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JPH07114221B2 - TAB tape - Google Patents
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JPH07114221B2 - TAB tape - Google Patents

TAB tape

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Publication number
JPH07114221B2
JPH07114221B2 JP3206115A JP20611591A JPH07114221B2 JP H07114221 B2 JPH07114221 B2 JP H07114221B2 JP 3206115 A JP3206115 A JP 3206115A JP 20611591 A JP20611591 A JP 20611591A JP H07114221 B2 JPH07114221 B2 JP H07114221B2
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JP
Japan
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adhesive layer
tape
adhesive
parts
resin
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章訓 清
均 成嶋
忠弘 大石
美和 塚本
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Tomoegawa Co Ltd
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Tomoegawa Paper Co Ltd
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/20Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
    • C09J7/22Plastics; Metallised plastics

Landscapes

  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体デバイスの組み
立て工程において、デバイスの多ピン化、小型化、高密
度実装に際し、注目されているTAB(TapeAut
omated Bonding)方式に用いられる保護
層、接着剤層および有機絶縁フィルムの3層構造からな
るテープ(以下、TAB用テープという。)に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention has attracted attention in the process of assembling semiconductor devices, such as TAB (TapeAut), which is attracting attention when devices are made to have a large number of pins, a small size, and high density mounting.
The present invention relates to a tape (hereinafter, referred to as a TAB tape) having a three-layer structure of a protective layer, an adhesive layer, and an organic insulating film, which is used for an omni-bonded system.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、TAB用テープは、次のように加
工されてフィルムキャリアテープを形成する。 1)スプロケット・デバイスホールをスタンピングによ
り穿孔する。 2)穿孔されたテープに銅箔を熱圧着した後、加熱によ
り接着剤を硬化させる。 3)フォトレジストを塗布し、マスクを通して紫外線等
を照射した後、現像する。 4)デバイスホールの裏打ち、銅のエッチング、レジス
ト除去、裏打ちの除去を行い、回路を作製し、ソルダー
レジストをかける。 5)銅、金メッキを行う。 以上の工程を経て作製されたテ−プに、チップがインナ
ーボンディングされた後、リードを切断し、プリント基
板等にアウターリードボンディングし、樹脂で封止す
る。或いは、インナーリードボンディングした後、樹脂
で封止し、周辺回路も含めて切断し、アウターリードボ
ンディングする。
2. Description of the Related Art Conventionally, a TAB tape is processed as follows to form a film carrier tape. 1) Drill sprocket device holes by stamping. 2) After the copper foil is thermocompression bonded to the punched tape, the adhesive is cured by heating. 3) Apply a photoresist, irradiate with ultraviolet rays through a mask, and then develop. 4) Line the device hole, etch copper, remove the resist, remove the line, make a circuit, and apply solder resist. 5) Copper and gold are plated. After the chip is inner-bonded to the tape manufactured through the above steps, the lead is cut, outer-lead bonded to a printed circuit board or the like, and sealed with resin. Alternatively, inner lead bonding is performed, followed by sealing with a resin, cutting including peripheral circuits, and outer lead bonding.

【0003】TAB用テープの接着剤層および有機絶縁
フィルムは、周辺回路、封止樹脂中に残留させることが
多い。この様な場合、高密度が益々進む中、銅箔のパタ
ーン間の絶縁信頼性やチップのAl配線の腐食に影響す
るイオン性不純物が問題になる。腐蝕信頼性やイオン性
不純物は、主に接着剤の特性に起因するところが大き
い。すなわち、イオン性不純物は、上記工程3)ないし
5)において、接着剤がアルカリ(例えば、銀メッキ時
は塩素イオン、硫酸イオンの含有)、エッチング液(塩
素イオンの含有)等にさらされるために生じたり、また
接着剤そのものに含まれている場合がある。また、絶縁
信頼性は、接着剤の耐湿熱性、電気抵抗、上記イオン性
不純物等に支配される。
The adhesive layer and the organic insulating film of the TAB tape are often left in the peripheral circuit and the sealing resin. In such a case, as the density becomes higher and higher, the ionic impurities that affect the insulation reliability between the patterns of the copper foil and the corrosion of the Al wiring of the chip become a problem. Corrosion reliability and ionic impurities largely depend on the characteristics of the adhesive. That is, the ionic impurities are exposed to the alkali (for example, chlorine ions and sulfate ions are contained during silver plating) and the etching solution (containing chlorine ions) during the steps 3) to 5). It may occur or be contained in the adhesive itself. Also, the insulation reliability is governed by the moist heat resistance of the adhesive, the electrical resistance, the ionic impurities, and the like.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】従来用いられてきたT
AB用テープの接着剤は、エポキシ系のものであるが、
これは次のような性質、すなわち、a)加工中にイオン
性不純物(特に、Clイオン)が含有されやすい、b)
湿熱により加水分解されやすい、c)電気抵抗が低い等
の性質により、パターン間の金属移行等を含め、絶縁劣
化が問題となっている。また、TAB用テープに用いら
れる接着剤は、金属である銅箔と有機絶縁フィルムとの
層間を構成するものであるため、金属および有機絶縁フ
ィルムの双方に高い接着力を持つことが要求される。従
来用いられてきたTAB用テープの接着剤層は、いずれ
も樹脂のみで構成されているものであって、これらのも
のは、a)上記工程において、接着剤層がアルカリ(例
えば、金メッキ時、レジスト剥離時)、酸(例えば、錫
メッキ時)、エッチング液等にさらされることによる銅
箔に対する接着力の低下、b)前記アルカリ、酸が接着
剤層に吸蔵されることによる絶縁信頼性の低下、c)イ
ンナーリードおよびアンターリードボンディング時、高
温下での有機絶縁フィルムに対する接着力の低下、d)
前記ボンディング後、銅箔パターンが接着剤層へめりこ
むことによって生ずるテープ本体厚さの不均化等の欠点
があり、デバイスの高密度化、多ピン化が益々進む中
で、多ピンチップのボンディングミスやリードの変形、
剥がれ等が問題になっている。
[Problems to be Solved by the Invention]
The adhesive for the AB tape is an epoxy adhesive,
It has the following properties: a) ionic impurities (especially Cl ions) are likely to be contained during processing, b)
Due to properties such as being easily hydrolyzed by wet heat and c) having low electric resistance, insulation deterioration including metal migration between patterns and the like has become a problem. Further, since the adhesive used for the TAB tape constitutes the interlayer between the copper foil which is a metal and the organic insulating film, it is required that both the metal and the organic insulating film have high adhesive strength. . The adhesive layers of the TAB tapes that have been conventionally used are all composed only of a resin. These are: a) In the above process, the adhesive layer has an alkali (for example, during gold plating, When the resist is peeled off), acid (for example, tin plating), the adhesive strength to the copper foil is reduced by being exposed to an etching solution, etc. b) Insulation reliability due to the alkali and acid being occluded in the adhesive layer Decrease, c) Decrease in adhesion to organic insulating film at high temperature during inner lead and under-lead bonding, d)
After the bonding, there are drawbacks such as unevenness of the thickness of the tape body caused by the copper foil pattern digging into the adhesive layer. Or reed deformation,
Peeling off is a problem.

【0005】本発明は、従来のTAB用テープにおける
上記のような問題を解決することを目的とするものであ
る。すなわち、本発明の目的は、耐薬品性、耐熱性に優
れ、高い接着力を有するTAB用テープを提供すること
にある。
An object of the present invention is to solve the above problems in the conventional TAB tape. That is, an object of the present invention is to provide a TAB tape having excellent chemical resistance and heat resistance and high adhesive strength.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明のTAB用テープ
は、有機絶縁性フィルム上に、ポリアミド樹脂を主成分
とする熱硬化型の接着剤層および保護層を設けてなり、
該接着剤層が少なくとも1種類の粉体状無機充填剤を含
有することを特徴とする。
A tape for TAB of the present invention comprises a thermosetting adhesive layer containing a polyamide resin as a main component and a protective layer on an organic insulating film.
The adhesive layer contains at least one kind of powdery inorganic filler.

【0007】図1は、本発明のTAB用テープの模式的
断面図であって、有機絶縁フィルム1の片面に、粉体状
無機充填剤4を含有する半硬化状の接着剤層2と保護層
となる保護フィルム3が順次積層されている。図におい
ては、接着剤層2は1層構成になっているが、接着剤層
は、2層以上の層構成を有するものであってもよい。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a TAB tape of the present invention, in which a semi-cured adhesive layer 2 containing a powdery inorganic filler 4 and a protective layer are provided on one side of an organic insulating film 1. The protective film 3 which becomes a layer is laminated | stacked one by one. In the figure, the adhesive layer 2 has a single layer structure, but the adhesive layer may have a layer structure of two or more layers.

【0008】有機絶縁フィルムとしては、厚さ25〜1
88μm、好ましくは50〜125μmのポリイミド、
ポリエーテルイミド、ポリフェニレンサルファイド、ポ
リエーテルエーテルケトン等の耐熱性フィルムや、エポ
キシ樹脂−ガラスクロス、エポキシ樹脂−ポリイミド−
ガラスクロス等の複合耐熱フィルムからなる有機絶縁フ
ィルムが使用できる。
The organic insulating film has a thickness of 25 to 1
88 μm, preferably 50-125 μm polyimide,
Heat-resistant films such as polyetherimide, polyphenylene sulfide, and polyether ether ketone, epoxy resin-glass cloth, epoxy resin-polyimide-
An organic insulating film made of a composite heat resistant film such as glass cloth can be used.

【0009】接着剤層は、熱硬化型のものであって、半
硬化状であることが必要であり、少なくとも1層より構
成される。接着剤層の膜厚は、10〜50μm、好まし
くは15〜〜30μmの範囲にある。接着剤層は、有機
絶縁フィルムに直接接するので、高温時においても高い
粘着性を示し、有機絶縁フィルムとの高い接着力を示
し、また、銅箔との高い接着性とフィルムキャリアへの
加工時にさらされる薬液に対して優れた耐薬品性を有す
ることが要求される。その様な要求を満たすために、本
発明においては、ポリアミド樹脂を主成分とし、少なく
とも1種類の粉体状無機充填剤を含有するものが使用さ
れるが、熱硬化性成分として、耐薬品性を付与するため
にフェノール樹脂やエポキシ樹脂を含有させるのが好ま
しい。エポキシ樹脂を使用する場合には、イミダゾール
化合物等の硬化促進剤を併用するのが好ましい。さらに
また、ポリエステル樹脂、NBR、SBR等の熱可塑性
樹脂を併用することもできる。
The adhesive layer is a thermosetting type, needs to be semi-cured, and is composed of at least one layer. The thickness of the adhesive layer is in the range of 10 to 50 μm, preferably 15 to 30 μm. Since the adhesive layer is in direct contact with the organic insulating film, it exhibits high tackiness even at high temperatures, exhibits high adhesiveness with the organic insulating film, and also has high adhesiveness with the copper foil and during processing into a film carrier. It is required to have excellent chemical resistance to the exposed chemical liquid. In order to meet such requirements, in the present invention, a polyamide resin as a main component and at least one kind of powdery inorganic filler is used, but as the thermosetting component, chemical resistance is used. It is preferable to contain a phenol resin or an epoxy resin in order to impart When using an epoxy resin, it is preferable to use a curing accelerator such as an imidazole compound in combination. Furthermore, a thermoplastic resin such as polyester resin, NBR or SBR may be used together.

【0010】粉体状無機充填剤は、接着剤層の熱膨脹収
縮を抑制する作用をするものであって、粉体状のシリ
カ、アルミナ、けいそう土、酸化チタン、酸化亜鉛、酸
化マグネシウムなどの安定な金属酸化物、およびその他
の無機顔料等が使用できる。これら粉体状無機充填剤
は、その平均粒径が0.1〜30μmの範囲のものが好
ましく使用することができる。接着剤層における粉体状
無機充填剤の含有量は、1〜90重量%の範囲、特に3
〜50重量%の範囲が好ましい。粉体状無機充填剤の含
有量が90重量%よりも高くなると、TAB用テープ加
工時に、穿孔されたテープに銅箔を熱圧着する際に、十
分な接着強度が得られない場合や、接着剤自体が不透明
になることから、ボンディング時、位置合わせの際に、
テープを介した場合の視認性に支障をきたす場合があ
る。また、1重量%よりも低くなると、粉体状無機充填
剤の添加効果が生じなくなる。本発明において、接着剤
層が2層以上の層よりなる場合には、粉体状無機充填剤
は、保護フィルムと接触する層に含有させることが必要
である。
The powdered inorganic filler has a function of suppressing thermal expansion and contraction of the adhesive layer, and is made of powdered silica, alumina, diatomaceous earth, titanium oxide, zinc oxide, magnesium oxide or the like. Stable metal oxides and other inorganic pigments can be used. As the powdery inorganic filler, those having an average particle diameter in the range of 0.1 to 30 μm can be preferably used. The content of the powdery inorganic filler in the adhesive layer is in the range of 1 to 90% by weight, particularly 3
The range of ˜50% by weight is preferred. When the content of the powdered inorganic filler is higher than 90% by weight, when the copper foil is thermocompression-bonded to the perforated tape when the TAB tape is processed, sufficient adhesive strength cannot be obtained, Since the agent itself becomes opaque, during bonding and alignment,
Visibility may be impaired when the tape is used. On the other hand, if it is less than 1% by weight, the effect of adding the powdery inorganic filler will not be obtained. In the present invention, when the adhesive layer is composed of two or more layers, the powdery inorganic filler needs to be contained in the layer that comes into contact with the protective film.

【0011】接着剤層の主成分として使用するポリアミ
ド樹脂としては、公知の種々のものが使用できる。使用
するポリアミド樹脂の分子量は、フレキシビリティー、
テープと銅箔との熱圧着時や、接着剤の硬化時の溶融特
性(デバイスホールからの接着剤のはみ出し)に関連す
るものであって、分子量が低すぎると溶融温度が低くな
り、はみ出しの問題が生じる。また、分子量が高すぎる
と、銅箔との熱圧着温度が高くなり過ぎるという問題が
生じる。したがって、本発明においては、分子量30、
000〜150,000の範囲で、軟化温度100〜1
80℃のポリアミド樹脂が好適に使用される。
Various well-known polyamide resins can be used as the main component of the adhesive layer. The molecular weight of the polyamide resin used is flexible,
It is related to the melting characteristics when the tape and copper foil are thermocompression-bonded or when the adhesive is cured (adhesion of the adhesive from the device hole). If the molecular weight is too low, the melting temperature will decrease and The problem arises. Further, if the molecular weight is too high, the problem that the thermocompression bonding temperature with the copper foil becomes too high occurs. Therefore, in the present invention, a molecular weight of 30,
Softening temperature of 100 to 1 in the range of 000 to 150,000
A polyamide resin at 80 ° C. is preferably used.

【0012】さらにまた、デバイスホールからの接着剤
のはみ出し等に関連する溶融特性に影響を与える因子と
して、分子量分布があり、分子量分布が狭い場合には、
熱による急激な粘度低下を起こし、テープと銅箔との熱
圧着時にデバイスホールからのはみ出しの生じない熱圧
着条件が狭くなるので好ましくない。したがって、本発
明において使用するポリアミド樹脂は、分子量分布の広
いものが好ましい。また、ポリアミド樹脂として、例え
ば、アミド基当量(分子量/アミド基1個)が200な
いし400のポリアミド樹脂を用いると、接着剤層の吸
湿性が低くなり、また、吸湿による電気抵抗の低下を1
桁程度に抑えることができ、そして、加水分解等に対す
る耐湿性が向上し、結果的に絶縁劣化を防止することが
できるので、特に好ましい。
Furthermore, there is a molecular weight distribution as a factor affecting the melting characteristics related to the protrusion of the adhesive from the device hole, and when the molecular weight distribution is narrow,
This is not preferable because the thermocompression bonding condition is narrowed so that the viscosity is rapidly reduced by heat and the tape and the copper foil do not protrude from the device hole during thermocompression bonding. Therefore, the polyamide resin used in the present invention preferably has a wide molecular weight distribution. If, for example, a polyamide resin having an amide group equivalent (molecular weight / one amide group) of 200 to 400 is used as the polyamide resin, the hygroscopicity of the adhesive layer is lowered, and the electric resistance is reduced by the moisture absorption.
It is particularly preferable because it can be suppressed to the order of magnitude, the moisture resistance to hydrolysis and the like is improved, and as a result, insulation deterioration can be prevented.

【0013】また、ポリアミド樹脂としては、その1分
子鎖の中で、アミド基間の炭化水素の分子量が100か
ら800の広範囲にわたるもの、そして、異なる分子量
を持つアミド基間炭化水素分子が不規則に並んで入った
ものを用いてもよい。これ等のポリアミド樹脂は、アミ
ド基当量が大きいにもかかわらず、接着性を有し、フレ
キシビリティも大きいので好ましく使用できる。
The polyamide resin has a wide range of hydrocarbon molecular weights between amide groups of 100 to 800 in one molecular chain, and irregular hydrocarbon molecules between amide groups having different molecular weights. You may use the ones lined up in. These polyamide resins can be preferably used because they have adhesiveness and flexibility even though the amide group equivalent is large.

【0014】本発明において、上記ポリアミド樹脂と併
用することができるフェノール樹脂としては、フェノー
ル成分がビスフェノールAおよびアルキルフェノールか
ら選択されたビスフェノールA型、アルキルフェノール
型、またはそれ等の共縮合型のレゾール型フェノール樹
脂、およびノボラック型フェノール樹脂があげられ、1
種または2種以上のものを併用することができる。アル
キルフェノール型のレゾール型フェノール樹脂として
は、フェノール性水酸基のo−またはp−位に、メチル
基、エチル基、プロピル基、t−ブチル基、ノニル基等
を有するものがあげられる。これらレゾール型フェノー
ル樹脂は、加熱により反応して、接着力を有する不溶不
融の固体になり、接着剤の接着力、絶縁信頼性、耐薬品
性、耐熱性を向上させる作用があるので、好ましい。フ
ェノール樹脂は、ポリアミド樹脂100重量部に対して
5〜60重量部の範囲の配合量で配合される。
In the present invention, the phenol resin which can be used in combination with the above polyamide resin includes a bisphenol A type whose alkyl group is selected from bisphenol A and an alkylphenol, an alkylphenol type, or a cocondensation type resole type phenol thereof. Resins and novolac type phenolic resins are listed as 1
One kind or two or more kinds can be used in combination. Examples of the alkylphenol type resol type phenol resin include those having a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a t-butyl group, a nonyl group or the like at the o- or p-position of the phenolic hydroxyl group. These resol-type phenolic resins are preferable because they react by heating to become an insoluble and infusible solid having an adhesive force, and have an effect of improving the adhesive force, insulation reliability, chemical resistance, and heat resistance of the adhesive. . The phenol resin is added in an amount of 5 to 60 parts by weight based on 100 parts by weight of the polyamide resin.

【0015】エポキシ樹脂は、ポリアミド樹脂の分子鎖
末端で反応し、また、共存させるイミダゾール化合物の
作用により容易に反応して、耐熱性および耐薬品性を向
上させる。使用できるエポキシ樹脂としては、ビスフェ
ノールAジグリシジルエーテル、エポキシ化フェノール
ノボラック、エポキシ化クレゾールノボラック等があげ
られる。エポキシ樹脂と共存させるイミダゾール化合物
としては、2−メチルイミダゾール、2ーエチルー4ー
メチルイミダゾール等のメチルエチルケトン等、汎用溶
剤に溶解するものや、2−フェニル−4−ベンジル−5
−ヒドロキシルメチルイミダゾール等、汎用溶剤に難溶
のものなどがあげられる。エポキシ樹脂は、ポリアミド
樹脂100重量部に対して9〜88重量部の範囲の配合
量で、また、イミダゾール化合物はポリアミド樹脂10
0重量部に対して0.03〜10重量部の範囲の配合量
で使用される。
The epoxy resin reacts at the molecular chain end of the polyamide resin and easily reacts by the action of the imidazole compound to coexist, thereby improving heat resistance and chemical resistance. Examples of the epoxy resin that can be used include bisphenol A diglycidyl ether, epoxidized phenol novolac, and epoxidized cresol novolac. Examples of the imidazole compound coexisting with the epoxy resin include 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, and other methylethylketones, which are soluble in general-purpose solvents, and 2-phenyl-4-benzyl-5.
-Hydroxylmethylimidazole and the like, which are hardly soluble in general-purpose solvents, can be mentioned. The epoxy resin is used in an amount of 9 to 88 parts by weight based on 100 parts by weight of the polyamide resin, and the imidazole compound is the polyamide resin 10
It is used in an amount of 0.03 to 10 parts by weight relative to 0 parts by weight.

【0016】上記接着剤層の保護層となる保護フィルム
としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレ
ンテレフタレート等のポリエステルのフィルムが使用で
きる。 次に、本発明のTABテープの製造法について
説明する。図2は、製造工程を示すもので、保護フィル
ム3の上に所定の配合の粉体状無機充填剤4を含有する
接着剤を、乾燥後の膜厚が上記の範囲になるように塗布
する。この際、半硬化状の状態にするために、その加熱
条件は150〜180℃で2分間乾燥させることが必要
である。
A polyester film such as polyethylene, polypropylene or polyethylene terephthalate can be used as the protective film for the protective layer of the adhesive layer. Next, a method for manufacturing the TAB tape of the present invention will be described. FIG. 2 shows a manufacturing process. An adhesive containing a powdery inorganic filler 4 having a predetermined composition is applied onto the protective film 3 so that the film thickness after drying falls within the above range. . At this time, in order to obtain a semi-cured state, it is necessary that the heating condition is drying at 150 to 180 ° C. for 2 minutes.

【0017】次に、形成された接着剤層2の表面に、有
機絶縁フィルム1を重ね合わせ、100〜130℃で1
kg/cm2 以上の条件で熱圧着する。得られたTAB
用テープは、巻回されて、例えば、幅30〜200mm
で30〜300mの長さのものが得られる。
Next, the organic insulating film 1 is superposed on the surface of the formed adhesive layer 2, and the organic insulating film 1 is placed at 100 to 130 ° C. for 1 hour.
Thermocompression bonding is performed under the condition of kg / cm 2 or more. TAB obtained
The tape for use is wound and has a width of 30 to 200 mm, for example.
With a length of 30 to 300 m is obtained.

【0018】[0018]

【実施例】以下、本発明を実施例によって説明する。な
お、「部」は全て「重量部」を意味する。 実施例1 厚さ38μmのポリエチレンテレフタレートフィルムか
らなる保護フィルムに、下記組成の接着剤形成用塗料を
塗布し、160℃で2分間乾燥して、膜厚20μmの接
着剤層を形成した。 ポリアミド樹脂(トーマイドTXC−232−B、富士化成 工業社製)の25%イソプロピルアルコール/水混合溶液 70部 エポキシ樹脂(エピコート828、油化シェル社製) 6部 ノボラック型フェノール樹脂(タマノル752、荒川化学社製) の50%メチルエチルケトン溶液 6部 レゾール型フェノール樹脂(CKM−1282、昭和高分子社製) の50%メチルエチルケトン溶液 4部 シリカ(HDK H−2000、Wacker社製) 12部 次に、厚さ50μmのポリイミドフィルムからなる有機
絶縁フィルムを重ね合わせ、130℃、1kg/cm2
の条件で加熱圧着して、TAB用テープを作製した。
EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples. All "parts" mean "parts by weight". Example 1 A coating film for forming an adhesive having the following composition was applied to a protective film made of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 μm and dried at 160 ° C. for 2 minutes to form an adhesive layer having a thickness of 20 μm. Polyamide resin (Tomide TXC-232-B, manufactured by Fuji Kasei Kogyo Co., Ltd.) 25% isopropyl alcohol / water mixed solution 70 parts Epoxy resin (Epicoat 828, manufactured by Yuka Shell Co., Ltd.) 6 parts Novolac phenolic resin (Tamanor 752, Arakawa) Chemical Co., Ltd.) 50% methyl ethyl ketone solution 6 parts Resol type phenolic resin (CKM-1282, Showa Polymer Co., Ltd.) 50% methyl ethyl ketone solution 4 parts Silica (HDK H-2000, Wacker Co.) 12 parts Next, thickness An organic insulating film made of a polyimide film having a thickness of 50 μm is overlaid, and the temperature is 130 ° C. and 1 kg / cm 2
Then, the TAB tape was produced by thermocompression bonding.

【0019】次に、このTAB用テープの保護フィルム
を剥がし、1オンスの電解銅箔(厚さ35〜40μm)
を貼り合わせ、130℃、1kg/cm2の条件で加熱
加圧処理を行った。その後、さらに60℃で6時間、8
0℃で6時間、120℃で3時間、および150℃で5
時間、順次加熱を行い、接着剤層の硬化を行った。さら
に常法により銅箔上にフォトレジスト膜を形成して処理
し、銅箔をエッチングし、櫛型回路を形成してフィルム
キャリアテープを作製した。
Next, the protective film of the TAB tape was peeled off, and 1 ounce electrolytic copper foil (thickness: 35 to 40 μm)
Were pasted together and subjected to heat and pressure treatment under the conditions of 130 ° C. and 1 kg / cm 2 . Then, at 60 ℃ for 6 hours, 8
6 hours at 0 ° C, 3 hours at 120 ° C, and 5 hours at 150 ° C
The adhesive layer was cured by sequentially heating for an hour. Further, a photoresist film was formed on the copper foil by a conventional method and treated, and the copper foil was etched to form a comb-shaped circuit to produce a film carrier tape.

【0020】実施例2 接着剤層形成用塗料として、下記組成のものを用いた以
外は、実施例1と同様にしてTAB用テープおよびフィ
ルムキャリアテープを作製した。 ポリアミド樹脂(トーマイドTXC−232−B、富士化成 工業社製)の25%イソプロピルアルコール/水混合溶液 70部 エポキシ樹脂(エピコート828、油化シェル社製) 6部 ノボラック型フェノール樹脂(タマノル752、荒川化学社製) の50%メチルエチルケトン溶液 6部 レゾール型フェノール樹脂(CKM−1282、昭和高分子社製) の50%メチルエチルケトン溶液 4部 2−エチルイミダゾールの1%メチルエチルケトン溶液 7部 酸化チタン(R−550、石原産業社製) 12部
Example 2 A TAB tape and a film carrier tape were produced in the same manner as in Example 1 except that the following composition was used as the adhesive layer forming coating material. Polyamide resin (Tomide TXC-232-B, manufactured by Fuji Kasei Kogyo Co., Ltd.) 25% isopropyl alcohol / water mixed solution 70 parts Epoxy resin (Epicoat 828, manufactured by Yuka Shell Co., Ltd.) 6 parts Novolac phenolic resin (Tamanor 752, Arakawa) Chemical Co., Ltd.) 50% methyl ethyl ketone solution 6 parts Resol-type phenol resin (CKM-1282, Showa Polymer Co., Ltd.) 50% methyl ethyl ketone solution 4 parts 2-ethyl imidazole 1% methyl ethyl ketone solution 7 parts Titanium oxide (R-550 , Ishihara Sangyo Co., Ltd.) 12 parts

【0021】比較例1 接着剤層形成用塗料として、下記組成のものを用いた以
外は、実施例1と同様にして比較用のTAB用テープお
よびフィルムキャリアテープを作製した。 ポリアミド樹脂(トーマイドTXC−232−B、富士化成 工業社製)の25%イソプロピルアルコール/水混合溶液 100部 エポキシ樹脂(エピコート828、油化シェル社製) 8部 ノボラック型フェノール樹脂(タマノル752、荒川化学社製) の50%メチルエチルケトン溶液 8部 レゾール型フェノール樹脂(CKM−1282、昭和高分子社製) の50%メチルエチルケトン溶液 6部 2−エチルイミダゾールの1%メチルエチルケトン溶液 10部
Comparative Example 1 A TAB tape and a film carrier tape for comparison were prepared in the same manner as in Example 1 except that the coating composition for forming the adhesive layer had the following composition. Polyamide resin (Tomide TXC-232-B, manufactured by Fuji Kasei Kogyo Co., Ltd.) 25% isopropyl alcohol / water mixed solution 100 parts Epoxy resin (Epicoat 828, manufactured by Yuka Shell Co., Ltd.) 8 parts Novolac phenolic resin (Tamanor 752, Arakawa) Chemical Co., Ltd.) 50% methyl ethyl ketone solution 8 parts Resol-type phenol resin (CKM-1282, Showa Polymer Co., Ltd.) 50% methyl ethyl ketone solution 6 parts 2-Ethylimidazole 1% methyl ethyl ketone solution 10 parts

【0022】(特性評価試験)実施例1および2、およ
び比較例1のフィルムキャリアテープに対して、下記の
特性試験を行った。その結果を表1に示す。 1)線間100μmパターンを用い、121℃、2気
圧、100ボルト印加下での短絡が生じる間での時間。 2)耐薬品性(アセトンおよびメタノール浸漬による溶
解量):接着剤層の配合物を加熱硬化させた後、アセト
ンまたはメタノールにて30℃で1時間(超音波下)浸
漬した後の重量減少率(%)。 3)常温時における銅箔との接着力(100μm幅、9
0°剥離)。 4)高温時における銅箔との接着力(250℃、100
μm幅、90°剥離)。
(Characteristic Evaluation Test) The film carrier tapes of Examples 1 and 2 and Comparative Example 1 were subjected to the following characteristic tests. The results are shown in Table 1. 1) Time between short circuits under the condition of 121 ° C., 2 atm, and 100 V using a 100 μm pattern between lines. 2) Chemical resistance (dissolved amount by immersion in acetone and methanol): The weight reduction rate after the adhesive layer composition is heat-cured and then immersed in acetone or methanol at 30 ° C. for 1 hour (under ultrasonic waves). (%). 3) Adhesion with copper foil at room temperature (100 μm width, 9
0 ° peeling). 4) Adhesion with copper foil at high temperature (250 ° C, 100
μm width, 90 ° peeling).

【0023】[0023]

【表1】 [Table 1]

【0024】表1から明らかな通り、本発明のTAB用
テープは、高い絶縁信頼性と耐薬品性を有し、常温及び
高温時においても強い接着性を備えたものであることが
確認された。
As is apparent from Table 1, it was confirmed that the TAB tape of the present invention has high insulation reliability and chemical resistance, and has strong adhesiveness even at normal temperature and high temperature. .

【0025】[0025]

【発明の効果】本発明のTAB用テープは、接着剤層に
粉体状無機充填剤が含有されているので、接着剤層の熱
膨脹及び収縮が抑制され、耐薬品性及び耐熱性が向上す
る。その結果、半導体デバイスの組み立て工程における
処理に際してエッチング液やメッキ液に侵され難いの
で、銅箔に対する接着力の低下を防止することができ
る。また、本発明のTAB用テープは、絶縁信頼性が高
く、接着力も高いので、多ピン化が進んで線幅が狭くな
っているパターンと有機絶縁フィルムとを確実に接着す
る事ができ、リード間の絶縁性に問題を生じることもな
い。したがって、チップと外部回路との接続に使用され
る際に、リードのピン数が増えても、リード部分にテー
プを残留させることができる。それゆえ、多ピンチップ
を実装する場合、ボンディングミスが生じがたく、搬送
工程、ボンディング工程等において、リードの変形が少
なく、歩留りが大巾に向上する。
EFFECTS OF THE INVENTION Since the TAB tape of the present invention contains the powdery inorganic filler in the adhesive layer, thermal expansion and contraction of the adhesive layer are suppressed, and chemical resistance and heat resistance are improved. . As a result, during the process of assembling the semiconductor device, it is hard to be attacked by the etching solution or the plating solution, so that the adhesive strength to the copper foil can be prevented from being lowered. In addition, since the TAB tape of the present invention has high insulation reliability and high adhesive strength, it is possible to reliably adhere the pattern having a narrow line width due to the increase in the number of pins and the organic insulating film, and to lead. There is no problem with the insulation between them. Therefore, when the chip is used for connecting to an external circuit, the tape can be left on the lead portion even if the number of lead pins increases. Therefore, when a multi-pin chip is mounted, a bonding mistake is unlikely to occur, lead deformation is small in the carrying process, the bonding process, etc., and the yield is greatly improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明のTAB用テープの模式的断面図であ
る。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a TAB tape of the present invention.

【図2】 本発明のTAB用テープの製造工程図であ
る。
FIG. 2 is a manufacturing process diagram of the TAB tape of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…有機絶縁フィルム 2…接着剤層 3…保護フィルム 4…粉末状無機充填剤 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Organic insulating film 2 ... Adhesive layer 3 ... Protective film 4 ... Powder inorganic filler

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 有機絶縁性フィルム上に、ポリアミド樹
脂を主成分とする熱硬化型の接着剤層および保護層を設
けてなり、該接着剤層が少なくとも1種類の粉体状無機
充填剤を含有することを特徴とするTAB用テープ。
1. A thermosetting adhesive layer containing a polyamide resin as a main component and a protective layer are provided on an organic insulating film, and the adhesive layer contains at least one kind of powdery inorganic filler. A tape for TAB characterized by containing.
【請求項2】 粉体状無機充填剤の含有量が1〜90重
量%であることを特徴とする請求項1記載のTAB用テ
ープ。
2. The tape for TAB according to claim 1, wherein the content of the powdery inorganic filler is 1 to 90% by weight.
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US08/612,264 US5843550A (en) 1991-07-24 1996-03-07 Adhesive tape for tape automated bonding
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