JPH07110985B2 - プラズマ溶射方法及びその装置 - Google Patents
プラズマ溶射方法及びその装置Info
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- JPH07110985B2 JPH07110985B2 JP3151029A JP15102991A JPH07110985B2 JP H07110985 B2 JPH07110985 B2 JP H07110985B2 JP 3151029 A JP3151029 A JP 3151029A JP 15102991 A JP15102991 A JP 15102991A JP H07110985 B2 JPH07110985 B2 JP H07110985B2
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Landscapes
- Coating By Spraying Or Casting (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、母材の表面に耐摩耗
性、耐食性、電気導電性、電気絶縁性等の機能を有する
皮膜を形成するプラズマ溶射に於いて、緻密性、密着性
等に優れた溶射皮膜を形成するプラズマ溶射方法及びそ
の装置に関するものである。
性、耐食性、電気導電性、電気絶縁性等の機能を有する
皮膜を形成するプラズマ溶射に於いて、緻密性、密着性
等に優れた溶射皮膜を形成するプラズマ溶射方法及びそ
の装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】プラズマ溶射に用いられる溶射材料は、
通常、直径が１０〜６０μｍ程度の粉末である。この粉
末状溶射材料は給粉ノズルを通してキャリヤガスと共に
プラズマフレームに向けて送給される。このプラズマフ
レームの中に入った粉末状の溶射材料はプラズマフレー
ムにより加熱されて溶融滴となり、プラズマフレームの
流れにより加速されて母材表面に吹きつけられ、衝突し
て付着し溶射皮膜を形成する。
通常、直径が１０〜６０μｍ程度の粉末である。この粉
末状溶射材料は給粉ノズルを通してキャリヤガスと共に
プラズマフレームに向けて送給される。このプラズマフ
レームの中に入った粉末状の溶射材料はプラズマフレー
ムにより加熱されて溶融滴となり、プラズマフレームの
流れにより加速されて母材表面に吹きつけられ、衝突し
て付着し溶射皮膜を形成する。
【０００３】しかるに、プラズマフレームは数１００〜
数１０００ｍ／ｓｅｃと速度が速いので、供給された粉
末状の溶射材料がすべてプラズマフレーム中に達するの
はむずかしく、該溶射材料の一部、特に径の小さな粒子
はプラズマフレームの外周部に接して加熱され、直にプ
ラズマフレームの外部に弾き飛ばされるという現象が生
ずる。弾き飛ばされた溶射粒子は短時間であれ高温のプ
ラズマフレームにより加熱され、又、空気中の酸素と表
面が反応しヒューム（煙）状となりプラズマフレームの
周囲を飛散しながら母材に向けて吹きつけられる。この
ヒュームはプラズマフレームに接したときに溶融され、
その後飛散中に空気により冷却され球状となり固まった
状態で母材に吹きつけらる場合が一般的である。又、溶
射材料の沸点が低い場合には、プラズマフレーム中で溶
射粒子が加熱され、粒子表面温度が沸点に達すると該溶
射材料が気化し、これがプラズマフレームの外周で冷却
され微細な個体粒子なり、ヒュームとなることもある。
数１０００ｍ／ｓｅｃと速度が速いので、供給された粉
末状の溶射材料がすべてプラズマフレーム中に達するの
はむずかしく、該溶射材料の一部、特に径の小さな粒子
はプラズマフレームの外周部に接して加熱され、直にプ
ラズマフレームの外部に弾き飛ばされるという現象が生
ずる。弾き飛ばされた溶射粒子は短時間であれ高温のプ
ラズマフレームにより加熱され、又、空気中の酸素と表
面が反応しヒューム（煙）状となりプラズマフレームの
周囲を飛散しながら母材に向けて吹きつけられる。この
ヒュームはプラズマフレームに接したときに溶融され、
その後飛散中に空気により冷却され球状となり固まった
状態で母材に吹きつけらる場合が一般的である。又、溶
射材料の沸点が低い場合には、プラズマフレーム中で溶
射粒子が加熱され、粒子表面温度が沸点に達すると該溶
射材料が気化し、これがプラズマフレームの外周で冷却
され微細な個体粒子なり、ヒュームとなることもある。
【０００４】プラズマ溶射に於いては、粘性の低い溶融
滴が母材に吹きつけられて平らにのびて層構造（ラメ
ラ）となり、このラメラが積み重なって緻密な膜を形成
することになる。ところが、既に固まっているヒューム
が母材に吹きつけられてもラメラとはならず、その上に
溶融滴が堆積すると母材上のヒュームの影の部分は空隙
となり緻密な膜とはならず、また、母材と溶射皮膜との
密着力は著しく低下する。
滴が母材に吹きつけられて平らにのびて層構造（ラメ
ラ）となり、このラメラが積み重なって緻密な膜を形成
することになる。ところが、既に固まっているヒューム
が母材に吹きつけられてもラメラとはならず、その上に
溶融滴が堆積すると母材上のヒュームの影の部分は空隙
となり緻密な膜とはならず、また、母材と溶射皮膜との
密着力は著しく低下する。
【０００５】例えば、シリコンをプラズマ溶射するとプ
ラズマフレームの周囲に多量のヒュームが発生し、これ
が母材にシリコンの溶融滴と共に吹きつけられ、この結
果溶射皮膜には多くの空隙が含まれ、所謂すかすかした
緻密性に乏しく、且つ母材との密着力の弱い溶射皮膜と
なるので問題となっている。又、クロミヤのプラズマ溶
射の場合にも、シリコンと同様に多量のヒュームが発生
し、ヒュームが溶射皮膜に含まれると耐摩耗性が低下す
ると共に、母材の溶射面以外にも多くのヒュームが付着
しスス状の黒色を呈し、溶射により形成した製品の商品
性が著しく損なわれている。溶射面以外へのヒュームの
付着を防ぐためにはマスキングが必要となりコスト増も
問題となっている。
ラズマフレームの周囲に多量のヒュームが発生し、これ
が母材にシリコンの溶融滴と共に吹きつけられ、この結
果溶射皮膜には多くの空隙が含まれ、所謂すかすかした
緻密性に乏しく、且つ母材との密着力の弱い溶射皮膜と
なるので問題となっている。又、クロミヤのプラズマ溶
射の場合にも、シリコンと同様に多量のヒュームが発生
し、ヒュームが溶射皮膜に含まれると耐摩耗性が低下す
ると共に、母材の溶射面以外にも多くのヒュームが付着
しスス状の黒色を呈し、溶射により形成した製品の商品
性が著しく損なわれている。溶射面以外へのヒュームの
付着を防ぐためにはマスキングが必要となりコスト増も
問題となっている。
【０００６】この発明は、上記事情に鑑み、緻密で且つ
母材との密着力の大きい溶射皮膜を得ることを目的とす
る。
母材との密着力の大きい溶射皮膜を得ることを目的とす
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】プラズマフレームの周囲
に発生しているヒュームは、前述の通りプラズマフレー
ム中に達している溶融滴よりも粒径か小さく、且つ、母
材に向けての飛行速度が遅い、という性質をもってい
る。従って、ヒュームは溶融滴と比較して、母材方向へ
の移動する運動量が小さい。本発明者は、この点に着目
し、母材に向かう溶融滴の飛行に大きな影響を与えず
に、プラズマフレーム周囲のヒュームを除去することが
可能であることを見出し、本発明に至ったものである。
この発明は、高温のプラズマフレーム中に溶射材料を送
給して溶融し、その溶融滴を母材に向って吹き付け母材
表面に溶射皮膜を形成する溶射方法において、前記母材
の前方で、前記プラズマフレームの周囲に発生するヒュ
ームを除去することを特徴とするプラズマ溶射方法、に
より、または、
に発生しているヒュームは、前述の通りプラズマフレー
ム中に達している溶融滴よりも粒径か小さく、且つ、母
材に向けての飛行速度が遅い、という性質をもってい
る。従って、ヒュームは溶融滴と比較して、母材方向へ
の移動する運動量が小さい。本発明者は、この点に着目
し、母材に向かう溶融滴の飛行に大きな影響を与えず
に、プラズマフレーム周囲のヒュームを除去することが
可能であることを見出し、本発明に至ったものである。
この発明は、高温のプラズマフレーム中に溶射材料を送
給して溶融し、その溶融滴を母材に向って吹き付け母材
表面に溶射皮膜を形成する溶射方法において、前記母材
の前方で、前記プラズマフレームの周囲に発生するヒュ
ームを除去することを特徴とするプラズマ溶射方法、に
より、または、
【０００８】高温のプラズマフレーム中に溶射材料を送
給して溶融し、その溶融滴を母材に向って吹き付け母材
表面に溶射皮膜を形成する溶射装置において、前記母材
の前方に、前記プラズマフレームの周囲に発生するヒュ
ームの除去手段を設けたことを特徴とするプラズマ溶射
装置、により、前記目的を達成しようとするものであ
る。
給して溶融し、その溶融滴を母材に向って吹き付け母材
表面に溶射皮膜を形成する溶射装置において、前記母材
の前方に、前記プラズマフレームの周囲に発生するヒュ
ームの除去手段を設けたことを特徴とするプラズマ溶射
装置、により、前記目的を達成しようとするものであ
る。
【０００９】
【作用】溶射材料の溶融滴を含むプラズマフレームの周
囲にヒュームが発生しても、該ヒュームは母材の前方で
ヒューム除去手段により除去されるので、該母材にはヒ
ュームが付着することがない。そのため、母材上に形成
される溶射皮膜は緻密となり、母材と溶射皮膜との密着
力は著しく向上する。
囲にヒュームが発生しても、該ヒュームは母材の前方で
ヒューム除去手段により除去されるので、該母材にはヒ
ュームが付着することがない。そのため、母材上に形成
される溶射皮膜は緻密となり、母材と溶射皮膜との密着
力は著しく向上する。
【００１０】
【実施例】この発明の実施例を添付図面により説明する
が、同一図面符号はその名称も機能も同一である。図１
は第１実施例を示す縦断面図で、単トーチ型プラズマ溶
射装置１３の陽極（ノズル）２のプラズマガス入口４か
らプラズマガス５を流しながら、直流電源６により陰極
１と陽極２との間に直流電圧を印加すると、陰極１の先
端から陽極ノズル２のノズル管路の内面にアーク３が発
生する。このアーク３により陽極ノズル２のノズル管路
内を流れるプラズマガスは強く加熱されて高温度とな
り、プラズマ状態となりプラズマフレーム８を形成す
る。このプラズマフレーム８中に給粉ノズル７を介して
溶射材料１４、例えば、粉粒状のクロミヤを混入する
と、該材料１４は瞬間的に溶融して溶融滴９となって母
材１２に衝突し、溶射皮膜１１を形成する。この時、プ
ラズマフレーム８の周囲にはヒューム１０が発生する
が、このヒューム１０は母材１２の前方へ位置するヒュ
ームの除去手段により除去されるので、母材１２表面に
はヒュームが付着することはない。
が、同一図面符号はその名称も機能も同一である。図１
は第１実施例を示す縦断面図で、単トーチ型プラズマ溶
射装置１３の陽極（ノズル）２のプラズマガス入口４か
らプラズマガス５を流しながら、直流電源６により陰極
１と陽極２との間に直流電圧を印加すると、陰極１の先
端から陽極ノズル２のノズル管路の内面にアーク３が発
生する。このアーク３により陽極ノズル２のノズル管路
内を流れるプラズマガスは強く加熱されて高温度とな
り、プラズマ状態となりプラズマフレーム８を形成す
る。このプラズマフレーム８中に給粉ノズル７を介して
溶射材料１４、例えば、粉粒状のクロミヤを混入する
と、該材料１４は瞬間的に溶融して溶融滴９となって母
材１２に衝突し、溶射皮膜１１を形成する。この時、プ
ラズマフレーム８の周囲にはヒューム１０が発生する
が、このヒューム１０は母材１２の前方へ位置するヒュ
ームの除去手段により除去されるので、母材１２表面に
はヒュームが付着することはない。
【００１１】このヒュームの除去手段は、プラズマフレ
ーム８に対向する吸引フード１５と吸引ファン２１とか
ら構成されているが、この吸引ファン２１の駆動により
ヒューム１０は矢印１６方向に流れ、プラズマフレーム
８の周囲から除去される。このヒュームの除去手段はプ
ラズマフレームの円周方向に沿って、又は、その流れ方
向に沿って複数個設けてもよい。なお、この吸引フード
１５の開口部１５ａの断面積を１０ｃｍ×２０ｃｍ＝２
００ｃｍ2 にし、開口部１５ａにおける吸引速度を２０
ｍ／ｓｅｃ以上にしてクロミヤ（Ｃｒ2 ０3 ）を溶射し
たところ、ヒュームは良く吸引フード１５に吸引された
ために、図２の断面図に示す様な緻密なクロミヤの溶射
皮膜を得ることができた。なお、この写真は、４００倍
の顕微鏡写真である。
ーム８に対向する吸引フード１５と吸引ファン２１とか
ら構成されているが、この吸引ファン２１の駆動により
ヒューム１０は矢印１６方向に流れ、プラズマフレーム
８の周囲から除去される。このヒュームの除去手段はプ
ラズマフレームの円周方向に沿って、又は、その流れ方
向に沿って複数個設けてもよい。なお、この吸引フード
１５の開口部１５ａの断面積を１０ｃｍ×２０ｃｍ＝２
００ｃｍ2 にし、開口部１５ａにおける吸引速度を２０
ｍ／ｓｅｃ以上にしてクロミヤ（Ｃｒ2 ０3 ）を溶射し
たところ、ヒュームは良く吸引フード１５に吸引された
ために、図２の断面図に示す様な緻密なクロミヤの溶射
皮膜を得ることができた。なお、この写真は、４００倍
の顕微鏡写真である。
【００１２】図３は、第２実施例を示す縦断面図である
が、第１実施例と異なる点は、ヒュームの除去手段とし
てブロー装置１７が用いられていることである。このブ
ロー装置１７のガス供給口１７ａにガス、例えば圧縮空
気２０を供給すると、該空気２０はスリット１９からプ
ラズマフレーム８に向かってヒュ−ム１０の外径より長
い吹き付け幅で噴出し、ヒューム１０を矢印１８方向に
吹き飛ばす。このスリット１９における噴出口は前記吹
き付け幅がヒュ−ム１０の外径より長くなるように形成
され、例えば、短辺が幅１ｍｍ、長辺が１００ｍｍに形
成され、又、該スリット１９の軸心はプラズマフレーム
８の軸心に対し直交する様に形成されている。スリット
１９の噴出口の空気噴出速度は必要に応じて適宜選択さ
れるが、２０ｍ／ｓｅｃ、以上が望ましい。又、ガスの
種類は圧縮空気に限定されるものではなく、例えば、溶
射材料が空気により酸化され易い場合には、圧縮空気以
外のガスでヒュームを吹き飛ばしてもよいことは勿論で
ある。なお、溶射材料１４としてシリコンＳｉを用い母
材１２として表面が滑らかなシリコン基板を使用して溶
射したところ、密着力が強く緻密なシリコンの溶射皮膜
が得られた。これは、ヒュ−ムが除去されていること
と、母材１２と溶射材料１４が同一で、熱膨張係数が一
致していることによるものと判断される。このヒューム
の除去手段は前記実施例において説明したと同様に複数
個設けてもよいことは勿論である。
が、第１実施例と異なる点は、ヒュームの除去手段とし
てブロー装置１７が用いられていることである。このブ
ロー装置１７のガス供給口１７ａにガス、例えば圧縮空
気２０を供給すると、該空気２０はスリット１９からプ
ラズマフレーム８に向かってヒュ−ム１０の外径より長
い吹き付け幅で噴出し、ヒューム１０を矢印１８方向に
吹き飛ばす。このスリット１９における噴出口は前記吹
き付け幅がヒュ−ム１０の外径より長くなるように形成
され、例えば、短辺が幅１ｍｍ、長辺が１００ｍｍに形
成され、又、該スリット１９の軸心はプラズマフレーム
８の軸心に対し直交する様に形成されている。スリット
１９の噴出口の空気噴出速度は必要に応じて適宜選択さ
れるが、２０ｍ／ｓｅｃ、以上が望ましい。又、ガスの
種類は圧縮空気に限定されるものではなく、例えば、溶
射材料が空気により酸化され易い場合には、圧縮空気以
外のガスでヒュームを吹き飛ばしてもよいことは勿論で
ある。なお、溶射材料１４としてシリコンＳｉを用い母
材１２として表面が滑らかなシリコン基板を使用して溶
射したところ、密着力が強く緻密なシリコンの溶射皮膜
が得られた。これは、ヒュ−ムが除去されていること
と、母材１２と溶射材料１４が同一で、熱膨張係数が一
致していることによるものと判断される。このヒューム
の除去手段は前記実施例において説明したと同様に複数
個設けてもよいことは勿論である。
【００１３】図４は第３実施例を示す縦断面図であり、
第１実施例と第２実施例とを組み合わせたものである。
即ち、ヒュームの除去手段として、プラズマフレーム８
を挟んで吸引フード１５とブロー装置１７とを配設した
ものである。この実施例では、吸引フード１５とブロー
装置１７との軸心が、プラズマフレーム８の中心線と直
交する直線上に位置する様にしたが、必ずしもこの様に
する必要はなく、例えば、吸引フード１５を溶射装置１
３寄りにし、ブロー装置１７を母材１２寄りに配設した
り、または、それらの位置を逆にしても良い。
第１実施例と第２実施例とを組み合わせたものである。
即ち、ヒュームの除去手段として、プラズマフレーム８
を挟んで吸引フード１５とブロー装置１７とを配設した
ものである。この実施例では、吸引フード１５とブロー
装置１７との軸心が、プラズマフレーム８の中心線と直
交する直線上に位置する様にしたが、必ずしもこの様に
する必要はなく、例えば、吸引フード１５を溶射装置１
３寄りにし、ブロー装置１７を母材１２寄りに配設した
り、または、それらの位置を逆にしても良い。
【００１４】図５は、第４実施例を示す縦断面図であ
る。この実施例では単トーチ型プラズマ溶射装置の代わ
りに、複合トーチ型プラズマ溶射装置１１３が用いられ
る。この複合トーチ型プラズマ溶射装置１１３は公知な
ので詳細な説明は省略する。スイッチ５８、８４、６４
の操作により主トーチ５１と副トーチ５２が起動し、主
陰極５３と主陽極５９との間に定常ヘアピンアーク６７
が形成される。この時、主トーチ５１に挿入される保護
ガス５６、プラズマガス８３の量と、副トーチ５２に送
入される副ガス６２及び第２副ガス８８の量を各々調整
することにより、主トーチ５１の中心軸とほぼ同心をな
すプラズマフレーム７３が形成される。
る。この実施例では単トーチ型プラズマ溶射装置の代わ
りに、複合トーチ型プラズマ溶射装置１１３が用いられ
る。この複合トーチ型プラズマ溶射装置１１３は公知な
ので詳細な説明は省略する。スイッチ５８、８４、６４
の操作により主トーチ５１と副トーチ５２が起動し、主
陰極５３と主陽極５９との間に定常ヘアピンアーク６７
が形成される。この時、主トーチ５１に挿入される保護
ガス５６、プラズマガス８３の量と、副トーチ５２に送
入される副ガス６２及び第２副ガス８８の量を各々調整
することにより、主トーチ５１の中心軸とほぼ同心をな
すプラズマフレーム７３が形成される。
【００１５】この時、トーチ５１、５２のアーク柱周り
に強い旋回流を形成するようにガスが供給されているの
で、アーク柱はトーチの軸心位置に維持されると共に同
心に旋回環状ガスシースが形成させる。その結果、いわ
ゆるピンチ効果が促され、よりアークが集束されるの
で、高出力で高温高速の溶射が可能となる。材料送入管
６９よりプラズマフレーム７３に向かって送入された粉
粒状の溶射材料７０はプラズマフレーム７３に同伴さ
れ、母材１２に向かって進行する。
に強い旋回流を形成するようにガスが供給されているの
で、アーク柱はトーチの軸心位置に維持されると共に同
心に旋回環状ガスシースが形成させる。その結果、いわ
ゆるピンチ効果が促され、よりアークが集束されるの
で、高出力で高温高速の溶射が可能となる。材料送入管
６９よりプラズマフレーム７３に向かって送入された粉
粒状の溶射材料７０はプラズマフレーム７３に同伴さ
れ、母材１２に向かって進行する。
【００１６】プラズマフレーム７３中のプラズマ６８
は、主トーチ５１の先端部に設けられたプラズマ分離手
段７２により溶融滴７１と分離される。このプラズマ分
離手段７２として、例えば、プラズマフレーム７３に向
けて水と空気とを供給するアトマイザの二流体ノズル９
０が用いられる。このアトマイザ９０による水の噴霧を
行うと、プラズマフレーム７３は切断されて円錐状とな
る。この円錐状のプラズマフレーム７３は溶融滴７１の
冷却を最小限にするトンネル状のジャケットとして作用
し、母材１２と溶射皮膜１１に対する余分な熱負担をア
トマイザによって噴霧された水の気化熱で除去し、その
熱負荷による悪影響を防止することができる。なお、こ
のプラズマ分離手段は、アトコイザに限定されるもので
はなく、例えば、ガスノズルを介してプラズマ分離ガス
をプラズマフレーム中に供給してもよい。
は、主トーチ５１の先端部に設けられたプラズマ分離手
段７２により溶融滴７１と分離される。このプラズマ分
離手段７２として、例えば、プラズマフレーム７３に向
けて水と空気とを供給するアトマイザの二流体ノズル９
０が用いられる。このアトマイザ９０による水の噴霧を
行うと、プラズマフレーム７３は切断されて円錐状とな
る。この円錐状のプラズマフレーム７３は溶融滴７１の
冷却を最小限にするトンネル状のジャケットとして作用
し、母材１２と溶射皮膜１１に対する余分な熱負担をア
トマイザによって噴霧された水の気化熱で除去し、その
熱負荷による悪影響を防止することができる。なお、こ
のプラズマ分離手段は、アトコイザに限定されるもので
はなく、例えば、ガスノズルを介してプラズマ分離ガス
をプラズマフレーム中に供給してもよい。
【００１７】このようにして、プラズマから分離された
溶融滴７１は、ヒュームの除去手段１７によりヒューム
１０を除去された後母材１２に衝突し、溶射皮膜１１を
形成する。この複合トーチ型プラズマ溶射装置１１３で
はプラズマフレーム７３が層流となるが、層流の場合に
は、ヒュームの広がりが狭く、かつ、ヒュームの飛行速
度も遅いので、ヒュームを吹き飛ばすのが容易となる。
又、吹き飛ばすヒュームの幅が狭く、かつ、吹き飛ばす
ガスの速度が遅くても良いので、ヒュームを吹き飛ばす
為のガスの量が少なくてすむとともに、装置自体も小型
化することができる。なお、複合トーチ型プラズマ溶射
装置においても、前記第２実施例及び第３実施例のヒュ
ームの除去手段を用いることができることは勿論であ
る。
溶融滴７１は、ヒュームの除去手段１７によりヒューム
１０を除去された後母材１２に衝突し、溶射皮膜１１を
形成する。この複合トーチ型プラズマ溶射装置１１３で
はプラズマフレーム７３が層流となるが、層流の場合に
は、ヒュームの広がりが狭く、かつ、ヒュームの飛行速
度も遅いので、ヒュームを吹き飛ばすのが容易となる。
又、吹き飛ばすヒュームの幅が狭く、かつ、吹き飛ばす
ガスの速度が遅くても良いので、ヒュームを吹き飛ばす
為のガスの量が少なくてすむとともに、装置自体も小型
化することができる。なお、複合トーチ型プラズマ溶射
装置においても、前記第２実施例及び第３実施例のヒュ
ームの除去手段を用いることができることは勿論であ
る。
【００１８】
【発明の効果】この発明は以上の様に構成したので、プ
ラズマフレームの周囲に発生するヒュームはヒュームの
除去手段により除去される。従って、母材にヒュームが
付着しないので、緻密で、しかも母材との密着力の大き
い溶射皮膜を得ることができる。
ラズマフレームの周囲に発生するヒュームはヒュームの
除去手段により除去される。従って、母材にヒュームが
付着しないので、緻密で、しかも母材との密着力の大き
い溶射皮膜を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施例を示す縦断面図である。
【図２】第１実施例により形成した溶射皮膜（薄膜）の
断面写真である。
断面写真である。
【図３】第２実施例を示す縦断面図である。
【図４】第３実施例を示す縦断面図である。
【図５】第４実施例を示す縦断面図である。
８ プラズマフレーム ９ 溶射滴 １０ ヒューム １１ 溶射皮膜 １２ 母材 １３ 単トーチ型プラズマ溶射装置 １４ 溶射材料 １５ 吸引フード １９ ブロー装置 ７１ 溶融滴 ７２ プラズマ分離手段 ７３ プラズマフレーム １１３ 複合トーチ型プラズマ溶射装置
Claims (8)
- 【請求項１】高温のプラズマフレーム中に溶射材料を送
給して溶融し、その溶融滴を母材に向って吹き付け母材
表面に溶射皮膜を形成する溶射方法において、前記母材
の前方で、前記プラズマフレームの周囲に発生するヒュ
ームを除去することを特徴とするプラズマ溶射方法。 - 【請求項２】高温のプラズマフレーム中に溶射材料を送
給して溶融し、その溶融滴を母材に向って吹き付け母材
表面に溶射皮膜を形成する溶射装置において、前記母材
の前方に、前記プラズマフレームの周囲に発生するヒュ
ームの除去手段を設けたことを特徴とするプラズマ溶射
装置。 - 【請求項３】高温のプラズマフレーム中に溶射材料を送
給して溶融し、その溶融滴を母材に向って吹き付け母材
表面に溶射皮膜を形成する溶射装置において、前記母材
の前方に、前記プラズマフレームの周囲に発生するヒュ
ームの除去手段と該プラズマフレーム中のプラズマの分
離手段とを設けたことを特徴とするプラズマ溶射装置。 - 【請求項４】ヒュームの除去手段が、ガスによりヒュー
ムを吹き飛ばす手段であることを特徴とする請求項２ま
たは３記載のプラズマ溶射装置。 - 【請求項５】ヒュームの除去手段が、ヒュームを吸引す
る手段であることを特徴とする請求項２または３記載の
プラズマ溶射装置。 - 【請求項６】ヒュームの除去手段が、ガスによりヒュー
ムを吹き飛ばす手段とヒュームを吸引する手段とを併用
していることを特徴とする請求項２または３記載のプラ
ズマ溶射装置。 - 【請求項７】高温のプラズマフレーム中に溶射材料を送
給して溶融し、前記プラズマフレームの周囲に発生する
ヒュームを除去した後、その溶融滴を母材に向って吹き
付けることにより溶射皮膜を形成することを特徴とする
プラズマ溶射方法。 - 【請求項８】高温のプラズマフレーム中に溶射材料を送
給して溶融し、前記プラズマフレーム中のプラズマを分
離するとともに該プラズマフレームの周囲に発生するヒ
ュームを除去した後、その溶融滴を母材に向って吹き付
けることにより溶射皮膜を形成することを特徴とするプ
ラズマ溶射方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3151029A JPH07110985B2 (ja) | 1991-05-27 | 1991-05-27 | プラズマ溶射方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3151029A JPH07110985B2 (ja) | 1991-05-27 | 1991-05-27 | プラズマ溶射方法及びその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05202463A JPH05202463A (ja) | 1993-08-10 |
| JPH07110985B2 true JPH07110985B2 (ja) | 1995-11-29 |
Family
ID=15509748
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3151029A Expired - Lifetime JPH07110985B2 (ja) | 1991-05-27 | 1991-05-27 | プラズマ溶射方法及びその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07110985B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4497086B2 (ja) * | 2005-01-28 | 2010-07-07 | 日産自動車株式会社 | シリンダブロックの溶射マスキング方法および同マスキング装置ならびに気体噴出ノズル |
| JP4717510B2 (ja) * | 2005-05-19 | 2011-07-06 | 富士重工業株式会社 | 粉末溶射装置 |
| KR102031984B1 (ko) * | 2018-07-13 | 2019-10-14 | (주)플라즈닉스 | 플라즈마 상에서 대상기체 함유 배출기체를 처리하는 방법 및 장치 |
-
1991
- 1991-05-27 JP JP3151029A patent/JPH07110985B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05202463A (ja) | 1993-08-10 |
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