安定剤、および増粘剤と
して作用し、剥離性を向上させる。The filler, talc, acts as a dimensional stabilizer and a thickener, and improves peelability.
フイラーである酸化チタンは、ラジカル反応をおこし、
顔料、寸法安定剤、増粘剤、増感剤として作用し、径の
小さい、例えば1μm以下で、比重の小さいものを用に
ることにより、熱CVDガスの遮蔽効果を高めることが
できる。ただし、多すぎると、剥離性を低下させる。Titanium oxide, which is a filler, causes a radical reaction,
By acting as a pigment, a dimensional stabilizer, a thickener, and a sensitizer and having a small diameter, for example, 1 μm or less and a small specific gravity, the effect of shielding the thermal CVD gas can be enhanced. However, if it is too large, the peelability is lowered.
シリコンオイルは消泡剤として、またフイラーであるシ
リカは増粘剤として作用する。なお、シリカは熱CVD
ガスの遮蔽効果を有するか、多すぎると剥離性を低下さ
せる。Silicone oil acts as an antifoaming agent and silica as a filler acts as a thickening agent. In addition, silica is thermal CVD
If it has a gas shielding effect or is too much, the peelability is reduced.
ハイドロキノンは禁止剤として作用し、ラジカル反応を
抑制し、太陽の下または螢光灯下での硬化を防止する。Hydroquinone acts as an inhibitor, suppressing radical reactions and preventing curing in the sun or under fluorescent light.
したがって、ポットライフ(インク寿命)を保持させる
ことができる。Therefore, the pot life (ink life) can be maintained.
以上のように、このインクは、組成からガラス中のNa
との反応性の高い塩素を除いており、インクが焼成され
た後もガラス面から剥れることがない。As described above, this ink has the composition of Na in glass.
Since chlorine, which has a high reactivity with, is removed, it does not peel off from the glass surface even after the ink is baked.
[使用例] 次に、前記のインクを用いて熱CVD法によりガラス基
板上にSnO2膜によるパターンを形成した使用例を示
す。[Example] Next, an example use of forming a pattern by S n O 2 film on a glass substrate by a thermal CVD method using the above ink.
第1図(a)〜(d)はパターン形成のための工程を示
す断面図である。以下、各工程を順次説明する。1A to 1D are cross-sectional views showing steps for forming a pattern. Hereinafter, each step will be sequentially described.
工程(a); まず、インク2を粘度が230〜260ポイズとなるよ
うに調整した後、スクリーン印刷機で洗浄剤のガラス基
板1上に塗布し、必要な印刷パターンを形成した。この
場合インク2の厚味は、長時間安定性およびインク剥離
の容易性の面から10〜20μmとした。Step (a); First, after the ink 2 was adjusted to have a viscosity of 230 to 260 poise, it was applied on the glass substrate 1 of the cleaning agent with a screen printing machine to form a required printing pattern. In this case, the thickness of the ink 2 was set to 10 to 20 μm in terms of long-term stability and ease of ink peeling.
工程(b); 次に、ガラス表面に直接インク2が印刷されたガラス基
板1を熱風循還焼成炉内に投入し、300〜400℃の
温度で10分間予備加熱した。Step (b); Next, the glass substrate 1 on which the ink 2 was directly printed on the glass surface was put into a hot air circulation firing furnace and preheated at a temperature of 300 to 400 ° C. for 10 minutes.
工程(c); 次に、予備加熱したガラス基板1を温度が500〜60
0℃に調整されたベルト式の常圧気相生成装置内に投入
し、熱CVD法により所定の厚さのSnO2膜3を形成
した。Step (c); Next, the temperature of the preheated glass substrate 1 is 500 to 60.
0 ℃ to put on the adjusted belt-type normal-pressure gas-phase generating device to form a S n O 2 film 3 having a predetermined thickness by a thermal CVD method.
工程(d); 次に、SnO2膜3を形成したガラス基板1を徐々に冷
却し、その後不要なインク2を剥離して、パターン付S
nO2膜が生成されたガラス基板1を得た。Step (d); Next, S n O 2 film 3 is gradually cooled glass substrate 1 formed with, and then peeling off the unnecessary ink 2, S with the pattern
n O 2 film was obtained glass substrate 1 generated.
以上のように、本発明に係るインク2は、インク組成中
に塩素を含まないため、ガラス基板1の表面のNaとの
反応により発生するガスがなくなり、インク2が加熱後
ガラス基板1から剥離することがない。したがって、ガ
ラス基板1へ直接インク2を印刷することができる。As described above, since the ink 2 according to the present invention does not contain chlorine in the ink composition, there is no gas generated by the reaction with Na on the surface of the glass substrate 1, and the ink 2 is peeled from the glass substrate 1 after being heated. There is nothing to do. Therefore, the ink 2 can be printed directly on the glass substrate 1.
従来の塩素を含有するインクを用いる場合には、剥離の
防止のために、予めSiO2膜をガラス表面全体にアン
ダーコートする必要があったが、ガラス基板1の直接イ
ンク2を印刷することができ、透明導電膜付ガラス基板
2の製造コストを大巾に低減することができる。When using the ink containing the conventional chlorine, in order to prevent delamination in advance but the S i O 2 film had to be under-coat the entire surface of the glass, to print directly ink 2 in the glass substrate 1 Therefore, the manufacturing cost of the glass substrate 2 with the transparent conductive film can be greatly reduced.
また、従来では加熱工程後剥れたインクが炉内で飛散
し、他のガラス上にのってしまい、その上から成膜する
と、その飛散インク部はピンホールとなるが、本発明で
はインク2が剥れないので、ピンホールを減少させるこ
とができる。Further, conventionally, the ink that has peeled off after the heating step scatters in the furnace and is deposited on another glass, and when a film is formed on it, the scattered ink part becomes a pinhole. Since 2 does not peel off, pinholes can be reduced.
さらに、塩素を含まないインク2を用いているため、イ
ンク加熱後発生するガスを処理するガス設備が不要とな
る。Further, since the ink 2 containing no chlorine is used, a gas facility for processing the gas generated after heating the ink is not required.
なお、この使用例では熱CVD法による成膜の場合につ
いて説明したが、これに限定されるものではなく、本発
明のインクは真空成膜にも適用することができる。In addition, although the case of film formation by the thermal CVD method has been described in this usage example, the invention is not limited to this and the ink of the present invention can be applied to vacuum film formation.
真空プロセスを用いる成膜法、例えば、抵抗加熱法、E
B法、スペツタ法による場合には、インクを印刷したガ
ラス基板を充分加熱し、インク中のガス成分を除いてお
くことが必要である。このため、予備加熱の条件として
300〜400℃の温度で大気焼成し、加熱時間として
は10分程度とすることが望ましい。A film forming method using a vacuum process, for example, a resistance heating method, E
In the case of the method B or the sputtering method, it is necessary to sufficiently heat the glass substrate on which the ink is printed to remove the gas component in the ink. Therefore, it is desirable that the preheating is performed in the air at a temperature of 300 to 400 ° C. and the heating time is about 10 minutes.
[発明の効果] 以上説明してきたように、本発明によれば、インク組成
中に塩素を含まないため、インクがガラス基板から剥離
することがなく、その結果、ガラス基板へ直接インクを
印刷することができる。EFFECTS OF THE INVENTION As described above, according to the present invention, since the ink composition does not contain chlorine, the ink does not peel off from the glass substrate, and as a result, the ink is printed directly on the glass substrate. be able to.
また、予めSiO2膜をガラス基板に形成する必要がな
く、パターン付透明導電膜ガラス基板の製造コストを大
巾に低減することができる。Also, pre-S i O 2 film is not necessary to form the glass substrate, it is possible to reduce the manufacturing costs of the transparent conductive film glass substrate with pattern greatly.
また、インクが剥れないので、インクが飛散することが
なく、ピンホールを減少させることができる。Further, since the ink does not peel off, the ink does not scatter and the pinholes can be reduced.
さらに、塩素を含まないインクを用いているため、イン
ク加熱後発生するガスを処理するガス処理設備が不要と
なる。Furthermore, since chlorine-free ink is used, there is no need for a gas processing facility for processing the gas generated after heating the ink.
第1図(a)〜(d)は本発明に係るリフト板用インク
を用いてガラス基板上にSnO2膜によりパターンを形
成する各工程を示す断面図、 第2図(A)〜(D)は従来の各工程を示す断面図であ
る。 図中、 1…ガラス基板、 2…インク、 3…SnO2膜。Figure 1 (a) ~ (d) are sectional views showing steps of forming a pattern by S n O 2 film on a glass substrate using a lift plate for ink according to the present invention, FIG. 2 (A) ~ (D) is sectional drawing which shows each conventional process. In the figure, 1 ... glass substrate, 2 ... ink, 3 ... S n O 2 film.
Claims (1)
ールノボラックアクリレート、オリゴエステルアクリレ
ート、トリメチロールプロパイントリアクリレートと、
同比を1〜2%の範囲としたアントラキノンと、同比を
30%以上としたタルクと、同比を8〜20%の範囲と
した酸化チタンと、同比を0.3〜1%の範囲としたシ
リコンオイルと、同比を1〜3%の範囲としたシリカ
と、同比を0.01〜1%の範囲としたハイドロキノン
と、からなるリフトオフ用インク。1. A phenol novolac acrylate, an oligoester acrylate, and a trimethylolpropaine triacrylate in a weight ratio of 30 to 70%,
Anthraquinone having the same ratio in the range of 1 to 2%, talc having the same ratio of 30% or more, titanium oxide having the same ratio of 8 to 20%, and silicon having the same ratio of 0.3 to 1%. A lift-off ink comprising oil, silica having the same ratio in the range of 1 to 3%, and hydroquinone having the same ratio in the range of 0.01 to 1%.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63093894A JPH069291B2 (en) | 1988-04-15 | 1988-04-15 | Ink for lift-off |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63093894A JPH069291B2 (en) | 1988-04-15 | 1988-04-15 | Ink for lift-off |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01265591A JPH01265591A (en) | 1989-10-23 |
| JPH069291B2 true JPH069291B2 (en) | 1994-02-02 |
Family
ID=14095188
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63093894A Expired - Lifetime JPH069291B2 (en) | 1988-04-15 | 1988-04-15 | Ink for lift-off |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH069291B2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW200849621A (en) * | 2006-12-21 | 2008-12-16 | Helianthos Bv | Method for making solar sub-cells from a solar cell |
-
1988
- 1988-04-15 JP JP63093894A patent/JPH069291B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01265591A (en) | 1989-10-23 |
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