JPH0695079B2 - Particle image analysis method in images - Google Patents
Particle image analysis method in imagesInfo
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- JPH0695079B2 JPH0695079B2 JP61036923A JP3692386A JPH0695079B2 JP H0695079 B2 JPH0695079 B2 JP H0695079B2 JP 61036923 A JP61036923 A JP 61036923A JP 3692386 A JP3692386 A JP 3692386A JP H0695079 B2 JPH0695079 B2 JP H0695079B2
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- G01N15/10—Investigating individual particles
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Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は分析装置又は撮像装置より得られる被検試料の
粒子分布画像データに基づいて、被検試料の分析を行な
うようにした方法に関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for analyzing a test sample based on particle distribution image data of the test sample obtained by an analyzer or an imaging device.
[従来の技術] 鉄鋼等の表面の分析にX線マイクロアナライザがが広範
に使用されている。特に最近では、鉄鋼等の表面を、コ
ンピュータ制御のもとで電子線により二次元的にデジタ
ル走査し、その際得られる反射電子検出信号を各画素毎
にデジタル値としてメモリに記憶させ、この記憶データ
に基づいて画像を表示するようにしている。通常、鉄鋼
中にはアルミナクラッドのような介在物粒子が存在す
る。このような粒子の単位面積当りの存在量は鉄鋼等の
強度を推定するために使用されている。ところで、鉄鋼
等に関しては、その最も弱い部分の強度を知ることが重
要であるため、光学顕微鏡等を用いて視野を変えながら
鉄鋼表面を観察して前記介在物粒子の存在量が最も多そ
うな視野を選択し、その視野について前記X線マイクロ
アナライザによる分析を行なうようにしていた。[Prior Art] An X-ray microanalyzer is widely used for the analysis of the surface of steel or the like. Especially recently, the surface of steel or the like is two-dimensionally digitally scanned by an electron beam under computer control, and the backscattered electron detection signal obtained at that time is stored in a memory as a digital value for each pixel. Images are displayed based on the data. Usually, inclusion particles such as alumina clad are present in steel. The abundance of such particles per unit area is used to estimate the strength of steel and the like. By the way, for steel and the like, it is important to know the strength of the weakest part, so it is likely that the presence of the inclusion particles is the highest by observing the steel surface while changing the field of view using an optical microscope or the like. A visual field was selected, and the visual field was analyzed by the X-ray microanalyzer.
[発明が解決しようとする問題点] 従来においては、前述したように分析視野の選択は目視
により行なっていたため、判断の誤りが生じることがあ
り、必ずしも最も弱い部分に対応した視野を選択するこ
とはできなかった。[Problems to be Solved by the Invention] In the past, as described above, the analysis visual field was selected visually, which may result in a wrong judgment. Therefore, it is not always necessary to select the visual field corresponding to the weakest part. I couldn't.
[問題点を解決するための手段] そのための本発明は、視野の大きさを一定に維持したま
ま視野を移して被検試料から粒子分布画像データを取得
し、該粒子分布画像データに含まれる粒子像の総数又は
面積の総和を求め、該求められた総数又は総和を記憶さ
れている粒子像の総数又は面積の総和と比較し、求めら
れた前記総数又は総和が記憶されている前記総数又は総
和より大きければ、求められた前記総数又は総和を新た
な最大値として記憶させると共に、この新たな最大値に
対応して粒子分布画像データを新たな粒子最大存在画像
データとして記憶させ、求められた前記総数又は総和が
記憶されている前記総数又は総和より小さければ、記憶
されている前記総数又は総和を最大値として引き続き維
持すると共に、既に記憶されている粒子分布画像データ
を引き続き粒子最大存在画像データとして維持する処理
過程を繰り返すことを特徴としている。[Means for Solving the Problem] The present invention for that purpose acquires the particle distribution image data from the test sample by moving the field of view while maintaining the size of the field of view constant, and includes the particle distribution image data. Obtaining the total number or area of particle images, comparing the obtained total number or total with the total number or total area of the stored particle image, the obtained total number or the total number of the stored total or If it is larger than the total sum, the obtained total number or total sum is stored as a new maximum value, and the particle distribution image data is stored as new particle maximum presence image data corresponding to the new maximum value. If the total number or sum is smaller than the stored total number or sum, the stored total number or sum is continuously maintained as the maximum value, and the particles already stored It is characterized in that the process of continuously maintaining the distribution image data as the maximum particle presence image data is repeated.
[実施例] 以下、図面に基づき本発明の実施例を詳述する。EXAMPLES Examples of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.
第2図は本発明を実施するための装置を例示するための
もので、図中1は電子銃であり、電子銃1よりの電子線
EBは集束レンズ3により細く集束されて試料4に照射さ
れる。試料4は試料ステージ5上に載置されており、試
料ステージ5は駆動機構6により水平方向に移動できる
ようになっている。7は偏向器であり、偏向器7には走
査回路8より走査信号が送られる。2は反射電子検出器
であり、検出器2よりの信号は反射電子検出回路9にお
いて増幅及びAD変換処理を受けて、第1の画像メモリ10
に送られる。第1の画像メモリ10には前記走査回路8よ
り走査に同期した信号が送られている。13は付属するメ
モリ14を有する中央演算処理装置であり、中央演算処理
装置13には前記第1の画像メモリ10と共に第2,第3の画
像メモリ11,12が接続されている。これら各画像メモリ
は深さ方向に4ビットを有しており、充分な階調で粒子
像を記憶できるようになっている。中央演算処理装置13
には試料ステージ制御回路17も接続されており、試料ス
テージ制御回路17は中央演算処理装置13よりの信号に基
づいて駆動機構6を稼働させる。中央演算処理装置13に
は操作卓15と共に、分析画像や計数値データを表示する
ためのCRT16が接続されている。FIG. 2 is for exemplifying an apparatus for carrying out the present invention, in which 1 is an electron gun, and an electron beam from the electron gun 1
The EB is finely focused by the focusing lens 3 and irradiated on the sample 4. The sample 4 is placed on a sample stage 5, and the sample stage 5 can be moved in the horizontal direction by a drive mechanism 6. Reference numeral 7 is a deflector, and a scanning signal is sent from the scanning circuit 8 to the deflector 7. Reference numeral 2 denotes a backscattered electron detector. The signal from the detector 2 is subjected to amplification and AD conversion processing in the backscattered electron detection circuit 9, and the first image memory 10
Sent to. A signal synchronized with scanning is sent from the scanning circuit 8 to the first image memory 10. Reference numeral 13 denotes a central processing unit having an attached memory 14. The central processing unit 13 is connected to the first image memory 10 and second and third image memories 11 and 12. Each of these image memories has 4 bits in the depth direction, and can store a particle image with sufficient gradation. Central processing unit 13
A sample stage control circuit 17 is also connected to the sample stage control circuit 17, and the sample stage control circuit 17 operates the drive mechanism 6 based on a signal from the central processing unit 13. A CRT 16 for displaying an analysis image and count value data is connected to the central processing unit 13 together with a console 15.
このような構成の装置を用いて、中央演算処理装置13は
予め組まれたプログラムに従って、後述するiを初期値
1にセットした後、第1図のフローチャートのステップ
18に示すように、最初の視野を得るため試料ステージ5
を所定量だけステップ移動させる。そこで、第1図のス
テップ19に示すように走査回路8より偏向器7に走査信
号を送って電子線EBにより試料4を二次元的に走査し、
この走査に伴って得られた検出信号に基づく原画像デー
タS1(x,y)を第1のメモリ10に記憶させる。そこで、
第1図ステップ20に示すように、中央演算処理装置13は
この原画像データS1(x,y)を読み出して予め設定した
基準レベルL1と比較して2値化し、第3図(a)に示す
画像に対応した粒子分布画像データα1(x,y)を第2
のメモリ11に記憶させる。尚、x,yは各画素の位置を表
わすパラメータである。次に第1図のステップ20に示す
ように、第2の画像メモリ11に記憶されている第1番目
の視野に対応した粒子分布画像データα1(x,y)に基
づいてその粒子数を計数する。この粒子数の計数は各粒
子像を異なった値で塗り潰してラベリング処理を行ない
ながら、粒子数を計数するという既に公知の方法を使用
する。第i番目の視野の粒子分布画像データαi(x,
y)に基づいて計数され粒子数をNiで表わすものとし、N
1からNiまでの値の中で最大の値をMiで表わすと、この
ようにして計数されたNiを表わすデータは、ステップ20
において付属メモリ14に格納される。次に第1図のステ
ップ21に示すように中央演算処理装置13はNiを付属メモ
リ14に記憶されているMi−1と比較し、NiがMi−1より
大きいか否かを判定する。尚、第1番目の視野に対する
処理においては、M0の実際の値は存在していないのでM0
として0がセットされている。この判定においてNi>Mi
−1であれば、即ちステップ21においてYESと判定され
れば、ステップ22に進んでNiをMiとして付属メモリ14に
記憶させると共に、αi(x,y)をi番目までの視野の
うちの粒子最大存在画像データM(x,y)として第3の
画像メモリ12に記憶させる。即ち、例えば、第i番目の
視野の粒子分布画像データαi(x,y)が第3図(b)
に示すものであるとし、第1番目から第i−1番目まで
の視野のうちで最も粒子数が多い視野を第3図(c)に
示す粒子分布画像データαj(x,y)に対応したもので
あるとすれば、NiはMi−1=Njより大きいから、NiがMi
として付属メモリ14に記憶されると共に、αi(x,y)
がαj(x,y)に代えて新たなM(x,y)として第3の画
像メモリ12に記憶される。又、ステップ21においてNOと
判定されれば、ステップ21から直接ステップ23に移行す
る。ステップ23においては、現在処理中の視野に対応す
る画像データが最終視野である第n番目の視野であるか
否かを判定し、まだ最終のものでなければ、ステップ18
に戻ってステップ18以降の過程を繰り返させる。このよ
うな一連の処理を行なうことにより、最終視野に対する
処理が終了すると、第3の画像メモリ12には各視野のう
ちで最も粒子数が多く存在する視野の画像データM(x,
y)が格納されることになる。そこで、第3の画像メモ
リ12からの画像データM(x,y)を読み出して、このデ
ータを種々処理することによりこの画像中の粒子像の分
析を更に行なう。Using the device having such a configuration, the central processing unit 13 sets i, which will be described later, to an initial value 1 in accordance with a pre-assembled program, and then executes steps in the flowchart of FIG.
Sample stage 5 to obtain the first field of view, as shown in 18
Is stepped by a predetermined amount. Therefore, as shown in step 19 of FIG. 1, the scanning circuit 8 sends a scanning signal to the deflector 7 to two-dimensionally scan the sample 4 with the electron beam EB.
The original image data S1 (x, y) based on the detection signal obtained by this scanning is stored in the first memory 10. Therefore,
As shown in step 20 in FIG. 1, the central processing unit 13 reads out the original image data S1 (x, y), compares it with a preset reference level L1 and binarizes it, and then, in FIG. The particle distribution image data α1 (x, y) corresponding to the image shown is
It is stored in the memory 11 of. Note that x and y are parameters representing the position of each pixel. Next, as shown in step 20 of FIG. 1, the number of particles is counted based on the particle distribution image data α1 (x, y) corresponding to the first visual field stored in the second image memory 11. To do. The counting of the number of particles uses a known method of counting the number of particles while performing a labeling process by painting each particle image with different values. Particle distribution image data αi (x,
y) and count the number of particles by Ni,
When the maximum value among the values from 1 to Ni is represented by Mi, the data representing Ni thus counted is obtained in step 20.
Is stored in the attached memory 14 at. Next, as shown in step 21 of FIG. 1, the central processing unit 13 compares Ni with Mi-1 stored in the attached memory 14 to determine whether Ni is larger than Mi-1. In the processing for the first field of view, the actual value of M0 does not exist, so M0
Is set to 0. Ni> Mi in this judgment
If it is -1, that is, if YES is determined in step 21, the process proceeds to step 22 and Ni is stored in the attached memory 14 as Mi and αi (x, y) is a particle in the ith field of view. The maximum existing image data M (x, y) is stored in the third image memory 12. That is, for example, the particle distribution image data αi (x, y) of the i-th field of view is shown in FIG. 3 (b).
The field of view with the largest number of particles among the fields of view from the 1st to the (i-1) th field corresponds to the particle distribution image data αj (x, y) shown in FIG. 3 (c). If it is, Ni is larger than Mi-1 = Nj.
Is stored in the attached memory 14 as αi (x, y)
Are stored in the third image memory 12 as new M (x, y) instead of αj (x, y). If NO in step 21, the process directly goes from step 21 to step 23. In step 23, it is determined whether or not the image data corresponding to the visual field currently being processed is the nth visual field, which is the final visual field. If it is not the final visual field, step 18
Return to step 18 and repeat the process after step 18. When the processing for the final field of view is completed by performing such a series of processing, the image data M (x, of the field of view in which the number of particles is the largest in each field of view in the third image memory 12).
y) will be stored. Therefore, the image data M (x, y) from the third image memory 12 is read out, and this data is variously processed to further analyze the particle image in this image.
上述した実施例は本発明の実施例の一部に過ぎず、更に
変型して実施することができる。The above-described embodiment is only a part of the embodiment of the present invention, and can be modified and implemented.
例えば、上述した実施例においては、最大量の粒子が存
在する視野を判定するため、粒子分布画像データに基づ
いて粒子数を計数するようにしたが、一視野内における
粒子の面積の総和を求めるようにしても良い。For example, in the above-described embodiment, the number of particles is counted based on the particle distribution image data in order to determine the visual field in which the maximum amount of particles are present. However, the total area of particles within one visual field is calculated. You may do it.
更に又、上述した実施例においては、X線マイクロアナ
ライザによって得られる画像データを処理する場合に本
発明を適用したが、例えば光学顕微鏡によって取得され
た複数の視野に対する血球分布画像データに基づいて、
最も血球量が多く存在する視野に対応した血球分布画像
を自動的に判定する場合にも本発明は同様に適用でき
る。Furthermore, in the above-described embodiment, the present invention is applied when processing the image data obtained by the X-ray microanalyzer. However, for example, based on the blood cell distribution image data for a plurality of visual fields acquired by an optical microscope,
The present invention can be similarly applied to the case of automatically determining the blood cell distribution image corresponding to the visual field having the largest blood cell volume.
[発明の効果] 上述した説明から明らかなように本発明により、介在物
粒子が最も多く存在する被検試料上の視野を自動的に選
択でき、その選択された視野に対応した粒子分布画像デ
ータに基づいてその視野に存在する介在物粒子の分析を
行なうことができるので、たとえば鉄鋼等の粒子分布画
像データを単位面積の大きさの視野で得れば、鉄鋼等の
強度検査を高精度且つ短時間に行なうことができる。[Effects of the Invention] As is clear from the above description, according to the present invention, the visual field on the test sample in which most inclusion particles exist can be automatically selected, and the particle distribution image data corresponding to the selected visual field can be automatically selected. Since it is possible to analyze inclusion particles existing in the field of view based on the above, for example, if the particle distribution image data of steel or the like is obtained in the field of view of a unit area, the strength inspection of steel or the like can be performed with high accuracy. It can be done in a short time.
第1図は本発明の一実施例を示すためのフローチャート
であり、第2図は本発明を実施するための装置の一例を
示すための図、第3図は第1図のフローチャートの流れ
に沿って変化する画像データを説明するための図であ
る。 1:電子銃、2:反射電子検出器 3:集束レンズ、4:試料 5:試料ステージ、6:駆動機構 7:偏向器、8:走査回路 9:反射電子検出回路 10,11,12:画像メモリ 13:中央演算処理装置 14:試料ステージ制御回路 15:操作卓、16:CRT 17:試料ステージ制御回路FIG. 1 is a flow chart showing an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a view showing an example of an apparatus for carrying out the present invention, and FIG. 3 is a flow chart of the flow chart of FIG. It is a figure for demonstrating the image data which changes along. 1: electron gun, 2: backscattered electron detector 3: focusing lens, 4: sample 5: sample stage, 6: drive mechanism 7: deflector, 8: scanning circuit 9: backscattered electron detection circuit 10, 11, 12: image Memory 13: Central processing unit 14: Sample stage control circuit 15: Operator console, 16: CRT 17: Sample stage control circuit
Claims (1)
移して被検試料から粒子分布画像データを取得し、該粒
子分布画像データに含まれる粒子像の総数又は面積の総
和を求め、該求められた総数又は総和を記憶されている
粒子像の総数又は面積の総和と比較し、求められた前記
総数又は総和が記憶されている前記総数又は総和より大
きければ、求められた前記総数又は総和を新たな最大値
として記憶させると共に、この新たな最大値に対応した
粒子分布画像データを新たな粒子最大存在画像データと
して記憶させ、求められた前記総数又は総和が記憶され
ている前記総数又は総和より小さければ、記憶されてい
る前記総数又は総和を最大値として引き続き維持すると
共に、既に記憶されている粒子分布画像データを引き続
き粒子最大存在画像データとして維持する処理過程を繰
り返すことを特徴とする画像中における粒子像分析方
法。1. A particle size distribution image data is acquired from a test sample by shifting the field of view while maintaining a constant size of the field of view, and the total number or total area of particle images included in the particle size distribution image data is calculated, The obtained total number or total is compared with the total number or area of stored particle images, and if the obtained total number or total is greater than the stored total number or total, the obtained total number or While storing the total as a new maximum value, the particle distribution image data corresponding to the new maximum value is stored as new particle maximum presence image data, the total number obtained or the total number stored the total or If it is smaller than the total sum, the stored total number or total sum is continuously maintained as the maximum value, and the already stored particle distribution image data is continuously stored as the maximum particle presence image. Particle image analyzer method in an image in which and repeating the process to maintain the data.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61036923A JPH0695079B2 (en) | 1986-02-21 | 1986-02-21 | Particle image analysis method in images |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61036923A JPH0695079B2 (en) | 1986-02-21 | 1986-02-21 | Particle image analysis method in images |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62194449A JPS62194449A (en) | 1987-08-26 |
| JPH0695079B2 true JPH0695079B2 (en) | 1994-11-24 |
Family
ID=12483279
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61036923A Expired - Lifetime JPH0695079B2 (en) | 1986-02-21 | 1986-02-21 | Particle image analysis method in images |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0695079B2 (en) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6120845A (en) * | 1984-07-09 | 1986-01-29 | Toshiba Corp | Measuring device for singular part area frequency |
| JPS6123944A (en) * | 1984-07-12 | 1986-02-01 | Nippon Steel Corp | Method for measuring grain size of powdery and granular material |
-
1986
- 1986-02-21 JP JP61036923A patent/JPH0695079B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62194449A (en) | 1987-08-26 |
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