JPH07105155B2 - Programmable semiconductor integrated circuit - Google Patents
Programmable semiconductor integrated circuitInfo
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- JPH07105155B2 JPH07105155B2 JP63330896A JP33089688A JPH07105155B2 JP H07105155 B2 JPH07105155 B2 JP H07105155B2 JP 63330896 A JP63330896 A JP 63330896A JP 33089688 A JP33089688 A JP 33089688A JP H07105155 B2 JPH07105155 B2 JP H07105155B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、プログラマブル半導体集積回路に関し、特に
電気的に書き込み可能なプログラマブル素子が、2m行×
2n列(m,nは共に自然数)に配置されたメモリセルアレ
イを有するプログラマブル半導体集積回路に関する。Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a programmable semiconductor integrated circuit, and in particular, an electrically writable programmable element is 2 m rows ×
The present invention relates to a programmable semiconductor integrated circuit having memory cell arrays arranged in 2 n columns (m and n are both natural numbers).
従来、この種のプログラマブル半導体集積回路(以下、
PROMと云う)としては各種の方式が発表されており、通
常はニクロム等をメモリセルとして使用したヒユーズ式
PROMと、ベース開放のトランジスタをメモリセルとして
使用したジャンクション破壊式PROMとが、一般に知られ
ている。Conventionally, this type of programmable semiconductor integrated circuit (hereinafter,
Various methods have been announced for PROM), and is usually a fuse type that uses nichrome or the like as a memory cell.
A PROM and a junction destruction type PROM using an open base transistor as a memory cell are generally known.
これらのPROMの読出しおよびプログラム動作を、ジャン
クション破壊式PROMを例として説明する。第2図は、ベ
ース開放のトランジスタをメモリセルとして使用したジ
ャンクション破壊式PROMの一例を示す回路図である。The read and program operations of these PROMs will be described using a junction destruction PROM as an example. FIG. 2 is a circuit diagram showing an example of a junction destruction type PROM using an open base transistor as a memory cell.
メモリセルQ11〜Q4mは、コレクタを行線X1〜Xmに、エミ
ッタを列線Y1〜Y4にそれぞれ接続されており、行線X1〜
Xmは、それぞれ行選択回路1に導かれている。列線Y1〜
Y4は、ダイオードD1〜D4を通じてそれぞれ抵抗R6〜R9に
接続され、更にダイオードD5〜D12からなる列選択ダイ
オードマトリックスと出力回路3に接続されている。ま
た、アドレス端子A0,A1は、それぞれアドレス回路G1,G3
に接続され、それぞれの出力はアドレス回路G2,G4に接
続される。これらのアドレス回路の出力は、ダイオード
D5〜D12からなる列選択ダイオードマトリックスに連結
されている。チップセレクト端子CSはチップセレクト回
路4に接続され、チップセレクト回路4の出力は出力回
路3に接続されているが、チップセレクト端子CSの入力
レベルに対応して、出力回路3の活性/不活性が制御さ
れる。Memory cell Q 11 to Q 4m is a collector row line X 1 to X m, the emitter are respectively connected to the column lines Y 1 to Y 4, and the row lines X 1 ~
X m are respectively guided to the row selection circuit 1. Column line Y 1 ~
Y 4 is connected to the resistors R 6 to R 9 through the diodes D 1 to D 4 , respectively, and is further connected to the column selection diode matrix composed of the diodes D 5 to D 12 and the output circuit 3. The address terminals A 0 and A 1 are connected to the address circuits G 1 and G 3 respectively.
And their outputs are connected to address circuits G 2 and G 4 . The output of these address circuits is a diode
It is connected to a column selection diode matrix consisting of D 5 to D 12 . Although the chip select terminal CS is connected to the chip select circuit 4 and the output of the chip select circuit 4 is connected to the output circuit 3, the output circuit 3 is activated / inactivated according to the input level of the chip select terminal CS. Is controlled.
読出し動作時においては、チップセレクト端子CSおよび
チップセレクト回路4を介して、出力回路3が活性化さ
れた上で、行選択回路1により行線X1が選択された場合
および、アドレス端子A0,A1におけるレベルが、すべて
“L"レベルである場合を例にとると、アドレス回路G1,G
3の出力は“H"レベル、アドレス回路G2,G4の出力は“L"
レベルとなる。この結果列線Y1〜Y3は、ダイオードD1〜
D3を介して接続されている抵抗R6〜R8の電流が、それぞ
れ列選択ダイオードマトリックス内のダイオードD5,D6,
D8およびD9を通じて、“L"レベルの状態にあるアドレス
回路G2,G4に流れ込むため低レベルに抑制され、非選択
状態となる。この状態においては、列線Y4は、ダイオー
ドD4を介して接続されている抵抗R9の電流がアドレス回
路にて引張られることがないため、選択状態となる。In the read operation, the output circuit 3 is activated via the chip select terminal CS and the chip select circuit 4 and then the row line X 1 is selected by the row selection circuit 1 and the address terminal A 0. Taking the case where all the levels at, A 1 are "L" level as an example, the address circuits G 1 , G 1
3 output is “H” level, address circuits G 2 and G 4 output is “L”
It becomes a level. As a result, the column lines Y 1 to Y 3 are connected to the diodes D 1 to Y 3.
The currents in the resistors R 6 to R 8 connected via D 3 are respectively caused by the diodes D 5 , D 6 ,, in the column selection diode matrix.
Since it flows into the address circuits G 2 and G 4 in the “L” level state through D 8 and D 9 , it is suppressed to a low level and becomes a non-selected state. In this state, the column line Y 4 is in the selected state because the current of the resistor R 9 connected through the diode D 4 is not pulled by the address circuit.
上記の状態においては、選択されている列線Y4と行線X1
に接続されているメモリセルQ41が選択されているメモ
リセルで、このメモリセルQ41が未書込み状態にあれ
ば、抵抗R9を流れる電流は出力回路3に供給され、ま
た、書込み状態にあれば、抵抗R9を流れる電流は、ダイ
オードD4から書込み済状態のメモリセルQ41を通じて行
選択回路1に流れ込み、出力回路3には供給されない。
従つて、抵抗R9の電流が出力回路3に供給されるか否か
によつて出力回路3の状態が変り、その結果として、選
択されているメモリセルの内容が出力端子OUTから出力
される。以上が読出し時における動作説明である。In the above state, the selected column line Y 4 and row line X 1
If the memory cell Q 41 connected to the selected memory cell is the selected memory cell and this memory cell Q 41 is in the unwritten state, the current flowing through the resistor R 9 is supplied to the output circuit 3 and is set in the written state. If so, the current flowing through the resistor R 9 flows into the row selection circuit 1 from the diode D 4 through the written memory cell Q 41 , and is not supplied to the output circuit 3.
Therefore, the state of the output circuit 3 changes depending on whether or not the current of the resistor R 9 is supplied to the output circuit 3, and as a result, the content of the selected memory cell is output from the output terminal OUT. . The above is the description of the operation during reading.
一方、プログラム動作時においては、チップセレクト端
子CSおよびチップセレクト回路4を介して、出力回路3
が不活性化された上で、行選択回路1と、アドレス端子
A0,A1のレベル状態によつて決定されるアドレス回路G1
〜G4のレベルとにより、それぞれ行線および列線が選択
され、選択された行線と列線に接続されているメモリセ
ルに、出力端子OUTからプログラム電力(例えばパルス
状の定電流)を印加することにより、所定のプログラム
が形成される。ダイオードD1〜D4は、出力端子OUTから
印加されたプログラム電力が、列選択ダイオードマトリ
ックスを通じてアドレス回路G1〜G4および出力回路3に
流出するのを防止し、選択されているメモリセルに流入
するようにするために設けられている。On the other hand, during the program operation, the output circuit 3 is connected via the chip select terminal CS and the chip select circuit 4.
Is deactivated, the row selection circuit 1 and the address terminals are
A 0, the address circuit G 1 that is by connexion determined level state of the A 1
By the level of ~G 4, are respectively the row and column lines are selected, the memory cells connected to the selected row and column lines, the program power from the output terminal OUT (e.g. pulsed constant current) A predetermined program is formed by applying the voltage. The diodes D 1 to D 4 prevent the program power applied from the output terminal OUT from flowing out to the address circuits G 1 to G 4 and the output circuit 3 through the column selection diode matrix, and to the selected memory cell. It is provided to allow inflow.
上述した従来のプログラマブル半導体集積回路において
は、例えば、前記従来例の場合、読出し動作時およびプ
ログラム動作時に、列線を非選択とするために、アドレ
ス端子A0,A1が“L"レベルの時には、抵抗R6〜R8の電流
が、列選択ダイオードマトリックス内のダイオードD5,D
6,D8およびD9を通じて、出力側が“L"レベルの状態にあ
るアドレス回路G2,G4に流入する。この電流は読出し動
作時には常に存在し、電源電流の一部として消費されて
いることは明らかである。第2図の従来例は、出力端子
が1本の場合であるが、この出力数が増加するに従い、
列線を非選択にするための所要電流量は比例的に増大す
る。従つて、一般のLSIと同様にPROMの大容量化を進め
るに当つては、必然的に前記列線の数が増大し、選択す
べき列線以外の列線を非選択とするための電源電流量が
大幅に増大するため、PROMの大容量化に対し大きな障碍
になるという欠点がある。In the conventional programmable semiconductor integrated circuit described above, for example, in the case of the conventional example, the address terminals A 0 and A 1 are set to the “L” level in order to deselect the column lines during the read operation and the program operation. At times, the current in resistors R 6 -R 8 is driven by diodes D 5 , D in the column select diode matrix.
Through 6 , D 8 and D 9 , the output side flows into the address circuits G 2 and G 4 in the “L” level state. It is clear that this current is always present during the read operation and is consumed as part of the power supply current. In the conventional example of FIG. 2, the number of output terminals is one, but as the number of outputs increases,
The amount of current required to deselect a column line increases proportionally. Therefore, in order to increase the capacity of the PROM like a general LSI, the number of the column lines inevitably increases, and the power supply for deselecting the column lines other than the column line to be selected. Since the amount of current is greatly increased, it has a drawback that it is a great obstacle to increasing the capacity of the PROM.
本発明のプログラマブル半導体集積回路は、電気的に書
き込み可能なプログラマブル素子が、2m行×2n列(m、
nは共に自然数)に配置されたメモリセルアレイと、前
記2n列の列線をn本のアドレス入力によりデコードする
列選択回路および出力回路と、を少なくとも有するプロ
グラマブル半導体集積回路において、エミッタがそれぞ
れカソードが対応する列線に接続されるダイオードのア
ノードに接続され、ベースがそれぞれ対応する前記列選
択回路に接続されて、コレクタがそれぞれ前記出力回路
に共通に接続される2n個のトランジスタを備えて構成さ
れる。In the programmable semiconductor integrated circuit of the present invention, electrically writable programmable elements are 2 m rows × 2 n columns (m,
In a programmable semiconductor integrated circuit having at least a memory cell array arranged with n being a natural number and a column selection circuit and an output circuit for decoding the 2 n column lines by n address inputs, each of the emitters has a cathode. Are connected to the anodes of the diodes connected to the corresponding column lines, the bases are connected to the corresponding column selection circuits, and the collectors are each provided with 2 n transistors commonly connected to the output circuit. Composed.
次に、本発明について図面を参照して説明する。第1図
は、本発明の一実施例を示す回路図である。第1図に示
されるように、本実施例は、行選択回路1と、書込み回
路2と、出力回路3と、チップセレクト回路4と、メモ
リセルQ11〜Q4mと、ダイオードD1〜D4と、トランジスタ
Q1〜Q4と、列選択ダイオードマトリックスを形成するダ
イオードD5〜D12と、抵抗R1〜R5と、アドレス回路G1〜G
4と、を備えている。Next, the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, in this embodiment, a row selection circuit 1, a writing circuit 2, an output circuit 3, a chip selection circuit 4, memory cells Q 11 to Q 4m , and diodes D 1 to D. 4 and transistor
And Q 1 to Q 4, a diode D 5 to D 12 forming a column selection diode matrix, and a resistor R 1 to R 5, the address circuit G 1 ~G
4 and.
第1図において、本発明が、前述の第2図に示される従
来例と異なる特徴は、エミッタがそれぞれダイオードD1
〜D4を介して列線Y1〜Y4に接続され、ベースがそれぞれ
列選択ダイオードマトリックスを形成するダイオードD5
〜D12に接続され、且つコレクタがそれぞれ出力回路3
に接続される所定数のトランジスタQ1〜Q4が組込まれい
ることである。In FIG. 1, the present invention is different from the conventional example shown in FIG. 2 in that the emitters are diodes D 1 respectively.
It is connected to the column line Y 1 to Y 4 through to D 4, diode D 5 whose base forms a column selection diode matrix respectively
~ D 12 and collectors are output circuit 3 respectively
That is, a predetermined number of transistors Q 1 to Q 4 that are connected to each other are incorporated.
読出し動作時においては、従来例の場合と同様に、出力
回路3が活性化された上で、行選択回路1により行線X1
が選択された場合および、アドレス端子A0,A1における
レベルが、すべて“L"レベルである場合を例にとると、
アドレス回路G1,G3の出力は“H"レベル、アドレス回路G
2,G4の出力は“L"レベルとなる。このため、抵抗R1〜R3
に流れる電流は、それぞれ列選択ダイオードマトリック
ス内のダイオードD5,D6,D8およびD9を通じて“L"レベル
の状態にあるアドレス回路G2,G4に流れ込み、トランジ
スタQ1〜Q3のベースに対する電流の供給は行われない。
従つて、トランジスタQ1〜Q3はオフの状態となり、列線
Y1〜Y3は非選択状態となる。In the read operation, as in the case of the conventional example, the output circuit 3 is activated and then the row selection circuit 1 causes the row line X 1
For example, when is selected, and when the levels at the address terminals A 0 and A 1 are all “L” level,
The output of the address circuits G 1 and G 3 is at "H" level, and the address circuit G
The output of 2 and G 4 becomes “L” level. Therefore, the resistors R 1 to R 3
The current flowing in the transistors Q 1 to Q 3 flows into the address circuits G 2 and G 4 in the “L” level state through the diodes D 5 , D 6 , D 8 and D 9 in the column selection diode matrix, respectively. No current is supplied to the base.
Slave go-between, the transistor Q 1 ~Q 3 in a state of off, the column lines
Y 1 to Y 3 is in a non-selected state.
一方、抵抗R4を流れる電流は、アドレス回路に引張られ
ること無く、トランジスタ4にベース電流として供給さ
れるため、列線Y1は選択状態となつている。On the other hand, the current flowing through the resistor R 4 is supplied to the transistor 4 as the base current without being pulled by the address circuit, so that the column line Y 1 is in the selected state.
この選択状態にある列線Y4と行線X1とに接続されている
メモリセルQ41が選択されているメモリセルで、メモリ
セルQ41が未書込み状態にあれば、抵抗R4を流れる電流
はトランジスタQ4のベースからコレクタに流れ、更に、
抵抗R5に流れる電流と共に出力回路3に供給される。逆
に、選択されているメモリセルQ41が書込み状態にあれ
ば、抵抗R4を流れる電流は、トランジスタQ4のベース電
流として供給され、トランジスタQ4がオンとなつて、抵
抗R5を流れる電流と共に、ダイオードD4および書込み済
み状態にあるメモリセルQ41を通じて行選択回路1に流
れ込み、出力回路3に対する電流供給は行われない。If the memory cell Q 41 connected to the column line Y 4 and the row line X 1 in this selected state is the selected memory cell and the memory cell Q 41 is in the unwritten state, the resistor R 4 flows. Current flows from the base of transistor Q 4 to the collector, and
It is supplied to the output circuit 3 together with the current flowing through the resistor R 5 . Conversely, if there is a memory cell Q 41 that is selected in the write state, the current flowing through the resistor R 4 is supplied as a base current of the transistor Q 4, the transistor Q 4 is turned on and the summer, it flows through the resistor R 5 Along with the current, it flows into the row selection circuit 1 through the diode D 4 and the memory cell Q 41 in the written state, and the current is not supplied to the output circuit 3.
従つて、抵抗R4とR5の電流が出力回路3に供給されるか
否かによつて、出力回路3の動作状態が変わり、その結
果として、選択されているメモリセルQ41の内容が出力
回路3を介して出力端子OUTに現われる。Therefore, the operation state of the output circuit 3 changes depending on whether or not the currents of the resistors R 4 and R 5 are supplied to the output circuit 3, and as a result, the contents of the selected memory cell Q 41 are changed. It appears at the output terminal OUT through the output circuit 3.
以上の説明にて明らかなように、本実施例の読出し機能
としての作用は、前述の従来例の場合と同様である。As is clear from the above description, the operation as the reading function of this embodiment is the same as that of the above-mentioned conventional example.
一方、プログラム動作時においては、従来例の場合と同
様に、出力回路3が不活性化された上で、行選択回路1
と、アドレス端子A0,A1のレベル状態によつて決定され
るアドレス回路G1〜G4のレベルとにより、それぞれ行線
および列線が選択され、選択された行線と列線に接続さ
れているメモリセルに、出力端子OUTからプログラム電
力(例えばパルス状の定電流)を印加することにより、
所定のプログラムが形成される。ダイオードD1〜D4は、
出力端子OUTから印加されたプログラム電力が、列選択
ダイオードマトリックスを通じてアドレス回路G1〜G4お
よび出力回路3に流出するのを防止し、選択されている
メモリセルに流入するようにするために設けられてい
る。この場合の動作は、従来例の場合と同様である。On the other hand, during the program operation, the output circuit 3 is deactivated and the row selection circuit 1 is operated, as in the conventional example.
And the level of the address circuits G 1 to G 4 determined by the level state of the address terminals A 0 and A 1 respectively select the row line and the column line, and connect to the selected row line and column line. By applying program power (for example, pulsed constant current) from the output terminal OUT to the memory cell
A predetermined program is formed. The diodes D 1 to D 4 are
It is provided to prevent the program power applied from the output terminal OUT from flowing out to the address circuits G 1 to G 4 and the output circuit 3 through the column selection diode matrix and to flow into the selected memory cell. Has been. The operation in this case is similar to that in the conventional example.
以上説明したように、本実施例においては、列線におけ
る消費電流は、選択されている列線Y4に関わりを持つ抵
抗R4およびR5の電流と、出力側が“L"レベルになつてい
るアドレス回路G2およびG4に、ダイオードD5,D6,D8およ
びD9を通じて流入する抵抗R1〜R3の電流とに依る。一
方、前述の従来例における列線の消費電流は、選択され
ている列線Y4に関わりを持つ抵抗R9の電流と、出力側が
“L"レベルになつているアドレス回路G2およびG4に、ダ
イオードD5,D6,D8およびD9を通じて流入する抵抗R6〜R8
の電流とに依つている。As described above, in the present embodiment, the current consumption in the column line depends on the current of the resistors R 4 and R 5 related to the selected column line Y 4 and the “L” level on the output side. To the addressing circuits G 2 and G 4 through the diodes D 5 , D 6 , D 8 and D 9 through the resistors R 1 to R 3 . On the other hand, the current consumption of the column line in the above-mentioned conventional example is the current of the resistor R 9 related to the selected column line Y 4 and the address circuits G 2 and G 4 whose output side is at “L” level. The resistances R 6 to R 8 flowing in through diodes D 5 , D 6 , D 8 and D 9.
It depends on the current of.
以下に、本実施例と従来例とにおける列線の消費電流の
大小の比較説明を行う。上述の選択されている列線Y4に
関わる。従来例における抵抗R9を流れる電流と本実施例
における抵抗R4およびR5を流れる電流は、読出し機能上
同一の電流に設定される。従来例において、選択されて
いるメモリセルが書込み状態にあれば、選択された列線
Y4の電位をV1電源電圧をVcc、ダイオードD4の電圧降下
をV2とすると、抵抗R9に流れる消費電流I1は次式にて与
えられる。Below, a comparison of the magnitude of the current consumption of the column lines between the present embodiment and the conventional example will be explained. Related to the selected column line Y 4 above. The current flowing through the resistor R 9 in the conventional example and the current flowing through the resistors R 4 and R 5 in this embodiment are set to the same current in terms of the read function. In the conventional example, if the selected memory cell is in the write state, the selected column line
Assuming that the potential of Y 4 is V 1 power supply voltage is Vcc and the voltage drop of the diode D 4 is V 2 , the consumption current I 1 flowing through the resistor R 9 is given by the following equation.
I1=(Vcc−V1−V2)/R9……… (1) 一方、本実施例において、オンの状態にあるトランジス
タQ4のコレクタとエミッタ間の電位差をV3、ベースとエ
ミッタ間の電位差をV4とすると、抵抗R4およびR5に流れ
る消費電流I2は次式にて与えられる。I 1 = (Vcc-V 1 -V 2 ) / R 9 (1) On the other hand, in the present embodiment, the potential difference between the collector and the emitter of the transistor Q 4 in the on state is V 3 , and the base and the emitter. If the potential difference between them is V 4 , the consumption current I 2 flowing through the resistors R 4 and R 5 is given by the following equation.
I2=(Vcc−V1−V2−V3)/R5+(Vcc−V1−V2−V4)/
R4…… (2) トランジスタQ4のエミッタ接地電流増幅率をβとする
と、抵抗R5に流れる電流は抵抗R4に流れる電流のβ倍で
あれば良いため、抵抗R4は、抵抗R5に比較して非常に高
い抵抗値(R4≫R5)で良いことが分る。また、オンして
いるトランジスタQ4のコレクタとエミッタ間の電位差V3
は、通常0.1〜0.3V程度の微小電圧であるため、上記電
流I2は、近似的に次式にて表わされる。 I 2 = (Vcc-V 1 -V 2 -V 3) / R 5 + (Vcc-V 1 -V 2 -V 4) /
R 4 (2) If the grounded emitter current amplification factor of the transistor Q 4 is β, the current flowing through the resistor R 5 may be β times the current flowing through the resistor R 4 , so the resistor R 4 is It turns out that the resistance value (R 4 >> R 5 ) is much higher than that of 5 . In addition, the potential difference V 3 between the collector and the emitter of the transistor Q 4 which is on.
Is a minute voltage of about 0.1 to 0.3 V, the current I 2 is approximately represented by the following equation.
I2≒(Vcc−V1−V2)/R5………… (3) 従つて、本実施例における抵抗R5の値を、従来例におけ
る抵抗R9の値に等しく設定しておけば、消費電流I1およ
びI2の値は、ほぼ等しくなることが分る(I1≒I2)。従
つて、選択されているメモリセルが未書込みの状態にあ
れば、従来例および本実施例における選択された列線Y4
の消費電流は同一となる。“L"レベルの状態にあるアド
レス回路の出力側の電圧をV5、ダイオードD5、D6、D8お
よびD9のそれぞれの電圧降下をV6とすると、従来例にお
ける列線の消費電流IP1は、R6=R7=R8=R9より、R
9を、抵抗R6、R7、R8およびR9の代表として表わすと、
選択された列線Y4の消費電流I1に対応して、次式にて与
えられる。I 2 ≈ (Vcc-V 1 -V 2 ) / R 5 (3) Therefore, the value of the resistor R 5 in this embodiment should be set equal to the value of the resistor R 9 in the conventional example. For example, it can be seen that the values of the consumption currents I 1 and I 2 are almost equal (I 1 ≈I 2 ). Therefore, if the selected memory cell is in the unwritten state, the selected column line Y 4 in the conventional example and the present embodiment is selected.
Current consumption is the same. If the voltage on the output side of the address circuit in the “L” level state is V 5 , and the voltage drop of each of the diodes D 5 , D 6 , D 8 and D 9 is V 6 , the current consumption of the column line in the conventional example is I P1 is R 6 = R 7 = R 8 = R 9
9, when expressed as a representative of the resistance R 6, R 7, R 8 and R 9,
Corresponding to the current consumption I 1 of the selected column line Y 4 , it is given by the following equation.
IP1=I1+3×(Vcc−V5−V6)/R9…… (4) 一方、本実施例における列線の消費電流IP2は、R1=R2
=R3=R4より、R4を、抵抗R1、R2、R3およびR4の代表と
して表わすと、選択された列線Y4の消費電流I2に対応し
て、次式にて与えられる。I P1 = I 1 + 3 × (Vcc−V 5 −V 6 ) / R 9 (4) On the other hand, the column line current consumption I P2 in this embodiment is R 1 = R 2
= From R 3 = R 4, and R 4, expressed as a representative of the resistance R 1, R 2, R 3 and R 4, in response to the consumption current I 2 of the column lines Y 4 selected, the following formula Given.
IP2=I2+3×(Vcc−V5−V6)/R4…… (5) 上記(4)式および(5)式より、従来例と本実施例に
おける列線Y1〜Y4の消費電流の差異は、I1≒I2の条件を
導入して次式にて表わされる。I P2 = I 2 + 3 × (Vcc−V 5 −V 6 ) / R 4 (5) From the above equations (4) and (5), the column lines Y 1 to Y 4 in the conventional example and the present example are obtained. The difference in current consumption of is expressed by the following equation by introducing the condition of I 1 ≈I 2 .
ΔIP=3×[(Vcc−V5−V6)/R9−(Vcc−V5−V6)/
R4]…… (6) 上記(6)式より、消費電流差異ΔIP=IP1−IP2は、抵
抗R9およびR4の抵抗値の差異により影響を受けることが
分る。前述のように、R4≫R9であるため、例えば、トラ
ンジスタQ4のエミッタ接地電流増幅率を20とすると、
(抵抗R9の抵抗値)×20=(抵抗R4の抵抗値)とするこ
とが可能となり、この場合には、前記消費電流差異ΔIP
は、次の(7)式にて与えられる。 ΔI P = 3 × [(Vcc -V 5 -V 6) / R 9 - (Vcc-V 5 -V 6) /
R 4 ] ... (6) From the above formula (6), it can be seen that the difference in consumption current ΔI P = I P1 −I P2 is affected by the difference in resistance values of the resistors R 9 and R 4 . As described above, since R 4 >> R 9 , for example, assuming that the grounded-emitter current amplification factor of the transistor Q 4 is 20,
(Resistance value of the resistor R 9 ) × 20 = (Resistance value of the resistor R 4 ), and in this case, the consumption current difference ΔI P
Is given by the following equation (7).
ΔIP=[3×(Vcc−V5−V6)/R4]×(19/20)……
(7) すなわち、非選択列線の消費電流は、本実施例において
は、従来例における消費電流に比較して95%も少なくな
ることが分る。 ΔI P = [3 × (Vcc -V 5 -V 6) / R 4] × (19/20) ......
(7) That is, it can be seen that the current consumption of the non-selected column line is 95% smaller in the present embodiment than the current consumption in the conventional example.
なお、上記の説明においては、列線が4本の場合につい
て動作説明をしたが、一般的に列線数をk(kは自然
数)本とした場合には、(7)式は、次式にて与えられ
る。In the above description, the operation has been described for the case of four column lines. Generally, when the number of column lines is k (k is a natural number), equation (7) is Given in.
ΔIP=[(K−1)×(Vcc−V5−V6)/R4]×(19/2
0)…… (8) (8)式により明らかなように、列線数の増大に伴い、
従来例と本発明とにおける列線の消費電流差異ΔIPは、
ほぼ列線数に対して比例的に増加してゆく。と言うこと
は、本発明の適用により、列線数の増大に伴い、列線の
消費電流量は、従来例の場合に対比して、列線数に対
し,ほぼ比例的に減少してゆくということ示している。 ΔI P = [(K-1 ) × (Vcc-V 5 -V 6) / R 4] × (19/2
0) (8) As is clear from the equation (8), as the number of column lines increases,
The difference in current consumption ΔI P of the column line between the conventional example and the present invention is
It increases in proportion to the number of line lines. This means that, by applying the present invention, as the number of column lines increases, the current consumption of the column lines decreases almost proportionally to the number of column lines as compared with the case of the conventional example. It shows that.
また、上記の実施例においては、一例として、ジャンク
ション破壊式PROMの場合について説明をしたが、その他
のヒューズ式等のPROMについても、同様に本発明が適用
できることは言うまでもない。Further, in the above embodiment, the case of the junction destruction type PROM has been described as an example, but it goes without saying that the present invention can be similarly applied to other fuse type PROMs.
以上、詳細に説明したように、本発明は、プログラマブ
ル半導体集積回路において、エミッタが列線に接続さ
れ、ベースが列選択回路に接続され、コレクタが出力回
路に接続されるトランジスタを設けることにより、列線
の消費電流を大幅に低減することが可能となり、消費電
流の小さい大容量のPROMを含むプログラマブル半導体集
積回路を提供することができるという効果がある。As described above in detail, according to the present invention, in a programmable semiconductor integrated circuit, by providing a transistor in which an emitter is connected to a column line, a base is connected to a column selection circuit, and a collector is connected to an output circuit, It is possible to significantly reduce the current consumption of the column line, and it is possible to provide a programmable semiconductor integrated circuit including a large-capacity PROM with low current consumption.
第1図は、本発明の一実施例を示す回路図、第2図は、
従来例の回路図である。 図において、1……行選択回路、2……書込み回路、3
……出力回路、4……チップセレクト回路、Q1〜Q4……
トランジスタ、R1〜R9……抵抗、D1〜D12……ダイオー
ド、G1〜G4……アドレス回、Q11〜Q4m……メモリセル。FIG. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of the present invention, and FIG.
It is a circuit diagram of a prior art example. In the figure, 1 ... Row selection circuit, 2 ... Writing circuit, 3
...... Output circuit, 4 …… Chip select circuit, Q 1 to Q 4 ……
Transistors, R 1 to R 9 ...... Resistors, D 1 to D 12 ...... Diodes, G 1 to G 4 ...... Address times, Q 11 to Q 4 m ...... Memory cells.
Claims (1)
子が、2m行×2n列(m、nは共に自然数)に配置された
メモリセルアレイと、前記2n列の列線をn本のアドレス
入力によりデコードする列選択回路および出力回路と、
を少なくとも有するプログラマブル半導体集積回路にお
いて、エミッタがそれぞれカソードが対応する列線に接
続されるダイオードのアノードに接続され、ベースがそ
れぞれ対応する前記列選択回路に接続されて、コレクタ
がそれぞれ前記出力回路に共通に接続される2n個のトラ
ンジスタを備えることを特徴とするプログラマブル半導
体集積回路。1. A memory cell array in which electrically writable programmable elements are arranged in 2 m rows × 2 n columns (m and n are both natural numbers), and the column lines of the 2 n columns are n addresses. A column selection circuit and an output circuit for decoding by input,
In a programmable semiconductor integrated circuit having at least, an emitter is connected to an anode of a diode whose cathode is connected to a corresponding column line, a base is connected to the corresponding column selection circuit, and a collector is connected to the output circuit, respectively. A programmable semiconductor integrated circuit comprising 2 n transistors connected in common.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63330896A JPH07105155B2 (en) | 1988-12-27 | 1988-12-27 | Programmable semiconductor integrated circuit |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63330896A JPH07105155B2 (en) | 1988-12-27 | 1988-12-27 | Programmable semiconductor integrated circuit |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02177096A JPH02177096A (en) | 1990-07-10 |
| JPH07105155B2 true JPH07105155B2 (en) | 1995-11-13 |
Family
ID=18237713
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63330896A Expired - Lifetime JPH07105155B2 (en) | 1988-12-27 | 1988-12-27 | Programmable semiconductor integrated circuit |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07105155B2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5483085A (en) * | 1994-05-09 | 1996-01-09 | Motorola, Inc. | Electro-optic integrated circuit with diode decoder |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58179995A (en) * | 1982-04-15 | 1983-10-21 | Toshiba Corp | Semiconductor storage device |
-
1988
- 1988-12-27 JP JP63330896A patent/JPH07105155B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02177096A (en) | 1990-07-10 |
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