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JPH07105037B2 - Method and apparatus for forming protective film of metallic magnetic medium - Google Patents
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JPH07105037B2 - Method and apparatus for forming protective film of metallic magnetic medium - Google Patents

Method and apparatus for forming protective film of metallic magnetic medium

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Publication number
JPH07105037B2
JPH07105037B2 JP11507187A JP11507187A JPH07105037B2 JP H07105037 B2 JPH07105037 B2 JP H07105037B2 JP 11507187 A JP11507187 A JP 11507187A JP 11507187 A JP11507187 A JP 11507187A JP H07105037 B2 JPH07105037 B2 JP H07105037B2
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plasma
magnetic medium
roller
metal magnetic
recording layer
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JP11507187A
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英雄 黒川
力 三谷
武敏 米澤
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Panasonic Holdings Corp
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、強磁性体金属薄膜を記録層とするフィルム状
の金属磁性媒体の表面に、例えばダイヤモンド状炭素膜
(以後DLC膜と略称する)のような耐久性、すべり性に
優れた保護膜を量産性よく合成する薄膜形成方法及びそ
の装置に関するものである。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to the formation of, for example, a diamond-like carbon film (hereinafter abbreviated as DLC film) on the surface of a film-shaped metal magnetic medium having a ferromagnetic metal thin film as a recording layer. The present invention relates to a thin film forming method and apparatus for synthesizing such a protective film having excellent durability and slipperiness with high mass productivity.

従来の技術 金属磁性媒体は高密度記録に適した新しい媒体として、
従来から多くの報告がなされてきている。強磁性体金属
からなる記録層としてはノイズ低減等の特性改善を目的
として例えばCr,Ni等の非磁性金属やCoOのような強磁性
体金属の酸化物等の非磁性部分を一部有するものもある
が、それらにおいても基本となる磁気特性は強磁性体金
属によるものであり、以後本説明において強磁性体金属
からなる記録層としてはそれらすべてを含めたものを総
称するものとする。しかしこれら金属磁性媒体は記録層
が金属から構成されるために磁性ヘッド等との摺動によ
る摩擦が大きく、安定性,信頼性に課題があった。そこ
で記録層の保護を目的とした各種保護膜が、有機薄膜を
中心に検討されてきている。
Conventional technology Metal magnetic media is a new medium suitable for high density recording.
Many reports have been made from the past. The recording layer made of a ferromagnetic metal has a nonmagnetic portion such as an oxide of a nonmagnetic metal such as Cr or Ni or an oxide of a ferromagnetic metal such as CoO for the purpose of improving characteristics such as noise reduction. However, even in those cases, the basic magnetic characteristics are due to the ferromagnetic metal, and henceforth, in the present description, the recording layer including the ferromagnetic metal is collectively referred to as all of them. However, since the recording layer of these metal magnetic media is made of metal, friction with sliding against the magnetic head or the like is large, and there is a problem in stability and reliability. Therefore, various protective films for the purpose of protecting the recording layer have been studied mainly for organic thin films.

我々は、この保護膜として硬く良好な滑り性を示すダイ
ヤモンド状炭素膜(以下DLC膜と略称)が効果的である
ことを明らかにし(特願昭60−50031号:磁気記録媒
体)、金属磁性薄膜の保護膜合成に適した新しい成膜方
法を開発した(特願昭59−2252号:プラズマ・インジェ
クションCVD装置、特願昭59−258038号:高硬度炭素膜
形成方法)これは加速したイオンを含む炭化水素ガスの
プラズマを吹き付けてDLC膜を合成する方法で、我々は
プラズマ・インジェクションCVD法(PI−CVD法)と称し
ている。第6図に、PI−CVD装置の概略を示す。金属磁
性薄膜15は、真空槽3中の巻出しローラー4,巻取ローラ
ー6,回転ローラー7a〜eで構成される駆動系により走搬
される。プラズマ管1は先端がノズル状に絞られ、この
ノズル1aがキャンローラー6に相対するように設置さ
れ、外周には励起コイル8が巻き付けられる。プラズマ
管1の内部にはメッシュ状のアノード電極が設置され、
金属磁性薄膜15の記録層との間に電位差を生じる。記録
層は普通接地電位となっているが、シワ,カール,基板
の熱損傷を防止することを目的としてキャンローラー6
と金属磁性薄膜15の記録層との密着を高めるために、記
録層とキャンローラー6との間に電位差を設定する場合
がある。プラズマ管1に導入された炭化水素ガス13,ア
ルゴンガス14は、高周波電源11から整合器10を介して励
起コイルに印加された高周波電力によりプラズマ化され
る。プラズマ中のイオンは、アノード電極16と記録層と
の間の電位差により金属磁性媒体15方向に加速され、記
録層には電流が生じる。プラズマは、プラズマ管1と真
空槽3との間の圧力差により加速されたイオンとともに
記録層に吹き付けられ、DLC膜が合成される。
We clarified that a diamond-like carbon film (hereinafter abbreviated as DLC film), which is hard and has good slidability, is effective as this protective film (Japanese Patent Application No. 60-50031: magnetic recording medium), and metal magnetic We have developed a new film formation method suitable for thin protective film synthesis (Japanese Patent Application No. 59-2252: plasma injection CVD equipment, Japanese Patent Application No. 59-258038: high hardness carbon film formation method). This is a method for synthesizing a DLC film by spraying a plasma of a hydrocarbon gas containing hydrogen, which we call the plasma injection CVD method (PI-CVD method). FIG. 6 shows an outline of the PI-CVD apparatus. The metal magnetic thin film 15 is carried by a drive system composed of an unwinding roller 4, a winding roller 6, and rotating rollers 7a to 7e in the vacuum chamber 3. The tip of the plasma tube 1 is narrowed into a nozzle shape, the nozzle 1a is installed so as to face the can roller 6, and an excitation coil 8 is wound around the outer circumference. A mesh-shaped anode electrode is installed inside the plasma tube 1,
A potential difference is generated between the metal magnetic thin film 15 and the recording layer. The recording layer is normally at ground potential, but the can roller 6 is used for the purpose of preventing wrinkles, curls, and heat damage to the substrate.
In order to enhance the close contact between the metal magnetic thin film 15 and the recording layer, a potential difference may be set between the recording layer and the can roller 6. The hydrocarbon gas 13 and the argon gas 14 introduced into the plasma tube 1 are turned into plasma by the high frequency power applied from the high frequency power supply 11 to the excitation coil through the matching device 10. The ions in the plasma are accelerated in the direction of the metal magnetic medium 15 by the potential difference between the anode electrode 16 and the recording layer, and a current is generated in the recording layer. The plasma is sprayed onto the recording layer together with the ions accelerated by the pressure difference between the plasma tube 1 and the vacuum chamber 3 to synthesize the DLC film.

PI−CVD法の場合、プラズマ管1の先端をノズル状に絞
り、このノズル1aのコンダクタンスによりプラズマ管1
と真空槽3との間に圧力差を設定している。ラジカル等
プラズマ中の中性種はこの圧力差により効率的に記録層
に吹き付けられ、加速されたイオンと共にDLC膜を形成
する。このようにPI−CVD法ではプラズマ中のイオンと
中性種を圧力差を利用して効率よく利用することから、
高速でDLC膜を合成することが可能となるのである。PI
−CVD法によれば、成膜速度が3000Å/分以上の高速でD
LC膜が合成でき、量産性を必要とする金属磁性媒体の保
護膜として応用することが可能となった。
In the case of the PI-CVD method, the tip of the plasma tube 1 is squeezed into a nozzle shape, and the conductance of the nozzle 1a causes the plasma tube 1
And a pressure difference between the vacuum chamber 3 and the vacuum chamber 3. Neutral species in plasma such as radicals are efficiently sprayed to the recording layer due to this pressure difference, and form a DLC film together with accelerated ions. Thus, in the PI-CVD method, ions and neutral species in plasma are efficiently used by utilizing the pressure difference,
It is possible to synthesize DLC film at high speed. PI
-According to the CVD method, the film formation rate is 3000 Å / min or more.
The LC film can be synthesized and can be applied as a protective film for metal magnetic media that requires mass productivity.

連続に走行するフィルム状の金属磁性媒体の表面に膜を
形成する方法としては、他に特許公開No.60−38727もし
くは60−69825に示されたようなCVD法(第7図参照)が
報告されている。これは真空槽17内を連続して走行する
金属磁性媒体18表面に、真空槽17の一部に設置されるプ
ラズマ発生部19で励起されたプラズマが流出し、膜を合
成するものである。
As another method for forming a film on the surface of a continuously running film-shaped metal magnetic medium, the CVD method as shown in Patent Publication No. 60-38727 or 60-69825 (see FIG. 7) is reported. Has been done. In this, plasma excited by a plasma generation unit 19 installed in a part of the vacuum chamber 17 flows out to the surface of the metal magnetic medium 18 that continuously runs in the vacuum chamber 17, and a film is synthesized.

発明が解決しようとする問題点 しかしながらPI−CVD法を含む従来のCVD法で連続走行す
るフィルム状の金属磁性媒体表面にDLC膜を形成する場
合、成膜領域,成膜速度を高めて量産性を向上させよう
とすると次のような問題点を解決しなければならなかっ
た。
Problems to be Solved by the Invention However, when a DLC film is formed on the surface of a film-shaped metallic magnetic medium that continuously runs by a conventional CVD method including the PI-CVD method, the film formation area and film formation speed are increased to improve mass productivity. In order to improve, the following problems had to be solved.

第1に、PI−CVD装置では、プラズマ中の中性種を効率
よく金属磁性媒体15に吹きつけるためにプラズマ吹出部
をノズル状に絞り、プラズマ管1と真空槽3との間に圧
力差を設けなければならない。このためノズル1aの口径
を大きくして成膜領域を広げ量産に対応させることは極
めて困難であった。
First, in the PI-CVD apparatus, in order to efficiently blow the neutral species in the plasma onto the metallic magnetic medium 15, the plasma blowout portion is squeezed into a nozzle shape, and the pressure difference between the plasma tube 1 and the vacuum chamber 3 is reduced. Must be provided. For this reason, it was extremely difficult to increase the diameter of the nozzle 1a to expand the film formation area and cope with mass production.

また第7図に示す従来のCVD法では、成膜域21内で圧力
が均一になりにくいため膜質の制御が困難である。また
流量,ガス圧等によりプラズマの流れや成膜域21が変化
するために膜厚の制御も困難となる。さらに成膜速度を
高める(プラズマ密度を高める)と金属磁性媒体にプラ
ズマの熱が蓄積され熱損傷・熱変形を受けやすくなる。
またイオンの加速を目的として金属磁性媒体18の表面も
しくは真空槽・プラズマ発生部等に設置したアノード電
極にバイアスを印加した場合、プラズマ発生部19と真空
槽17内の圧力差が小さいために高成膜化を目ざしてプラ
ズマ発生部19のガス圧を高めるといたるところで火花放
電が発生しやすくなる。このため真空槽は少なくとも0.
1Pa以下の圧力に保持することが必要となる。
Further, in the conventional CVD method shown in FIG. 7, it is difficult to control the film quality because the pressure is unlikely to be uniform in the film formation region 21. Further, since the flow of plasma and the film forming region 21 change depending on the flow rate, gas pressure, etc., control of the film thickness becomes difficult. Further, if the film formation rate is increased (plasma density is increased), the heat of plasma is accumulated in the metallic magnetic medium, and the metal magnetic medium is easily damaged by heat and deformed.
Further, when a bias is applied to the surface of the metal magnetic medium 18 or the anode electrode installed in the vacuum chamber / plasma generating unit for the purpose of accelerating the ions, the pressure difference between the plasma generating unit 19 and the vacuum chamber 17 is small, and thus high. When the gas pressure of the plasma generating part 19 is increased in order to form a film, spark discharge is likely to occur everywhere. Therefore, the vacuum chamber should be at least 0.
It is necessary to keep the pressure below 1Pa.

第2に、PI−CVD法などのイオンを利用する場合、成膜
時には記録層に電流が生ずる。量産化に対応させるため
成膜速度を高めようとすると(PI−CVD法でDLC膜を合成
する場合、成膜速度を高めるには、プラズマ管内の圧
力、アノード電極と記録層との間の電位差を大きくす
る)、記録層に流れる電流が大きくなる。電流が流れる
と抵抗に応じてジュール熱が生じ、記録層は発熱する。
成膜速度を高めると記録層の発熱量が多くなり、記録層
の変質,DLC膜の剥がれ,時には基板(ベースフィルム)
・記録層の熱損傷といった問題点が生じる。この問題に
ついて第6図に示すPI−CVD法を例にあげ具体的に説明
する。
Secondly, when using ions such as the PI-CVD method, a current is generated in the recording layer during film formation. When trying to increase the deposition rate in order to support mass production (when synthesizing a DLC film by the PI-CVD method, in order to increase the deposition rate, the pressure inside the plasma tube, the potential difference between the anode electrode and the recording layer Is increased), the current flowing through the recording layer increases. When a current flows, Joule heat is generated according to the resistance, and the recording layer generates heat.
Increasing the deposition rate increases the amount of heat generated by the recording layer, causing deterioration of the recording layer, peeling of the DLC film, and sometimes the substrate (base film).
-Problems such as heat damage to the recording layer occur. This problem will be specifically described by taking the PI-CVD method shown in FIG. 6 as an example.

加速されたイオンを含むプラズマがノズル1aから金属磁
性媒体15に吹き付けられるとノズル1aから回転ローラー
7cにかけて電流が生じる。この例の場合、キャンローラ
ー6と金属磁性媒体15との密着を高めるために両者の間
には電位差が設定されている。巻出しローラー4,巻取ロ
ーラー5,及び回転ローラー7a〜dは無電位状態に設置さ
れ、回転ローラー7eから金属磁性媒体15表面の記録層電
位を設定する。そのため電流はノズル1aから回転ローラ
ー7eにおける金属磁性媒体15の表面を流れ、記録層に発
熱をおこす。流れる電流が大きいと必然的に発熱量も多
くなり、記録層の磁気特性が変化したり記録層とDLC膜
との付着力が劣化する。発熱による損傷は、回転ローラ
ー7cと7eの間が最もひどい。これは熱の逃げる所がない
ためである。これに比べてキャンローラー6に密着した
部分では熱がキャンローラーへ逃げるため、発熱による
損傷は少ない。しかし、金属磁性媒体15の変形等で密着
不足の所では熱損傷が生じる。このような熱損傷や記録
層の変質は、金属磁性媒体の特性を著しく劣化させると
共に信頼性も低下させる。
When a plasma containing accelerated ions is sprayed from the nozzle 1a onto the metal magnetic medium 15, the nozzle 1a rotates the roller.
An electric current is generated over 7c. In the case of this example, a potential difference is set between the can roller 6 and the metal magnetic medium 15 in order to enhance the close contact therebetween. The unwinding roller 4, the winding roller 5, and the rotating rollers 7a to 7d are installed in a potentialless state, and the recording layer potential on the surface of the metal magnetic medium 15 is set from the rotating roller 7e. Therefore, the current flows from the nozzle 1a to the surface of the metal magnetic medium 15 on the rotating roller 7e, and heat is generated in the recording layer. When the flowing current is large, the amount of heat generated inevitably increases, and the magnetic characteristics of the recording layer change or the adhesive force between the recording layer and the DLC film deteriorates. The damage due to heat generation is most severe between the rotating rollers 7c and 7e. This is because there is no place for heat to escape. In comparison with this, heat is radiated to the can roller at a portion in close contact with the can roller 6, so that damage due to heat generation is small. However, thermal damage occurs where the metal magnetic medium 15 is deformed or the like and adhesion is insufficient. Such heat damage and alteration of the recording layer significantly deteriorate the characteristics of the metal magnetic medium and reduce the reliability.

本発明は上記の点に鑑み、連続して走行するフィルム状
の金属磁性媒体表面に均質で制御しやすく広範囲にDLC
膜を合成できる量産性に適した金属磁性媒体の保護膜形
成方法およびその装置を提供することを目的とする。
In view of the above points, the present invention is a homogeneous and easy-to-control DLC over a continuously running film-shaped metal magnetic medium surface.
It is an object of the present invention to provide a method for forming a protective film for a metal magnetic medium suitable for mass production capable of synthesizing a film and an apparatus therefor.

問題点を解決するための手段 本発明において、これらの問題点を解決する手段として
は、プラズマ流出口と成膜ローラーとの間の隙間が均一
になるようにプラズマ管を設置し、この隙間を制御する
ことによりプラズマ管と第1の真空槽との圧力差を設定
しつつDLC膜を合成すること、また1つ以上の電位ロー
ラーを、成膜ローラー上及びその近傍の金属磁性媒体の
記録層に接触するよう設置することにより、電流で発生
するジュール熱を成膜ローラーへ効率よく放熱させ、熱
による損傷,特性劣化を防ぐことである。
Means for Solving Problems In the present invention, as a means for solving these problems, a plasma tube is installed so that the gap between the plasma outlet and the film-forming roller is uniform, and this gap is By controlling the pressure difference between the plasma tube and the first vacuum chamber while synthesizing the DLC film, one or more potential rollers are formed on the film-forming roller and in the vicinity of the recording layer of the metal magnetic medium. The Joule heat generated by the electric current is efficiently radiated to the film-forming roller by preventing the damage and the characteristic deterioration due to the heat.

作用 本発明の特徴は、プラズマ管のプラズマ流出口と成膜ロ
ーラーとの隙間を制御することによりコンダクタンスを
調整し、プラズマ管と第1の真空槽との間に圧力差を設
定するものである。ここでコンダクタンスとは、気体が
流れる時の抵抗(一般に排気抵抗と呼ばれている)の逆
数で、気体の流れやすさをあらわすものである。プラズ
マ管に導入されたガスは、プラズマ流出口を通じて主真
空槽に流出する。この時、プラズマ流出口と成膜ローラ
ーとの隙間を小さくすると排気抵抗が大きくなり(即ち
コンダクタンスが小さくなり)、ガスが流出しにくくな
ってプラズマ管と主真空槽との間に圧力差が生じる。プ
ラズマ流出口の大きさ・形状が変わってもこの隙間を適
切に制御することにより、コンダクタンスを一定に保つ
ことができる。従って真空槽内の圧力を0.1Pa以下に保
ちつつプラズマ管内圧力を高めることが可能で、さらに
プラズマ流出口を大きくすることができ、加えてこの時
プラズマ管内およびプラズマ流出口の圧力はほぼ均一に
保たれるため、広範囲にわたって制御性よく均質にDLC
膜を合成することができる。
Action The feature of the present invention is that the conductance is adjusted by controlling the gap between the plasma outlet of the plasma tube and the film forming roller, and the pressure difference is set between the plasma tube and the first vacuum chamber. . Here, conductance is the reciprocal of resistance when gas flows (generally called exhaust resistance), and represents the ease of gas flow. The gas introduced into the plasma tube flows out into the main vacuum chamber through the plasma outlet. At this time, if the gap between the plasma outlet and the film forming roller is made small, the exhaust resistance becomes large (that is, the conductance becomes small), and it becomes difficult for gas to flow out, and a pressure difference occurs between the plasma tube and the main vacuum chamber. . Even if the size and shape of the plasma outlet are changed, the conductance can be kept constant by appropriately controlling this gap. Therefore, the pressure in the plasma tube can be increased while keeping the pressure in the vacuum chamber at 0.1 Pa or less, and the plasma outlet can be further increased.In addition, the pressures in the plasma tube and the plasma outlet can be made almost uniform at this time. Since it is maintained, the DLC is uniformly and well controlled over a wide range.
Membranes can be synthesized.

また主真空槽の圧力がプラズマ管内の圧力に比べて1桁
以上低く保持されているため、イオンを加速するために
プラズマ管内に設置されたアノード電極にバイアスを印
加した場合でも、主真空槽内での火花放電は発生しにく
くなる。このためプラズマ管内の圧力やアノード電極に
印加するバイアスを大きくして、DLC膜の成膜速度を高
めることが可能となる。さらに本発明ではフィルム状の
金属磁性媒体を成膜ローラーに巻き付け、必要とあらば
成膜ローラーと記録層との間に電位差を設け張付力を高
めて走行させるために、成膜時に発生する熱はすみやか
に成膜ローラーに放熱されて金属磁性媒体の熱損傷・熱
変形は防止される。
Also, since the pressure in the main vacuum chamber is kept at least one digit lower than the pressure in the plasma tube, even if a bias is applied to the anode electrode installed in the plasma tube to accelerate the ions, The spark discharge at is less likely to occur. Therefore, the pressure inside the plasma tube and the bias applied to the anode electrode can be increased to increase the deposition rate of the DLC film. Further, in the present invention, the film-shaped metal magnetic medium is wound around the film-forming roller, and if necessary, a potential difference is provided between the film-forming roller and the recording layer to increase the sticking force so that the film is run. The heat is quickly dissipated to the film forming roller to prevent heat damage and heat deformation of the metal magnetic medium.

また、イオンを含むプラズマが媒体に吹き付けられる
と、アノード電極と電位ローラーとの間にプラズマおよ
び媒体の記録層を介して電流が生じる。成膜ローラーに
巻き付けて媒体を走行させるためには、巻始めと巻終わ
りの成膜ローラー近傍に規制ローラーが必要である(以
後前者を巻始め近接ローラー、後者を巻終わり近接ロー
ラーと略称する)。電位ローラーをプラズマ流出口と近
接ローラーとの間に設置すれば、電流はアノード電極か
らプラズマ,記録層を介して電位ローラーに流れる。電
流により記録層内に発生したジュール熱は、金属磁性媒
体が巻き付いている成膜ローラーへすみやかに放熱され
るため、熱による記録層の劣化・損傷や記録層とDLC膜
との付着力の劣化を防ぐことができる。記録層と成膜ロ
ーラーとの間に電位差を設けて成膜ローラーと金属磁性
媒体との張付力を強くすれば放熱がさらにすみやかとな
り、より効果的である。電位ローラーを複数個備え、適
切に選定された抵抗を直列に設置することで、電流を複
数に分離することができる。各電流系が互いに重ならな
いように電位ローラーを設定すれば、ジュール熱が分離
されたことになり、熱による特性劣化防止および成膜速
度の向上には効果的である。
When the plasma containing ions is blown onto the medium, a current is generated between the anode electrode and the potential roller through the plasma and the recording layer of the medium. In order to run the medium wound around the film forming roller, a regulating roller is required near the film forming roller at the beginning and end of winding (hereinafter, the former is referred to as a winding start proximity roller, and the latter is referred to as a winding end proximity roller). . If a potential roller is installed between the plasma outlet and the proximity roller, current flows from the anode electrode to the potential roller through the plasma and recording layer. The Joule heat generated in the recording layer due to the electric current is quickly radiated to the film-forming roller around which the magnetic metal medium is wound, so the heat deteriorates or damages the recording layer and the adhesion between the recording layer and the DLC film deteriorates. Can be prevented. If a potential difference is provided between the recording layer and the film-forming roller to increase the adhesion between the film-forming roller and the metal magnetic medium, the heat dissipation will be even quicker, which is more effective. By providing a plurality of potential rollers and installing appropriately selected resistors in series, the current can be separated into a plurality of currents. If the potential rollers are set so that the current systems do not overlap each other, the Joule heat is separated, which is effective for preventing the characteristic deterioration due to heat and improving the film formation rate.

実施例 第1図に本発明の第1の実施例を示す。フィルム状の金
属磁性媒体34(以下媒体と略称する)は、巻出しローラ
ー23から回転ローラー25a,bを経て成膜ローラー27に巻
き付けられ、回転ローラー25c,d,eを経て巻取りローラ
ー26に巻取られる。媒体34表面の記録層には、成膜ロー
ラー27との間に電位差ができるように電位ローラー24に
より電位が設定され、媒体34は成膜ローラー27へこの電
位差により強固に張付けられる。
Embodiment 1 FIG. 1 shows a first embodiment of the present invention. The film-shaped metal magnetic medium 34 (hereinafter abbreviated as medium) is wound around the film-forming roller 27 from the unwinding roller 23 via the rotating rollers 25a and 25b, and is wound on the winding roller 26 via the rotating rollers 25c, d and e. It is wound up. In the recording layer on the surface of the medium 34, a potential is set by the potential roller 24 so that a potential difference is formed between the medium 34 and the film forming roller 27, and the medium 34 is firmly attached to the film forming roller 27 by this potential difference.

主真空槽22,プラズマ管28内を真空ポンプにより10-2Pa
以下の圧力に設定した後、プラズマ管28内の圧力が0.5P
a以上の圧力となるように炭化水素ガス,アルゴンガス
を導入する。導入されたガスはプラズマ流出口36を通じ
て主真空槽22へ流出するが、この時、主真空槽22内の圧
力が0.1Pa以下の圧力となるように、成膜ローラー27と
プラズマ流出口36との間の隙間をZ軸移動台29により設
定する。成膜ローラー27とプラズマ流出口36との間の隙
間による低いコンダクタンスのために、プラズマ流出口
36がプラズマ発生部37の断面より大きな場合でもプラズ
マ管28内の圧力はほぼ均一に保たれる。プラズマ管28内
のガスは励起コイル31に印加される高周波電力によりプ
ラズマ化され、プラズマ中のイオンはアノード電極30と
記録層との間の電位差により媒体34方向に加速される。
イオンはアノード電極30と記録層との間の電気力線に沿
って加速され、プラズマ流出口36がプラズマ発生部37よ
り大きな場合でも電気力線がほぼ均一となるプラズマ流
出口36付近では均等に加速される。またプラズマ流出口
36付近のプラズマ密度は圧力が一定であることからほぼ
均一となる。このようにプラズマ流出口36付近ではプラ
ズマ密度、イオンの加速が共に均一で、記録層上に広範
囲にわたって膜質,膜厚にムラのない均一なDLC膜が制
御よく合成される。この時真空槽は10-1Pa以下の圧力を
保持しており、また高周波電力は副真空槽35によりシー
ルドされ主真空槽22内にはもれないために、主真空槽22
内のグロー放電は発生しない。また記録層およびアノー
ド電極30への印加電位を大きくしても、主真空槽22内で
の火花放電は発生しにくくなる。
The main vacuum tank 22 and plasma tube 28 are vacuum pumped to 10 -2 Pa
After setting the pressure below, the pressure in the plasma tube 28 becomes 0.5P.
Introduce hydrocarbon gas and argon gas so that the pressure is a or higher. The introduced gas flows out to the main vacuum tank 22 through the plasma outlet 36, at this time, the film forming roller 27 and the plasma outlet 36 so that the pressure in the main vacuum tank 22 is 0.1 Pa or less. The gap between them is set by the Z-axis moving table 29. Due to the low conductance due to the gap between the deposition roller 27 and the plasma outlet 36, the plasma outlet
Even when 36 is larger than the cross section of the plasma generating portion 37, the pressure in the plasma tube 28 is kept substantially uniform. The gas in the plasma tube 28 is turned into plasma by the high-frequency power applied to the excitation coil 31, and the ions in the plasma are accelerated toward the medium 34 by the potential difference between the anode electrode 30 and the recording layer.
Ions are accelerated along the line of electric force between the anode electrode 30 and the recording layer, and even if the plasma outlet 36 is larger than the plasma generator 37, the line of electric force is substantially uniform, and the ions are evenly distributed near the plasma outlet 36. Be accelerated. Also the plasma outlet
The plasma density around 36 is almost uniform because the pressure is constant. As described above, in the vicinity of the plasma outlet 36, the plasma density and the acceleration of ions are both uniform, and a uniform DLC film having uniform film quality and film thickness over a wide range can be synthesized with good control. At this time, the vacuum chamber holds a pressure of 10 -1 Pa or less, and since the high frequency power is shielded by the sub vacuum chamber 35 and does not leak into the main vacuum chamber 22, the main vacuum chamber 22
Glow discharge inside does not occur. Further, even if the potential applied to the recording layer and the anode electrode 30 is increased, spark discharge is less likely to occur in the main vacuum chamber 22.

イオンが記録層に到達すると、アノード電極30と電位ロ
ーラー24との間にプラズマおよび記録層を介して電流が
生じる。電流により生じる記録層内のジュール熱は、媒
体34が強固に張付いた成膜ローラーへすみやかに移動す
るため、熱による媒体34の熱損傷,CLD膜の剥れなどの問
題点は発生しにくい。また、主真空槽の圧力がプラズマ
管内の圧力に比べて1桁以上低く保持されているため、
イオンを加速するためにプラズマ管内に設置されたアノ
ード電極にバイアスを印加した場合でも、主真空槽内で
の火花放電は発生しにくくなる。このためプラズマ管内
の圧力やアノード電極に印加するバイアスを大きくし
て、DLC膜の成膜速度を高めることが可能となる。さら
に本発明ではフィルム状の金属磁性媒体を成膜ローラー
に巻き付け、必要とあらば成膜ローラーと記録層との間
に電位差を設け張付力を高めて走行させるために、成膜
時に発生する熱はすみやかに成膜ローラーに放熱されて
金属磁性媒体の熱損傷・熱変形は防止される。本実施例
では記録層と成膜ローラー24との間に電位差を設け張付
きを強固にしているが、熱損傷が生じない場合には電位
差を0とし、媒体34のテンションによる張付きのみでも
かまわない。
When the ions reach the recording layer, a current is generated between the anode electrode 30 and the potential roller 24 through the plasma and the recording layer. The Joule heat in the recording layer generated by the current quickly moves to the film forming roller to which the medium 34 is firmly attached, so problems such as heat damage to the medium 34 due to heat and peeling of the CLD film are unlikely to occur. . Moreover, since the pressure in the main vacuum chamber is kept lower than the pressure in the plasma tube by one digit or more,
Even when a bias is applied to the anode electrode installed in the plasma tube to accelerate the ions, spark discharge is less likely to occur in the main vacuum chamber. Therefore, the pressure inside the plasma tube and the bias applied to the anode electrode can be increased to increase the deposition rate of the DLC film. Further, in the present invention, the film-shaped metal magnetic medium is wound around the film-forming roller, and if necessary, a potential difference is provided between the film-forming roller and the recording layer to increase the sticking force so that the film is run. The heat is quickly dissipated to the film forming roller to prevent heat damage and heat deformation of the metal magnetic medium. In this embodiment, a potential difference is provided between the recording layer and the film-forming roller 24 to strengthen the sticking. However, if no thermal damage occurs, the potential difference may be set to 0 and only the sticking due to the tension of the medium 34 may be used. Absent.

励起コイル31が設置されたプラズマ発生部37を含むプラ
ズマ管28の外周は、副真空槽35により主真空槽22と同程
度の真空に保持される。これは成膜域の拡大と共にプラ
ズマ管28を大きくする時、大気圧によるプラズマ28の破
損を防ぐとともに、大気とプラズマ管28内の圧力差によ
りプラズマ管28が主真空槽22内へ押入されプラズマ流出
口36と成膜ローラー27との間の設定隙間が変化すること
を防止する。さらに励起コイル31に印加される高周波電
力が主真空槽22へ漏れることを防ぎ、かつプラズマ流出
口36から流出したガスが励起コイル31近傍へまわり込む
ことを防いでいる。このため励起コイル31へ高周波電力
を印加した時、プラズマ管28内以外、例えば主真空槽22
や副真空槽35内でのグロー放電は発生せず、また高周波
電力による走行系の変調も防止されている。本実施例で
はプラズマ流出口36と成膜ローラー27との間の隙間を調
整するにあたり、Z軸移動台29を用いてプラズマ管28全
体を移動したが、第2図に示すようにプラズマ流出口部
38とプラズマ発生管39を分割してジャバラ管41で接合
し、隙間調整治具40によりプラズマ流出口部38を移動調
整するような構成でもかまわない。
The outer circumference of the plasma tube 28 including the plasma generation unit 37 in which the excitation coil 31 is installed is held by the sub-vacuum tank 35 to a vacuum level similar to that of the main vacuum tank 22. This is to prevent the plasma 28 from being damaged by atmospheric pressure when the plasma tube 28 is enlarged with the expansion of the film formation area, and the plasma tube 28 is pushed into the main vacuum chamber 22 due to the pressure difference between the atmosphere and the plasma tube 28 and the plasma The set gap between the outlet 36 and the film forming roller 27 is prevented from changing. Further, the high frequency power applied to the excitation coil 31 is prevented from leaking to the main vacuum chamber 22, and the gas flowing out from the plasma outlet 36 is prevented from flowing into the vicinity of the excitation coil 31. Therefore, when high-frequency power is applied to the excitation coil 31, other than inside the plasma tube 28, for example, the main vacuum chamber 22
Glow discharge does not occur in the sub-vacuum tank 35, and modulation of the traveling system due to high-frequency power is prevented. In the present embodiment, in adjusting the gap between the plasma outlet 36 and the film forming roller 27, the entire plasma tube 28 was moved using the Z-axis moving table 29. However, as shown in FIG. Department
38 and the plasma generating tube 39 may be divided and joined by the bellows tube 41, and the gap adjusting jig 40 may be used to move and adjust the plasma outlet port 38.

プラズマ流出口部38と成膜ローラー27との間の隙間はプ
ラズマ流出口部38の大きさ・形状、必要とする圧力差な
どによって異なるが、300mm×120mmのプラズマ流出口を
用いた場合効率よくDLC膜を形成するには1mm以下の隙間
が必要であった。また本実施例においてプラズマ管内圧
力とDLC成膜速度との関係を検討したところ表1参照、D
LC膜を効率よく合成するためにはプラズマ管内の圧力を
0.5Pa以上にすることが必要で、さらには10Pa以上が望
ましい。
The gap between the plasma outlet 38 and the film forming roller 27 varies depending on the size and shape of the plasma outlet 38, the required pressure difference, etc., but when using a 300 mm × 120 mm plasma outlet, it is efficient. A gap of 1 mm or less was required to form the DLC film. In addition, when the relationship between the pressure in the plasma tube and the DLC film formation rate was examined in this example, see Table 1, D
In order to synthesize an LC film efficiently, the pressure inside the plasma tube should be
It is necessary to make it 0.5 Pa or more, more preferably 10 Pa or more.

第3図に本発明の第2の実施例を示す。プラズマ管46は
3個のプラズマ発生部43と1個の大きなプラズマ流出口
42とから構成されている。量産性を考慮してプラズマ流
出口42を大きくする場合、プラズマ発生部43を複数個設
けてもかまわない。プラズマ流出口42と成膜ローラー4
との隙間によるコンダクタンスが小さいため、プラズマ
管46内の圧力は一定となり、各プラズマ発生部に設置さ
れた励起コイルおよびアノード電極47に印加する高周波
電力,DCバイアスを同じくしておけば、プラズマ流出口4
2のプラズマ密度,イオンの加速状態はほぼ一定とな
る。従ってより広範囲に均一なDLC膜を合成することが
可能となる。
FIG. 3 shows a second embodiment of the present invention. The plasma tube 46 has three plasma generators 43 and one large plasma outlet.
It consists of 42 and. When the plasma outlet 42 is made large in consideration of mass productivity, a plurality of plasma generators 43 may be provided. Plasma outlet 42 and film forming roller 4
Since the conductance due to the gap between the plasma tube and the tube is small, the pressure in the plasma tube 46 is constant, and if the high-frequency power and DC bias applied to the excitation coil and the anode electrode 47 installed in each plasma generator are the same, the plasma flow Exit 4
The plasma density of 2 and the ion acceleration state are almost constant. Therefore, it becomes possible to synthesize a uniform DLC film in a wider range.

第4図に本発明の第3の実施例を示す。基本構成は、第
1の実施例とほぼ同じであるが、本実施例の特徴はプラ
ズマ流出口53と巻始め近接ローラー49aおよびプラズマ
流出口53と巻終わり近接ローラー49bとの間にそれぞれ
電位ローラー50a,bを設置し、各電位ローラー50a,bとDC
電源52a,bとの間に直列に可変抵抗51a,bを備えたことに
ある。本実施例の場合アノード電極54から電位ローラー
に流れる電流は、アノード電極54〜プラズマ〜記録層〜
電位ローラー50a〜可変抵抗51a〜DC電源52aの系とアノ
ード電極54〜プラズマ〜記録層〜電位ローラー50b〜可
変抵抗51b〜DC電源52bの2系統に分流する。(前者に流
れる電流をIa,後者をIbと称す。)各系の電流Ia,Ibは各
々がジュール熱により記録層の変質・特性劣化や記録層
とDLC膜との間の付着力が劣化することのない最大電流
(以後、許容電流と略称する)まで高めることが可能で
あるため、1つの電流系の許容電流値で限定される従来
例に比べてアノード電極と電位ローラーとの間に流れる
電流I(I=Ia+Ib)は、大きくできる。従って成膜速
度を大きくすることが可能となり、量産性に優れた媒体
を得ることができる。また電流Ia,Ibの比率は可変抵抗5
1a,bの比率を選定することで任意に設定することが可能
で(キルヒフォッフの法則による)、ジュール熱により
DLC膜との付着力が劣化するような記録層(例えば記録
層とDLC膜との熱膨張率が大きく異なる場合)表面に成
膜する場合には、Iaを大きくIbが小さくなるように可変
抵抗値51a,bの比率を設定することで成膜後の熱による
付着力劣化を防止することができる。本実施例の場合、
成膜ローラーに巻付いた媒体48の記録層に接するように
電位ローラー50a,bを設置したが、電流の大きさによっ
ては巻始めローラー49a,巻終わりローラー49bを電位ロ
ーラーとしてもかまわない。
FIG. 4 shows a third embodiment of the present invention. The basic structure is almost the same as that of the first embodiment, but the feature of this embodiment is that the plasma outlet 53 and the winding start proximity roller 49a and the potential roller between the plasma outlet 53 and the winding end proximity roller 49b, respectively. 50a, b installed, each potential roller 50a, b and DC
The variable resistors 51a and 51b are provided in series with the power sources 52a and 52b. In the case of the present embodiment, the current flowing from the anode electrode 54 to the potential roller is the anode electrode 54-plasma-recording layer-
The electric current is divided into two systems of potential roller 50a-variable resistor 51a-DC power source 52a and anode electrode 54-plasma-recording layer-potential roller 50b-variable resistor 51b-DC power source 52b. (The current flowing in the former is referred to as Ia and the latter is referred to as Ib.) The currents Ia and Ib in each system are deteriorated and deteriorated in characteristics of the recording layer due to Joule heat, and the adhesive force between the recording layer and the DLC film is deteriorated. Since it is possible to increase the maximum current (hereinafter abbreviated as "allowable current") without any problem, the current flows between the anode electrode and the potential roller as compared with the conventional example in which the allowable current value of one current system is limited. The current I (I = Ia + Ib) can be increased. Therefore, the film forming rate can be increased, and a medium excellent in mass productivity can be obtained. The ratio of currents Ia and Ib is variable resistor 5
It can be set arbitrarily by selecting the ratio of 1a and b (by Kirchoff's law), and by Joule heat
When forming a film on the surface of a recording layer (for example, when the thermal expansion coefficient of the recording layer and the DLC film differ greatly) that deteriorates the adhesion with the DLC film, adjust the variable resistance to increase Ia and decrease Ib. By setting the ratio of the values 51a and b, it is possible to prevent deterioration of the adhesive force due to heat after film formation. In the case of this embodiment,
Although the potential rollers 50a and 50b are provided so as to contact the recording layer of the medium 48 wound around the film forming roller, the winding start roller 49a and the winding end roller 49b may be used as the potential rollers depending on the magnitude of the current.

第5図に本発明の第4の実施例を示す。量産性を向上す
るために、1個の成膜ローラーに複数個のプラズマ管を
設置してもかまわない。ここでは第5図に示すようにプ
ラズマ管が2本の場合について説明する。第1のプラズ
マ流出口59aと第2のプラズマ流出口59bとの間には電位
ローラーが設置され、成膜ローラー58の巻始め側、巻終
わり側に設置された電位ローラー56a,56bとともに記録
層に電位を与える。電位ローラー59aと電位ローラー59c
との間の記録層に流れる電流は可変抵抗57aと57cの比率
によって「第1のアノード電極61a〜プラズマ〜第1の
プラズマ流出口59aと電位ローラー56a間の記録層〜電位
ローラー56a」と「第1のアノード電極61a〜プラズマ〜
第1のプラズマ流出口59aと電位ローラー56c間の記録層
〜電位ローラー56c」の2系統に分離する。同様に第2
のプラズマ管60bでDLC膜を合成する場合、「第2のアノ
ード電極61b〜プラズマ〜第2のプラズマ流出口59bと電
位ローラー56c間の記録層〜電位ローラー56c」と「第2
のアノード電極61b〜プラズマ〜第2のプラズマ流出口5
9bと電位ローラー56b間の記録層〜電位ローラー56b」の
2系統に電流が流れる。各電流系はお互いに重複する部
分がなく、ジュール熱はすみやかに成膜ローラー58に放
熱される。このためプラズマ管が2個の場合でも、熱に
よる媒体55の熱損傷・特性劣化はなく量産性に優れる。
プラズマ管数がさらに多くなった場合でも同様で、成膜
ローラーの巻始め,巻終わりおよび各プラズマ流出口間
に同電位の電位ローラーを設置すれば各プラズマ管から
の電流を重複することなく分離することができ、本発明
によれば量産性良く媒体を合成することができる。
FIG. 5 shows a fourth embodiment of the present invention. In order to improve mass productivity, a plurality of plasma tubes may be installed on one film forming roller. Here, the case where there are two plasma tubes as shown in FIG. 5 will be described. A potential roller is installed between the first plasma outlet 59a and the second plasma outlet 59b, and together with the potential rollers 56a and 56b installed on the winding start side and the winding end side of the film forming roller 58, the recording layer. Apply a potential to. Potential roller 59a and potential roller 59c
The electric current flowing in the recording layer between the variable resistances 57a and 57c is "the recording layer between the first anode electrode 61a-plasma-the first plasma outlet 59a and the potential roller 56a-the potential roller 56a". First Anode Electrode 61a-Plasma-
The recording layer between the first plasma outlet 59a and the potential roller 56c to the potential roller 56c "is separated into two systems. Similarly second
When synthesizing the DLC film with the plasma tube 60b of "2nd anode electrode 61b-plasma-recording layer between second plasma outlet 59b and potential roller 56c-potential roller 56c" and "second
Anode Electrode 61b ~ Plasma ~ Second Plasma Outlet 5
An electric current flows through two systems, that is, the recording layer between 9b and the potential roller 56b to the potential roller 56b ". Since the current systems do not overlap each other, the Joule heat is quickly radiated to the film forming roller 58. Therefore, even if there are two plasma tubes, there is no heat damage or characteristic deterioration of the medium 55 due to heat, and mass productivity is excellent.
The same applies when the number of plasma tubes increases. If the potential rollers of the same potential are installed between the start and end of the film formation roller and each plasma outlet, the current from each plasma tube can be separated without duplication. According to the present invention, the medium can be synthesized with good mass productivity.

発明の効果 本発明は強磁性体金属薄膜を記録層とするフィルム上の
金属磁性媒体の前記記録層表面に、連続して高速にダイ
ヤモンド状炭素膜を合成できる金属磁性媒体の保護膜形
成方法及びその装置を提供するものであり、耐久性,信
頼性に優れた金属磁性媒体を量産性良く得ることができ
その効果は非常に大きい。
EFFECT OF THE INVENTION The present invention provides a method for forming a protective film for a metal magnetic medium capable of continuously and rapidly synthesizing a diamond-like carbon film on the recording layer surface of a metal magnetic medium on a film having a ferromagnetic metal thin film as a recording layer, and The apparatus is provided, and a metal magnetic medium having excellent durability and reliability can be obtained with good mass productivity, and the effect is very large.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明の第1の実施例における薄膜形成装置の
原理図、第2図は同装置の一部分を変更した部分拡大
図、第3図は本発明の第2の実施例における薄膜形成装
置の原理図、第4図は本発明の第3の実施例における薄
膜形成装置の原理図、第5図は本発明の第5の実施例に
おける薄膜形成装置の原理図、第6図は従来のPI−CVD
装置の原理図、第7図は従来のプラズマCVD装置の原理
図である。 24……電位ローラー、27……成膜ローラー、28……プラ
ズマ管、36……プラズマ流出口。
FIG. 1 is a principle view of a thin film forming apparatus according to the first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a partially enlarged view of a part of the apparatus, and FIG. 3 is a thin film forming apparatus according to the second embodiment of the present invention. FIG. 4 is a principle diagram of an apparatus, FIG. 4 is a principle diagram of a thin film forming apparatus in a third embodiment of the present invention, FIG. 5 is a principle diagram of a thin film forming apparatus in a fifth embodiment of the present invention, and FIG. PI-CVD
FIG. 7 is a principle diagram of the apparatus, and FIG. 7 is a principle diagram of a conventional plasma CVD apparatus. 24 …… Potential roller, 27 …… Film forming roller, 28 …… Plasma tube, 36 …… Plasma outlet.

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】0.1Pa以下の圧力中を成膜ローラーに巻き
付いて連続走行する強磁性体金属からなる記録層を備え
たフィルム状の金属磁性媒体表面に、加速されたイオン
を含む0.5Pa以上の圧力に保持された炭化水素ガスのプ
ラズマを接触させ、前記記録層の表面にダイヤモンド状
炭素膜を合成する金属磁性媒体の保護膜形成方法。
1. A surface of a film-shaped metal magnetic medium having a recording layer made of a ferromagnetic metal that continuously wraps around a film-forming roller in a pressure of 0.1 Pa or less, and 0.5 Pa or more containing accelerated ions. A method of forming a protective film for a metal magnetic medium, which comprises bringing a plasma of a hydrocarbon gas held at a pressure of 1 to contact with the recording layer to synthesize a diamond-like carbon film.
【請求項2】強磁性体金属からなる記録層を備えたフィ
ルム状の金属磁性媒体を成膜ローラーに巻き付けて走行
させる走行系と、この走行系が内設される主真空槽と、
炭化水素ガスをプラズマ化する手段を備えたプラズマ発
生部およびこのプラズマを流出するプラズマ流出口を備
えたプラズマ管と、プラズマ中のイオンを金属磁性媒体
方向に加速する加速手段と、前記プラズマ管が内設され
る副真空槽とから構成された金属磁性媒体の保護膜形成
装置。
2. A running system in which a film-shaped metal magnetic medium having a recording layer made of a ferromagnetic metal is wound around a film-forming roller to run, and a main vacuum chamber in which the running system is installed.
A plasma generating unit having a plasma generating unit for converting hydrocarbon gas into plasma and a plasma outlet having a plasma outlet for discharging the plasma; an accelerating unit for accelerating ions in the plasma in the direction of the metal magnetic medium; An apparatus for forming a protective film for a metal magnetic medium, which is composed of an internal sub-vacuum tank.
【請求項3】プラズマ管が、成膜ローラーとプラズマ流
出口との間の隙間を均一になるように設置される特許請
求の範囲第2項記載の金属磁性媒体の保護膜形成装置。
3. The protective film forming apparatus for a metal magnetic medium according to claim 2, wherein the plasma tube is installed so that a gap between the film forming roller and the plasma outlet is uniform.
【請求項4】成膜ローラーとプラズマ流出口との間の隙
間が1.0mm以下である特許請求の範囲第3項記載の金属
磁性媒体の保護膜形成装置。
4. The protective film forming apparatus for a metal magnetic medium according to claim 3, wherein the gap between the film forming roller and the plasma outlet is 1.0 mm or less.
【請求項5】プラズマ流出口の断面積がプラズマ発生部
の断面積より大きい特許請求の範囲第3項記載の金属磁
性媒体の保護膜形成装置。
5. The protective film forming apparatus for a metal magnetic medium according to claim 3, wherein the cross-sectional area of the plasma outlet is larger than that of the plasma generating portion.
【請求項6】プラズマ管が複数のプラズマ発生部で構成
される特許請求の範囲第3項記載の金属磁性媒体の保護
膜形成装置。
6. A protective film forming apparatus for a metal magnetic medium according to claim 3, wherein the plasma tube is composed of a plurality of plasma generating sections.
【請求項7】走行系を構成する少なくとも一つのローラ
ーが、記録層の電位を設定する電位ローラーである特許
請求の範囲第2項記載の金属磁性媒体の保護膜形成装
置。
7. The protective film forming apparatus for a metal magnetic medium according to claim 2, wherein at least one roller constituting the running system is a potential roller for setting the potential of the recording layer.
【請求項8】電位ローラーが成膜ローラーと異なった電
位を持つ特許請求の範囲第7項記載の金属磁性媒体の保
護膜形成装置。
8. The protective film forming apparatus for a metal magnetic medium according to claim 7, wherein the potential roller has a potential different from that of the film forming roller.
【請求項9】電位ローラーが、成膜ローラーに巻き付い
た金属磁性媒体表面の記録層に接触するよう設置された
特許請求の範囲第8項記載の金属磁性媒体の保護膜形成
装置。
9. The protective film forming apparatus for a metal magnetic medium according to claim 8, wherein the potential roller is installed so as to come into contact with the recording layer on the surface of the metal magnetic medium wound around the film forming roller.
【請求項10】電位ローラーが、表面にまだダイヤモン
ド状炭素膜の合成されていない記録層と接触するように
設置された特許請求の範囲第8項記載の金属磁性媒体の
保護膜形成装置。
10. The protective film forming apparatus for a metal magnetic medium according to claim 8, wherein the potential roller is installed so as to come into contact with the recording layer on the surface of which the diamond-like carbon film is not yet synthesized.
【請求項11】加速手段が、プラズマ管内に設置された
アノード電極と記録層との電位差による特許請求の範囲
第2項記載の金属磁性媒体の保護膜形成装置。
11. The protective film forming apparatus for a metal magnetic medium according to claim 2, wherein the accelerating means uses a potential difference between the anode electrode and the recording layer installed in the plasma tube.
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