JPH07113682B2 - 汚れが付着しにくいレンズ - Google Patents
汚れが付着しにくいレンズInfo
- Publication number
- JPH07113682B2 JPH07113682B2 JP62048356A JP4835687A JPH07113682B2 JP H07113682 B2 JPH07113682 B2 JP H07113682B2 JP 62048356 A JP62048356 A JP 62048356A JP 4835687 A JP4835687 A JP 4835687A JP H07113682 B2 JPH07113682 B2 JP H07113682B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- lens
- water
- antireflection film
- easily attach
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- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、汚れが付着しにくいカメラ・メガネ等のレン
ズに関するものである。
ズに関するものである。
カメラ・メガネ等のレンズは、通常、表面及び／又は反
射防止膜が設けられている。
射防止膜が設けられている。
この反射防止膜には、TiO2、SiO2等の酸化物の薄膜（例
えば真空蒸着、スパッタリングによる薄膜）の単層又は
多層構造が多く用いられ、親水性の表面を形成するた
め、表面が汚れが付着し易くそのため、例えば水ヤケす
るという問題点があった。水ヤケとは表面に水滴を垂し
て乾燥すると、シミのようなマークが残る現象を言う。
えば真空蒸着、スパッタリングによる薄膜）の単層又は
多層構造が多く用いられ、親水性の表面を形成するた
め、表面が汚れが付着し易くそのため、例えば水ヤケす
るという問題点があった。水ヤケとは表面に水滴を垂し
て乾燥すると、シミのようなマークが残る現象を言う。
本発明ではかかる問題点を改良するため、反射防止膜の
表面を主として炭素からなる硬質膜で被覆した。
表面を主として炭素からなる硬質膜で被覆した。
本発明で用いられる炭素質硬質膜はプラズマCVD法やイ
オンプレーティング法、イオンビーム法、スパッタ法に
よって形成され、この膜は次の性質を有する。
オンプレーティング法、イオンビーム法、スパッタ法に
よって形成され、この膜は次の性質を有する。
厚さ１μｍのとき、ビッカース硬度1000以上 主として炭素からできて、水素又はフッ素を含むこ
とも可 非晶質又は多結晶質又は両者の複合（混合） 被覆後のレンズは撥水性の大きい表面が得られるため、
水やけが防止される。
とも可 非晶質又は多結晶質又は両者の複合（混合） 被覆後のレンズは撥水性の大きい表面が得られるため、
水やけが防止される。
十分な水や防止効果を得るには、表面と純水の接触角が
50゜以上あることが必要であった。
50゜以上あることが必要であった。
炭素膜の厚さがあまり厚くなると反射防止膜の反射防止
効果がそこなわれるため膜厚200Å以下にすることが必
要で、好ましくは100Å以下である。
効果がそこなわれるため膜厚200Å以下にすることが必
要で、好ましくは100Å以下である。
また最低必要な膜厚は、膜の成造条件によって異なる。
膜厚を０からしだいに増加させて親水性の表面が撥水性
になった時、すなわち純水との接触角が50゜以上になる
膜厚が最低限必要な膜厚である。
膜厚を０からしだいに増加させて親水性の表面が撥水性
になった時、すなわち純水との接触角が50゜以上になる
膜厚が最低限必要な膜厚である。
第１図は、本実施例にかかるメガネレンズの垂直断面を
示す概念図であり、CR−39プラスチックレンズ１とそれ
を被覆する硬質ポリシロキサン系ハードコート層２、そ
の上に形成された反射防止膜３、更にその上に形成され
た「主として炭素からなる硬質薄膜（炭素質膜）」４か
らなる。
示す概念図であり、CR−39プラスチックレンズ１とそれ
を被覆する硬質ポリシロキサン系ハードコート層２、そ
の上に形成された反射防止膜３、更にその上に形成され
た「主として炭素からなる硬質薄膜（炭素質膜）」４か
らなる。
第２図は、この炭素質膜４を形成するのに使用したプラ
ズマCVD装置である。
ズマCVD装置である。
真空に排気できるチャンバー５に、電極６が取り付けら
れており、その上に「ハードコート層２と反射防止膜３
の形成されたレンズ７」が置かれる。電極６は内部に冷
却水８を流せるようになっていて、側面と裏面は絶縁体
９で覆われている。流量調節バルブ14より反応ガスを導
入し、RF電源11より電力を供給し、プラズマを発生させ
成膜する。
れており、その上に「ハードコート層２と反射防止膜３
の形成されたレンズ７」が置かれる。電極６は内部に冷
却水８を流せるようになっていて、側面と裏面は絶縁体
９で覆われている。流量調節バルブ14より反応ガスを導
入し、RF電源11より電力を供給し、プラズマを発生させ
成膜する。
この成膜条件を表１に示す。
これにより形成された炭素質膜４は、厚さが約50Å、成
膜後の純水との接触角は約88゜であった。
膜後の純水との接触角は約88゜であった。
なお、使用した反射防止膜３の構造を第３図に示す。
前記実施例のレンズから炭素質膜４を除外したものであ
り、その垂直断面を第４図に示す。
り、その垂直断面を第４図に示す。
実施例と比較例のレンズに水滴をたらして水ヤケの発生
度を比較した、比較例では90％のレンズで水ヤケが発生
したが、実施例では０％だった。
度を比較した、比較例では90％のレンズで水ヤケが発生
したが、実施例では０％だった。
SIMS（２次イオン質量分析）にて上記の膜を分析したと
ころＣ、Ｆ、Ｈ、Si、Ｏが検出された。またこのうち、
SiとＯは反射防止膜の最上層にシリコン酸化物を用いて
いるので、下地からのSi、Ｏも検出された。
ころＣ、Ｆ、Ｈ、Si、Ｏが検出された。またこのうち、
SiとＯは反射防止膜の最上層にシリコン酸化物を用いて
いるので、下地からのSi、Ｏも検出された。
以上のとおり、本発明によれば、撥水性の表面を得るこ
とができるので、水ヤケ防止の効果がある。又、防曇効
果も期待できる。
とができるので、水ヤケ防止の効果がある。又、防曇効
果も期待できる。
第１図は、本発明の実施例にかかるレンズの垂直断面を
示す概念図である。 第２図は、実施例で炭素質膜４を形成するのに使用した
プラズマCVD装置の構成を説明する概念図である。 第３図は、実施例のレンズに使用した反射防止膜３の垂
直断面構造を示す概念図である。 第４図は、従来のレンズの垂直断面を示す概念図であ
る。 〔主要部分の符号の説明〕 １……CR−39プラスチックレンズ ２……ハードコート層 ３……反射防止膜 ４……主として炭素からなる硬質膜 ５……真空チャンバー ６……電極 ７……レンズ ８……冷却水 ９……絶縁体 10……整合回路 11……RF電源（13.56MHz） 12……CH4ガス 13……CF4ガス 14……流量調節バルブ
示す概念図である。 第２図は、実施例で炭素質膜４を形成するのに使用した
プラズマCVD装置の構成を説明する概念図である。 第３図は、実施例のレンズに使用した反射防止膜３の垂
直断面構造を示す概念図である。 第４図は、従来のレンズの垂直断面を示す概念図であ
る。 〔主要部分の符号の説明〕 １……CR−39プラスチックレンズ ２……ハードコート層 ３……反射防止膜 ４……主として炭素からなる硬質膜 ５……真空チャンバー ６……電極 ７……レンズ ８……冷却水 ９……絶縁体 10……整合回路 11……RF電源（13.56MHz） 12……CH4ガス 13……CF4ガス 14……流量調節バルブ
Claims (1)
- 【請求項１】反射防止膜を有するレンズにおいて、 前記反射防止膜の上に水ヤケ防止層を有し、前記水ヤケ
防止層が水素とフッ素と含有する硬質炭素薄膜で、前記
硬質炭素薄膜の表面が純水に対する接触角が50度以上で
あることを特徴とする汚れが付着しにくいレンズ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62048356A JPH07113682B2 (ja) | 1987-03-03 | 1987-03-03 | 汚れが付着しにくいレンズ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62048356A JPH07113682B2 (ja) | 1987-03-03 | 1987-03-03 | 汚れが付着しにくいレンズ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63214701A JPS63214701A (ja) | 1988-09-07 |
| JPH07113682B2 true JPH07113682B2 (ja) | 1995-12-06 |
Family
ID=12801077
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62048356A Expired - Fee Related JPH07113682B2 (ja) | 1987-03-03 | 1987-03-03 | 汚れが付着しにくいレンズ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07113682B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2598520B1 (fr) * | 1986-01-21 | 1994-01-28 | Seiko Epson Corp | Pellicule protectrice minerale |
| US5783299A (en) * | 1986-01-21 | 1998-07-21 | Seiko Epson Corporation | Polarizer plate with anti-stain layer |
| US5759643A (en) * | 1987-01-16 | 1998-06-02 | Seiko Epson Corporation | Polarizing plate and method of production |
| GB9420089D0 (en) * | 1994-10-05 | 1994-11-16 | Applied Vision Ltd | Coatings for optical lens having low surface energy properties |
| JP2006133421A (ja) * | 2004-11-04 | 2006-05-25 | Seiko Epson Corp | 光学素子 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0797159B2 (ja) * | 1986-10-01 | 1995-10-18 | キヤノン株式会社 | 軟ｘ線・真空紫外線用多層膜反射鏡 |
-
1987
- 1987-03-03 JP JP62048356A patent/JPH07113682B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63214701A (ja) | 1988-09-07 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
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