JPH0695079B2 - 画像中における粒子像分析方法 - Google Patents
画像中における粒子像分析方法Info
- Publication number
- JPH0695079B2 JPH0695079B2 JP61036923A JP3692386A JPH0695079B2 JP H0695079 B2 JPH0695079 B2 JP H0695079B2 JP 61036923 A JP61036923 A JP 61036923A JP 3692386 A JP3692386 A JP 3692386A JP H0695079 B2 JPH0695079 B2 JP H0695079B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- total
- stored
- particle
- image data
- total number
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N15/00—Investigating characteristics of particles; Investigating permeability, pore-volume or surface-area of porous materials
- G01N15/10—Investigating individual particles
- G01N15/14—Optical investigation techniques, e.g. flow cytometry
- G01N15/1468—Optical investigation techniques, e.g. flow cytometry with spatial resolution of the texture or inner structure of the particle
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は分析装置又は撮像装置より得られる被検試料の
粒子分布画像データに基づいて、被検試料の分析を行な
うようにした方法に関する。
粒子分布画像データに基づいて、被検試料の分析を行な
うようにした方法に関する。
［従来の技術］ 鉄鋼等の表面の分析にＸ線マイクロアナライザがが広範
に使用されている。特に最近では、鉄鋼等の表面を、コ
ンピュータ制御のもとで電子線により二次元的にデジタ
ル走査し、その際得られる反射電子検出信号を各画素毎
にデジタル値としてメモリに記憶させ、この記憶データ
に基づいて画像を表示するようにしている。通常、鉄鋼
中にはアルミナクラッドのような介在物粒子が存在す
る。このような粒子の単位面積当りの存在量は鉄鋼等の
強度を推定するために使用されている。ところで、鉄鋼
等に関しては、その最も弱い部分の強度を知ることが重
要であるため、光学顕微鏡等を用いて視野を変えながら
鉄鋼表面を観察して前記介在物粒子の存在量が最も多そ
うな視野を選択し、その視野について前記Ｘ線マイクロ
アナライザによる分析を行なうようにしていた。
に使用されている。特に最近では、鉄鋼等の表面を、コ
ンピュータ制御のもとで電子線により二次元的にデジタ
ル走査し、その際得られる反射電子検出信号を各画素毎
にデジタル値としてメモリに記憶させ、この記憶データ
に基づいて画像を表示するようにしている。通常、鉄鋼
中にはアルミナクラッドのような介在物粒子が存在す
る。このような粒子の単位面積当りの存在量は鉄鋼等の
強度を推定するために使用されている。ところで、鉄鋼
等に関しては、その最も弱い部分の強度を知ることが重
要であるため、光学顕微鏡等を用いて視野を変えながら
鉄鋼表面を観察して前記介在物粒子の存在量が最も多そ
うな視野を選択し、その視野について前記Ｘ線マイクロ
アナライザによる分析を行なうようにしていた。
［発明が解決しようとする問題点］ 従来においては、前述したように分析視野の選択は目視
により行なっていたため、判断の誤りが生じることがあ
り、必ずしも最も弱い部分に対応した視野を選択するこ
とはできなかった。
により行なっていたため、判断の誤りが生じることがあ
り、必ずしも最も弱い部分に対応した視野を選択するこ
とはできなかった。
［問題点を解決するための手段］ そのための本発明は、視野の大きさを一定に維持したま
ま視野を移して被検試料から粒子分布画像データを取得
し、該粒子分布画像データに含まれる粒子像の総数又は
面積の総和を求め、該求められた総数又は総和を記憶さ
れている粒子像の総数又は面積の総和と比較し、求めら
れた前記総数又は総和が記憶されている前記総数又は総
和より大きければ、求められた前記総数又は総和を新た
な最大値として記憶させると共に、この新たな最大値に
対応して粒子分布画像データを新たな粒子最大存在画像
データとして記憶させ、求められた前記総数又は総和が
記憶されている前記総数又は総和より小さければ、記憶
されている前記総数又は総和を最大値として引き続き維
持すると共に、既に記憶されている粒子分布画像データ
を引き続き粒子最大存在画像データとして維持する処理
過程を繰り返すことを特徴としている。
ま視野を移して被検試料から粒子分布画像データを取得
し、該粒子分布画像データに含まれる粒子像の総数又は
面積の総和を求め、該求められた総数又は総和を記憶さ
れている粒子像の総数又は面積の総和と比較し、求めら
れた前記総数又は総和が記憶されている前記総数又は総
和より大きければ、求められた前記総数又は総和を新た
な最大値として記憶させると共に、この新たな最大値に
対応して粒子分布画像データを新たな粒子最大存在画像
データとして記憶させ、求められた前記総数又は総和が
記憶されている前記総数又は総和より小さければ、記憶
されている前記総数又は総和を最大値として引き続き維
持すると共に、既に記憶されている粒子分布画像データ
を引き続き粒子最大存在画像データとして維持する処理
過程を繰り返すことを特徴としている。
［実施例］ 以下、図面に基づき本発明の実施例を詳述する。
第２図は本発明を実施するための装置を例示するための
もので、図中１は電子銃であり、電子銃１よりの電子線
EBは集束レンズ３により細く集束されて試料４に照射さ
れる。試料４は試料ステージ５上に載置されており、試
料ステージ５は駆動機構６により水平方向に移動できる
ようになっている。７は偏向器であり、偏向器７には走
査回路８より走査信号が送られる。２は反射電子検出器
であり、検出器２よりの信号は反射電子検出回路９にお
いて増幅及びAD変換処理を受けて、第１の画像メモリ10
に送られる。第１の画像メモリ10には前記走査回路８よ
り走査に同期した信号が送られている。13は付属するメ
モリ14を有する中央演算処理装置であり、中央演算処理
装置13には前記第１の画像メモリ10と共に第2,第３の画
像メモリ11,12が接続されている。これら各画像メモリ
は深さ方向に４ビットを有しており、充分な階調で粒子
像を記憶できるようになっている。中央演算処理装置13
には試料ステージ制御回路17も接続されており、試料ス
テージ制御回路17は中央演算処理装置13よりの信号に基
づいて駆動機構６を稼働させる。中央演算処理装置13に
は操作卓15と共に、分析画像や計数値データを表示する
ためのCRT16が接続されている。
もので、図中１は電子銃であり、電子銃１よりの電子線
EBは集束レンズ３により細く集束されて試料４に照射さ
れる。試料４は試料ステージ５上に載置されており、試
料ステージ５は駆動機構６により水平方向に移動できる
ようになっている。７は偏向器であり、偏向器７には走
査回路８より走査信号が送られる。２は反射電子検出器
であり、検出器２よりの信号は反射電子検出回路９にお
いて増幅及びAD変換処理を受けて、第１の画像メモリ10
に送られる。第１の画像メモリ10には前記走査回路８よ
り走査に同期した信号が送られている。13は付属するメ
モリ14を有する中央演算処理装置であり、中央演算処理
装置13には前記第１の画像メモリ10と共に第2,第３の画
像メモリ11,12が接続されている。これら各画像メモリ
は深さ方向に４ビットを有しており、充分な階調で粒子
像を記憶できるようになっている。中央演算処理装置13
には試料ステージ制御回路17も接続されており、試料ス
テージ制御回路17は中央演算処理装置13よりの信号に基
づいて駆動機構６を稼働させる。中央演算処理装置13に
は操作卓15と共に、分析画像や計数値データを表示する
ためのCRT16が接続されている。
このような構成の装置を用いて、中央演算処理装置13は
予め組まれたプログラムに従って、後述するｉを初期値
１にセットした後、第１図のフローチャートのステップ
18に示すように、最初の視野を得るため試料ステージ５
を所定量だけステップ移動させる。そこで、第１図のス
テップ19に示すように走査回路８より偏向器７に走査信
号を送って電子線EBにより試料４を二次元的に走査し、
この走査に伴って得られた検出信号に基づく原画像デー
タS1（x,y）を第１のメモリ10に記憶させる。そこで、
第１図ステップ20に示すように、中央演算処理装置13は
この原画像データS1（x,y）を読み出して予め設定した
基準レベルL1と比較して２値化し、第３図（ａ）に示す
画像に対応した粒子分布画像データα１（x,y）を第２
のメモリ11に記憶させる。尚、x,yは各画素の位置を表
わすパラメータである。次に第１図のステップ20に示す
ように、第２の画像メモリ11に記憶されている第１番目
の視野に対応した粒子分布画像データα１（x,y）に基
づいてその粒子数を計数する。この粒子数の計数は各粒
子像を異なった値で塗り潰してラベリング処理を行ない
ながら、粒子数を計数するという既に公知の方法を使用
する。第ｉ番目の視野の粒子分布画像データαｉ（x,
y）に基づいて計数され粒子数をNiで表わすものとし、N
1からNiまでの値の中で最大の値をMiで表わすと、この
ようにして計数されたNiを表わすデータは、ステップ20
において付属メモリ14に格納される。次に第１図のステ
ップ21に示すように中央演算処理装置13はNiを付属メモ
リ14に記憶されているMi−１と比較し、NiがMi−１より
大きいか否かを判定する。尚、第１番目の視野に対する
処理においては、M0の実際の値は存在していないのでM0
として０がセットされている。この判定においてNi＞Mi
−１であれば、即ちステップ21においてYESと判定され
れば、ステップ22に進んでNiをMiとして付属メモリ14に
記憶させると共に、αｉ（x,y）をｉ番目までの視野の
うちの粒子最大存在画像データＭ（x,y）として第３の
画像メモリ12に記憶させる。即ち、例えば、第ｉ番目の
視野の粒子分布画像データαｉ（x,y）が第３図（ｂ）
に示すものであるとし、第１番目から第ｉ−１番目まで
の視野のうちで最も粒子数が多い視野を第３図（ｃ）に
示す粒子分布画像データαｊ（x,y）に対応したもので
あるとすれば、NiはMi−１＝Njより大きいから、NiがMi
として付属メモリ14に記憶されると共に、αｉ（x,y）
がαｊ（x,y）に代えて新たなＭ（x,y）として第３の画
像メモリ12に記憶される。又、ステップ21においてNOと
判定されれば、ステップ21から直接ステップ23に移行す
る。ステップ23においては、現在処理中の視野に対応す
る画像データが最終視野である第ｎ番目の視野であるか
否かを判定し、まだ最終のものでなければ、ステップ18
に戻ってステップ18以降の過程を繰り返させる。このよ
うな一連の処理を行なうことにより、最終視野に対する
処理が終了すると、第３の画像メモリ12には各視野のう
ちで最も粒子数が多く存在する視野の画像データＭ（x,
y）が格納されることになる。そこで、第３の画像メモ
リ12からの画像データＭ（x,y）を読み出して、このデ
ータを種々処理することによりこの画像中の粒子像の分
析を更に行なう。
予め組まれたプログラムに従って、後述するｉを初期値
１にセットした後、第１図のフローチャートのステップ
18に示すように、最初の視野を得るため試料ステージ５
を所定量だけステップ移動させる。そこで、第１図のス
テップ19に示すように走査回路８より偏向器７に走査信
号を送って電子線EBにより試料４を二次元的に走査し、
この走査に伴って得られた検出信号に基づく原画像デー
タS1（x,y）を第１のメモリ10に記憶させる。そこで、
第１図ステップ20に示すように、中央演算処理装置13は
この原画像データS1（x,y）を読み出して予め設定した
基準レベルL1と比較して２値化し、第３図（ａ）に示す
画像に対応した粒子分布画像データα１（x,y）を第２
のメモリ11に記憶させる。尚、x,yは各画素の位置を表
わすパラメータである。次に第１図のステップ20に示す
ように、第２の画像メモリ11に記憶されている第１番目
の視野に対応した粒子分布画像データα１（x,y）に基
づいてその粒子数を計数する。この粒子数の計数は各粒
子像を異なった値で塗り潰してラベリング処理を行ない
ながら、粒子数を計数するという既に公知の方法を使用
する。第ｉ番目の視野の粒子分布画像データαｉ（x,
y）に基づいて計数され粒子数をNiで表わすものとし、N
1からNiまでの値の中で最大の値をMiで表わすと、この
ようにして計数されたNiを表わすデータは、ステップ20
において付属メモリ14に格納される。次に第１図のステ
ップ21に示すように中央演算処理装置13はNiを付属メモ
リ14に記憶されているMi−１と比較し、NiがMi−１より
大きいか否かを判定する。尚、第１番目の視野に対する
処理においては、M0の実際の値は存在していないのでM0
として０がセットされている。この判定においてNi＞Mi
−１であれば、即ちステップ21においてYESと判定され
れば、ステップ22に進んでNiをMiとして付属メモリ14に
記憶させると共に、αｉ（x,y）をｉ番目までの視野の
うちの粒子最大存在画像データＭ（x,y）として第３の
画像メモリ12に記憶させる。即ち、例えば、第ｉ番目の
視野の粒子分布画像データαｉ（x,y）が第３図（ｂ）
に示すものであるとし、第１番目から第ｉ−１番目まで
の視野のうちで最も粒子数が多い視野を第３図（ｃ）に
示す粒子分布画像データαｊ（x,y）に対応したもので
あるとすれば、NiはMi−１＝Njより大きいから、NiがMi
として付属メモリ14に記憶されると共に、αｉ（x,y）
がαｊ（x,y）に代えて新たなＭ（x,y）として第３の画
像メモリ12に記憶される。又、ステップ21においてNOと
判定されれば、ステップ21から直接ステップ23に移行す
る。ステップ23においては、現在処理中の視野に対応す
る画像データが最終視野である第ｎ番目の視野であるか
否かを判定し、まだ最終のものでなければ、ステップ18
に戻ってステップ18以降の過程を繰り返させる。このよ
うな一連の処理を行なうことにより、最終視野に対する
処理が終了すると、第３の画像メモリ12には各視野のう
ちで最も粒子数が多く存在する視野の画像データＭ（x,
y）が格納されることになる。そこで、第３の画像メモ
リ12からの画像データＭ（x,y）を読み出して、このデ
ータを種々処理することによりこの画像中の粒子像の分
析を更に行なう。
上述した実施例は本発明の実施例の一部に過ぎず、更に
変型して実施することができる。
変型して実施することができる。
例えば、上述した実施例においては、最大量の粒子が存
在する視野を判定するため、粒子分布画像データに基づ
いて粒子数を計数するようにしたが、一視野内における
粒子の面積の総和を求めるようにしても良い。
在する視野を判定するため、粒子分布画像データに基づ
いて粒子数を計数するようにしたが、一視野内における
粒子の面積の総和を求めるようにしても良い。
更に又、上述した実施例においては、Ｘ線マイクロアナ
ライザによって得られる画像データを処理する場合に本
発明を適用したが、例えば光学顕微鏡によって取得され
た複数の視野に対する血球分布画像データに基づいて、
最も血球量が多く存在する視野に対応した血球分布画像
を自動的に判定する場合にも本発明は同様に適用でき
る。
ライザによって得られる画像データを処理する場合に本
発明を適用したが、例えば光学顕微鏡によって取得され
た複数の視野に対する血球分布画像データに基づいて、
最も血球量が多く存在する視野に対応した血球分布画像
を自動的に判定する場合にも本発明は同様に適用でき
る。
［発明の効果］ 上述した説明から明らかなように本発明により、介在物
粒子が最も多く存在する被検試料上の視野を自動的に選
択でき、その選択された視野に対応した粒子分布画像デ
ータに基づいてその視野に存在する介在物粒子の分析を
行なうことができるので、たとえば鉄鋼等の粒子分布画
像データを単位面積の大きさの視野で得れば、鉄鋼等の
強度検査を高精度且つ短時間に行なうことができる。
粒子が最も多く存在する被検試料上の視野を自動的に選
択でき、その選択された視野に対応した粒子分布画像デ
ータに基づいてその視野に存在する介在物粒子の分析を
行なうことができるので、たとえば鉄鋼等の粒子分布画
像データを単位面積の大きさの視野で得れば、鉄鋼等の
強度検査を高精度且つ短時間に行なうことができる。
第１図は本発明の一実施例を示すためのフローチャート
であり、第２図は本発明を実施するための装置の一例を
示すための図、第３図は第１図のフローチャートの流れ
に沿って変化する画像データを説明するための図であ
る。 1:電子銃、2:反射電子検出器 3:集束レンズ、4:試料 5:試料ステージ、6:駆動機構 7:偏向器、8:走査回路 9:反射電子検出回路 10,11,12:画像メモリ 13:中央演算処理装置 14:試料ステージ制御回路 15:操作卓、16:CRT 17:試料ステージ制御回路
であり、第２図は本発明を実施するための装置の一例を
示すための図、第３図は第１図のフローチャートの流れ
に沿って変化する画像データを説明するための図であ
る。 1:電子銃、2:反射電子検出器 3:集束レンズ、4:試料 5:試料ステージ、6:駆動機構 7:偏向器、8:走査回路 9:反射電子検出回路 10,11,12:画像メモリ 13:中央演算処理装置 14:試料ステージ制御回路 15:操作卓、16:CRT 17:試料ステージ制御回路
Claims (1)
- 【請求項１】視野の大きさを一定に維持したまま視野を
移して被検試料から粒子分布画像データを取得し、該粒
子分布画像データに含まれる粒子像の総数又は面積の総
和を求め、該求められた総数又は総和を記憶されている
粒子像の総数又は面積の総和と比較し、求められた前記
総数又は総和が記憶されている前記総数又は総和より大
きければ、求められた前記総数又は総和を新たな最大値
として記憶させると共に、この新たな最大値に対応した
粒子分布画像データを新たな粒子最大存在画像データと
して記憶させ、求められた前記総数又は総和が記憶され
ている前記総数又は総和より小さければ、記憶されてい
る前記総数又は総和を最大値として引き続き維持すると
共に、既に記憶されている粒子分布画像データを引き続
き粒子最大存在画像データとして維持する処理過程を繰
り返すことを特徴とする画像中における粒子像分析方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61036923A JPH0695079B2 (ja) | 1986-02-21 | 1986-02-21 | 画像中における粒子像分析方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61036923A JPH0695079B2 (ja) | 1986-02-21 | 1986-02-21 | 画像中における粒子像分析方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62194449A JPS62194449A (ja) | 1987-08-26 |
| JPH0695079B2 true JPH0695079B2 (ja) | 1994-11-24 |
Family
ID=12483279
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61036923A Expired - Lifetime JPH0695079B2 (ja) | 1986-02-21 | 1986-02-21 | 画像中における粒子像分析方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0695079B2 (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6120845A (ja) * | 1984-07-09 | 1986-01-29 | Toshiba Corp | 特異部分面積頻度測定装置 |
| JPS6123944A (ja) * | 1984-07-12 | 1986-02-01 | Nippon Steel Corp | 粉粒体の粒度測定方法 |
-
1986
- 1986-02-21 JP JP61036923A patent/JPH0695079B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62194449A (ja) | 1987-08-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5511103A (en) | Method of X-ray mapping analysis | |
| US4253154A (en) | Line scan and X-ray map enhancement of SEM X-ray data | |
| JP3607023B2 (ja) | Ｘ線定量分析装置および方法 | |
| EP0781977A2 (en) | Pattern shape inspection apparatus for forming specimen image on display apparatus | |
| US8111902B2 (en) | Method and apparatus for inspecting defects of circuit patterns | |
| EP0011892B1 (en) | Automatic energy dispersive x-ray fluorescence analysing apparatus | |
| JP3361768B2 (ja) | 蛍光ｘ線分析装置およびｘ線照射位置確認方法 | |
| KR100347764B1 (ko) | 주사전자현미경 이미지를 이용한 반도체 웨이퍼 표면의 입자성장도 수치적 분석방법과 이를 위한 장치 | |
| JP2000180392A (ja) | 電子線マイクロアナライザー | |
| JPH0695079B2 (ja) | 画像中における粒子像分析方法 | |
| JP2001325595A (ja) | 画像処理方法およびその装置並びに荷電粒子顕微鏡検査装置 | |
| US4549306A (en) | Sheet metal evaluator | |
| JPH0697214B2 (ja) | 画像中における粒子像分析方法 | |
| JP2000046768A (ja) | Ｘ線分析装置 | |
| JP7194837B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
| JPH0524615B2 (ja) | ||
| JP3956282B2 (ja) | 面分析装置 | |
| JP2002062270A (ja) | 電子線を用いた表面分析装置における面分析データ表示方法 | |
| US5745595A (en) | Surface analysis instrument and method of displaying images using information obtained by surface analysis | |
| JPS62194448A (ja) | 画像中における粒子像分析方法 | |
| JP2502050B2 (ja) | 電子線マイクロアナライザ | |
| JP2889931B2 (ja) | 金属材料検査方法及び金属材料検査装置 | |
| JP2939323B2 (ja) | 非金属介在物検査方法並びに非金属介在物検査装置 | |
| JP2909756B2 (ja) | 非金属介在物検査方法及び非金属介在物検査装置 | |
| JPS62239044A (ja) | 画像中における粒子像分析方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |