JPH07116172B2 - 2-amino-3-homofuranosides - Google Patents
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- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 claims description 41
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 38
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 36
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims description 35
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 23
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 21
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 19
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 17
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 17
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 14
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 claims description 12
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 10
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 8
- 125000004448 alkyl carbonyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 150000002009 diols Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 6
- 125000001118 alkylidene group Chemical group 0.000 claims description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 128
- -1 isobutyryl Chemical group 0.000 description 97
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 88
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 57
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 56
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 53
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 51
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 42
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 42
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 36
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 239000002585 base Substances 0.000 description 30
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 30
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 27
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 27
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 25
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 25
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 23
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 22
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 description 20
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 20
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 19
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 18
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000001819 mass spectrum Methods 0.000 description 17
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 17
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 16
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 16
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 15
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 14
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 14
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 13
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 13
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 13
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 12
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 12
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 11
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 11
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 11
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 10
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 10
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 10
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 10
- 238000001226 reprecipitation Methods 0.000 description 10
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 10
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 9
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 9
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 9
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 9
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 8
- GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N hexamethylphosphoric triamide Chemical compound CN(C)P(=O)(N(C)C)N(C)C GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N lithium diisopropylamide Chemical compound [Li+].CC(C)[N-]C(C)C ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 7
- WACQKHWOTAEEFS-UHFFFAOYSA-N cyclohexane;ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O.C1CCCCC1 WACQKHWOTAEEFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 7
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 7
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 7
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 7
- GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,6,7,8,9,10-octahydropyrimido[1,2-a]azepine Chemical compound C1CCCCN2CCCN=C21 GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N N-Methylmorpholine Chemical compound CN1CCOCC1 SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 6
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 6
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 6
- 239000012280 lithium aluminium hydride Substances 0.000 description 6
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 6
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 6
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N silver oxide Chemical compound [O-2].[Ag+].[Ag+] NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 6
- 235000017550 sodium carbonate Nutrition 0.000 description 6
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 6
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 description 6
- 125000003774 valeryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 6
- NOTFZGFABLVTIG-UHFFFAOYSA-N Cyclohexylethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCC1CCCCC1 NOTFZGFABLVTIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910000288 alkali metal carbonate Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000008041 alkali metal carbonates Chemical class 0.000 description 5
- 239000012267 brine Substances 0.000 description 5
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 5
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 5
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 5
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 5
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 5
- UKVIEHSSVKSQBA-UHFFFAOYSA-N methane;palladium Chemical compound C.[Pd] UKVIEHSSVKSQBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N n-Propyl acetate Natural products CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 5
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 5
- 229960003975 potassium Drugs 0.000 description 5
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 5
- 235000011181 potassium carbonates Nutrition 0.000 description 5
- 235000011118 potassium hydroxide Nutrition 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 229940090181 propyl acetate Drugs 0.000 description 5
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 5
- 239000012279 sodium borohydride Substances 0.000 description 5
- 229910000033 sodium borohydride Inorganic materials 0.000 description 5
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical compound O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- HZNVUJQVZSTENZ-UHFFFAOYSA-N 2,3-dichloro-5,6-dicyano-1,4-benzoquinone Chemical compound ClC1=C(Cl)C(=O)C(C#N)=C(C#N)C1=O HZNVUJQVZSTENZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-2-hydroxypropanoate Chemical compound NCC(O)C(O)=O BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M Bicarbonate Chemical compound OC([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QOSSAOTZNIDXMA-UHFFFAOYSA-N Dicylcohexylcarbodiimide Chemical compound C1CCCCC1N=C=NC1CCCCC1 QOSSAOTZNIDXMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 4
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 4
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 4
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 4
- 238000010531 catalytic reduction reaction Methods 0.000 description 4
- 125000005982 diphenylmethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])(*)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- PHTQWCKDNZKARW-UHFFFAOYSA-N isoamylol Chemical compound CC(C)CCO PHTQWCKDNZKARW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 4
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 4
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 4
- FPGGTKZVZWFYPV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium fluoride Chemical compound [F-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC FPGGTKZVZWFYPV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SGUVLZREKBPKCE-UHFFFAOYSA-N 1,5-diazabicyclo[4.3.0]-non-5-ene Chemical compound C1CCN=C2CCCN21 SGUVLZREKBPKCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UTQNKKSJPHTPBS-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-trichloroethanone Chemical group ClC(Cl)(Cl)[C]=O UTQNKKSJPHTPBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YQTCQNIPQMJNTI-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylpropan-1-one Chemical group CC(C)(C)[C]=O YQTCQNIPQMJNTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000006201 3-phenylpropyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 4-Dimethylaminopyridine Chemical compound CN(C)C1=CC=NC=C1 VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000006283 4-chlorobenzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1Cl)C([H])([H])* 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007868 Raney catalyst Substances 0.000 description 3
- 229910000564 Raney nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 3
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 3
- CBHOOMGKXCMKIR-UHFFFAOYSA-N azane;methanol Chemical compound N.OC CBHOOMGKXCMKIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 3
- 235000019445 benzyl alcohol Nutrition 0.000 description 3
- 125000004063 butyryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000002668 chloroacetyl group Chemical group ClCC(=O)* 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 3
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 3
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 3
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 3
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 description 3
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000400 lauroyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 150000002642 lithium compounds Chemical class 0.000 description 3
- DVSDBMFJEQPWNO-UHFFFAOYSA-N methyllithium Chemical compound C[Li] DVSDBMFJEQPWNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002801 octanoyl group Chemical group C(CCCCCCC)(=O)* 0.000 description 3
- 125000001312 palmitoyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 3
- LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N potassium tert-butoxide Chemical compound [K+].CC(C)(C)[O-] LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 3
- 125000001501 propionyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 229910001923 silver oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N sodium ethoxide Chemical compound [Na+].CC[O-] QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 3
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000003696 stearoyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 238000004809 thin layer chromatography Methods 0.000 description 3
- 125000004044 trifluoroacetyl group Chemical group FC(C(=O)*)(F)F 0.000 description 3
- 125000002221 trityl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1C([*])(C1=C(C(=C(C(=C1[H])[H])[H])[H])[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 125000000242 4-chlorobenzoyl group Chemical group ClC1=CC=C(C(=O)*)C=C1 0.000 description 2
- 125000004172 4-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 2
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N Acetamide Chemical compound CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XVZXOLOFWKSDSR-UHFFFAOYSA-N Cc1cc(C)c([C]=O)c(C)c1 Chemical group Cc1cc(C)c([C]=O)c(C)c1 XVZXOLOFWKSDSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FBPFZTCFMRRESA-KVTDHHQDSA-N D-Mannitol Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-KVTDHHQDSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- YMNMXQILQOXZPB-UHFFFAOYSA-N acetic acid;4-methylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC(O)=O.CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 YMNMXQILQOXZPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PZAGQUOSOTUKEC-UHFFFAOYSA-N acetic acid;sulfuric acid Chemical compound CC(O)=O.OS(O)(=O)=O PZAGQUOSOTUKEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BLAKAEFIFWAFGH-UHFFFAOYSA-N acetyl acetate;pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1.CC(=O)OC(C)=O BLAKAEFIFWAFGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052977 alkali metal sulfide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- 125000005092 alkenyloxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004849 alkoxymethyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005103 alkyl silyl group Chemical group 0.000 description 2
- XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N allyl alcohol Chemical compound OCC=C XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 2
- 125000005098 aryl alkoxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- RQPZNWPYLFFXCP-UHFFFAOYSA-L barium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ba+2] RQPZNWPYLFFXCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910001863 barium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 2
- PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N benzoyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC=C1 PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001584 benzyloxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC1=CC=CC=C1)* 0.000 description 2
- SIPUZPBQZHNSDW-UHFFFAOYSA-N bis(2-methylpropyl)aluminum Chemical compound CC(C)C[Al]CC(C)C SIPUZPBQZHNSDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 238000010908 decantation Methods 0.000 description 2
- GGSUCNLOZRCGPQ-UHFFFAOYSA-N diethylaniline Chemical compound CCN(CC)C1=CC=CC=C1 GGSUCNLOZRCGPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAYLNYINCPYISS-UHFFFAOYSA-N ethyl acetate;hexane Chemical compound CCCCCC.CCOC(C)=O OAYLNYINCPYISS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- 150000002337 glycosamines Chemical class 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 125000004029 hydroxymethyl group Chemical group [H]OC([H])([H])* 0.000 description 2
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 description 2
- 238000006317 isomerization reaction Methods 0.000 description 2
- 125000000654 isopropylidene group Chemical group C(C)(C)=* 0.000 description 2
- 150000003951 lactams Chemical group 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012038 nucleophile Substances 0.000 description 2
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 125000003854 p-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Cl 0.000 description 2
- 125000003232 p-nitrobenzoyl group Chemical group [N+](=O)([O-])C1=CC=C(C(=O)*)C=C1 0.000 description 2
- 125000006503 p-nitrobenzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1[N+]([O-])=O)C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000005440 p-toluyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1C(*)=O)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- UYWQUFXKFGHYNT-UHFFFAOYSA-N phenylmethyl ester of formic acid Natural products O=COCC1=CC=CC=C1 UYWQUFXKFGHYNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 2
- DPLVEEXVKBWGHE-UHFFFAOYSA-N potassium sulfide Chemical compound [S-2].[K+].[K+] DPLVEEXVKBWGHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 2
- 229910052979 sodium sulfide Inorganic materials 0.000 description 2
- GRVFOGOEDUUMBP-UHFFFAOYSA-N sodium sulfide (anhydrous) Chemical compound [Na+].[Na+].[S-2] GRVFOGOEDUUMBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXQLVRUNWNTZOS-UHFFFAOYSA-N sulfanyl Chemical group [SH] PXQLVRUNWNTZOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N triethylenediamine Chemical compound C1CN2CCN1CC2 IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- NKRJRPDCNYYXEZ-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxyalumane Chemical compound CC(C)(C)O[AlH2] NKRJRPDCNYYXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERXDWLUWLFFEK-UHFFFAOYSA-N 1-chloroethyl methyl carbonate Chemical compound COC(=O)OC(C)Cl CERXDWLUWLFFEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HEWZVZIVELJPQZ-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxypropane Chemical compound COC(C)(C)OC HEWZVZIVELJPQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCPVQAHEFVXVKT-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-difluorophenoxy)pyridin-3-amine Chemical compound NC1=CC=CN=C1OC1=CC=C(F)C=C1F LCPVQAHEFVXVKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006281 4-bromobenzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1Br)C([H])([H])* 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRLTTZUODKEYDH-UHFFFAOYSA-N 8-methylquinoline Chemical group C1=CN=C2C(C)=CC=CC2=C1 JRLTTZUODKEYDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXDAEFPNCMNJSK-UHFFFAOYSA-N Benzamide Chemical compound NC(=O)C1=CC=CC=C1 KXDAEFPNCMNJSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BKHHNYLUZBFAOT-UHFFFAOYSA-N CC(C)CBCC(C)C Chemical compound CC(C)CBCC(C)C BKHHNYLUZBFAOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 1
- XBPCUCUWBYBCDP-UHFFFAOYSA-N Dicyclohexylamine Chemical compound C1CCCCC1NC1CCCCC1 XBPCUCUWBYBCDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHUUTDBJXJRKMK-UHFFFAOYSA-N Glutamic acid Natural products OC(=O)C(N)CCC(O)=O WHUUTDBJXJRKMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N Hydrogen bromide Chemical compound Br CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKLJMWTZIZZHCS-REOHCLBHSA-N L-aspartic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CC(O)=O CKLJMWTZIZZHCS-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- 239000012448 Lithium borohydride Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021627 Tin(IV) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBJUEJCZPKMDPA-UHFFFAOYSA-N acetic acid;zinc Chemical compound [Zn].CC(O)=O DBJUEJCZPKMDPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 230000010933 acylation Effects 0.000 description 1
- 238000005917 acylation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 229910000102 alkali metal hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008046 alkali metal hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000029936 alkylation Effects 0.000 description 1
- 238000005804 alkylation reaction Methods 0.000 description 1
- VOZYXUHNEBULJT-UHFFFAOYSA-N aluminum oxygen(2-) rhodium(3+) Chemical compound [O--].[O--].[O--].[Al+3].[Rh+3] VOZYXUHNEBULJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002862 amidating effect Effects 0.000 description 1
- 230000009435 amidation Effects 0.000 description 1
- 238000007112 amidation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 235000001014 amino acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- CAMXVZOXBADHNJ-UHFFFAOYSA-N ammonium nitrite Chemical compound [NH4+].[O-]N=O CAMXVZOXBADHNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HOPRXXXSABQWAV-UHFFFAOYSA-N anhydrous collidine Natural products CC1=CC=NC(C)=C1C HOPRXXXSABQWAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMPVEPPRYRXYNP-UHFFFAOYSA-I antimony(5+);pentachloride Chemical compound Cl[Sb](Cl)(Cl)(Cl)Cl VMPVEPPRYRXYNP-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- 235000003704 aspartic acid Nutrition 0.000 description 1
- HKVFISRIUUGTIB-UHFFFAOYSA-O azanium;cerium;nitrate Chemical compound [NH4+].[Ce].[O-][N+]([O-])=O HKVFISRIUUGTIB-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 238000010533 azeotropic distillation Methods 0.000 description 1
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Inorganic materials [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940092714 benzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 125000000649 benzylidene group Chemical group [H]C(=[*])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- OQFSQFPPLPISGP-UHFFFAOYSA-N beta-carboxyaspartic acid Natural products OC(=O)C(N)C(C(O)=O)C(O)=O OQFSQFPPLPISGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000037396 body weight Effects 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- YXASHNSJWVCWQQ-UHFFFAOYSA-N bromomethyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OCBr YXASHNSJWVCWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 159000000007 calcium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000002775 capsule Substances 0.000 description 1
- 150000001720 carbohydrates Chemical class 0.000 description 1
- 235000014633 carbohydrates Nutrition 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- SMJYMSAPPGLBAR-UHFFFAOYSA-N chloromethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCl SMJYMSAPPGLBAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTBIMNXEDGNJFE-UHFFFAOYSA-N collidine Natural products CC1=CC=C(C)C(C)=N1 UTBIMNXEDGNJFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 235000008504 concentrate Nutrition 0.000 description 1
- 230000000911 decarboxylating effect Effects 0.000 description 1
- 238000010511 deprotection reaction Methods 0.000 description 1
- ZWWWLCMDTZFSOO-UHFFFAOYSA-N diethoxyphosphorylformonitrile Chemical compound CCOP(=O)(C#N)OCC ZWWWLCMDTZFSOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007884 disintegrant Substances 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 1
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 description 1
- CCIVGXIOQKPBKL-UHFFFAOYSA-M ethanesulfonate Chemical compound CCS([O-])(=O)=O CCIVGXIOQKPBKL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BDHXJIRTSWHBPR-UHFFFAOYSA-N ethyl 1-iodoethyl carbonate Chemical compound CCOC(=O)OC(C)I BDHXJIRTSWHBPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000796 flavoring agent Substances 0.000 description 1
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 1
- 235000013355 food flavoring agent Nutrition 0.000 description 1
- UPWPDUACHOATKO-UHFFFAOYSA-K gallium trichloride Chemical compound Cl[Ga](Cl)Cl UPWPDUACHOATKO-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000004220 glutamic acid Substances 0.000 description 1
- 235000013922 glutamic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 1
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007327 hydrogenolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 229940071870 hydroiodic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000001727 in vivo Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 235000010355 mannitol Nutrition 0.000 description 1
- NGYIMTKLQULBOO-UHFFFAOYSA-L mercury dibromide Chemical compound Br[Hg]Br NGYIMTKLQULBOO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- FQGYCXFLEQVDJQ-UHFFFAOYSA-N mercury dicyanide Chemical compound N#C[Hg]C#N FQGYCXFLEQVDJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000474 mercury oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- UKWHYYKOEPRTIC-UHFFFAOYSA-N mercury(ii) oxide Chemical compound [Hg]=O UKWHYYKOEPRTIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 description 1
- 239000002480 mineral oil Substances 0.000 description 1
- 235000010446 mineral oil Nutrition 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- CMESPBFFDMPSIY-UHFFFAOYSA-N n,n'-diphenylmethanediimine Chemical compound C1=CC=CC=C1N=C=NC1=CC=CC=C1 CMESPBFFDMPSIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSKUDVDCSYIMIP-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylformamide;iodomethane Chemical compound IC.CN(C)C=O MSKUDVDCSYIMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004971 nitroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006502 nitrobenzyl group Chemical group 0.000 description 1
- 231100000252 nontoxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000003000 nontoxic effect Effects 0.000 description 1
- 231100000956 nontoxicity Toxicity 0.000 description 1
- 230000000269 nucleophilic effect Effects 0.000 description 1
- 125000001209 o-nitrophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C(C([H])=C1[H])[N+]([O-])=O 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- MUMZUERVLWJKNR-UHFFFAOYSA-N oxoplatinum Chemical compound [Pt]=O MUMZUERVLWJKNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006505 p-cyanobenzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1C#N)C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001037 p-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- UQPUONNXJVWHRM-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 UQPUONNXJVWHRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007911 parenteral administration Methods 0.000 description 1
- ZSRZHCIWJJKHAU-UHFFFAOYSA-N pentachloro-$l^{5}-arsane Chemical compound Cl[As](Cl)(Cl)(Cl)Cl ZSRZHCIWJJKHAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000546 pharmaceutical excipient Substances 0.000 description 1
- 230000000144 pharmacologic effect Effects 0.000 description 1
- NHKJPPKXDNZFBJ-UHFFFAOYSA-N phenyllithium Chemical compound [Li]C1=CC=CC=C1 NHKJPPKXDNZFBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960005235 piperonyl butoxide Drugs 0.000 description 1
- 125000004591 piperonyl group Chemical group C(C1=CC=2OCOC2C=C1)* 0.000 description 1
- 229910003446 platinum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000011736 potassium bicarbonate Substances 0.000 description 1
- 235000015497 potassium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000028 potassium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M potassium hydrogencarbonate Chemical compound [K+].OC([O-])=O TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940086066 potassium hydrogencarbonate Drugs 0.000 description 1
- USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L potassium persulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ZMJJCODMIXQWCQ-UHFFFAOYSA-N potassium;di(propan-2-yl)azanide Chemical compound [K+].CC(C)[N-]C(C)C ZMJJCODMIXQWCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- ZDYVRSLAEXCVBX-UHFFFAOYSA-N pyridinium p-toluenesulfonate Chemical compound C1=CC=[NH+]C=C1.CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 ZDYVRSLAEXCVBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 description 1
- CQLFBEKRDQMJLZ-UHFFFAOYSA-M silver acetate Chemical compound [Ag+].CC([O-])=O CQLFBEKRDQMJLZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940071536 silver acetate Drugs 0.000 description 1
- ODZPKZBBUMBTMG-UHFFFAOYSA-N sodium amide Chemical compound [NH2-].[Na+] ODZPKZBBUMBTMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CHQMHPLRPQMAMX-UHFFFAOYSA-L sodium persulfate Substances [Na+].[Na+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O CHQMHPLRPQMAMX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical group 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 235000000346 sugar Nutrition 0.000 description 1
- 239000000829 suppository Substances 0.000 description 1
- GFYHSKONPJXCDE-UHFFFAOYSA-N sym-collidine Natural products CC1=CN=C(C)C(C)=C1 GFYHSKONPJXCDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000024891 symptom Diseases 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000006188 syrup Substances 0.000 description 1
- 235000020357 syrup Nutrition 0.000 description 1
- 239000003826 tablet Substances 0.000 description 1
- 125000003718 tetrahydrofuranyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001412 tetrahydropyranyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229940124597 therapeutic agent Drugs 0.000 description 1
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N trichloroborane Chemical compound ClB(Cl)Cl FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006000 trichloroethyl group Chemical group 0.000 description 1
- FEQPHYCEZKWPNE-UHFFFAOYSA-K trichlororhodium;triphenylphosphane Chemical compound Cl[Rh](Cl)Cl.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 FEQPHYCEZKWPNE-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- DQWPFSLDHJDLRL-UHFFFAOYSA-N triethyl phosphate Chemical compound CCOP(=O)(OCC)OCC DQWPFSLDHJDLRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ILWRPSCZWQJDMK-UHFFFAOYSA-N triethylazanium;chloride Chemical compound Cl.CCN(CC)CC ILWRPSCZWQJDMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JABYJIQOLGWMQW-UHFFFAOYSA-N undec-4-ene Chemical compound CCCCCCC=CCCC JABYJIQOLGWMQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 1
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 1
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Description
【発明の詳細な説明】 [目的] (産業上の利用分野) 本発明は、抗菌作用を有する新規なアミノ糖に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Purpose] (Industrial field of application) The present invention relates to a novel amino sugar having an antibacterial action.
(当該発明が解決しようとする問題点) 本発明者等は、糖骨格を有する誘導体の合成とその薬理
活性について永年に亘り鋭意研究を行なった結果、既知
のアミノ糖とは全く構造を異にする新規なシス−2−ア
ミノ−3−ホモ糖が、抗菌作用を有することを見出し本
発明を完成した。(Problems to be Solved by the Invention) The present inventors have conducted extensive studies for many years on the synthesis of a derivative having a sugar skeleton and its pharmacological activity, and as a result, have a completely different structure from known amino sugars. The present invention was completed by finding that the novel cis-2-amino-3-homosaccharide having the above-mentioned properties has an antibacterial action.
[構成] 本発明の新規な2−アミノ−3−ホモフラノサイド類及
びその薬理学上許容される塩は、一般式 [式中、R1は、水素原子、下記(水酸基保護基群)から
選択された水酸基の保護基、下記(水酸基置換基群)か
ら選択された水酸基の置換基を示し、R2又はR3は同一又
は異なって、水素原子、下記(アミノ基保護基群)から
選択されたアミノ基の保護基又は下記(アミノ基置換基
群)から選択されたアミノ基の置換基を示し、R4は式−
COR6(式中、R6は、水素原子、低級アルキル基、下記
(水酸基保護基群)から選択された基で保護されていて
もよい水酸基、下記(水酸基置換基群)から選択された
基で置換された水酸基、下記(メルカプト保護群)から
選択された基で保護されていてもよいメルカプト基、下
記(メルカプト置換基群)より選択された基で置換され
たメルカプト基又は一般式−NR2R3を示す。)又は式−C
H2OR1(式中、R1は、前記と同意義を示す。)を示し、R
5は、水素原子、低級アルキル基、アリール基、アリル
基、ビニル基又は式 (式中、R8は、R1と同様の基を示し、R7は下記(ジオー
ル保護基群)から選択されたジオールの保護基を示
す。)を示し、又は、R4、R5は一緒になって、 (式中、R9は、R1と同様の基を示す。)を示す。但し、
2位置換基NR2R3と3位置換基R4の配位は、シス配位を
有する。[Structure] The novel 2-amino-3-homofuranosides and pharmaceutically acceptable salts thereof of the present invention have the general formula [In the formula, R 1 represents a hydrogen atom, a hydroxyl group protecting group selected from the following (hydroxyl group protecting group), a hydroxyl group substituent selected from the following (hydroxyl group group), R 2 or R 3 Are the same or different and represent a hydrogen atom, an amino group protecting group selected from the following (amino group protecting group) or an amino group substituent selected from the following (amino group substituent group), and R 4 is Expression −
COR 6 (in the formula, R 6 is a hydrogen atom, a lower alkyl group, a hydroxyl group optionally protected by a group selected from the following (hydroxyl group protecting group), a group selected from the following (hydroxyl group) A hydroxyl group substituted with, a mercapto group which may be protected by a group selected from the following (mercapto protection group), a mercapto group substituted with a group selected from the following (mercapto substituent group) or a general formula -NR 2 R 3 )) or formula -C
H 2 OR 1 (wherein R 1 has the same meaning as described above), and R 2
5 is a hydrogen atom, lower alkyl group, aryl group, allyl group, vinyl group or formula (In the formula, R 8 represents a group similar to R 1 , R 7 represents a diol protecting group selected from the following (diol protecting group group)), or R 4 and R 5 represent Together, (In the formula, R 9 represents the same group as R 1. ) However,
The coordination of the 2-position substituent NR 2 R 3 and the 3-position substituent R 4 has a cis coordination.
(水酸基保護基群) 脂肪族アシル基;アラルキル基 (水酸基置換基群) 低級アルキル基;アリル基 (アミノ基保護基群) 脂肪族アシル基;芳香族アシル基;アラルキル基 (アミノ基置換基群) 低級アルキル基;ビニル基 (メルカプト基保護基群) アルキルカルボニル基;芳香族アシル基 (メルカプト基置換基群) 低級アルキル基;アリール基 (ジオール保護基群) 低級アルキリデン基;アラルキリデン基]を有する2−
アミノホモフラノサイド類及びその薬理学上許容される
塩に関するものである。(Hydroxyl protecting group) Aliphatic acyl group; Aralkyl group (Hydroxyl substituent group) Lower alkyl group; Allyl group (Amino group protecting group) Aliphatic acyl group; Aromatic acyl group; Aralkyl group (Amino group substituent group) A) lower alkyl group; vinyl group (mercapto group protecting group) alkylcarbonyl group; aromatic acyl group (mercapto group substituent group) lower alkyl group; aryl group (diol protecting group) lower alkylidene group; aralkylidene group] 2-
The present invention relates to aminohomofuranosides and pharmacologically acceptable salts thereof.
上記一般式(I)において、R1及びR6の定義における
(水酸基保護基群)は、例えば、ホルミル、アセチル、
プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、ペンタノイ
ル、ピバロイル、バレリル、イソバレリル、オクタノイ
ル、ラウロイル、パルミトイル、ステアロイルのような
アルキルカルボニル基、クロロアセチル、ジクロロアセ
チル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチルのよ
うなハロゲン化脂肪族アシル基、メトキシアセチルのよ
うな低級アルコキシ脂肪族アシル基、(E)−2−メチ
ル−2−ブテノイルのような不飽和脂肪族アシル基等の
脂肪族アシル基が挙げられるが、好適には、アルキルカ
ルボニル基であり、更に好適には、アセチル基である。In the above general formula (I), the (hydroxyl protecting group) in the definition of R 1 and R 6 is, for example, formyl, acetyl,
Alkylcarbonyl groups such as propionyl, butyryl, isobutyryl, pentanoyl, pivaloyl, valeryl, isovaleryl, octanoyl, lauroyl, palmitoyl, stearoyl, halogenated aliphatic acyl groups such as chloroacetyl, dichloroacetyl, trichloroacetyl, trifluoroacetyl, Examples thereof include lower alkoxy aliphatic acyl groups such as methoxyacetyl, and aliphatic acyl groups such as unsaturated aliphatic acyl groups such as (E) -2-methyl-2-butenoyl, preferably alkylcarbonyl groups. And more preferably an acetyl group.
また、例えば、ベンジル、フェネチル、3−フェニルプ
ロピル、p−メトキシベンジル、o−ニトロベンジル、
p−クロロベンジル、p−ニトロベンジル、p−シアノ
ベンジル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、α
−ナフチルメチル、β−ナフチルメチル、α−ナフチル
ジフェニルメチル、p−メトキシフェニルジフェニルメ
チルのようなアラルキル基が挙げられるが、好適には、
ベンジル基である。Further, for example, benzyl, phenethyl, 3-phenylpropyl, p-methoxybenzyl, o-nitrobenzyl,
p-chlorobenzyl, p-nitrobenzyl, p-cyanobenzyl, diphenylmethyl, triphenylmethyl, α
Examples include aralkyl groups such as -naphthylmethyl, β-naphthylmethyl, α-naphthyldiphenylmethyl, p-methoxyphenyldiphenylmethyl, and preferably,
It is a benzyl group.
上記一般式(I)において、R1及びR6の定義における
(水酸基置換基群)は、例えば、メチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、s−ブチ
ル、t−ブチル、ペンチル、ヘキシルのような低級アル
キル基又はアリル基を挙げることができ、好適には低級
アルキル基又はアリル基であり、更に好適には、メチル
基である。In the general formula (I), the (hydroxyl group) in the definition of R 1 and R 6 is, for example, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, s-butyl, t-butyl, pentyl or hexyl. Such lower alkyl group or allyl group can be mentioned, preferably lower alkyl group or allyl group, and more preferably methyl group.
R2及びR3の定義における(アミノ基保護基群)は、通常
アミノ基の保護基として使用するものであれば限定はな
いが、好適には、ホルミル、アセチル、プロピオニル、
ブチリル、イソブチリル、ペンタノイル、ピバロイル、
バレリル、イソバレリル、オクタノイル、ラウロイル、
パルミトイル、ステアロイルのようなアルキルカルボニ
ル基、クロロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロ
アセチル、トリフルオロアセチルのようなハロゲン化脂
肪族アシル基、メトキシアセチルのような低級アルコキ
シ脂肪族アシル基、(E)−2−メチル−2−ブテノイ
ルのような不飽和脂肪族アシル基等の脂肪族アシル基が
挙げられるが、好適にはアルキルカルボニル基であり、
更に好適には、アセチル基である。The (amino group-protecting group) in the definition of R 2 and R 3 is not particularly limited as long as it is usually used as a protecting group for amino group, and preferably formyl, acetyl, propionyl,
Butyryl, isobutyryl, pentanoyl, pivaloyl,
Valeryl, isovaleryl, octanoyl, lauroyl,
Alkylcarbonyl group such as palmitoyl and stearoyl, halogenated aliphatic acyl group such as chloroacetyl, dichloroacetyl, trichloroacetyl and trifluoroacetyl, lower alkoxy aliphatic acyl group such as methoxyacetyl, (E) -2- Examples thereof include aliphatic acyl groups such as unsaturated aliphatic acyl groups such as methyl-2-butenoyl, preferably alkylcarbonyl groups,
More preferably, it is an acetyl group.
また、例えば、ベンゾイル、o−(ジブロモメチル)ベ
ンゾイル、o−(メトキシカルボニル)ベンゾイル、p
−フェニルベンゾイル、2,4,6−トリメチルベンゾイ
ル、p−トルオイル、p−アニソイル、p−クロロベン
ゾイル、p−ニトロベンゾイル、o−ニトロベンゾイ
ル、α−ナフトイルのような芳香族アシル基が挙げられ
るが、好適にはベンゾイル基である。Also, for example, benzoyl, o- (dibromomethyl) benzoyl, o- (methoxycarbonyl) benzoyl, p
Aromatic phenyl groups such as -phenylbenzoyl, 2,4,6-trimethylbenzoyl, p-toluoyl, p-anisoyl, p-chlorobenzoyl, p-nitrobenzoyl, o-nitrobenzoyl, α-naphthoyl. And preferably a benzoyl group.
また、例えば、ベンジル、フェネチル、3−フェニルプ
ロピル、p−メトキシベンジル、2,4−ジメトキシベン
ジル、o−ニトロベンジル、p−クロロベンジル、p−
ニトロベンジル、p−シアノベンジルジフェニルメチ
ル、トリフェニルメチル、α若しくはβ−ナフチルメチ
ル、α−ナフチルジフェニルメチル、p−メトキシフェ
ニルジフェニルメチルのようなアラルキル基が挙げられ
るが、好適には2,4−ジメトキシベンジル基である。In addition, for example, benzyl, phenethyl, 3-phenylpropyl, p-methoxybenzyl, 2,4-dimethoxybenzyl, o-nitrobenzyl, p-chlorobenzyl, p-
Examples thereof include aralkyl groups such as nitrobenzyl, p-cyanobenzyldiphenylmethyl, triphenylmethyl, α- or β-naphthylmethyl, α-naphthyldiphenylmethyl, p-methoxyphenyldiphenylmethyl, and preferably 2,4- It is a dimethoxybenzyl group.
R2及びR3の定義における(アミノ基置換基群)は、例え
ばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、
イソブチル、s−ブチル、t−ブチル、ペンチル、ヘキ
シルのような低級アルキル基又はビニル基であり、好適
には、メチル基又はエチル基である。(Amino group substituent group) in the definition of R 2 and R 3 is, for example, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl,
A lower alkyl group such as isobutyl, s-butyl, t-butyl, pentyl and hexyl or a vinyl group, preferably a methyl group or an ethyl group.
R5及びR6の定義における低級アルキル基としては、例え
ばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、
イソブチル、s−ブチル、t−ブチル、ペンチル、ヘキ
シルのような炭素数1乃至6のアルキル基を示し、好適
には、炭素数1乃至4のアルキル基である。Examples of the lower alkyl group in the definition of R 5 and R 6 include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl,
An alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as isobutyl, s-butyl, t-butyl, pentyl and hexyl is shown, and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is preferable.
R6の定義における(メルカプト基保護基群)は、例え
ば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イ
ソブチリル、ペンタノイル、ピバロイル、バレリル、イ
ソバレリル、オクタノイル、ラウロイル、パルミトイ
ル、ステアロイルのようなアルキルカルボニル基、クロ
ロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、
トリフルオロアセチルのようなハロゲン化脂肪族アシル
基、メトキシアセチルのような低級アルコキシ脂肪族ア
シル基、(E)−2−メチル−2−ブテノイルのような
不飽和脂肪族アシル基等の脂肪族アシル基又はベンゾイ
ル、o−(ジブロモメチル)ベンゾイル、o−(メトキ
シカルボニル)ベンゾイル、p−フェニルベンゾイル、
2,4,6−トリメチルベンゾイル、p−トルオイル、p−
アニソイル、p−クロロベンゾイル、p−ニトロベンゾ
イル、o−ニトロベンゾイル、α−ナフトイルのような
芳香族アシル基を挙げることができ、好適には、脂肪族
アシル基であり、更に好適には、アセチル基である。(Mercapto group-protecting group) in the definition of R 6 is, for example, an alkylcarbonyl group such as formyl, acetyl, propionyl, butyryl, isobutyryl, pentanoyl, pivaloyl, valeryl, isovaleryl, octanoyl, lauroyl, palmitoyl, stearoyl, chloroacetyl. , Dichloroacetyl, trichloroacetyl,
Aliphatic acyl such as halogenated aliphatic acyl group such as trifluoroacetyl, lower alkoxy aliphatic acyl group such as methoxyacetyl, unsaturated aliphatic acyl group such as (E) -2-methyl-2-butenoyl Group or benzoyl, o- (dibromomethyl) benzoyl, o- (methoxycarbonyl) benzoyl, p-phenylbenzoyl,
2,4,6-Trimethylbenzoyl, p-toluoyl, p-
Examples thereof include aromatic acyl groups such as anisoyl, p-chlorobenzoyl, p-nitrobenzoyl, o-nitrobenzoyl, and α-naphthoyl, preferably aliphatic acyl groups, and more preferably acetyl. It is a base.
R6の定義における(メルカプト基置換基群)は、好適に
はメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、
イソブチル、s−ブチル、t−ブチル、ペンチル、ヘキ
シルのような低級アルキル基;フェニル、p−トリル、
p−メトキシフェニル、p−クロロフェニル、α−若し
くはβ−ナフチルのようなアリール基であり、好適に
は、低級アルキル基であり、更に好適には、メチル貴で
ある。The (mercapto group substituent group) in the definition of R 6 is preferably methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl,
Lower alkyl groups such as isobutyl, s-butyl, t-butyl, pentyl, hexyl; phenyl, p-tolyl,
It is an aryl group such as p-methoxyphenyl, p-chlorophenyl, α- or β-naphthyl, preferably a lower alkyl group, and more preferably methyl-noble.
R5の定義におけるアリール基としては、フェニル、p−
トリル、p−メトキシフェニル、p−クロロフェニル、
α若しくはβ−ナフチルのようなアリール基をあげるこ
とができ、好適にはフェニル基である。The aryl group in the definition of R 5 is phenyl, p-
Tolyl, p-methoxyphenyl, p-chlorophenyl,
An aryl group such as α or β-naphthyl can be mentioned, and a phenyl group is preferable.
R7の定義における(ジオール保護基群)は、メチリデ
ン、エチリデン、イソプロピリデンのような低級アルキ
リデン基;ベンジリデンのようなアラルキリデン基を挙
げることができ、好適には低級アルキリデン基であり、
更に好適には、イソプロピリデン基である。The (diol protecting group) in the definition of R 7 includes a lower alkylidene group such as methylidene, ethylidene and isopropylidene; and an aralkylidene group such as benzylidene, preferably a lower alkylidene group,
More preferably, it is an isopropylidene group.
本発明の化合物(I)は、薬理学上許容される無毒性塩
にすることができるが、そのような塩としては、カルボ
ン酸の場合には好適には、ナトリウム塩、カリウム塩又
はカルシウム塩のようなアルカリ金属又はアルカリ土類
金属の塩;アミンの場合には好適には、弗化水素酸、塩
酸、臭化水素酸、沃化水素酸のようなハロゲン化水素
酸、硫酸、燐酸等の無機酸;メタンスルホン酸、トリフ
ルオロメタンスルホン酸、エタンスルホン酸のような低
級アルキルスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トル
エンスルホン酸のようなアリールスルホン酸、蓚酸、マ
レイン酸等の有機酸及びグルタミン酸、アスパラギン酸
のようなアミノ酸をあげることができる。The compound (I) of the present invention can be converted into a pharmacologically acceptable non-toxic salt, and such salt is preferably a sodium salt, potassium salt or calcium salt in the case of carboxylic acid. Alkali metal or alkaline earth metal salts such as; In the case of amines, hydrofluoric acid, hydrochloric acid, hydrobromic acid, hydrohalic acid such as hydroiodic acid, sulfuric acid, phosphoric acid, etc. Inorganic acids; lower alkylsulfonic acids such as methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, ethanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, arylsulfonic acids such as p-toluenesulfonic acid, oxalic acid, maleic acid and other organic acids, and glutamic acid Amino acids such as aspartic acid can be mentioned.
本発明の化合物(I)は、その分子内に不斉炭素を有
し、各々がS配位、R配位である多種の立体異性体が存
在するが、その各々、或いはそれらの混合物のいずれも
本発明に包含される。The compound (I) of the present invention has various stereoisomers each having an asymmetric carbon atom in its molecule and each having an S-coordinate and an R-coordinate, and each of them or a mixture thereof. Also included in the present invention.
化合物(I)において、好適な化合物としては、 (1)R1が、水素原子、脂肪族アシル基、アラルキル
基、低級アルキル基又はアリル基である化合物 (2)R2及びR3が同一又は異なって、水素原子、脂肪族
アシル基、芳香族アシル基、アラルキル基又は低級アル
キル基である化合物 (3)R4が、式−COR6(式中、R6は水素原子、低級アル
キル基、保護されていてもよい水酸基又は置換された水
酸基を示す。)である化合物 (4)R4が、式−CH2OR1(式中、R1は水素原子又は水酸
基の保護基を示す。)である化合物 (5)R5が、低級アルキル基又は (式中、R8は、R1と同様の基を示し、R7はジオールの保
護基を示す。)を示し、又は、R4及びR5は一緒になっ
て、 (式中、R9は、R1と同様の基を示す。)である化合物 (6)R1が、水素原子、脂肪族アシル基、アラルキル
基、低級アルキル基又はアリル基であり、R2及びR3が同
一又は異なって、水素原子、脂肪族アシル基、芳香族ア
シル基、アラルキル基又は低級アルキル基であり、R
4が、式−COR6(式中、R6は水素原子、低級アルキル
基、保護されていてもよい水酸基又は置換された水酸基
を示す。)であり、R5が、低級アルキル基又は (式中、R8は、R1と同様の基を示し、R7はジオールの保
護基を示す。)を示し、又は、R4及びR5は一緒になっ
て、 (式中、R9は、R1と同様の基を示す。)である化合物 (7)R1が、水素原子、脂肪族アシル基、アラルキル
基、低級アルキル基又はアリル基であり、R2及びR3が同
一又は異なって、水素原子、脂肪族アシル基、芳香族ア
シル基、アラルキル基又は低級アルキル基であり、R
4が、式−CH2OR1(式中、R1は水素原子又は水酸基の保
護基を示す。)であり、R5が、低級アルキル基又は (式中、R8は、R1と同様の基を示し、R7はジオールの保
護基を示す。)を示し、又は、R4及びR5は一緒になっ
て、 (式中、R9は、R1と同様の基を示す。)である化合物 をあげることができる。In the compound (I), preferred compounds include (1) a compound in which R 1 is a hydrogen atom, an aliphatic acyl group, an aralkyl group, a lower alkyl group or an allyl group (2) R 2 and R 3 are the same or Differently, a compound (3) R 4 which is a hydrogen atom, an aliphatic acyl group, an aromatic acyl group, an aralkyl group or a lower alkyl group has the formula —COR 6 (wherein R 6 is a hydrogen atom, a lower alkyl group, A compound (4) R 4 which is an optionally protected hydroxyl group or a substituted hydroxyl group) has the formula —CH 2 OR 1 (in the formula, R 1 represents a hydrogen atom or a hydroxyl-protecting group). (5) R 5 is a lower alkyl group or (Wherein R 8 represents a group similar to R 1 and R 7 represents a protecting group for diol), or R 4 and R 5 are taken together, (Wherein R 9 represents the same group as R 1 ). (6) R 1 is a hydrogen atom, an aliphatic acyl group, an aralkyl group, a lower alkyl group or an allyl group, and R 2 And R 3 are the same or different and each is a hydrogen atom, an aliphatic acyl group, an aromatic acyl group, an aralkyl group or a lower alkyl group, and R 3
4 is a formula —COR 6 (in the formula, R 6 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group, an optionally protected hydroxyl group or a substituted hydroxyl group), and R 5 is a lower alkyl group or (Wherein R 8 represents a group similar to R 1 and R 7 represents a protecting group for diol), or R 4 and R 5 are taken together, (Wherein, R 9 is the same groups as R 1.), Compound (7) R 1 is a hydrogen atom, an aliphatic acyl group, an aralkyl group, a lower alkyl group or an allyl group, R 2 And R 3 are the same or different and each is a hydrogen atom, an aliphatic acyl group, an aromatic acyl group, an aralkyl group or a lower alkyl group, and R 3
4 is a formula —CH 2 OR 1 (in the formula, R 1 represents a hydrogen atom or a hydroxyl-protecting group), and R 5 is a lower alkyl group or (Wherein R 8 represents a group similar to R 1 and R 7 represents a protecting group for diol), or R 4 and R 5 are taken together, (In the formula, R 9 represents the same group as R 1. )
本発明の代表的化合物としては、例えば、第1表に記載
する化合物を挙げることができるが、本発明はこれらの
化合物に限定されるものではない。Representative compounds of the present invention include, for example, the compounds shown in Table 1, but the present invention is not limited to these compounds.
上記例示化合物のうち、好適な化合物としては、1,3,4,
5,7,9,10,12,13,15,17,18,19,20,22,24,25,26,27,28,2
9,30,31,32,33,34,35,36,37,39,40,43,45,46,48,49,51,
53,54,56,57,58,60,61,62,63,64,65,66,67,68,69,70,7
1,72,73,74,75,77,78,79,81,83,84,86,87,89,91,92,94,
96,98,99,100,101,102,103,104,105,106,107,108,109,1
10,111,112,114,115,117,119,120,122,123,125,127,12
8,130,132,133,134,135,136,137,138,140,141,145,146,
149,151,153,154,155,156,158,159,160,161,162,163,16
4,165,166,167,168,170,173,175,176,178,179,181,183,
184,186,188,189,190,191,192,193,194,195,196,197の
化合物をあげることができる。 Of the above-exemplified compounds, preferred compounds include 1,3,4,
5,7,9,10,12,13,15,17,18,19,20,22,24,25,26,27,28,2
9,30,31,32,33,34,35,36,37,39,40,43,45,46,48,49,51,
53,54,56,57,58,60,61,62,63,64,65,66,67,68,69,70,7
1,72,73,74,75,77,78,79,81,83,84,86,87,89,91,92,94,
96,98,99,100,101,102,103,104,105,106,107,108,109,1
10,111,112,114,115,117,119,120,122,123,125,127,12
8,130,132,133,134,135,136,137,138,140,141,145,146,
149,151,153,154,155,156,158,159,160,161,162,163,16
4,165,166,167,168,170,173,175,176,178,179,181,183,
The compounds of 184,186,188,189,190,191,192,193,194,195,196,197 can be mentioned.
更に、好適な化合物としては、1,5,9,13,19,24,25,28,3
0,37,45,46,51,56,57,60,64,67,75,102,106,108,112,12
5,138,168の化合物をあげることができる。Further, suitable compounds include 1,5,9,13,19,24,25,28,3
0,37,45,46,51,56,57,60,64,67,75,102,106,108,112,12
5,138,168 compounds can be mentioned.
本発明の2−アミノ−3−ホモフラノサイド類は以下に
記載する方法によって製造することができる。The 2-amino-3-homofuranosides of the present invention can be produced by the method described below.
[製法1] [製法2] [製法3] [製法4] 上記式中、R1,R2,R3、R7及びR8は前記と同意義を示す。
Mは、ナトリウム、カリウムのようなアルカリ金属を示
す。R11はカルボキシ基の保護基を示し、好適には、メ
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソ
ブチル、s−ブチル、t−ブチル、ペンチル、ヘキシル
のような低級アルキル基;2、2、2−トリクロロエチ
ル、2−ハロエチル、2、2−ジブロモエチルのような
ハロゲノ低級アルキル基又はベンジル、フェネチル、3
−フェニルプロピル、p−メトキシベンジル、o−ニト
ロベンジル、p−クロロベンジル、p−ブロモベンジ
ル、p−ニトロベンジル、p−ハロベンジル、p−シア
ノベンジルジフェニルメチル、ジフェニルメチル、ビス
(o−ニトロフェニル)メチル、9−アンスリルメチ
ル、2、4、6−トリメチルベンジル、トリフェニルメ
チル、α若しくはβ−ナフチルメチル、α−ナフチルジ
フェニルメチル、p−メトキシフェニルジフェニルメチ
ル、ピペロニルのようなアラルキル基である。R12は、R
2及びR3の定義におけるアミノ基の保護基又はアミノ基
の置換基と同様の基を示す。R13は、R1の定義における
水酸基の保護基又は水酸基の置換基と同様の基を示す。
R14は、R1と同様の基を示す。R15は、R6と同様の基を示
す。R16は、R5の定義における水素原子、低級アルキル
基、アリール基、アリル基又はビニル基を示す。[Production method 1] [Production method 2] [Production method 3] [Production method 4] In the above formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 7 and R 8 have the same meanings as described above.
M represents an alkali metal such as sodium or potassium. R 11 represents a carboxy-protecting group, preferably a lower alkyl group such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, s-butyl, t-butyl, pentyl and hexyl; -Halogeno lower alkyl groups such as trichloroethyl, 2-haloethyl, 2,2-dibromoethyl or benzyl, phenethyl, 3
-Phenylpropyl, p-methoxybenzyl, o-nitrobenzyl, p-chlorobenzyl, p-bromobenzyl, p-nitrobenzyl, p-halobenzyl, p-cyanobenzyldiphenylmethyl, diphenylmethyl, bis (o-nitrophenyl) Aralkyl groups such as methyl, 9-anthrylmethyl, 2,4,6-trimethylbenzyl, triphenylmethyl, α- or β-naphthylmethyl, α-naphthyldiphenylmethyl, p-methoxyphenyldiphenylmethyl, piperonyl. R 12 is R
The same groups as the amino-protecting group or the amino-substituent substituent in the definitions of 2 and R 3 are shown. R 13 represents the same group as the hydroxyl protecting group or the hydroxyl substituent in the definition of R 1 .
R 14 represents the same group as R 1 . R 15 represents the same group as R 6 . R 16 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group, an aryl group, an allyl group or a vinyl group in the definition of R 5 .
第1工程は、例えば、一般式(II)を有する化合物を、
ジメチルテチン酸と反応させることにより、一般式(II
I)を有するエポキシ化合物を製造する工程である。In the first step, for example, a compound having the general formula (II)
By reacting with dimethyltetic acid, the compound of the general formula (II
This is a step of producing an epoxy compound having I).
原料化合物(I)は、チッテンデン等の方法[J.F.Chit
tenden,Carbohydrate Res.,84,352(1980)]及びバー
ル等の方法[E.Baer and H.O.L.Fisher,Chem.Ber.,128,
463(1939)]に従って、D−マンニトールから製造さ
れる。The starting compound (I) is prepared by the method of Chittenden et al. [JFChit
tenden, Carbohydrate Res., 84 , 352 (1980)] and Bar et al. [E.Baer and HOLFisher, Chem.Ber., 128 ,
463 (1939)], produced from D-mannitol.
使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
にはエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメ
トキシエタンのようなエーテル類;ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリ
アミドのようなアミド類又はジメチルスルホキシドのよ
うなスルホキシド類を挙げることができる。The solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent, but preferably ethers such as ether, tetrahydrofuran, dioxane and dimethoxyethane; dimethylformamide, dimethyl Mention may be made of amides such as acetamide, hexamethylphosphorotriamide or sulfoxides such as dimethylsulfoxide.
使用される塩基としては、通常、塩基としてアニオンを
発生させるものであれば特に限定はないが、好適には、
ナトリウムアミド、水素化ナトリウム、ブチルリチウ
ム、リチウムジトリメチルシリルアミド、リチウムジイ
ソプロピルアミドのような塩基を挙げることができる。The base used is not particularly limited as long as it can generate an anion as a base, but preferably,
Mention may be made of bases such as sodium amide, sodium hydride, butyllithium, lithium ditrimethylsilylamide, lithium diisopropylamide.
反応温度は−78℃乃至100℃で行なわれるが、好適に
は、0℃乃至50℃である。反応時間は、主に反応温度、
原料化合物又は使用される溶媒及び塩基の種類によって
異なるが、通常10分乃至5日間である。反応終了後、本
反応の目的化合物(III)は常法に従って、反応混合物
から採取される。例えば、反応混合物に水と混和しない
有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留去することによって
得られる。得られた目的化合物は必要ならば、常法、例
えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフィー等によって
更に精製できる。The reaction temperature is −78 ° C. to 100 ° C., preferably 0 ° C. to 50 ° C. The reaction time mainly depends on the reaction temperature,
The time is usually 10 minutes to 5 days, varying depending on the type of raw material compound or solvent and base used. After completion of the reaction, the target compound (III) of this reaction is collected from the reaction mixture according to a conventional method. For example, it can be obtained by adding an organic solvent immiscible with water to the reaction mixture, washing with water and distilling off the solvent. If necessary, the obtained target compound can be further purified by a conventional method, for example, recrystallization, reprecipitation or chromatography.
第2工程は、例えば、一般式(III)を有する化合物
を、縮合剤の存在下アミノ化合物と反応させることによ
り、一般式(IV)を有する化合物を製造する工程であ
る。The second step is a step of producing a compound having the general formula (IV), for example, by reacting a compound having the general formula (III) with an amino compound in the presence of a condensing agent.
使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素の
ようなハロゲン化炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キ
シレンのような芳香族炭化水素類;酢酸エチル、酢酸プ
ロピルのようなエステル類;エーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、ジメトキシエタンのようなエーテル
類;ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素
類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘ
キサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類;ジメ
チルスルホキシドのようなスルホキシド類又はアセトニ
トリルのようなニトリル類が用いられる。The solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent, but preferably, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform and carbon tetrachloride; Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; Esters such as ethyl acetate and propyl acetate; Ethers such as ether, tetrahydrofuran, dioxane and dimethoxyethane; Aliphatic hydrocarbons such as hexane and cyclohexane Amides such as dimethylformamide, dimethylacetamide, hexamethylphosphorotriamide; sulfoxides such as dimethylsulfoxide or nitriles such as acetonitrile.
使用される縮合剤としては、通常、縮合剤として作用す
るものであれば特に限定はないが、好適には、ジシクロ
ヘキシルカルボジイミド(DCC),ジフェニルカルボジ
イミド、シアノリン酸ジエチル(DEPC)のような有機縮
合剤が挙げられる。The condensing agent used is not particularly limited as long as it usually acts as a condensing agent, but preferably an organic condensing agent such as dicyclohexylcarbodiimide (DCC), diphenylcarbodiimide, diethyl cyanophosphate (DEPC). Is mentioned.
反応温度は、通常、−50℃乃至100℃で行なわれ、反応
時間は、主に反応温度、原料化合物又は使用される溶
媒、縮合剤の種類及び量によって異なるが、通常1乃至
24時間である。反応終了後、本反応の目的化合物(IV)
は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、
反応混合物に水と混和しない有機溶媒を加え、水洗後、
溶剤を留去することによって得られる。得られた目的化
合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿又はク
ロマトグラフィー等によって更に精製できる。The reaction temperature is usually -50 ° C to 100 ° C, and the reaction time mainly depends on the reaction temperature, the raw material compound or the solvent used and the kind and amount of the condensing agent, but is usually 1 to
24 hours. After completion of the reaction, the target compound (IV) of this reaction
Is collected from the reaction mixture according to conventional methods. For example,
After adding an organic solvent immiscible with water to the reaction mixture and washing with water,
Obtained by distilling off the solvent. If necessary, the obtained target compound can be further purified by a conventional method, for example, recrystallization, reprecipitation or chromatography.
第3工程は、例えば、一般式(IV)を有する化合物を、
塩基存在下に環化縮合させ、一般式(V)を有する化合
物を製造する工程である。使用される塩基としては、通
常、塩基として作用するものであれば特に限定はない
が、好適には、トリエチルアミン、N−メチルモルホリ
ン、ピリジン、4−(N,N−ジメチルアミノ)ピリジ
ン、N,N−ジメチルアニリン、1,8−ジアザビシクロ[5.
4.0]ウンデク−7−エン(DBU),1,5−ジアザビシクロ
[4.3.0]ノン−5−エン(DBN)、1,4−ジアザビシク
ロ[2.2.2]オクタン(DABCO)のような有機塩基;リチ
ウムジイソプロピルアミド、リチウムジトリメチルシリ
ルアミド、カリウムジイソプロピルアミド、カリウムジ
トリメチルシリルアミド、ナトリウムメトキシド、ナト
リウムエトキシド、カリウム−t−ブトキシドのような
有機塩基金属又は炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸
水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、水酸化バリウム,リチウムジイソ
プロピルアミド、リチウムジトリメチルシリルアミド、
ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウ
ム−t−ブトキシドのような無機塩基を挙げることがで
きる。In the third step, for example, a compound having the general formula (IV)
This is a step of producing a compound having the general formula (V) by cyclocondensation in the presence of a base. The base used is not particularly limited as long as it acts as a base, but preferably triethylamine, N-methylmorpholine, pyridine, 4- (N, N-dimethylamino) pyridine, N, N-dimethylaniline, 1,8-diazabicyclo [5.
4.0] Organic bases such as undec-7-ene (DBU), 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene (DBN), 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane (DABCO); Organic base metals such as lithium diisopropylamide, lithium ditrimethylsilylamide, potassium diisopropylamide, potassium ditrimethylsilylamide, sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium t-butoxide or sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, hydrogen carbonate. Potassium, sodium hydroxide, potassium hydroxide, barium hydroxide, lithium diisopropylamide, lithium ditrimethylsilylamide,
Mention may be made of inorganic bases such as sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium t-butoxide.
使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素類;メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭
素のようなハロゲン化炭化水素類;酢酸エチル、酢酸プ
ロピルのようなエステル類;エーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、ジメトキシエタンのようなエーテル
類;ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素
類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘ
キサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類;ジメ
チルスルホキシドのようなスルホキシド類又はアセトニ
トリルのようなニトリル類が用いられる。The solvent to be used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent, but preferably, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; methylene chloride, Halogenated hydrocarbons such as chloroform and carbon tetrachloride; Esters such as ethyl acetate and propyl acetate; Ethers such as ether, tetrahydrofuran, dioxane and dimethoxyethane; Aliphatic hydrocarbons such as hexane and cyclohexane Amides such as dimethylformamide, dimethylacetamide, hexamethylphosphorotriamide; sulfoxides such as dimethylsulfoxide or nitriles such as acetonitrile.
反応温度は、通常、0℃乃至150℃で行なわれ、反応時
間は、主に反応温度、原料化合物、使用される塩基又は
使用される溶媒の種類によって異なるが、通常10分乃至
24時間である。The reaction temperature is generally 0 ° C. to 150 ° C., and the reaction time is usually 10 min to 50 ° C., though it varies mainly depending on the reaction temperature, the raw material compound, the base used or the solvent used.
24 hours.
尚、反応の際、生成するアルコールを共沸等により除く
と収率が向上する。During the reaction, the yield is improved by removing the produced alcohol by azeotropic distillation or the like.
反応終了後、本反応の目的化合物(V)は常法に従っ
て、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物に
水と混和しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留去す
ることによって得られる。得られた目的化合物は必要な
らば、常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフ
ィー等によって更に精製できる。After completion of the reaction, the target compound (V) of this reaction is collected from the reaction mixture according to a conventional method. For example, it can be obtained by adding an organic solvent immiscible with water to the reaction mixture, washing with water and distilling off the solvent. If necessary, the obtained target compound can be further purified by a conventional method, for example, recrystallization, reprecipitation or chromatography.
第4工程は、一般式(V)を有する化合物のカルボニル
基を、常法により還元し、一般式(VI)を有する化合物
を製造する工程である。The fourth step is a step of producing a compound having the general formula (VI) by reducing the carbonyl group of the compound having the general formula (V) by a conventional method.
使用される還元剤としては、通常、カルボニルを還元
し、エステルを還元しないものであれば特に限定はない
が、好適には、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素
リチウム、水素化ホウ素亜鉛、水素化ジイソブチルアル
ミニウム、水素化ジイソブチルホウ素、ジボラン、水素
化トリメトキシアルミニウムリチウム、水素化−t−ブ
トキシアルミニウムリチウム、水素化ビスメトキシエト
キシアルミニウムリチウムのような還元剤が挙げられ
る。The reducing agent to be used is not particularly limited as long as it can reduce carbonyl and does not reduce ester, but preferably sodium borohydride, lithium borohydride, zinc borohydride, hydride Examples of the reducing agent include diisobutylaluminum, diisobutylboron hydride, diborane, lithium trimethoxyaluminum hydride, lithium t-butoxyaluminum hydride, and bismethoxyethoxyaluminum hydride hydride.
使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素類;エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、ジメトキシエタン、ジグライムのようなエーテル
類;メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソ
プロパノール、n−ブタノール、イソブタノール、イソ
アミルアルコールのようなアルコール類;ヘキサン、シ
クロヘキサンのような脂肪族炭化水素類を挙げることが
できる。The solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent, but preferably, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; ether and tetrahydrofuran. , Ethers such as dioxane, dimethoxyethane and diglyme; alcohols such as methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol and isoamyl alcohol; aliphatic hydrocarbons such as hexane and cyclohexane. Can be mentioned.
反応温度は、通常、−78℃乃至150℃で行なわれ、反応
時間は、主に反応温度、原料化合物、使用される還元剤
又は使用される溶媒の種類によって異なるが、通常1分
乃至24時間である。The reaction temperature is usually -78 ° C to 150 ° C, and the reaction time varies depending mainly on the reaction temperature, the raw material compound, the reducing agent used or the type of solvent used, but it is usually 1 minute to 24 hours. Is.
反応終了後、本反応の目的化合物(VI)は常法に従っ
て、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物に
水と混和しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留去す
ることによって得られる。得られた目的化合物は必要な
らば、常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフ
ィー等によって更に精製できる。After completion of the reaction, the target compound (VI) of this reaction is collected from the reaction mixture according to a conventional method. For example, it can be obtained by adding an organic solvent immiscible with water to the reaction mixture, washing with water and distilling off the solvent. If necessary, the obtained target compound can be further purified by a conventional method, for example, recrystallization, reprecipitation or chromatography.
第5工程は、一般式(VI)を有する化合物のカルボキシ
基を、脱炭酸し、一般式(VII)を有する化合物を製造
する工程である。The fifth step is a step of producing a compound having the general formula (VII) by decarboxylating the carboxy group of the compound having the general formula (VI).
使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、水、又は含水有機溶媒である。このような有機溶
媒として、好適にはテトラヒドロフラン、ジオキサン、
ジメトキシエタン、ジグライムのようなエーテル類;メ
タノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパ
ノール、n−ブタノール、イソブタノール、イソアミル
アルコールのようなアルコール類;ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリ
アミドのようなアミド類;ジメチルスルホキシドのよう
なスルホキシド類;アセトニトリルのようなニトリル類
又はトリエチルアミン、ピリジン、コリジンのような有
機塩基類を挙げることができる。The solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent, but water or a water-containing organic solvent is preferable. As such an organic solvent, preferably tetrahydrofuran, dioxane,
Ethers such as dimethoxyethane and diglyme; alcohols such as methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol and isoamyl alcohol; amides such as dimethylformamide, dimethylacetamide and hexamethylphosphorotriamide Examples thereof include sulfoxides such as dimethyl sulfoxide; nitriles such as acetonitrile or organic bases such as triethylamine, pyridine and collidine.
使用される塩基としては、通常、塩基として作用するも
のであれば特に限定はないが、好適には、トリエチルア
ミン、N−メチルモルホリン、ピリジン、4−(N,N−
ジメチルアミノ)ピリジン、N,N−ジメチルアニリン、
1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデク−7−エン(DB
U),1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノン−5−エン(DB
N)、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン(DABCO)
のような有機塩基又は炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム,リチウムジイ
ソプロピルアミド、リチウムジトリメチルシリルアミ
ド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カ
リウム−t−ブトキシドのような無機塩基を挙げること
ができる。The base used is not particularly limited as long as it usually acts as a base, but preferably triethylamine, N-methylmorpholine, pyridine, 4- (N, N-
Dimethylamino) pyridine, N, N-dimethylaniline,
1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene (DB
U), 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene (DB
N), 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane (DABCO)
Organic bases such as or sodium carbonate, potassium carbonate,
Inorganic bases such as sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, barium hydroxide, lithium diisopropylamide, lithium ditrimethylsilylamide, sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium t-butoxide. You can
反応温度は、通常、30℃乃至200℃で行なわれ、反応時
間は、主に反応温度、原料化合物又は使用される溶媒、
塩基の種類によって異なるが、通常10分乃至24時間であ
る。The reaction temperature is usually 30 ° C to 200 ° C, and the reaction time is mainly the reaction temperature, the starting compound or the solvent used,
Although it depends on the type of base, it is usually 10 minutes to 24 hours.
反応終了後、本反応の目的化合物(VII)は常法に従っ
て、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物に
水と混和しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留去す
ることによって得られる。得られた目的化合物は必要な
らば、常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフ
ィー等によって更に精製できる。After completion of the reaction, the target compound (VII) of this reaction is collected from the reaction mixture according to a conventional method. For example, it can be obtained by adding an organic solvent immiscible with water to the reaction mixture, washing with water and distilling off the solvent. If necessary, the obtained target compound can be further purified by a conventional method, for example, recrystallization, reprecipitation or chromatography.
第6工程は、一般式(VII)を有する化合物の水酸基
を、R13基で保護することによって、一般式(VIII)を
有する化合物を製造する工程である。尚、この工程によ
り、1位が保護された水酸基の配位がα又はβである化
合物が得られ、各々単離できるので、以降の工程は、一
方の異性体又は混合物を用いて実施できる。第8、第9
工程も同様である。The sixth step is a step of producing a compound having the general formula (VIII) by protecting the hydroxyl group of the compound having the general formula (VII) with an R 13 group. By this step, a compound in which the 1-position protected hydroxyl group coordinates α or β can be obtained and isolated respectively, so that the subsequent steps can be carried out using one isomer or a mixture. 8th, 9th
The process is the same.
製造は、以下に記載する3種の方法により行なうことが
できる。The production can be performed by the following three methods.
a法)一般式R13OHを有する化合物[式中、R13は前記と
同意義を示す]を、酸触媒下、化合物(VII)と反応さ
せ保護する方法 溶媒は使用してもしなくてもよく、使用される溶媒とし
ては、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するも
のであれば特に限定はないが、好適には、メチレンクロ
リド、クロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類が用
いられる。使用される酸は、好適には、塩酸、硫酸、リ
ン酸のような無機プロトン酸、トリフルオロ酢酸、メタ
ンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸のような有機プ
ロトン酸又は三弗化ホウ素−エーテル、三塩化アルミニ
ウム、二塩化亜鉛、三塩化ガリウム、四塩化チタン、四
塩化スズ、三塩化ホウ素、三塩化鉄、五塩化アンチモ
ン、五塩化ヒ素のような無機ルイス酸が用いられる。反
応温度及び反応時間は、原料化合物及び使用される酸に
より異なるが、通常、−50℃乃至100℃で、10分乃至24
時間行なわれる。Method a) Method of protecting a compound having the general formula R 13 OH [wherein R 13 has the same meaning as described above] by reacting with compound (VII) in the presence of an acid catalyst, with or without using a solvent. Often, the solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent, but halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and chloroform are preferably used. . The acid used is preferably an inorganic protic acid such as hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, an organic protic acid such as trifluoroacetic acid, methanesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid or boron trifluoride-ether, Inorganic Lewis acids such as aluminum trichloride, zinc dichloride, gallium trichloride, titanium tetrachloride, tin tetrachloride, boron trichloride, iron trichloride, antimony pentachloride, arsenic pentachloride are used. The reaction temperature and reaction time will differ depending on the starting compounds and the acid used, but will usually be -50 ° C to 100 ° C, and 10 minutes to 24 minutes.
Done on time.
b法)一般式R13Xを有する化合物[式中、R13は前記と
同意義を示し、Xは、塩素、臭素、沃素等のハロゲン原
子のような求核性脱離基を示す。]を、触媒下、化合物
(VII)と反応させ保護する方法 使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素の
ようなハロゲン化炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キ
シレンのような芳香族炭化水素類;エーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタンのようなエ
ーテル類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド
類;ジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類;ニ
トロメタンのようなニトロアルカン類アセトニトリルの
ようなニトリル類アセトンのようなケトン類;酢酸エチ
ル、酢酸プロピルのようなエステル類及びピリジンをあ
げることができる。Method b) Compound having the general formula R 13 X [wherein, R 13 has the same meaning as defined above, and X represents a nucleophilic leaving group such as a halogen atom such as chlorine, bromine or iodine. ] Is reacted with compound (VII) in the presence of a catalyst to protect it. The solvent to be used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent, but is preferably methylene. Halogenated hydrocarbons such as chloride, chloroform, carbon tetrachloride; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene; ethers such as ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane; dimethylformamide, dimethylacetamide, Amides such as hexamethylphosphorotriamide; Sulfoxides such as dimethyl sulfoxide; Nitroalkanes such as nitromethane Nitriles such as acetonitrile Ketones such as acetone; Esters such as ethyl acetate, propyl acetate and Pyridine can be mentioned.
使用される触媒は、酸化銀、酸化水銀、酢酸銀、シアン
化水銀又は臭化水銀が用いられる。反応温度及び反応時
間は、原料化合物及び使用される触媒により異なるが、
通常、0℃乃至100℃で、30分乃至24時間行なわれる。The catalyst used is silver oxide, mercury oxide, silver acetate, mercury cyanide or mercury bromide. The reaction temperature and the reaction time vary depending on the raw material compound and the catalyst used,
Usually, it is carried out at 0 ° C to 100 ° C for 30 minutes to 24 hours.
主にアルキル化において行なわれる。Mainly carried out in alkylation.
c法)一般式R13Xを有する化合物[式中、R13及びXは
前記と同意義を示すか、R13Xとして、酸無水物若しくは
混合酸無水物を示す。]を、塩基の存在下、化合物(VI
I)と反応させ保護する方法 使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素の
ようなハロゲン化炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キ
シレンのような芳香族炭化水素類;ヘキサン、シクロヘ
キサンのような脂肪族炭化水素類;エーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタンのようなエ
ーテル類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類
及び酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類をあ
げることができる。Method c) Compound having the general formula R 13 X [wherein R 13 and X have the same meanings as described above, or R 13 X represents an acid anhydride or a mixed acid anhydride. ] In the presence of a base,
Method of reacting and protecting with I) The solvent to be used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent, but is preferably methylene chloride, chloroform or carbon tetrachloride. Such halogenated hydrocarbons; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; aliphatic hydrocarbons such as hexane and cyclohexane; ethers such as ether, tetrahydrofuran, dioxane and dimethoxyethane; dimethylformamide , Dimethylacetamide, hexamethylphosphorotriamide, and esters such as ethyl acetate and propyl acetate.
使用される塩基としては、通常、塩基として作用するも
のであれば特に限定はないが、好適には、トリエチルア
ミン、ピリジン、4−(N,N−ジメチルアミノ)ピリジ
ン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、
1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデク−7−エン(DB
U),1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノン−5−エン(DB
N)のような有機塩基を挙げることができる。The base used is not particularly limited as long as it acts as a base, but preferably triethylamine, pyridine, 4- (N, N-dimethylamino) pyridine, N, N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline,
1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene (DB
U), 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene (DB
Mention may be made of organic bases such as N).
反応温度及び反応時間は、原料化合物及び使用される塩
基により異なるが、通常、−30℃乃至150℃で、1分乃
至24時間行なわれる。The reaction temperature and the reaction time will differ depending on the starting compounds and the base used, but they are usually -30 ° C to 150 ° C, and 1 minute to 24 hours.
主に、アシル化において用いられる。Mainly used in acylation.
反応終了後、本反応の目的化合物(VIII)は常法に従っ
て、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物に
水と混和しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留去す
ることによって得られる。得られた目的化合物は必要な
らば、常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフ
ィー等によって更に精製できる。After completion of the reaction, the target compound (VIII) of this reaction is collected from the reaction mixture according to a conventional method. For example, it can be obtained by adding an organic solvent immiscible with water to the reaction mixture, washing with water and distilling off the solvent. If necessary, the obtained target compound can be further purified by a conventional method, for example, recrystallization, reprecipitation or chromatography.
第7工程は、一般式(VIII)を有する化合物を、還元剤
で処理することにより、ラクタム環を開環させ、更に、
所望により、水酸基の保護基(R7若しくは/及びR13)
又は/及びアミノ基の保護基(R12)の脱保護並びに/
或いは水酸基の保護・再保護、置換(R1、R8若しくは/
及びR14)又は/及びアミノ基の保護、置換(R2若しく
は/及びR3)を行ない、一般式(IX)を有する本願発明
化合物を製造する工程である。In the seventh step, the compound having the general formula (VIII) is treated with a reducing agent to open the lactam ring, and further,
If desired, a hydroxyl-protecting group (R 7 or / and R 13 )
And / or deprotection of the amino-protecting group (R 12 ) and / or
Alternatively, protection / reprotection of hydroxyl group, substitution (R 1 , R 8 or /
And R 14 ) or / and amino group protection and substitution (R 2 or / and R 3 ) are carried out to produce the compound of the present invention having the general formula (IX).
使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
にはエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメ
トキシエタン、ジグライムのようなエーテル類;トルエ
ン、キシレン、ベンゼンのような芳香族炭化水素類及び
ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類を
挙げることができる。The solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent, but ethers such as ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, and diglyme; toluene, toluene, Mention may be made of aromatic hydrocarbons such as xylene and benzene and aliphatic hydrocarbons such as hexane and cyclohexane.
使用される還元剤としては、通常、還元剤として用いる
ものであれば特に限定はないが、好適には、水素化リチ
ウムアルミニウムを挙げることができる。The reducing agent used is not particularly limited as long as it is usually used as a reducing agent, but lithium aluminum hydride can be preferably mentioned.
反応温度及び反応時間は、原料化合物により異なるが、
通常、−78℃乃至120℃で、10分乃至24時間実施され
る。The reaction temperature and reaction time vary depending on the raw material compound,
Usually, it is carried out at -78 ° C to 120 ° C for 10 minutes to 24 hours.
所望の工程における保護基の除去はその種類によって異
なるが、一般にこの分野の技術において周知の方法によ
って以下の様に実施される。The removal of the protecting group in the desired step depends on its type, but is generally carried out as follows by methods well known in the art.
水酸基の保護基として、トリ低級アルキルシリル基を使
用した場合には、通常弗化テトラブチルアンモニウムの
ような弗素アニオンを生成する化合物で処理することに
より除去する。反応溶媒は反応を阻害しないものであれ
ば特に限定はないが、テトラヒドロフラン、ジオキサン
のようなエーテル類が好適である。反応温度及び反応時
間は特に限定はないが、通常室温で10分乃至18時間反応
させる。When a tri-lower alkylsilyl group is used as a hydroxyl-protecting group, it is usually removed by treatment with a compound that produces a fluorine anion such as tetrabutylammonium fluoride. The reaction solvent is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction, but ethers such as tetrahydrofuran and dioxane are preferable. Although the reaction temperature and the reaction time are not particularly limited, the reaction is usually performed at room temperature for 10 minutes to 18 hours.
水酸基の保護基が、アラルキルオキシカルボニル基又は
アラルキル基である場合には、通常還元剤と接触させる
ことにより除去することができる。例えば、パラジウム
炭素、白金、ラネーニッケルのような触媒を用い、常温
にて接触還元を行なうか、又は硫化ナトリウム、硫化カ
リウムのようなアルカリ金属硫化物を使用して実施され
る。反応は溶媒の存在下に行なわれ、使用される反応溶
媒としては本反応に関与しないものであれば特に限定は
ないが、メタノール、エタノールのようなアルコール
類、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル
類、酢酸のような脂肪酸又はこれらの有機溶媒と水との
混合溶媒が好適である。反応温度及び反応時間は出発物
質及び使用する還元剤等によって異なるが、通常は0℃
乃至室温で、5分乃至12時間である。When the hydroxyl-protecting group is an aralkyloxycarbonyl group or an aralkyl group, it can be usually removed by bringing it into contact with a reducing agent. For example, it is carried out by using a catalyst such as palladium carbon, platinum or Raney nickel to carry out catalytic reduction at room temperature or using an alkali metal sulfide such as sodium sulfide or potassium sulfide. The reaction is carried out in the presence of a solvent, the reaction solvent to be used is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction, methanol, alcohols such as ethanol, tetrahydrofuran, ethers such as dioxane, A fatty acid such as acetic acid or a mixed solvent of these organic solvents and water is suitable. The reaction temperature and reaction time will differ depending on the starting materials and the reducing agent used, but are usually 0 ° C.
To room temperature, 5 minutes to 12 hours.
水酸基の保護基が、脂肪族アシル基、芳香族アシル基又
はアルコキシカルボニル基である場合には、水性溶媒の
存在下に塩基で処理することにより除去することができ
る。塩基としては、化合物の他の部分に影響を与えない
ものであれば特に限定はないが、好適には炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸
化物又は濃アンモニア−メタノールを用いて実施され
る。使用される溶媒としては通常の加水分解反応に使用
されるものであれば特に限定はなく、水又は水とメタノ
ール、エタノール、n−プロパノールのようなアルコー
ル類若しくはテトラヒドロフラン、ジオキサンのような
エーテル類のような有機溶媒との混合溶媒が好適であ
る。反応温度及び反応時間は出発物質及び用いる塩基等
によって異なり特に限定はないが、副反応を抑制するた
めに、通常は0℃乃至150℃で、1乃至10時間である。When the hydroxyl-protecting group is an aliphatic acyl group, an aromatic acyl group or an alkoxycarbonyl group, it can be removed by treating with a base in the presence of an aqueous solvent. The base is not particularly limited as long as it does not affect other parts of the compound, but it is preferably an alkali metal carbonate such as sodium carbonate or potassium carbonate, sodium hydroxide or potassium hydroxide. It is carried out with alkali metal hydroxides or concentrated ammonia-methanol. The solvent to be used is not particularly limited as long as it is used in a usual hydrolysis reaction, and water or water and alcohols such as methanol, ethanol and n-propanol or ethers such as tetrahydrofuran and dioxane can be used. A mixed solvent with such an organic solvent is preferable. The reaction temperature and reaction time differ depending on the starting materials, the base used, etc. and are not particularly limited, but in order to suppress side reactions, it is usually 0 ° C. to 150 ° C. and 1 to 10 hours.
水酸基の保護基が、アルコキシメチル基、テトラヒドロ
ピラニル基、テトラヒドロフラニル基又は置換されたエ
チル基である場合には、通常溶媒中で酸で処理すること
により除去することができる。使用される酸としては、
好適には塩酸、酢酸−硫酸又はp−トルエンスルホン酸
−酢酸等である。使用される溶媒としては本反応に関与
しないものであれば特に限定はないが、メタノール、エ
タノールのようなアルコール類;テトラヒドロフラン、
ジオキサンのようなエーテル類又はこれらの有機溶媒と
水との混合溶媒が好適である。反応温度及び反応時間は
出発物質及び用いる酸の種類等によって異なるが、通常
は0℃乃至50℃で、10分乃至18時間である。When the hydroxyl-protecting group is an alkoxymethyl group, a tetrahydropyranyl group, a tetrahydrofuranyl group or a substituted ethyl group, it can be usually removed by treating with an acid in a solvent. As the acid used,
Preferred are hydrochloric acid, acetic acid-sulfuric acid or p-toluenesulfonic acid-acetic acid. The solvent used is not particularly limited as long as it does not participate in this reaction, but alcohols such as methanol and ethanol; tetrahydrofuran,
Ethers such as dioxane or a mixed solvent of these organic solvents and water is preferable. The reaction temperature and reaction time will differ depending on the starting materials and the type of acid used, but they are usually 0 ° C. to 50 ° C. and 10 minutes to 18 hours.
水酸基の保護基が、アルケニルオキシカルボニル基であ
る場合は、通常前記水酸基の保護基が脂肪族アシル基、
芳香族アシル基又はアルコキシカルボニル基である場合
の除去反応の条件と同様にして塩基と処理することによ
り脱離させることができる。尚、アリルオキシカルボニ
ルの場合は、特にパラジウム及びトリフェニルホスフィ
ン若しくはニッケルテトラカルボニルを使用して除去す
る方法が簡便で、副反応が少なく実施することができ
る。保護基の除去はその種類によって異なるが、一般に
この分野の技術において周知の方法によって以下の様に
実施される。When the hydroxyl-protecting group is an alkenyloxycarbonyl group, the hydroxyl-protecting group is usually an aliphatic acyl group,
When it is an aromatic acyl group or an alkoxycarbonyl group, it can be eliminated by treating with a base in the same manner as the conditions of the removal reaction. In the case of allyloxycarbonyl, a method of removing it particularly using palladium and triphenylphosphine or nickel tetracarbonyl is simple and can be carried out with few side reactions. The removal of the protecting group depends on its type, but is generally carried out as follows by a method well known in the art.
尚、上記のような水酸基の保護基を除去する操作によっ
て、アミノ基の保護基が同時に除去されることもある。The amino group-protecting group may be simultaneously removed by the above-mentioned operation for removing the hydroxyl-group protecting group.
アミノ基の保護基として、トリ低級アルキルシリル基を
使用した場合には、通常弗化テトラブチルアンモニウム
のような弗素アニオンを生成する化合物で処理すること
により除去する。反応溶媒は反応を阻害しないものであ
れば特に限定はないが、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ンのようなエーテル類が好適である。反応温度及び反応
時間は特に限定はないが、通常室温で10分乃至18時間反
応させる。When a tri-lower alkylsilyl group is used as the amino-protecting group, it is usually removed by treatment with a compound that produces a fluorine anion such as tetrabutylammonium fluoride. The reaction solvent is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction, but ethers such as tetrahydrofuran and dioxane are preferable. Although the reaction temperature and the reaction time are not particularly limited, the reaction is usually performed at room temperature for 10 minutes to 18 hours.
アミノ基水酸基の保護基が、脂肪族アシル基、芳香族ア
シル基又はアルコキシカルボニル基である場合は、水性
溶媒の存在下に酸又は塩基で処理することにより除去す
ることができる。酸としては、塩酸、硫酸、リン酸、臭
化水素酸が用いられ、塩基としては、化合物の他の部分
に影響を与えないものであれば特に限定はないが、好適
には炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金
属炭酸塩、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのような
アルカリ金属水酸化物又は濃アンモニア−メタノールを
用いて実施される。尚、塩基による加水分解では異性化
が起こることがある。使用される溶媒としては通常の加
水分解反応に使用されるものであれば特に限定はなく、
水又は水とメタノール、エタノール、n−プロパノール
のようなアルコール類若しくはテトラヒドロフラン、ジ
オキサンのようなエーテル類のような有機溶媒との混合
溶媒が好適である。反応温度及び反応時間は出発物質及
び用いる塩基等によって異なり特に限定はないが、副反
応を抑制するために、通常は0℃乃至150℃で、10分乃
至10時間である。When the amino-hydroxyl-protecting group is an aliphatic acyl group, an aromatic acyl group or an alkoxycarbonyl group, it can be removed by treating with an acid or a base in the presence of an aqueous solvent. As the acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, hydrobromic acid are used, and the base is not particularly limited as long as it does not affect other parts of the compound, but sodium carbonate, carbonic acid are preferred. It is carried out using alkali metal carbonates such as potassium, sodium hydroxide, alkali metal hydroxides such as potassium hydroxide or concentrated ammonia-methanol. Note that hydrolysis with a base may cause isomerization. The solvent used is not particularly limited as long as it is used in a usual hydrolysis reaction,
Water or a mixed solvent of water and an alcohol such as methanol, ethanol, n-propanol, or an organic solvent such as tetrahydrofuran or an ether such as dioxane is preferable. The reaction temperature and reaction time vary depending on the starting material, the base used and the like and are not particularly limited, but in order to suppress side reactions, it is usually 0 ° C. to 150 ° C. and 10 minutes to 10 hours.
アミノ基の保護基が、アラルキル基又はアラルキルオキ
シカルボニル基である場合には、白金若しくはパラジウ
ム炭素のような触媒を使用して、常温で接触還元を行な
い、除去する方法又は酸化剤を用いて除去する方法が好
適である。When the amino-protecting group is an aralkyl group or an aralkyloxycarbonyl group, a catalyst such as platinum or palladium carbon is used to carry out catalytic reduction at room temperature to remove it, or an oxidant is used for removal. The method of doing is suitable.
還元による除去において使用される溶媒としては本反応
に関与しないものであれば特に限定はないが、メタノー
ル、エタノール、イソプロパノールのようなアルコール
類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ンのようなエーテル類、トルエン、ベンゼン、キシレン
のような芳香族炭化水素類、ヘキサン、シクロヘキサン
のような脂肪族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸プロピル
のようなエステル類、酢酸のような脂肪酸類又はこれら
の有機溶媒と水との混合溶媒が好適である。The solvent used in the removal by reduction is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction, alcohols such as methanol, ethanol and isopropanol, diethyl ether, tetrahydrofuran, ethers such as dioxane, toluene, Of aromatic hydrocarbons such as benzene and xylene, aliphatic hydrocarbons such as hexane and cyclohexane, esters such as ethyl acetate and propyl acetate, fatty acids such as acetic acid or their organic solvent and water Mixed solvents are preferred.
使用される触媒としては、通常、接触還元反応に使用さ
れるものであれば、特に限定はないが、好適にはパラジ
ウム炭素、ラネーニッケル、酸化白金、白金黒、ロジウ
ム−酸化アルミニウム、トリフェニルホスフィン−塩化
ロジウム、パラジウム−硫酸バリウムが用いられる。The catalyst used is not particularly limited, as long as it is usually used in a catalytic reduction reaction, but preferably palladium carbon, Raney nickel, platinum oxide, platinum black, rhodium-aluminum oxide, triphenylphosphine- Rhodium chloride and palladium-barium sulfate are used.
圧力は、特に限定はないが、通常1乃至10気圧で行なわ
れる。The pressure is not particularly limited, but is usually 1 to 10 atm.
反応温度及び反応時間は、出発物質及び触媒の種類等に
より異なるが、通常、0℃乃至100℃で、5分乃至24時
間実施される。The reaction temperature and reaction time will differ depending on the types of starting materials and catalysts, etc., but are usually 0 ° C. to 100 ° C., and 5 minutes to 24 hours.
酸化による除去において使用される溶媒としては本反応
に関与しないものであれば特に限定はないが、好適に
は、含水有機溶媒である。このような有機溶媒として好
適には、アセトンのようなケトン類、メチレンクロリ
ド、クロロホルム、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化
水素類、アセトニトリルのようなニトリル類、ジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ
ーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類
及びジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類を挙
げることができる。The solvent used for removal by oxidation is not particularly limited as long as it does not participate in this reaction, but a water-containing organic solvent is preferable. Preferable examples of such an organic solvent include ketones such as acetone, methylene chloride, chloroform, halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, nitriles such as acetonitrile, diethyl ether, tetrahydrofuran and dioxane. Mention may be made of ethers, amides such as dimethylformamide, dimethylacetamide, hexamethylphosphorotriamide and sulfoxides such as dimethylsulfoxide.
使用される酸化剤としては、通常、酸化に使用される化
合物であれば特に限定はないが、好適には過硫酸カリウ
ム、過硫酸ナトリウム、アンモニウムセリウムナイトレ
イト(CAN)、2,3−ジクロロ−5,6−ジシアノ−p−ベ
ンゾキノン(DDQ)が用いられる。The oxidizing agent used is not particularly limited as long as it is a compound used for oxidation, but preferably potassium persulfate, sodium persulfate, ammonium cerium nitrate (CAN), 2,3-dichloro- 5,6-Dicyano-p-benzoquinone (DDQ) is used.
反応温度及び反応時間は、出発物質及び触媒の種類等に
より異なるが、通常、0℃乃至150℃で、10分乃至24時
間実施される。The reaction temperature and reaction time will differ depending on the types of starting materials and catalysts, etc., but are usually 0 ° C. to 150 ° C., and 10 minutes to 24 hours.
アミノ基の保護基がアルケニルオキシカルボニル基であ
る場合は、通常前記アミノ基の保護基が脂肪族アシル
基、芳香族アシル基又は低級アルコキシカルボニル基で
ある場合の除去反応の条件と同様にして塩基と処理する
ことにより脱離させることができる。尚、アリルオキシ
カルボニルの場合は、特にパラジウム及びトリフェニル
ホスフィン若しくはニッケルテトラカルボニルを使用し
て除去する方法が簡便で、副反応が少なく実施すること
ができる。When the amino-protecting group is an alkenyloxycarbonyl group, a base is usually prepared in the same manner as in the removal reaction when the amino-protecting group is an aliphatic acyl group, an aromatic acyl group or a lower alkoxycarbonyl group. Can be desorbed by treating In the case of allyloxycarbonyl, a method of removing it particularly using palladium and triphenylphosphine or nickel tetracarbonyl is simple and can be carried out with few side reactions.
尚、上記のようなアミノ基の保護基を除去する操作によ
って、水酸基の保護基が同時に除去されることもある。Incidentally, the protecting group for the hydroxyl group may be simultaneously removed by the above-mentioned operation for removing the protecting group for the amino group.
上記の水酸基の保護基の除去反応及びアミノ基の保護基
の除去反応は、順不同で希望する除去反応を順次実施す
ることができる。The above-mentioned reaction for removing the protective group for the hydroxyl group and reaction for removing the protective group for the amino group can be carried out in any order in a desired removal reaction.
水酸基の保護・再保護、置換並びに/或いはアミノ基の
保護、置換は、第6工程と同様にして実施される。Protection / reprotection of hydroxyl group, substitution and / or protection / substitution of amino group are carried out in the same manner as in the sixth step.
反応終了後、本本願発明化合物(IX)は常法に従って、
反応混合物から採取される。例えば、反応混合物に水と
混和しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留去するこ
とによって得られる。得られた目的化合物は必要なら
ば、常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフィ
ー等によって更に精製できる。After completion of the reaction, the compound (IX) of the present invention is
Taken from the reaction mixture. For example, it can be obtained by adding an organic solvent immiscible with water to the reaction mixture, washing with water and distilling off the solvent. If necessary, the obtained target compound can be further purified by a conventional method, for example, recrystallization, reprecipitation or chromatography.
第8工程は、一般式(VIII)を有する化合物をリチウム
化合物又は常法に従って塩基と反応させ、ラクタム環を
開環し、所望により、第7工程の所望の工程を同様に実
施又は/及び常法に従ってカルボキシ基をアミド化又は
チオエステル化[酸ハライドとした後、相当する求核試
薬と反応させる]することにより、本願発明化合物
(X)を製造する工程である。使用される溶媒として
は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するもの
であれば特に限定はないが、好適には、エーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジグ
ライムのようなエーテル類が用いられる。使用されるリ
チウム化合物としては特に限定はないが、好適にはメチ
ルリチウム、ブチルリチウム、フェニルリチウムのよう
な有機リチウム化合物があげられる。In the eighth step, the compound having the general formula (VIII) is reacted with a lithium compound or a base according to a conventional method to open the lactam ring, and if desired, the desired step of the seventh step is carried out similarly or / and This is a step of producing the compound (X) of the present invention by amidating or thioesterifying the carboxy group according to the method [after converting to an acid halide and then reacting with a corresponding nucleophile]. The solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent, but ethers such as ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane and diglyme are preferably used. To be Although the lithium compound used is not particularly limited, preferred examples include organic lithium compounds such as methyllithium, butyllithium, and phenyllithium.
反応温度及び反応時間は、原料化合物及び反応試薬によ
り異なるが、通常、−78℃乃至50℃で、1分乃至5時間
である。反応終了後、本願発明化合物(X)は常法に従
って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物
に水と混和しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留去
することによって得られる。得られた目的化合物は必要
ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラ
フィー等によって更に精製できる。The reaction temperature and reaction time will differ depending on the raw material compounds and reaction reagents, but will usually be −78 ° C. to 50 ° C., and 1 minute to 5 hours. After completion of the reaction, the compound (X) of the present invention is collected from the reaction mixture according to a conventional method. For example, it can be obtained by adding an organic solvent immiscible with water to the reaction mixture, washing with water and distilling off the solvent. If necessary, the obtained target compound can be further purified by a conventional method, for example, recrystallization, reprecipitation or chromatography.
第9工程は、一般式(VIII)を有する化合物を、酸で処
理することにより、開環・再閉環させ、更に、所望によ
り、第7工程の所望の工程を同様に実施することによ
り、一般式(XI)を有する本願発明化合物を製造する工
程である。In the ninth step, the compound having the general formula (VIII) is treated with an acid to ring-open and re-close the ring, and further, if desired, the desired step of the seventh step is carried out in the same manner as described above. This is a step of producing a compound of the present invention having the formula (XI).
使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコー
ル、ベンジルアルコール、アリルアルコールのようなア
ルコール類が用いられる。The solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent, but preferably alcohols such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, benzyl alcohol and allyl alcohol. Is used.
使用される酸としては、通常、酸として作用するもので
あれば特に限定はないが、好適には、塩酸、硫酸、臭化
水素酸、弗化水素酸を挙げることができる。The acid to be used is not particularly limited as long as it usually acts as an acid, but hydrochloric acid, sulfuric acid, hydrobromic acid and hydrofluoric acid are preferred.
反応温度及び反応時間は、原料化合物及び使用する酸に
より異なるが、通常、0℃乃至100℃で、1乃至24時間
である。The reaction temperature and the reaction time will differ depending on the starting compounds and the acid used, but they are usually 0 ° C. to 100 ° C. and 1 to 24 hours.
反応終了後、本願発明化合物(XI)は常法に従って、反
応混合物から採取される。例えば、反応混合物に水と混
和しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留去すること
によって得られる。得られた目的化合物は必要ならば、
常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフィー等
によって更に精製できる。After completion of the reaction, the compound (XI) of the present invention is collected from the reaction mixture according to a conventional method. For example, it can be obtained by adding an organic solvent immiscible with water to the reaction mixture, washing with water and distilling off the solvent. The obtained target compound is, if necessary,
It can be further purified by a conventional method such as recrystallization, reprecipitation or chromatography.
第10工程は、一般式(XI)を有する化合物のカルボニル
基を、第4工程と同様の方法で還元剤で処理しすること
によりヒドロキシ基とし、更に、所望により、第7工程
の所望の工程を同様に実施することにより、一般式(XI
I)を有する本願発明化合物を製造する工程である。In the 10th step, the carbonyl group of the compound having the general formula (XI) is treated with a reducing agent in the same manner as in the 4th step to form a hydroxy group, and further, if desired, the desired step of the 7th step. By similarly performing the general formula (XI
This is a step of producing the compound of the present invention having I).
第11工程及び第11′工程は、一般式(XI)又は(XII)
を有する化合物のカルボニル基又はヒドロキシ基を、ル
イス酸存在下、還元剤で処理し、更に、所望により、第
7工程の所望の工程を同様に実施することにより、一般
式(XIII)を有する本願発明化合物を製造する工程であ
る。The eleventh step and the eleventh step are the general formula (XI) or (XII).
The carbonyl group or hydroxy group of the compound having the formula (XIII) is treated with a reducing agent in the presence of a Lewis acid, and, if desired, the desired step of the seventh step is carried out in the same manner. It is a step of producing an invention compound.
使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、エーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタ
ン、ジグライムのようなエーテル類又はベンゼン、トル
エンのような芳香族炭化水素類が用いられる。The solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent, but preferably ether, tetrahydrofuran, dimethoxyethane, ethers such as diglyme or benzene, toluene. Aromatic hydrocarbons such as
使用される還元剤としては、通常、還元剤として作用す
るものであれば特に限定はないが、好適には、水素化リ
チウムアルミニウム、水素化ホウ素ナトリウム又は水素
化ジイソブチルアルミニウムを挙げることができる。The reducing agent to be used is not particularly limited as long as it usually acts as a reducing agent, but preferably lithium aluminum hydride, sodium borohydride or diisobutylaluminum hydride can be mentioned.
使用されるルイス酸としては、通常のルイス酸であれば
よいが、好適には三弗化ホウ素−エーテル、三塩化アル
ミニウムである。The Lewis acid used may be an ordinary Lewis acid, but is preferably boron trifluoride-ether or aluminum trichloride.
反応温度及び反応時間は、原料化合物及び使用する還元
剤により異なるが、通常、−78℃乃至100℃で、10分乃
至24時間である。The reaction temperature and reaction time will differ depending on the raw material compounds and the reducing agent used, but will usually be from −78 ° C. to 100 ° C., and from 10 minutes to 24 hours.
反応終了後、本願発明化合物(XIII)は常法に従って、
反応混合物から採取される。例えば、反応混合物に水と
混和しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留去するこ
とによって得られる。得られた目的化合物は必要なら
ば、常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフィ
ー等によって更に精製できる。After completion of the reaction, the compound of the present invention (XIII) is prepared according to a conventional method.
Taken from the reaction mixture. For example, it can be obtained by adding an organic solvent immiscible with water to the reaction mixture, washing with water and distilling off the solvent. If necessary, the obtained target compound can be further purified by a conventional method, for example, recrystallization, reprecipitation or chromatography.
第12工程は、一般式(XIV)を有する公知化合物のヒド
ロキシ基を、第6工程と同様にして保護又は置換し、一
般式(XVI)を有する化合物を製造する工程である。The 12th step is a step of producing a compound having the general formula (XVI) by protecting or substituting the hydroxy group of the known compound having the general formula (XIV) in the same manner as in the 6th step.
尚、原料化合物(XIV)は、例えば、汐崎らの文献[M.S
hiozaki,N.Ishida,H.Maruyama and T.Hiraoka,Tetrahed
ron,39,2399-2407(1983)]に記載の方法により製造さ
れる。The starting compound (XIV) is described in, for example, Shiozaki et al. [MS
hiozaki, N.Ishida, H.Maruyama and T.Hiraoka, Tetrahed
Ron, 39 , 2399-2407 (1983)].
第13工程は、一般式(XVI)を有する化合物を、第9工
程と同様に処理し開環させ、更に所望により、第7工程
の所望の工程を同様に実施及び/又はカルボキシ基の保
護、修飾又は保護基の除去等を行ない、本願発明化合物
であるカルボキシ誘導体(XV)を製造する工程である。In the thirteenth step, the compound having the general formula (XVI) is treated in the same manner as in the ninth step to open the ring, and if desired, the desired step of the seventh step is similarly performed and / or the protection of the carboxy group is performed, This is a step of producing a carboxy derivative (XV) which is the compound of the present invention by modifying or removing a protecting group.
保護反応は、常法に従って実施される。The protection reaction is carried out according to a conventional method.
保護基の除去はその種類によって異なるが、一般にこの
分野の技術において周知の方法によって以下の様に実施
される。The removal of the protecting group depends on its type, but is generally carried out as follows by a method well known in the art.
カルボキシ基の保護基として、低級アルキル基を使用し
た場合には、酸又は塩基で処理することにより除去する
ことができる。酸としては、塩酸、硫酸、リン酸、臭化
水素酸が用いられ、塩基としては、化合物の他の部分に
影響を与えないものであれば特に限定はないが、好適に
は炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属
炭酸塩、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなア
ルカリ金属水酸化物又は濃アンモニア−メタノールを用
いて実施される。尚、塩基による加水分解では異性化が
起こることがある。使用される溶媒としては通常の加水
分解反応に使用されるものであれば特に限定はなく、水
又は水とメタノール、エタノール、n−プロパノールの
ようなアルコール類若しくはテトラヒドロフラン、ジオ
キサンのようなエーテル類のような有機溶媒との混合溶
媒が好適である。反応温度及び反応時間は出発物質及び
用いる塩基等によって異なり特に限定はないが、副反応
を抑制するために、通常は0℃乃至150℃で、1乃至10
時間である。When a lower alkyl group is used as a protecting group for the carboxy group, it can be removed by treating with an acid or a base. As the acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, hydrobromic acid are used, and the base is not particularly limited as long as it does not affect other parts of the compound, but sodium carbonate, carbonic acid are preferred. It is carried out using alkali metal carbonates such as potassium, sodium hydroxide, alkali metal hydroxides such as potassium hydroxide or concentrated ammonia-methanol. Note that hydrolysis with a base may cause isomerization. The solvent to be used is not particularly limited as long as it is used in a usual hydrolysis reaction, and water or water and alcohols such as methanol, ethanol and n-propanol or ethers such as tetrahydrofuran and dioxane can be used. A mixed solvent with such an organic solvent is preferable. The reaction temperature and reaction time vary depending on the starting materials and the base used and are not particularly limited, but in order to suppress side reactions, it is usually 0 ° C. to 150 ° C. and 1 to 10 ° C.
It's time.
カルボキシ基の保護基がジフェニルメチル基である場合
には、通常酸性条件下で除去する。使用される反応溶媒
としてはアニソールのような芳香族炭化水素類又はメチ
レンクロリド、クロロホルムのようなハロゲン化炭化水
素類がよく、酸としてはトリフルオロ酢酸のようなフッ
素置換有機酸が用いられる。反応温度及び反応時間は出
発物質等によって異なるが、通常は室温で30分乃至10時
間である。When the protecting group for the carboxy group is a diphenylmethyl group, it is usually removed under acidic conditions. The reaction solvent used is preferably an aromatic hydrocarbon such as anisole or a halogenated hydrocarbon such as methylene chloride or chloroform, and a fluorine-substituted organic acid such as trifluoroacetic acid is used as the acid. The reaction temperature and the reaction time will differ depending on the starting materials and the like, but are usually 30 minutes to 10 hours at room temperature.
カルボキシ基の保護基がアラルキル基(ジフェニルメチ
ルを含む。)又はハロゲノ低級アルキル基である場合に
は、通常還元剤と接触させることにより除去することが
できる。還元剤としては、カルボキシ基の保護基がハロ
ゲノ低級アルキル基である場合には、亜鉛−酢酸が好適
であり、アラルキル基である場合には、パラジウム炭
素、白金、ラネーニッケルのような触媒を用い、接触還
元を行なうか、又は硫化カリウム、硫化ナトリウムのよ
うなアルカリ金属硫化物を用いて実施される。反応は溶
媒の存在下に行なわれ、使用される溶媒としては本反応
に関与しないものであれば特に限定はないが、メタノー
ル、エタノールのようなアルコール類;テトラヒドロフ
ラン、ジオキサンのようなエーテル類;酢酸のような脂
肪酸又はこれらの有機溶媒と水との混合溶媒が好適であ
る。反応温度及び反応時間は出発物質及び用いる還元剤
等によって異なるが、通常は0℃乃至室温付近で、5分
乃至12時間である。When the protecting group for the carboxy group is an aralkyl group (including diphenylmethyl) or a halogeno lower alkyl group, it can usually be removed by bringing it into contact with a reducing agent. As the reducing agent, zinc-acetic acid is suitable when the protecting group of the carboxy group is a halogeno lower alkyl group, and when it is an aralkyl group, a catalyst such as palladium carbon, platinum or Raney nickel is used, It is carried out by catalytic reduction or using an alkali metal sulfide such as potassium sulfide or sodium sulfide. The reaction is carried out in the presence of a solvent, and the solvent used is not particularly limited as long as it does not participate in this reaction, but alcohols such as methanol and ethanol; ethers such as tetrahydrofuran and dioxane; acetic acid A fatty acid such as or a mixed solvent of these organic solvents and water is suitable. The reaction temperature and reaction time will differ depending on the starting materials and the reducing agent used, etc., but will usually be between 0 ° C. and room temperature, and between 5 minutes and 12 hours.
カルボキシ基の保護基がアルコキシメチル基である場合
には、通常酸で処理することにより除去することができ
る。使用される酸としては、好適には塩酸、酢酸−硫酸
又はp−トルエンスルホン酸−酢酸等である。反応は溶
媒の存在下に行なわれ、使用される溶媒としては本反応
に関与しないものであれば特に限定はないが、メタノー
ル、エタノールのようなアルコール類;テトラヒドロフ
ラン、ジオキサンのようなエーテル類又はこれらの有機
溶媒と水との混合溶媒が好適である。反応温度及び反応
時間は出発物質及び用いる酸の種類等によって異なる
が、通常は0℃乃至50℃で、10分乃至18時間である。When the protecting group for the carboxy group is an alkoxymethyl group, it can be usually removed by treating with an acid. The acid used is preferably hydrochloric acid, acetic acid-sulfuric acid or p-toluenesulfonic acid-acetic acid. The reaction is carried out in the presence of a solvent, and the solvent used is not particularly limited as long as it does not participate in this reaction, but alcohols such as methanol and ethanol; ethers such as tetrahydrofuran and dioxane or these A mixed solvent of the organic solvent and water is suitable. The reaction temperature and reaction time will differ depending on the starting materials and the type of acid used, but they are usually 0 ° C. to 50 ° C. and 10 minutes to 18 hours.
又、カルボキシ基の保護基の除去を常法に従って、アン
モニア処理によって行なうと、アミド化することもでき
る。In addition, amidation can also be achieved by removing the protecting group for the carboxy group by an ammonia treatment according to a conventional method.
更に、カルボキシ基を酸ハライドとして、相当する求核
試薬と反応させることにより、アミド化合物又はチオエ
ステル化合物を製造することができる 尚、所望により、常法に従って、上記生成したカルボン
酸化合物を水と酢酸エチルのような水と混和しない有機
溶媒との混合溶媒に溶かし、炭酸水素ナトリウム水溶
液、炭酸カリウム水溶液のようなアルカリ金属炭酸塩若
しくは重炭酸塩水溶液を、0℃乃至室温下に加え、pH7
付近とし析出した沈殿を瀘取することによりアルキル金
属塩を形成することができる。Furthermore, an amide compound or a thioester compound can be produced by reacting a carboxy group as an acid halide with a corresponding nucleophile. Incidentally, if desired, the above-obtained carboxylic acid compound is treated with water and acetic acid according to a conventional method. It is dissolved in a mixed solvent of water and an organic solvent immiscible with water, and an aqueous solution of an alkali metal carbonate or bicarbonate such as an aqueous solution of sodium hydrogencarbonate or an aqueous solution of potassium carbonate is added at 0 ° C to room temperature to obtain a pH of 7
An alkyl metal salt can be formed by filtering the precipitate that has been deposited in the vicinity and filtered.
更に、このようにして製造した塩、又はカルボン酸化合
物をテトラヒドロフランのようなエーテル類又はN,N−
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサ
メチルホスホロトリアミド、トリエチルホスフェートの
ような極性溶媒類に溶解し、2当量のトリエチルアミ
ン、ジシクロヘキシルアミンのような有機塩基、ナトリ
ウムヒドリドのような水素化アルカリ金属類又は炭酸水
素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのような
アルカリ金属炭酸塩若しくは重炭酸塩を反応させること
によって生成した塩を使用し、これにアセトキシメチル
クロリド、プロピオニルオキシメチルブロミドのような
脂肪族アシルオキシメチルハライド類、1−メトキシカ
ルボニルオキシエチルクロリド、1−エトキシカルボニ
ルオキシエチルイオダイドのような1−低級アルコキシ
カルボニルオキシエチルハライド類、フタリジルハライ
ド類又は(2−オキソ−5−メチル−1,3−ジオキソレ
ン−4−イル)メチルハライド類を反応させることによ
り、生体内で加水分解されやすいカルボキシ基の保護基
で再び保護されたエステル体を製造することができる。
反応溶媒は反応を阻害するものでなければ特に限定はな
いが、好適には上記極性溶媒を使用する。反応温度及び
反応時間は出発物質、溶媒及び反応試薬の種類によって
異なるが、通常0℃乃至100℃の範囲で、0.5乃至10時間
反応させる。Further, the salt thus prepared, or a carboxylic acid compound is treated with an ether such as tetrahydrofuran or N, N-
Soluble in polar solvents such as dimethylformamide, dimethylsulfoxide, hexamethylphosphorotriamide, triethylphosphate, 2 equivalents of triethylamine, organic base such as dicyclohexylamine, alkali metal hydrides such as sodium hydride or hydrogencarbonate. Sodium, sodium carbonate, using a salt produced by reacting an alkali metal carbonate or bicarbonate such as potassium carbonate, acetoxymethyl chloride, an aliphatic acyloxymethyl halides such as propionyloxymethyl bromide, 1-lower alkoxycarbonyloxyethyl halides such as 1-methoxycarbonyloxyethyl chloride, 1-ethoxycarbonyloxyethyl iodide, phthalidyl halides or (2-oxycarbonyl) By reacting 5-methyl-1,3-dioxolen-4-yl) methyl halides, it can produce protected ester again protecting group hydrolyzed easily carboxy group in vivo.
The reaction solvent is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction, but the above polar solvent is preferably used. The reaction temperature and the reaction time vary depending on the starting materials, the solvent and the type of the reaction reagent, but the reaction is usually carried out at 0 ° C to 100 ° C for 0.5 to 10 hours.
尚、上記のようなカルボキシ基の保護基を除去する操作
によって、水酸基、R6基におけるメルカプト基及び/又
はアミノ基の保護基が同時に除去されることもある。Incidentally, the hydroxyl group, the mercapto group in the R 6 group and / or the amino group-protecting group may be simultaneously removed by the above-mentioned operation for removing the carboxy-protecting group.
上記のカルボキシ基の保護基の除去反応、水酸基の保護
基の除去反応、メルカプト基の保護基の除去反応及びア
ミノ基の保護基の除去反応は、順不同で希望する除去反
応を順次実施することができる。The removal reaction of the protecting group of the carboxy group, the removal reaction of the protecting group of the hydroxyl group, the removal reaction of the protecting group of the mercapto group, and the removal reaction of the protecting group of the amino group, the desired removal reactions may be performed in any order. it can.
第14工程は、第13工程と同様の工程であり、一般式(XI
V)を有する化合物を、第9工程と同様に処理し、開環
した本願発明化合物であるカルボキシ誘導体(XV)を製
造する工程である。The 14th step is a step similar to the 13th step and has the general formula (XI
In this step, the compound having V) is treated in the same manner as in Step 9 to produce a ring-opened carboxy derivative (XV) of the present invention.
第15工程は、一般式(XVI)を有する化合物を、第7工
程と同様に処理し開環させ、本願発明化合物(XVII)を
製造する工程である。The 15th step is a step of treating the compound having the general formula (XVI) in the same manner as in the 7th step to open the ring to produce the compound (XVII) of the present invention.
ところで、本願発明化合物は不斉炭素を有するため、そ
の各々の炭素につき立体異性が存在するが、このような
化合物は、以下に示す[製法5〜8]における(III-1
〜4)を出発物質として用いて上記の工程を実施するこ
とにより、相当するすべての異性体を製造することがで
きる。By the way, since the compound of the present invention has an asymmetric carbon atom, stereoisomerism exists for each carbon, but such a compound is (III-1 in Processes 5-8) shown below.
By carrying out the above steps using ~ 4) as starting material, all corresponding isomers can be prepared.
尚、[製法8]においては、エポキシの配位を省略して
記載したが、各々選択的に製造することのできる各種エ
ポキシ異性体を用い、製法1、5、6及び7に準じて相
当する本願発明化合物が製造できる。In [Production Method 8], the coordination of the epoxy is omitted, but various epoxy isomers that can be selectively produced are used, and the production method corresponds to Production Methods 1, 5, 6 and 7. The compound of the present invention can be produced.
[製法5] [製法6] [製法7] [製法8] 上記式中、R1、R2、R3、R8、R14及びR15は前記と同意義
を示す。[Production method 5] [Production method 6] [Production method 7] [Production method 8] In the above formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 8 , R 14 and R 15 have the same meanings as described above.
本願発明の原料化合物である(III,III-1〜4)、は、
文献公知の方法により以下に示すように立体選択的に製
造できる。例えば、化合物(XIX)は、田中等の方法
[A.Tanaka,S.Otsuka and K.Yamasita,Agric.Biol.Che
m.,48(8),2135(1984)]に従って製造できる。The raw material compounds (III, III-1 to 4) of the present invention are
It can be stereoselectively produced by a method known in the literature as shown below. For example, the compound (XIX) is prepared by the method of Tanaka et al. [A. Tanaka, S. Otsuka and K. Yamasita, Agric. Biol. Che.
m., 48 (8), 2135 (1984)].
(効果) 本発明の新規な2−アミノ−3−ホモ糖誘導体は、抗菌
作用を有し、且つ、毒性もないので、治療剤として有用
である。 (Effect) The novel 2-amino-3-homo-sugar derivative of the present invention has an antibacterial action and has no toxicity, and thus is useful as a therapeutic agent.
本発明の化合物(I)の投与形態としては、例えば、錠
剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤若しくはシロップ剤等に
よる経口投与又は注射剤若しくは坐剤等による非経口投
与を挙げることができる。これらの製剤は、賦形剤、結
合剤、崩壊剤、滑沢剤、安定剤、矯味矯臭剤等の添加剤
を用いて周知の方法で製造される。その使用量は症状、
年齢等により異なるが、1日1-500mg/kg体重を通常成人
に対して、1日1回又は数回に分けて投与することがで
きる。Examples of the administration form of the compound (I) of the present invention include oral administration such as tablets, capsules, granules, powders or syrups, and parenteral administration such as injections or suppositories. These preparations are manufactured by a well-known method using additives such as an excipient, a binder, a disintegrant, a lubricant, a stabilizer, and a flavoring agent. The amount used is a symptom,
Although depending on the age and the like, 1-500 mg / kg body weight per day can be usually administered to an adult once or several times a day in divided doses.
以下に、実施例をあげて本発明を更に具体的に説明す
る。Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples.
実施例1 4、5−O−イソプロピリデン−2、3−エポキシペン
タノイックアシッド ジメチルテチン酸 臭化水素塩(40.2g,0.2mol)のジメ
チルスルホキシド(500ml)溶液に、水素化ナトリウム
(55%鉱油分散、25.8g,0.6mol)を氷冷下20℃以下に温
度を保ちながら、攪拌しつつ窒素ガス中で加えた。更に
1.5-2時間、室温25℃で反応させると、ジメチルテチン
アニオンが析出してきた。ここに、2、3−O−イソプ
ロピリデン−α−D−グリセルアルデヒドと酢酸の混合
物(2:1、21.4g)のジメチルスルホキシド(100ml)溶
液を氷冷下攪拌しつつ滴下した。混合物を室温で20時間
反応させ、氷1.5kgにあける。溶液をエーテルで洗い、
水層は1規定塩酸500mlで酸性とした。酢酸エチルで抽
出し、水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥し、瀘過後、溶
媒を減圧下濃縮すると、18.1gの油状の目的物が得られ
た。この化合物はエポキシドの立体配位の異なる2.6:1
の混合物であった。Example 1 4,5-O-isopropylidene-2,3-epoxypentanoic acid Dimethyltethenic acid Sodium hydride (55% mineral oil dispersion, 25.8g, 0.6mol) was added to a solution of hydrobromide (40.2g, 0.2mol) in dimethylsulfoxide (500ml) while keeping the temperature below 20 ° C under ice cooling. , With stirring under nitrogen gas. Further
When the reaction was carried out at room temperature of 25 ° C. for 1.5 to 2 hours, dimethyltetin anion began to precipitate. A solution of a mixture of 2,3-O-isopropylidene-α-D-glyceraldehyde and acetic acid (2: 1, 21.4 g) in dimethyl sulfoxide (100 ml) was added dropwise thereto while stirring with ice cooling. The mixture is reacted at room temperature for 20 hours and put on 1.5 kg of ice. Wash the solution with ether,
The aqueous layer was acidified with 500 ml of 1N hydrochloric acid. It was extracted with ethyl acetate, washed with water, dried over magnesium sulfate, filtered, and the solvent was concentrated under reduced pressure to give 18.1 g of the desired product as an oil. This compound has a different configuration of epoxide, 2.6: 1.
Was a mixture of.
実施例2 N−(ビス−カルボエトキシ)メチル−N−2、4−ジ
メトキシベンジル−4、5−O−イソプロピリデン−
2、3−エポキシペンタノアミド 実施例1の化合物(3.45g,18.3mmol)とN−2、4−ジ
メトキシベンジル−N−(ビスカルボエトキシ)メチル
(5.96g,18.3mmol)のメチレンクロリド(30ml)溶液に
ジシクロヘキシルカルボジイミド4g(19.3mmol)を加え
た。1時間攪拌した後、生成するジシクロヘキシルカル
ボジイミド・1水を瀘去し、瀘液は濃縮した後にカラム
クロマトグラフィーにて精製すると3.78g(41.6%)が
得られた。Example 2 N- (bis-carboethoxy) methyl-N-2,4-dimethoxybenzyl-4,5-O-isopropylidene-
2,3-epoxypentanoamide A solution of the compound of Example 1 (3.45 g, 18.3 mmol) and N-2,4-dimethoxybenzyl-N- (biscarbethoxy) methyl (5.96 g, 18.3 mmol) in methylene chloride (30 ml) was added with 4 g (19.3 mmol) of dicyclohexylcarbodiimide. mmol) was added. After stirring for 1 hour, the resulting dicyclohexylcarbodiimide / 1 water was removed by filtration, and the filtrate was concentrated and purified by column chromatography to obtain 3.78 g (41.6%).
赤外吸収スペクトル νmax(フィルム) 1750(shoulder),1740,1668,1610,1587cm-1 マススペクトル m/z:495(M+) 元素分析値(C24H33O10Nとして) 計算値:C:58.17,H:6.71,N:2.83 実測値:C:57.89,H:6.80,N:2.91 実施例3 (1R,2S,5R)−6−(2,4−ジメトキシベンジル)−5
−エトキシカルボニル−2−[(R)−1、2−O−イ
ソプロピリデンエチル]−4、7−ジオキソ−3−オキ
サ−6−アザビシクロ[3.2.0]ヘプタン 実施例2の化合物4.96g(10mmol)をベンゼン500mlに溶
解し、共沸し100mlのベンゼンを除き、これに1、8−
ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデ−7−セン200mgを加
え、生成するエタノールをベンゼンと共沸しつつ、20分
間で150ml留去した。冷却後、酢酸エチルにて希釈し、
希塩酸、水、食塩水にて洗浄し、硫酸マグネシウムにて
乾燥すた。濃縮してシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーを行ない(溶出液:酢酸エチル−シクロヘキサン(1:
1))、2.35gの目的物を得た。Infrared absorption spectrum ν max (film) 1750 (shoulder), 1740,1668,1610,1587cm-1 Mass spectrum m / z: 495 (M + ) Elemental analysis value (as C 24 H 33 O 10 N) Calculated value: C: 58.17, H: 6.71, N: 2.83 Found: C: 57.89, H: 6.80, N: 2.91 Example 3 (1R, 2S, 5R) -6- (2,4-dimethoxybenzyl) -5
-Ethoxycarbonyl-2-[(R) -1,2-O-isopropylideneethyl] -4,7-dioxo-3-oxa-6-azabicyclo [3.2.0] heptane 4.96 g (10 mmol) of the compound of Example 2 was dissolved in 500 ml of benzene and azeotropically distilled to remove 100 ml of benzene.
Diazabicyclo [5.4.0] unde-7-cene (200 mg) was added, and the produced ethanol was azeotroped with benzene, and 150 ml was distilled off over 20 minutes. After cooling, dilute with ethyl acetate,
The extract was washed with dilute hydrochloric acid, water and saline and dried over magnesium sulfate. Concentrate and perform silica gel column chromatography (eluent: ethyl acetate-cyclohexane (1:
1)), 2.35 g of the desired product was obtained.
赤外吸収スペクトル νmax(フィルム) 1770、1740(shoulder),1613,1590cm-1 NMRスペクトル(60MHz)(CDCl3) δ 1.25(3H,t,J=7.0Hz),1.36(3H,s),1.43(3H,s),3.
80(6H,s),3.9-4.6(9H,m),6.3-6.5(2H,m),7.15(1
H,d,J=9.0Hz) 実施例4 (1R,2S,4RS,5S)−6−(2、4−ジメトキシベンジ
ル)−2−[(R)−1、2−O−イソプロピリデンエ
チル]−5−エトキシカルボニル−4−ヒドロキシ−7
−オキソ−3−オキサ−6−アザビシクロ[3.2.0]ヘ
プタン 実施例3の化合物3.58gをメタノール80mlに溶解し、−4
0℃に冷却する。クロマト用シリカゲル粉を50mg加え、
水素化ホウ素ナトリウム650mgの粉末を一気に攪拌しつ
つ加えると発泡しつつ水素化ホウ素ナトリウムが溶解し
た。15分後、この温度で酢酸2.5mlを加え、過剰の水素
化ホウ素ナトリウムを分解した。酢酸エチルにて希釈
し、炭酸水素ナトリウム水、食塩水で洗い、硫酸マグネ
シウムにて乾燥した。瀘過、濃縮後シリカゲルカラムク
ロマトグラフィーにて精製し、油状物3.51gの目的物が
得られた。Infrared absorption spectrum ν max (film) 1770, 1740 (shoulder), 1613, 1590 cm-1 NMR spectrum (60 MHz) (CDCl 3 ) δ 1.25 (3H, t, J = 7.0Hz), 1.36 (3H, s), 1.43 (3H, s), 3.
80 (6H, s), 3.9-4.6 (9H, m), 6.3-6.5 (2H, m), 7.15 (1
H, d, J = 9.0 Hz) Example 4 (1R, 2S, 4RS, 5S) -6- (2,4-dimethoxybenzyl) -2-[(R) -1,2-O-isopropylideneethyl] -5-ethoxycarbonyl-4-hydroxy-7
-Oxo-3-oxa-6-azabicyclo [3.2.0] heptane 3.58 g of the compound of Example 3 was dissolved in 80 ml of methanol and -4
Cool to 0 ° C. Add 50 mg of silica gel powder for chromatography,
When 650 mg of sodium borohydride powder was added at once with stirring, sodium borohydride was dissolved while foaming. After 15 minutes, 2.5 ml of acetic acid was added at this temperature to decompose excess sodium borohydride. It was diluted with ethyl acetate, washed with aqueous sodium hydrogen carbonate solution and brine, and dried over magnesium sulfate. After filtration and concentration, the residue was purified by silica gel column chromatography to obtain 3.51 g of an oily product.
赤外吸収スペクトル νmax(フィルム) 3380,1760(shoulder),1750-1730,1610,1588cm-1 実施例5 (1R,2S,4S,5S)−6−(2、4−ジメトキシベンジ
ル)−2−[(R )−1、2−O−イソプロピリデン
エチル]−4−ヒドロキシ−7−オキソ−3−オキサ−
6−アザビシクロ[3.2.0]ヘプタン 実施例4の化合物1.83gをピリジン20ml、水1mlに溶解し
1、8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデ−7−セン300
mgを加え、45分間還流した。減圧下濃縮しシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーにて精製した。酢酸エチル−シ
クロヘキサン(2:1)にて溶出し、目的化合物1.15gの結
晶を得た。Infrared absorption spectrum ν max (film) 3380,1760 (shoulder), 1750-1730,1610,1588 cm-1 Example 5 (1R, 2S, 4S, 5S) -6- (2,4-dimethoxybenzyl) -2 -[(R) -1,2-O-isopropylideneethyl] -4-hydroxy-7-oxo-3-oxa-
6-azabicyclo [3.2.0] heptane 1.83 g of the compound of Example 4 was dissolved in 20 ml of pyridine and 1 ml of water to prepare 1,8-diazabicyclo [5.4.0] unde-7-cene 300.
mg was added and refluxed for 45 minutes. It was concentrated under reduced pressure and purified by silica gel column chromatography. Elution with ethyl acetate-cyclohexane (2: 1) gave 1.15 g of crystals of the target compound.
融点 172-173℃ 赤外吸収スペクトル νmax(ヌジョール) 3320,1715,1612,1590cm-1 [α]D 24 −10.5°(C 1.61,クロロホルム) マススペクトル m/z:379(M+),364,321,279,250,193,
166,151,121,101 元素分析値(C19H25O7Nとして) 計算値:C:60.14,H:6.64,N:3.69 実測値:C:59.86,H:6.56,N:3.72 NMRスペクトル(60MHz)(CDCl3) δ 1.36(3H,s),1.42(3H,s),3.10(1H,d,J=2.0Hz),3.
4-4.6(14H,m),5.17(1H,d,J=2.0Hz),6.3-6.6(2H,
m),7.12(1H,d,J=9.0Hz) 実施例6 (1R,2S,4RS,5S)−6−(2、4−ジメトキシベンジ
ル)−2−[1、2−O−イソプロピリデンエチル]−
4−メトキシ−7−オキソ−3−オキサ−6−アザビシ
クロ[3.2.0]ヘプタン 実施例5の化合物379mgをジメチルホルムアミド−沃化
メチル(1:1、10ml)に溶解し、酸化銀700mgを加え、4
時間、室温にて攪拌した。酢酸エチルにて希釈した後、
酸化銀を瀘去し、有機層を水、食塩水にて洗浄した。濃
縮しシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し
た。酢酸エチル−シクロヘキサンにて溶出し、目的化合
物340mgを得た。Melting point 172-173 ° C Infrared absorption spectrum ν max (nujol) 3320,1715,1612,1590cm-1 [α] D 24 -10.5 ° (C 1.61, chloroform) Mass spectrum m / z: 379 (M + ), 364,321,279,250,193 ,
166,151,121,101 Elemental analysis value (as C 19 H 25 O 7 N) Calculated value: C: 60.14, H: 6.64, N: 3.69 Measured value: C: 59.86, H: 6.56, N: 3.72 NMR spectrum (60MHz) (CDCl 3 ) Δ 1.36 (3H, s), 1.42 (3H, s), 3.10 (1H, d, J = 2.0Hz), 3.
4-4.6 (14H, m), 5.17 (1H, d, J = 2.0Hz), 6.3-6.6 (2H,
m), 7.12 (1H, d, J = 9.0Hz) Example 6 (1R, 2S, 4RS, 5S) -6- (2,4-dimethoxybenzyl) -2- [1,2-O-isopropylideneethyl ]-
4-Methoxy-7-oxo-3-oxa-6-azabicyclo [3.2.0] heptane 379 mg of the compound of Example 5 was dissolved in dimethylformamide-methyl iodide (1: 1, 10 ml), 700 mg of silver oxide was added, and 4
Stir at room temperature for hours. After diluting with ethyl acetate,
The silver oxide was filtered off, and the organic layer was washed with water and brine. It was concentrated and purified by silica gel column chromatography. Elution with ethyl acetate-cyclohexane gave 340 mg of the target compound.
赤外吸収スペクトル νmax(フィルム) 1748,1610,1588cm-1 マススペクトル m/z:393(M+) 実施例7 メチル 2、3−ジデオキシ−2−(2、4−ジメトキ
シベンジルアミノ)−3−C−(ヒドロキシメチル)−
5、6−O−イソプロピリデン−α−D−マンノフラノ
シド メチル 2、3−ジデオキシ−2−(2、4−ジメトキ
シベンジルアミノ)−3−C−(ヒドロキシメチル)−
5、6−O−イソプロピリデン−β−D−マンノフラノ
シド 実施例6の化合物200mgのテトラヒドロフラン4ml溶液に
氷冷下60mgの水素化リチウムアルミニウムを加え、40分
間攪拌した。酢酸にて過剰の水素化リチウムアルミニウ
ムを分解し、酢酸エチルにて希釈し、炭酸水素ナトリウ
ム水、食塩水で洗い、硫酸マグネシウムにて乾燥した。
瀘過、濃縮後シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて
精製した。シクロヘキサン−酢酸エチル(1:4)にて溶
出すると、Rf値の高いα−異性体136mg,Rf値の低いβ−
異性体34mgが得られた。Infrared absorption spectrum ν max (film) 1748,1610,1588 cm −1 Mass spectrum m / z: 393 (M + ) Example 7 Methyl 2,3-dideoxy-2- (2,4-dimethoxybenzylamino) -3 -C- (hydroxymethyl)-
5,6-O-isopropylidene-α-D-mannofuranoside methyl 2,3-dideoxy-2- (2,4-dimethoxybenzylamino) -3-C- (hydroxymethyl)-
5,6-O-isopropylidene-β-D-mannofuranoside To a solution of 200 mg of the compound of Example 6 in 4 ml of tetrahydrofuran was added 60 mg of lithium aluminum hydride under ice cooling, and the mixture was stirred for 40 minutes. Excessive lithium aluminum hydride was decomposed with acetic acid, diluted with ethyl acetate, washed with aqueous sodium hydrogen carbonate and brine, and dried over magnesium sulfate.
After filtration and concentration, the residue was purified by silica gel column chromatography. Elution with cyclohexane-ethyl acetate (1: 4) gave 136 mg of α-isomer with a high Rf value and β-isomer with a low Rf value.
34 mg of the isomer was obtained.
[α−異性体] 赤外吸収スペクトル νmax(フィルム) 3500-3300,1610,1588cm-1 マススペクトル m/z:397(M+) NMRスペクトル(60MHz)(CDCl3) δ 1.34(3H,s),1.39(3H,s),2.64(1H,m),2.78(2H,s,
OH及びNH),3.7-4.3(14H,m),4.76(1H,d,J=2.5Hz),
6.3-6.5(2H,m),7.10(1H,d,J=8.5Hz) [β−異性体] 赤外吸収スペクトル νmax(フィルム) 3500-3300,1612,1590cm-1 マススペクトル m/z:397(M+) 実施例8 メチル 2、3−ジデオキシ−2−アミノ−3−C−
(ヒドロキシメチル)−5、6−O−イソプロピリデン
−α−D−マンノフラノシド 実施例7のα−異性体143mgをエタノール8mlに溶解し、
10%パラジウム炭素500mlを加え、室温、一気圧で5時
間加水素分解した。触媒を瀘去し、濃縮し、シリカゲル
カラムクロマトグラフィーにて精製した。メタノール−
酢酸エチル(1:9)にて溶出すると、目的化合物43mgを
得た。[Α-isomer] Infrared absorption spectrum ν max (film) 3500-3300,1610,1588cm-1 Mass spectrum m / z: 397 (M + ) NMR spectrum (60MHz) (CDCl 3 ) δ 1.34 (3H, s ), 1.39 (3H, s), 2.64 (1H, m), 2.78 (2H, s,
OH and NH), 3.7-4.3 (14H, m), 4.76 (1H, d, J = 2.5Hz),
6.3-6.5 (2H, m), 7.10 (1H, d, J = 8.5Hz) [β-isomer] Infrared absorption spectrum ν max (film) 3500-3300,1612,1590cm-1 Mass spectrum m / z: 397 (M + ) Example 8 Methyl 2,3-dideoxy-2-amino-3-C-
(Hydroxymethyl) -5,6-O-isopropylidene-α-D-mannofuranoside 143 mg of the α-isomer of Example 7 was dissolved in 8 ml of ethanol,
500 ml of 10% palladium carbon was added, and hydrogenolysis was performed at room temperature and 1 atm for 5 hours. The catalyst was removed by filtration, concentrated, and purified by silica gel column chromatography. Methanol-
Elution with ethyl acetate (1: 9) gave 43 mg of the target compound.
赤外吸収スペクトル νmax(フィルム) 3360(broad)cm-1 マススペクトル m/z:248(M++1) NMRスペクトル(60MHz)(CDCl3) δ 1.35(3H,s),1.41(3H,s),2.17(3H,broad,),2.64
(1H,quintuplet,J=6.5Hz),3.35(3H,s),3.50(1H,b
d,J=6.5Hz),3.7-4.4(6H,m),4.65(1H,d,J=1.5Hz) 実施例9 メチル 2、3−ジデオキシ−2−ベンゾイルアミド−
3−C−ヒドロキシメチル−5、6−O−イソプロピリ
デン−α−D−マンノフラノシド 実施例8の化合物37mgをテトラヒドロフラン2mlに溶解
し、トリエチルアミン50mgとベンゾイルクロリド25mgを
攪拌しつつ加えた。15分後、酢酸エチルにて希釈し、炭
酸水素ナトリウム水、食塩水で洗い、硫酸マグネシウム
にて乾燥した。瀘過、濃縮後シリカゲル薄層カラムクロ
マトグラフィーにて精製すると、目的化合物51mgを得
た。Infrared absorption spectrum ν max (film) 3360 (broad) cm-1 Mass spectrum m / z: 248 (M + +1) NMR spectrum (60MHz) (CDCl 3 ) δ 1.35 (3H, s), 1.41 (3H, s ), 2.17 (3H, broad,), 2.64
(1H, quintuplet, J = 6.5Hz), 3.35 (3H, s), 3.50 (1H, b
d, J = 6.5Hz), 3.7-4.4 (6H, m), 4.65 (1H, d, J = 1.5Hz) Example 9 Methyl 2,3-dideoxy-2-benzoylamide-
3-C-hydroxymethyl-5,6-O-isopropylidene-α-D-mannofuranoside 37 mg of the compound of Example 8 was dissolved in 2 ml of tetrahydrofuran, and 50 mg of triethylamine and 25 mg of benzoyl chloride were added with stirring. After 15 minutes, the mixture was diluted with ethyl acetate, washed with aqueous sodium hydrogen carbonate solution and brine, and dried over magnesium sulfate. After filtration and concentration, purification by silica gel thin layer column chromatography gave 51 mg of the target compound.
赤外吸収スペクトル νmax(フィルム) 3350,1640cm-1 実施例10 メチル 2、3−ジデオキシ−2−ベンゾイルアミド−
3−C−(アセトキシメチル)−5、6−O−イソプロ
ピリデン−α−D−マンノフラノシド 実施例9の化合物29mgをピリジン−無水酢酸(2:1)に
てアセチル化すると定量的に目的化合物が得られた。Infrared absorption spectrum ν max (film) 3350,1640 cm -1 Example 10 Methyl 2,3-dideoxy-2-benzoylamide-
3-C- (acetoxymethyl) -5,6-O-isopropylidene-α-D-mannofuranoside 29 mg of the compound of Example 9 was acetylated with pyridine-acetic anhydride (2: 1) to quantitatively obtain the target compound.
融点 120-121℃(酢酸エチル−n−ヘキサン、1:9) 赤外吸収スペクトル νmax(ヌジョール) 3360,1737,1640cm-1 マススペクトル m/z:378(M+−15),362,345,333,304,
292,232,173 [α]D+48.9° (C 1.125,エタノール) NMRスペクトル(270MHz)(CDCl3) δ 1.37(3H,s),1.41(3H,s),2.04(3H,s),3.19(1H,
m),3.38(3H,s),3.86(1H,dd,J=6.6,8.4Hz),4.13
(1H,dd,J=7.1,8.6Hz),4.28(1H,dd,J=5.5,8.4Hz),
4.41-4.34(2H,m),4.50(1H,dd,J=8.1,11.7Hz),4.79
(1H,ddd,J=1.0,6.4,8.8Hz),4.84(1H,d,J=1.0Hz),
7.08(1H,d,J=8.8Hz),7.54-7.40(3H,m),7.80-7.77
(2H,m) 元素分析値(C20H27O7Nとして) 計算値:C:61.05,H:6.92,N:3.56 実測値:C:61.22,H:7.13,N:3.59 実施例11 メチル 2、3−ジデオキシ−2−アセチル−3−C−
(2、4−ジメトキシベンジルアミノ)−5、6−O−
イソプロピリデン−α−D−マンノフラノシド 実施例6の化合物393.4mgをテトラヒドロフラン10mlに
溶解し、−78℃、窒素気流下、メチルリチウムのエーテ
ル溶液(1.4M,1.5ml)をテトラヒドロフラン2mlに希釈
して滴下した。15分後酢酸にてメチルリチウムを分解し
た。酢酸エチルで希釈し、炭酸水素ナトリウム水、食塩
水で洗い、硫酸マグネシウムにて乾燥した。瀘過、濃縮
後シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。
シクロヘキサン−酢酸エチル(1:1)にて溶出すると、
目的化合物176mgを得た。尚、α、β−混合物が106mg得
られ、更に次の分画からβ−異性体29mgが得られた。Melting point 120-121 ° C (ethyl acetate-n-hexane, 1: 9) Infrared absorption spectrum ν max (nujol) 3360,1737,1640cm-1 Mass spectrum m / z: 378 (M + -15), 362,345,333,304,
292,232,173 [α] D + 48.9 ° (C 1.125, ethanol) NMR spectrum (270MHz) (CDCl 3 ) δ 1.37 (3H, s), 1.41 (3H, s), 2.04 (3H, s), 3.19 (1H,
m), 3.38 (3H, s), 3.86 (1H, dd, J = 6.6,8.4Hz), 4.13
(1H, dd, J = 7.1,8.6Hz), 4.28 (1H, dd, J = 5.5,8.4Hz),
4.41-4.34 (2H, m), 4.50 (1H, dd, J = 8.1,11.7Hz), 4.79
(1H, ddd, J = 1.0,6.4,8.8Hz), 4.84 (1H, d, J = 1.0Hz),
7.08 (1H, d, J = 8.8Hz), 7.54-7.40 (3H, m), 7.80-7.77
(2H, m) Elemental analysis (C 20 H 27 O 7 as N) Calculated: C: 61.05, H: 6.92 , N: 3.56 Found: C: 61.22, H: 7.13 , N: 3.59 Example 11 Methyl 2,3-dideoxy-2-acetyl-3-C-
(2,4-dimethoxybenzylamino) -5,6-O-
Isopropylidene-α-D-mannofuranoside 393.4 mg of the compound of Example 6 was dissolved in 10 ml of tetrahydrofuran, and an ether solution of methyllithium (1.4M, 1.5 ml) was diluted with 2 ml of tetrahydrofuran and added dropwise at -78 ° C under a nitrogen stream. After 15 minutes, methyl lithium was decomposed with acetic acid. It was diluted with ethyl acetate, washed with aqueous sodium hydrogen carbonate solution and brine, and dried over magnesium sulfate. After filtration and concentration, the residue was purified by silica gel column chromatography.
By eluting with cyclohexane-ethyl acetate (1: 1),
176 mg of the target compound was obtained. 106 mg of α, β-mixture was obtained, and 29 mg of β-isomer was obtained from the following fraction.
[α−異性体] マススペクトル m/z:409(M+) [β−異性体] マススペクトル m/z:409(M+) 実施例12 メチル 2、3−ジデオキシ−2−[(N−2、4−ジ
メトキシベンジル)ベンゾイルアミド]−3−C−アセ
チル−5、6−O−イソプロピリデン−α−D−マンノ
フラノシド 実施例11のα−異性体82mgをテトラヒドロフラン2mlに
溶解し、トリエチルアミン50mgとベンゾイルクロリド30
mgを攪拌しつつ加えた。20分後、そのまま瀘過、濃縮後
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。シ
クロヘキサン−酢酸エチル(3:2)にて溶出すると、目
的化合物76mgが得られた。[Α-Isomer] mass spectrum m / z: 409 (M + ) [β-Isomer] mass spectrum m / z: 409 (M + ) Example 12 Methyl 2,3-dideoxy-2-[(N- 2,4-Dimethoxybenzyl) benzoylamide] -3-C-acetyl-5,6-O-isopropylidene-α-D-mannofuranoside 82 mg of the α-isomer of Example 11 was dissolved in 2 ml of tetrahydrofuran, 50 mg of triethylamine and 30 mg of benzoyl chloride were added.
mg was added with stirring. After 20 minutes, the mixture was directly filtered, concentrated and purified by silica gel column chromatography. Elution with cyclohexane-ethyl acetate (3: 2) gave 76 mg of the desired compound.
融点 143-146℃(酢酸エチル−シクロヘキサン) 赤外吸収スペクトル νmax(ヌジョール) 1705,1625,1607,1588,1205cm-1 マススペクトル m/z:513(M+),495,481,436,408,350,
322,270,188,151 [α]D 25+140.03° (C 1.21,クロロホルム) NMRスペクトル(270MHz)(CDCl3) δ 1.31(3H,s),1.43(3H,s),2.37(3H,s),2.96(3H,
s),3.67(3H,s),3.81(3H,s),3.91-3.87(1H,m),4.
18-4.06(3H,m),4.36(1H,bs),4.51(2H,s),4.95(1
H,dd,J=2.9,7.4Hz),5.05(1H,d,J=2.9Hz),6.36(1
H,d,J=2.3Hz),6.51(1H,dd,J=2.3,8.4Hz),7.11(1
H,d,J=8.4Hz),7.31-7.23(5H,m) 元素分析値(C28H35O8Nとして) 計算値:C:65.48,H:6.87,N:2.73 実測値:C:65.15,H:6.86,N:2.76 実施例13 (1S,3S,4S,5R,8R)−3−メトキシ−4−(2、4−ジ
メトキシベンジルアミノ)−8−(ヒドロキシメチル)
−2、7−ジオキサ−5−オキソビシクロ[3.3.0]オ
クタン 実施例6の化合物67mgを乾燥メタノール2mlと塩酸の2
規定メタノール溶液0.17ml(2当量の塩酸)を加え、1.
5時間還流させた。減圧下濃縮し残る油状物を4mlメチレ
ンクロリドに溶解し、炭酸水素ナトリウム200mgを加
え、室温で30分間激しく攪拌した。シリカゲル薄層クロ
マトグラフィーにて精製した。酢酸エチルにて展開し、
目的化合物47mgを得た。Melting point 143-146 ° C (ethyl acetate-cyclohexane) Infrared absorption spectrum ν max (nujol) 1705,1625,1607,1588,1205cm-1 Mass spectrum m / z: 513 (M + ), 495,481,436,408,350,
322,270,188,151 [α] D 25 + 140.03 ° (C 1.21, chloroform) NMR spectrum (270MHz) (CDCl 3 ) δ 1.31 (3H, s), 1.43 (3H, s), 2.37 (3H, s), 2.96 (3H) ,
s), 3.67 (3H, s), 3.81 (3H, s), 3.91-3.87 (1H, m), 4.
18-4.06 (3H, m), 4.36 (1H, bs), 4.51 (2H, s), 4.95 (1
H, dd, J = 2.9,7.4Hz), 5.05 (1H, d, J = 2.9Hz), 6.36 (1
H, d, J = 2.3Hz), 6.51 (1H, dd, J = 2.3,8.4Hz), 7.11 (1
H, d, J = 8.4Hz), 7.31-7.23 (5H, m) Elemental analysis value (as C 28 H 35 O 8 N) Calculated value: C: 65.48, H: 6.87, N: 2.73 Measured value: C: 65.15, H: 6.86, N: 2.76 Example 13 (1S, 3S, 4S, 5R, 8R) -3-Methoxy-4- (2,4-dimethoxybenzylamino) -8- (hydroxymethyl)
-2,7-dioxa-5-oxobicyclo [3.3.0] octane 67 mg of the compound of Example 6 was added to 2 ml of dry methanol and hydrochloric acid.
Add 0.17 ml of a normal methanol solution (2 equivalents of hydrochloric acid) and
Refluxed for 5 hours. The oily substance remaining after concentration under reduced pressure was dissolved in 4 ml of methylene chloride, 200 mg of sodium hydrogen carbonate was added, and the mixture was vigorously stirred at room temperature for 30 minutes. Purified by silica gel thin layer chromatography. Deploy with ethyl acetate,
47 mg of the target compound was obtained.
マススペクトル m/z:354(M++1)、353(M+),352
(M+−1),322,166,151,121 赤外吸収スペクトル νmax(フィルム) 3500-3200,1760(broad),1612,1588cm-1 NMRスペクトル(60MHz)(CDCl3) δ 2.8(2H,b),3.2-3.6(5H,m),3.70-3.85(10H,m),4.4
-4.9(3H,m),6.3-6.5(2H,m),7.11(1H,d,J=9.0Hz) 実施例14 (1S,3S,4S,5R,8R)−3−メトキシ−4−(2、4−ジ
メトキシベンジルアミノ)−8−[(メトキシジメチ
ル)メチルオキシメチル]−2、7−ジオキサ−6−オ
キソビシクロ[3.3.0]オクタン 実施例13の化合物20mgをジメチルホルムアミド0.5mlと
2、2−ジメトキシプロパン1mlに溶解し、ピリジニウ
ム p−トルエンスルホネート5mgを加え、1.5時間還流
させた。減圧下濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにて精製した。シクロヘキサン−酢酸エチル(1:
1)にて溶出し、目的化合物15mgが油状物質として得ら
れた。Mass spectrum m / z: 354 (M + +1), 353 (M + ), 352
(M + -1), 322,166,151,121 Infrared absorption spectrum ν max (Film) 3500-3200,1760 (broad), 1612,1588 cm-1 NMR spectrum (60 MHz) (CDCl 3 ) δ 2.8 (2H, b), 3.2- 3.6 (5H, m), 3.70-3.85 (10H, m), 4.4
-4.9 (3H, m), 6.3-6.5 (2H, m), 7.11 (1H, d, J = 9.0Hz) Example 14 (1S, 3S, 4S, 5R, 8R) -3-Methoxy-4- ( 2,4-Dimethoxybenzylamino) -8-[(methoxydimethyl) methyloxymethyl] -2,7-dioxa-6-oxobicyclo [3.3.0] octane 20 mg of the compound of Example 13 was dissolved in 0.5 ml of dimethylformamide and 1 ml of 2,2-dimethoxypropane, 5 mg of pyridinium p-toluenesulfonate was added, and the mixture was refluxed for 1.5 hours. It was concentrated under reduced pressure and purified by silica gel column chromatography. Cyclohexane-ethyl acetate (1:
Elution in 1) yielded 15 mg of the desired compound as an oily substance.
赤外吸収スペクトル νmax(フィルム) 1763,1612,1588cm-1 マススペクトル m/z:426(M++1)、394352,323,29
3、275、204、166、151、121、91、73、43 NMRスペクトル(400MHz)(CDCl3) δ 1.28(3H,s),1.30(3H,s),1.92(1H,b),3.16(3H,
s),3.37(3H,s),3.37(1H,dd,J=8.0-9.0,6.0-7.0H
z),3.47(1H,dd,J=8.8,1.0Hz),3.52(1H,dd,J=10.
7,1.9Hz),3.73(1H,dd,J=10.7,2.4Hz),3.78(3H,
s),3.83(3H,s),3.87,3.70(2H,AB-q,J=13.6Hz),4.
68(1H,t,J=1.9-2.4Hz),4.72(1H,d,J=6.8Hz),4.90
(1H,bs),6.43(1H,dd,J=2.4,8.3Hz),6.45(1H,d,J
=2.4Hz),7.13(1H,d,J=8.3Hz) 実施例15 (1R,2S,4R,5S)−6−(2、4−ジメトキシベンジ
ル)−2−メチル−4−ベンジルオキシ−7−オキソ−
3−オキサ−6−アザビシクロ[3.2.0]ヘプタン ベンジルアルコールに塩酸を飽和させた溶液に氷冷下粉
末状の文献公知の化合物である(1R,2S,4R,5S)−6−
(2、4−ジメトキシベンジル)−2−メチル−4−ヒ
ドロキシ−7−オキソ−3−オキサ−6−アザビシクロ
[3.2.0]ヘプタン500mgを加え攪拌すると結晶が溶解し
た。0−5℃の冷蔵庫内に一夜放置した。酢酸エチルに
て希釈し、炭酸水素ナトリウム水で洗い、硫酸マグネシ
ウムにて乾燥した。瀘過、濃縮した後、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーにて精製する。酢酸エチル−シク
ロヘキサン(1:2)にて溶出し、目的化合物454mgの結晶
を得た。更に、実施例17の化合物のβ−異性体65mgが得
られた。Infrared absorption spectrum ν max (film) 1763,1612,1588cm-1 Mass spectrum m / z: 426 (M + +1), 394352,323,29
3, 275, 204, 166, 151, 121, 91, 73, 43 NMR spectrum (400MHz) (CDCl 3 ) δ 1.28 (3H, s), 1.30 (3H, s), 1.92 (1H, b), 3.16 ( 3H,
s), 3.37 (3H, s), 3.37 (1H, dd, J = 8.0-9.0,6.0-7.0H
z), 3.47 (1H, dd, J = 8.8,1.0Hz), 3.52 (1H, dd, J = 10.
7,1.9Hz), 3.73 (1H, dd, J = 10.7,2.4Hz), 3.78 (3H,
s), 3.83 (3H, s), 3.87, 3.70 (2H, AB-q, J = 13.6Hz), 4.
68 (1H, t, J = 1.9-2.4Hz), 4.72 (1H, d, J = 6.8Hz), 4.90
(1H, bs), 6.43 (1H, dd, J = 2.4,8.3Hz), 6.45 (1H, d, J
= 2.4 Hz), 7.13 (1H, d, J = 8.3 Hz) Example 15 (1R, 2S, 4R, 5S) -6- (2,4-dimethoxybenzyl) -2-methyl-4-benzyloxy-7 -Oxo-
3-oxa-6-azabicyclo [3.2.0] heptane It is a known compound in the form of powder in a solution of benzyl alcohol saturated with hydrochloric acid under ice cooling (1R, 2S, 4R, 5S) -6-
(2,4-Dimethoxybenzyl) -2-methyl-4-hydroxy-7-oxo-3-oxa-6-azabicyclo [3.2.0] heptane (500 mg) was added and the crystals were dissolved by stirring. It was left in a refrigerator at 0-5 ° C overnight. It was diluted with ethyl acetate, washed with aqueous sodium hydrogen carbonate, and dried over magnesium sulfate. After filtration and concentration, the product is purified by silica gel column chromatography. Elution with ethyl acetate-cyclohexane (1: 2) gave 454 mg of the desired compound as crystals. Furthermore, 65 mg of the β-isomer of the compound of Example 17 was obtained.
赤外吸収スペクトル νmax(フィルム) 1750,1610,1586cm-1 NMRスペクトル(60MHz)(CDCl3) δ 1.30(3H,d,J=6.0Hz),3.38(1H,dd,J=0.5,4.0Hz),
3.71(3H,s),3.80(3H,s),4.02(1H,d,J=4.0Hz),4.
11,4.40(2H,AB-q,J=14.0Hz),4.39,4.71(2H,AB-q,J
=12.0Hz),4.60(1H,dq,J=0.5,6.0Hz),4.93(1H,
s),6.38-6.53(2H,m),7.12(1H,d,J=9.0Hz),7.33
(5H,s) 実施例16 ベンジル 2、3、5−トリデオキシ−2−(2、4−
ジメトキシベンジルアミノ)−3−C−(ヒドロキシメ
チル)−β−D−リボフラノシド 実施例15の化合物38mgのテトラヒドロフラン2ml溶液に
氷冷下10mgの水素化リチウムアルミニウムを加え、室温
で一夜攪拌した。酢酸にて過剰の水素化リチウムアルミ
ニウムを分解し、酢酸エチルにて希釈し、炭酸水素ナト
リウム水で洗い、硫酸マグネシウムにて乾燥した。瀘
過、濃縮後シリカゲル薄層クロマトグラフィーにて精製
した。シクロヘキサン−酢酸エチル(1:1)にて展開す
ると、目的化合物16mgを得た。Infrared absorption spectrum ν max (film) 1750,1610,1586cm-1 NMR spectrum (60MHz) (CDCl 3 ) δ 1.30 (3H, d, J = 6.0Hz), 3.38 (1H, dd, J = 0.5,4.0Hz) ),
3.71 (3H, s), 3.80 (3H, s), 4.02 (1H, d, J = 4.0Hz), 4.
11,4.40 (2H, AB-q, J = 14.0Hz), 4.39,4.71 (2H, AB-q, J
= 12.0Hz), 4.60 (1H, dq, J = 0.5,6.0Hz), 4.93 (1H,
s), 6.38-6.53 (2H, m), 7.12 (1H, d, J = 9.0Hz), 7.33
(5H, s) Example 16 Benzyl 2,3,5-trideoxy-2- (2,4-
Dimethoxybenzylamino) -3-C- (hydroxymethyl) -β-D-ribofuranoside To a solution of 38 mg of the compound of Example 15 in 2 ml of tetrahydrofuran was added 10 mg of lithium aluminum hydride under ice cooling, and the mixture was stirred at room temperature overnight. Excess lithium aluminum hydride was decomposed with acetic acid, diluted with ethyl acetate, washed with aqueous sodium hydrogen carbonate, and dried over magnesium sulfate. After filtration and concentration, the residue was purified by silica gel thin layer chromatography. When developed with cyclohexane-ethyl acetate (1: 1), 16 mg of the target compound was obtained.
融点 73-78℃(酢酸エチル−n−ヘキサン) [綿状晶] 赤外吸収スペクトル νmax(フィルム) 3350(broad),1610,1585cm-1 マススペクトル m/z:387(M+) NMRスペクトル(60MHz)(CDCl3) δ 1.32(3H,d,J=6.0Hz),2.16(1H,m),2.90(2H,bs),
3.37(1H,d,J=6.0Hz),3.5-4.0(10H,m),4.1-4.3(1
H,m),4.38,4.75(2H,AB-q,J=12.0Hz),4.79(1H,s),
6.3-6.4(2H,m),7.09(1H,d,J=9.0Hz),7.33(5H,s) 実施例17 ベンジル 2、3、5−トリデオキシ−2−(2、4−
ジメトキシベンジルアミノ)−3−C−(ベンジルオキ
シカルボニル)−β−D−リボフラノシド 粉末状の文献公知の化合物である(1R,2S,4R,5S)−6
−(2、4−ジメトキシベンジル)−2−メチル−4−
ヒドロキシ−7−オキソ−3−オキサ−6−アザビシク
ロ[3.2.0]ヘプタン500mg又は実施例15の化合物をベン
ジルアルコールに塩酸を飽和させた溶液に氷冷下溶解
し、室温で一夜放置した。酢酸エチルにて希釈し、炭酸
水素ナトリウム水で洗い、硫酸マグネシウムにて乾燥し
た。瀘過、濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにて精製した。酢酸エチル−シクロヘキサン(1:
2)にて溶出し、目的化合物507mgを得た。又、次の分画
からα−異性体311mgが得られた。Melting point 73-78 ° C (ethyl acetate-n-hexane) [Cotton] infrared absorption spectrum ν max (film) 3350 (broad), 1610,1585 cm-1 mass spectrum m / z: 387 (M + ) NMR spectrum (60MHz) (CDCl 3 ) δ 1.32 (3H, d, J = 6.0Hz), 2.16 (1H, m), 2.90 (2H, bs),
3.37 (1H, d, J = 6.0Hz), 3.5-4.0 (10H, m), 4.1-4.3 (1
H, m), 4.38, 4.75 (2H, AB-q, J = 12.0Hz), 4.79 (1H, s),
6.3-6.4 (2H, m), 7.09 (1H, d, J = 9.0Hz), 7.33 (5H, s) Example 17 Benzyl 2,3,5-trideoxy-2- (2,4-)
Dimethoxybenzylamino) -3-C- (benzyloxycarbonyl) -β-D-ribofuranoside It is a known compound in the form of powder (1R, 2S, 4R, 5S) -6.
-(2,4-dimethoxybenzyl) -2-methyl-4-
Hydroxy-7-oxo-3-oxa-6-azabicyclo [3.2.0] heptane (500 mg) or the compound of Example 15 was dissolved in a solution of benzyl alcohol saturated with hydrochloric acid under ice cooling and allowed to stand at room temperature overnight. It was diluted with ethyl acetate, washed with aqueous sodium hydrogen carbonate, and dried over magnesium sulfate. After filtration and concentration, the product was purified by silica gel column chromatography. Ethyl acetate-cyclohexane (1:
Elution was performed in 2) to obtain 507 mg of the target compound. Further, 311 mg of α-isomer was obtained from the following fraction.
[β−異性体] 赤外吸収スペクトル νmax(フィルム) 3330,1730,1610,1585cm-1 マススペクトル m/z:491(M+),400,354,220,206,167,
151,121,91 元素分析値(C29H33O6Nとして) 計算値:C:70.85,H:6.77,N:2.85 実測値:C:70.75,H:7.00,N:2.80 NMRスペクトル(60MHz)(CDCl3) δ 1.34(3H,d,J=6.5Hz),1.83(1H,s),3.12(1H,dd,J=
6.0,9.0Hz),3.52(1H,d,J=6.0Hz),3.68(3H,s),3.7
4(3H,s),3.68-3.74(2H,m),4.35,4.72(2H,AB-q,J=
12.0Hz),4.4-4.8(1H,m),4.89(1H,s),5.13(2H,
s),6.25-6.4(2H,m),7.05(1H,d,J=9.0Hz),7.28(5
H,s),7.30(5H,s) [α−異性体] 赤外吸収スペクトル νmax(フィルム) 3350,1730,1613,1588cm-1 マススペクトル m/z:491(M+),400,354,220,206,167,
151,121,91 NMRスペクトル(60MHz)(CDCl3) δ 1.27(3H,d,J=6.0Hz),2.10(1H,s),2.82(1H,dd,J=
7.0,10.0Hz),3.58(1H,dd,J=7.0,4.0Hz),3.59(3H,
s),3.68(2H,s),3.78(3H,s),4.30,4.73(2H,AB-q,J
=12.0Hz),4.52(1H,m),4.88(1H,d,J=4.0Hz),5.11
(2H,s),6.2-6.5(2H,m),7.06(1H,d,J=9.0Hz),7.3
2(10H,s) 実施例18 ベンジル 2、3、5−トリデオキシ−2−アミノ−3
−C−ベンジルオキシカルボニル−β−D−リボフラノ
シド 実施例17の化合物453mgをアセトン12mlに溶解しこれに
セリックアンモニウムナイトライト1.5gの水8mlの水溶
液を加えた。5分間攪拌した後、酢酸エチルで希釈し、
炭酸水素ナトリウム水で洗い、硫酸マグネシウムにて乾
燥した。瀘過、濃縮した後、残る油状物をアセトン5ml
に溶解し、1規定塩酸5mlを加え、3時間攪拌した。ア
セトンを減圧下留去し水6mlを加えエーテルにて洗い、
残った水層を炭酸水素ナトリウムでアルカリ性とした。
酢酸エチルで抽出し、硫酸マグネシウムにて乾燥した。
瀘過、濃縮すると、目的化合物144mgが得られた。[Β-isomer] Infrared absorption spectrum ν max (Film) 3330,1730,1610,1585cm-1 Mass spectrum m / z: 491 (M + ), 400,354,220,206,167,
151,121,91 Elemental analysis value (as C 29 H 33 O 6 N) Calculated value: C: 70.85, H: 6.77, N: 2.85 Measured value: C: 70.75, H: 7.00, N: 2.80 NMR spectrum (60MHz) ( CDCl 3 ) δ 1.34 (3H, d, J = 6.5Hz), 1.83 (1H, s), 3.12 (1H, dd, J =
6.0,9.0Hz), 3.52 (1H, d, J = 6.0Hz), 3.68 (3H, s), 3.7
4 (3H, s), 3.68-3.74 (2H, m), 4.35,4.72 (2H, AB-q, J =
12.0Hz), 4.4-4.8 (1H, m), 4.89 (1H, s), 5.13 (2H,
s), 6.25-6.4 (2H, m), 7.05 (1H, d, J = 9.0Hz), 7.28 (5
H, s), 7.30 (5H, s) [α-isomer] Infrared absorption spectrum ν max (film) 3350,1730,1613,1588cm-1 Mass spectrum m / z: 491 (M + ), 400,354,220,206,167,
151,121,91 NMR spectrum (60MHz) (CDCl 3 ) δ 1.27 (3H, d, J = 6.0Hz), 2.10 (1H, s), 2.82 (1H, dd, J =
7.0,10.0Hz), 3.58 (1H, dd, J = 7.0,4.0Hz), 3.59 (3H,
s), 3.68 (2H, s), 3.78 (3H, s), 4.30,4.73 (2H, AB-q, J
= 12.0Hz), 4.52 (1H, m), 4.88 (1H, d, J = 4.0Hz), 5.11
(2H, s), 6.2-6.5 (2H, m), 7.06 (1H, d, J = 9.0Hz), 7.3
2 (10H, s) Example 18 Benzyl 2,3,5-trideoxy-2-amino-3
-C-benzyloxycarbonyl-β-D-ribofuranoside 453 mg of the compound of Example 17 was dissolved in 12 ml of acetone, and an aqueous solution of 1.5 g of ceric ammonium nitrite in 8 ml of water was added thereto. After stirring for 5 minutes, dilute with ethyl acetate,
It was washed with aqueous sodium hydrogen carbonate and dried over magnesium sulfate. After filtering and concentrating, the remaining oily substance is washed with 5 ml of acetone.
The resulting mixture was dissolved in, and 5 ml of 1N hydrochloric acid was added, and the mixture was stirred for 3 hours. Acetone was distilled off under reduced pressure, 6 ml of water was added and washed with ether,
The remaining aqueous layer was made alkaline with sodium hydrogen carbonate.
It was extracted with ethyl acetate and dried over magnesium sulfate.
After filtration and concentration, 144 mg of the desired compound was obtained.
赤外吸収スペクトル νmax(フィルム) 1733cm-1 マススペクトル m/z:341(M+),234,218,204,186,114 NMRスペクトル(60MHz)(CDCl3) δ 1.30(2H,bs),1.39(3H,d,J=6.0Hz),3.13(1H,dd,J
=5.5,9.0Hz),3.69(1H,d,J=5.5Hz),4.43,4.78(2H,
AB-q,J=12.0Hz),4.4-4.9(1H,m),4.85(1H,s),5.18
(2H,s),7.34(5H,s),7.36(5H,s) 実施例19 ベンジル 2、3、5−トリデオキシ−2−アミノ−3
−C−ベンジルオキシカルボニル−α−D−リボフラノ
シド 実施例17のα−異性体600mgを実施例18と同様に処理す
ると目的化合物320mgを得た。NMRスペクトル(60MHz)
(CDCl3) δ 1.30(3H,d,J=6.0Hz),1.52(2H,s),2.75(1H,dd,J=
8.0,9.5Hz),3.84(1H,dd,J=4.5,9.5Hz),4.49,4.84
(2H,AB-q,J=11.5Hz),4.66(1H,dq,J=6.0,8.0Hz),
5.05(1H,d,J=4.5Hz),5.15(2H,s),7.35(10H,s) 実施例20 ベンジル 2、3、5−トリデオキシ−2−アセトアミ
ド−3−C−(ベンジルオキシカルボニル)−β−D−
リボフラノシド 実施例18の化合物を常法に従い、無水酢酸−ピリジン
(1:2)にてアセチル化し、シリカゲルカラムクロマト
グラフィーにて精製すると、定量的に目的化合物が得ら
れた。Infrared absorption spectrum ν max (film) 1733 cm-1 Mass spectrum m / z: 341 (M + ), 234,218,204,186,114 NMR spectrum (60 MHz) (CDCl 3 ) δ 1.30 (2H, bs), 1.39 (3H, d, J = 6.0Hz), 3.13 (1H, dd, J
= 5.5, 9.0Hz), 3.69 (1H, d, J = 5.5Hz), 4.43, 4.78 (2H,
AB-q, J = 12.0Hz), 4.4-4.9 (1H, m), 4.85 (1H, s), 5.18
(2H, s), 7.34 (5H, s), 7.36 (5H, s) Example 19 Benzyl 2,3,5-trideoxy-2-amino-3
-C-benzyloxycarbonyl-α-D-ribofuranoside When 600 mg of the α-isomer of Example 17 was treated in the same manner as in Example 18, 320 mg of the target compound was obtained. NMR spectrum (60MHz)
(CDCl 3 ) δ 1.30 (3H, d, J = 6.0Hz), 1.52 (2H, s), 2.75 (1H, dd, J =
8.0,9.5Hz), 3.84 (1H, dd, J = 4.5,9.5Hz), 4.49,4.84
(2H, AB-q, J = 11.5Hz), 4.66 (1H, dq, J = 6.0,8.0Hz),
5.05 (1H, d, J = 4.5Hz), 5.15 (2H, s), 7.35 (10H, s) Example 20 Benzyl 2,3,5-trideoxy-2-acetamido-3-C- (benzyloxycarbonyl) -Β-D-
Ribofuranoside The compound of Example 18 was acetylated with acetic anhydride-pyridine (1: 2) and purified by silica gel column chromatography according to a conventional method to quantitatively obtain the target compound.
融点 144-145℃ (酢酸エチル−シクロヘキサン) 赤外吸収スペクトル νmax(ヌジョール) 3270,1728,1652cm-1 マススペクトル m/z:383(M+),368,324、292,277,24
6,204,188 [α]D 24−74.4°(C=1.03,エタノール) NMRスペクトル(60MHz)(CDCl3) δ 1.37(3H,d,J=6.0Hz),1.83(3H,s),3.28(1H,dd,J=
6.0,9.0Hz),4.45,4.75(2H,AB-q,J=12.0Hz),4.66(1
H,d,J=6.0Hz),4.4-4.8(1H,m),4.96(1H,s),5.12
(2H,s),5.91(1H,bs),7.34(5H,s),7.37(5H,s) 実施例21 ベンジル 2、3、5−トリデオキシ−2−アミノ−3
−C−カルボキシ−α−D−リボフラノシド 実施例19の化合物27mgのエタノール2ml溶液に0.1規定水
酸化ナトリウム1mlを加え、室温にて一夜放置した。1
規定塩酸0.2mlを加え、減圧下濃縮した。エタノール1ml
を加え、塩酸塩を溶解し、塩化ナトリウムを瀘去した。
瀘液にトリエチルアミン30mgを加え、減圧下濃縮した。
メチレンクロリド2mlを加え、トリエチルアミンの塩酸
塩を溶解した。残った不溶物をデカンテーションにより
得た。デカンテーションを数回繰り返すと、粉状の目的
化合物8mgが得られた。Melting point 144-145 ° C (Ethyl acetate-cyclohexane) Infrared absorption spectrum ν max (Nujol) 3270,1728,1652cm-1 Mass spectrum m / z: 383 (M + ), 368,324,292,277,24
6,204,188 [α] D 24 −74.4 ° (C = 1.03, ethanol) NMR spectrum (60 MHz) (CDCl 3 ) δ 1.37 (3H, d, J = 6.0Hz), 1.83 (3H, s), 3.28 (1H, dd) , J =
6.0,9.0Hz), 4.45, 4.75 (2H, AB-q, J = 12.0Hz), 4.66 (1
H, d, J = 6.0Hz), 4.4-4.8 (1H, m), 4.96 (1H, s), 5.12
(2H, s), 5.91 (1H, bs), 7.34 (5H, s), 7.37 (5H, s) Example 21 Benzyl 2,3,5-trideoxy-2-amino-3
-C-carboxy-α-D-ribofuranoside To a solution of the compound of Example 19 (27 mg) in ethanol (2 ml) was added 0.1 N sodium hydroxide (1 ml), and the mixture was allowed to stand at room temperature overnight. 1
0.2 ml of normal hydrochloric acid was added, and the mixture was concentrated under reduced pressure. 1 ml of ethanol
Was added to dissolve the hydrochloride, and sodium chloride was removed by filtration.
30 mg of triethylamine was added to the filtrate, and the mixture was concentrated under reduced pressure.
2 ml of methylene chloride was added to dissolve the triethylamine hydrochloride. The remaining insoluble matter was obtained by decantation. The decantation was repeated several times to obtain 8 mg of the target compound in powder form.
NMRスペクトル(60MHz)(D2O) δ 1.33(3H,d,J=6.0Hz),2.73(1H,dd,J=7.5,9.0Hz),
4.00(1H,dd,J=5.0,9.0Hz),4.2-4.7(1H,m),4.53,4.
79(2H,AB-q,J=12.0Hz),5.37(1H,d,J=5.0Hz),7.39
(5H,s)NMR spectrum (60 MHz) (D 2 O) δ 1.33 (3H, d, J = 6.0Hz), 2.73 (1H, dd, J = 7.5,9.0Hz),
4.00 (1H, dd, J = 5.0,9.0Hz), 4.2-4.7 (1H, m), 4.53,4.
79 (2H, AB-q, J = 12.0Hz), 5.37 (1H, d, J = 5.0Hz), 7.39
(5H, s)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07H 15/18 // A61K 31/34 ADZ 31/395 31/70 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI Technical indication C07H 15/18 // A61K 31/34 ADZ 31/395 31/70
Claims (1)
選択された水酸基の保護基、下記(水酸基置換基群)か
ら選択された水酸基の置換基を示し、R2又はR3は同一又
は異なって、水素原子、下記(アミノ基保護基群)から
選択されたアミノ基の保護基又は下記(アミノ基置換基
群)から選択されたアミノ基の置換基を示し、R4は式−
COR6(式中、R6は、水素原子、低級アルキル基、下記
(水酸基保護基群)から選択された基で保護されていて
もよい水酸基、下記(水酸基置換基群)から選択された
基で置換された水酸基、下記(メルカプト保護群)から
選択された基で保護されていてもよいメルカプト基、下
記(メルカプト置換基群)より選択された基で置換され
たメルカプト基又は一般式−NR2R3を示す。)又は式−C
H2OR1(式中、R1は、前記と同意義を示す。)を示し、R
5は、水素原子、低級アルキル基、アリール基、アリル
基、ビニル基又は (式中、R8は、R1と同様の基を示し、R7は下記(ジオー
ル保護基群)から選択されたジオールの保護基を示
す。)を示し、又は、R4、R5は一緒になって、 (式中、R9は、R1と同様の基を示す。)を示す。但し、
2位置換基NR2R3と3位置換基R4の配位は、シス配位を
有する。 (水酸基保護基群) 脂肪族アシル基;アラルキル基 (水酸基置換基群) 低級アルキル基;アリル基 (アミノ基保護基群) 脂肪族アシル基;芳香族アシル基;アラルキル基 (アミノ基置換基群) 低級アルキル基;ビニル基 (メルカプト基保護基群) アルキルカルボニル基;芳香族アシル基 (メルカプト基置換基群) 低級アルキル基;アリール基 (ジオール保護基群) 低級アルキリデン基;アラルキリデン基]を有する2−
アミノホモフラノサイド類及びその薬理学上許容される
塩。1. A general formula [In the formula, R 1 represents a hydrogen atom, a hydroxyl group protecting group selected from the following (hydroxyl group protecting group), a hydroxyl group substituent selected from the following (hydroxyl group group), R 2 or R 3 Are the same or different and represent a hydrogen atom, an amino group protecting group selected from the following (amino group protecting group) or an amino group substituent selected from the following (amino group substituent group), and R 4 is Expression −
COR 6 (in the formula, R 6 is a hydrogen atom, a lower alkyl group, a hydroxyl group optionally protected by a group selected from the following (hydroxyl group protecting group), a group selected from the following (hydroxyl group) A hydroxyl group substituted with, a mercapto group which may be protected by a group selected from the following (mercapto protection group), a mercapto group substituted with a group selected from the following (mercapto substituent group) or a general formula -NR 2 R 3 )) or formula -C
H 2 OR 1 (wherein R 1 has the same meaning as described above), and R 2
5 is a hydrogen atom, a lower alkyl group, an aryl group, an allyl group, a vinyl group or (In the formula, R 8 represents a group similar to R 1 , R 7 represents a diol protecting group selected from the following (diol protecting group group)), or R 4 and R 5 represent Together, (In the formula, R 9 represents the same group as R 1. ) However,
The coordination of the 2-position substituent NR 2 R 3 and the 3-position substituent R 4 has a cis coordination. (Hydroxyl protecting group) Aliphatic acyl group; Aralkyl group (Hydroxyl substituent group) Lower alkyl group; Allyl group (Amino group protecting group) Aliphatic acyl group; Aromatic acyl group; Aralkyl group (Amino group substituent group) A) lower alkyl group; vinyl group (mercapto group protecting group) alkylcarbonyl group; aromatic acyl group (mercapto group substituent group) lower alkyl group; aryl group (diol protecting group) lower alkylidene group; aralkylidene group] 2-
Aminohomofuranosides and pharmacologically acceptable salts thereof.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61297945A JPH07116172B2 (en) | 1986-12-15 | 1986-12-15 | 2-amino-3-homofuranosides |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61297945A JPH07116172B2 (en) | 1986-12-15 | 1986-12-15 | 2-amino-3-homofuranosides |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63150271A JPS63150271A (en) | 1988-06-22 |
| JPH07116172B2 true JPH07116172B2 (en) | 1995-12-13 |
Family
ID=17853123
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|---|---|---|---|
| JP61297945A Expired - Lifetime JPH07116172B2 (en) | 1986-12-15 | 1986-12-15 | 2-amino-3-homofuranosides |
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|---|---|
| JP (1) | JPH07116172B2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4134758A1 (en) * | 1991-10-22 | 1993-04-29 | Bayer Ag | NEW SUBSTITUTED TETRAHYDROFURANE, METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF AND THEIR USE AS A MEDICINAL PRODUCT |
-
1986
- 1986-12-15 JP JP61297945A patent/JPH07116172B2/en not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (2)
| Title |
|---|
| Bull.Chem.Soc.Jpn.,55(10),3254−6(1982) |
| CarbohydrateResearch,126(1),45−60(1984) |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63150271A (en) | 1988-06-22 |
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