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JPH07116200B2 - セファロスポリンの製造方法 - Google Patents
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JPH07116200B2 - セファロスポリンの製造方法 - Google Patents

セファロスポリンの製造方法

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JPH07116200B2
JPH07116200B2 JP60206231A JP20623185A JPH07116200B2 JP H07116200 B2 JPH07116200 B2 JP H07116200B2 JP 60206231 A JP60206231 A JP 60206231A JP 20623185 A JP20623185 A JP 20623185A JP H07116200 B2 JPH07116200 B2 JP H07116200B2
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太喜広 稲葉
純一 吉田
収 吉野
隆恒 竹野
俊太郎 高野
勇 才川
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、次の化学式 で表わされる化合物(シン異性体)またはその塩を工業
的に高収率かつ高純度で製造する方法に関する。
[従来の技術] 優れた抗菌スペクトルを有し、グラム陽性菌およびグラ
ム陰性菌に優れた抗菌活性を示す抗菌剤として有用な化
学式[IV]で表わされる化合物(シン異性体)およびそ
の塩並びにその製造法は、特開昭57-99592号に開示され
ている。
[発明が解決しようとする問題点] しかしながら、これを工業的に実施するには、さらに優
れた製造方法が求められていた。
[問題を解決するための手段] 本発明者らは、上記問題点を解決すべく鋭意研究を重ね
た結果、一般式 [式中、Xはハロゲン原子を表わす。] で表わされる化合物(シン異性体)またはその塩と化学
で表わされる化合物もしくはその塩またはそれらの反応
性誘導体とを反応させた後、脱水反応に付し、ついで、
ジオキサンで処理して化学式[III]で表わされる化合
物(シン異性体)を単離し、ついで、このものからジオ
キサンを脱離すれば、化学式[IV]で表わされる化合物
(シン異性体)またはその塩が高収率でかつ高純度に得
られること、さらに化学式[III] で表わされるジオキサン付加化合物(シン化合物)が上
記製造法の中間体として有用であることを見出し、本発
明を完成するに至った。
以下、本発明を詳細に説明する。
式[I]、[II]、[IV]または[V]で表わされる化
合物の塩としては、従来ペニシリンおよびセファロスポ
リン系化合物の分野で周知の塩基性基または酸性基にお
ける塩が挙げられる。塩基性基における塩としては、た
とえば、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硝酸、硫酸
などの鉱酸との塩;シュウ酸、コハク酸、ギ酸、トリク
ロロ酢酸、トリフルオロ酢酸などの有機カルボン酸との
塩;メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、ベンゼンス
ルホン酸、トルエン−2−スルホン酸、トルエン−4−
スルホン酸、メシチレンスルホン酸、(2,4,6−トリメ
チルベンゼンスルホン酸)などのスルホン酸との塩が挙
げられ、また酸性基における塩としては、たとえば、ナ
トリウム、カリウムなどのアルカリ金属との塩;カルシ
ウム、マグネシウムなどのアルカリ土類金属との塩;ア
ンモニウム塩;トリエチルアミン、トリメチルアミン、
アニリン、N,N−ジメチルアニリン、ピリジン、ジシク
ロヘキシルアミンなどの含窒素有機塩基との塩が挙げら
れる。
つぎに、本発明方法の実施態様について説明する。この
発明の製造法を示せば、つぎの通りである。
なお、式中、Xはハロゲン原子を表わす。
(1)アシル化 化学式[V]で表わされる化合物(シン異性体)または
その塩は、一般式[I]で表わされる化合物(シン異性
体)またはその塩と化学式[II]で表わされる化合物ま
たはその塩とを溶媒中、塩基の存在下または不存在下、
反応させることにより得ることができる。この反応に用
いられる溶媒としては、反応に悪影響を与えない限りい
かなるものでもよく、たとえば、水、アセトン、ジオキ
サン、アセトニトリル、クロロホルム、塩化メチレン、
塩化エチレン、テトラヒドロフラン、酢酸メチル、酢酸
エチル、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルア
セトアミド、エチレングリコールモノメチルエーテル、
エチレングリコールジメチルエーテル、ジメチルスルホ
キシド、スルホランなどの溶媒またはこれらの溶媒を二
種以上混合したものが挙げられる。この反応に用いられ
る塩基としては、アルカリ金属の水酸化物、炭酸水素塩
もしくは炭酸塩などの無機塩基またはトリメチルアミ
ン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、
メチルピリジン、N−メチルモルホリン、ルチジン、コ
リジンなどの第三級アミンが挙げられる。また化学式
[II]で表わされる化合物はそのアミノ基および/また
はカルボキシル基における反応性誘導体として使用する
こともでき、その反応性誘導体としては、たとえば、化
学式[II]で表わされる化合物とビス(トリメチルシリ
ル)アセトアミド、トリメチルシリルアセトアミド、ト
リメチルシリルクロリドなどのシリル化合物、三塩化リ
ン、 (CH3CH2)2PClなどのリン化合物または(C4H9)2SnClなど
のスズ化合物との反応により生成するシリル誘導体、リ
ン誘導体またはスズ誘導体など当該分野におけるアシル
化において繁用されるものが挙げられる。一般式[I]
で表される化合物(シン異性体)またはその塩の使用量
は、化学式[II]で表わされる化合物もしくはその塩ま
たはそれらの反応性誘導体に対して約1.0〜1.5倍モルで
ある。この反応は、通常−35℃〜25℃で、数分〜数時間
実施すればよい。
(2)脱水反応 ついで、アシル化により得られた化学式[V]で表わさ
れる化合物(シン異性体)またはその塩を、酸の存在下
または不存在下、脱水反応に付すことにより化学式[I
V]で表わされる化合物(シン異性体)またはその塩を
得ることができる。この反応は、好ましくは、溶媒中で
行われ、溶媒としては、反応に悪影響を与えない限りい
かなるものでもよく、たとえば、メタノール、エタノー
ル、アセトン、アセトニトリル、ニトロメタン、酢酸メ
チル、酢酸エチル、クロロホルム、塩化メチレン、テト
ラヒドロフラン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジ
メチルアセトアミドなどの溶媒、これらの溶媒を二種以
上混合したものまたは水とこれらの溶媒を二種以上混合
したものが挙げられる。この反応に用いられる酸として
は、たとえば、塩酸、臭化水素酸、p−トルエンスルホ
ン酸、メシチレンスルホン酸などのプロトン酸;三弗化
硼素、塩化アルミニウム、塩化亜鉛などのルイス酸;三
弗化硼素・ジエチルエーテルなどのルイス酸の錯化合物
などが挙げられる。使用する溶媒が非水溶媒である場合
には、反応系内に適当な脱水剤、たとえば、無水硫酸マ
グネシウムまたはモレキュラーシーブなどを添加しても
よい。この反応は0℃〜30℃で、数分〜数時間実施すれ
ばよい。
(3)ジオキサン付加体の生成 化学式[IV]で表わされる化合物(シン異性体)または
その塩を、溶媒の存在下または不存在下、ジオキサンで
処理することにより化学式[III]で表わされる化合物
(シン異性体)を得ることができる。溶媒としては、特
に限定されないが、たとえば、水とアセトニトリルなど
の親水性有機溶媒との混合溶媒が挙げられる。ここで使
用されるジオキサンの量は、化学式[IV]で表わされる
化合物(シン異性体)またはその塩に対して1〜10倍モ
ルである。この処理は酸性下で行うことが好ましく、最
適にはpH2.5〜3.0である。また、この処理は15℃〜30℃
で、10分〜10時間実施すればよい。
(4)ジオキサンの脱離 化学式[III]で表わされる化合物(シン異性体)のジ
オキサンを脱離する方法としては、酸・塩基処理、溶媒
処理などを単独または組み合わせて使用する方法が挙げ
られ、具体的には、(i)化学式[III]で表わされる
化合物(シン異性体)を塩基を用いて常法により塩に変
換した後、クロロホルム、塩化メチレン、酢酸エチルな
どの有機溶媒でジオキサンを抽出除去し、pH2.5〜3.0で
アセトンを加えアセトン付加体を得、ついでこのものを
メタノールで処理する方法、(ii)化学式[III]で表
わされる化合物(シン異性体)を酸(たとえば、塩酸な
ど)−有機溶媒の系にて処理し、酸付加塩(たとえば、
塩酸塩など)とした後、このものをアルコールもしくは
含水アルコールに溶解または懸濁させ、しかる後、脱酸
剤、たとえば、トリエチルアミン、ピリジン、プロピレ
ンオキサイドと反応させる方法、(iii)酸・塩基処理
を行う方法などがある。
(i)において用いられる塩基としては、アルカリ金属
の水酸化物、炭酸塩もしくは炭酸水素塩などの無機塩基
またはトリエチルアミン、ピリジンなどの有機塩基が挙
げられる。(ii)で用いられる有機溶媒としては、反応
に悪影響を与えない限りいかなるものでもよく、たとえ
ば、アセトン、アセトニトリル、エタノールなどが挙げ
られる。(iii)で用いられる酸としては、塩酸、硫酸
などが挙げられ、また塩基としては、(i)と同様な無
機または有機の塩基が挙げられる。
つぎに、原料として用いられる一般式[I]の化合物
(シン異性体)またはその塩の製造法について説明す
る。
これらの化合物は、たとえば、つぎに示す製造法によっ
て容易に製造することができる。さらに、具体的には、
特開昭60-199894号記載の方法で製造することができ
る。
なお、式中、Xはハロゲン原子を表わす。
[発明の効果] かくして、本発明の方法を実施することにより、化学式
[IV]で表わされる化合物(シン異性体)またはその塩
を工業的に高収率でかつ高純度に得ることができる。
[実施例] つぎに、本発明を参考例および実施例を挙げて説明する
が、本発明はこれに限定されるものではない。
参考例1 (1)水330mlに亜硝酸ナトリウム38.0gおよび3−オキ
ソチオ酪酸−S−メチルエステル66.1gを加え、5〜8
℃で撹拌下に4N−硫酸210mlを30分を要して滴下する。
滴下終了後、同温度で30分間反応させた後、反応液を酢
酸エチル500ml中に導入する。有機層を分取し、水500ml
で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧
下に溶媒を留去する。得られた残留物を炭酸ナトリウム
106gを含む水溶液650mlに溶解させた後、メタノール150
mlを加える。この溶液にジメチル硫酸75.7gを15〜20℃
で滴下した後、同温度で2時間反応させる。ついで、反
応液を酢酸エチル1中に導入した後、有機層を分取
し、水300mlで洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物を減
圧蒸留すれば、沸点80〜86℃/2mmHgを示す2−メトキシ
イミノ−3−オキソチオ酪酸−S−メチルエステル(シ
ンおよびアンチ体の混合物)60.4g(収率68.9%)を得
る。
(2)2−メトキシイミノ−3−オキソチオ酪酸−S−
メチルエステル(シンおよびアンチ体の混合物)10.0g
を1,4−ジオキサン150mlに溶解させ、ピリジニウムハイ
ドロブロマイド・パーブロマイド20.1gを加えて、室温
で4時間反応させる。ついで、減圧下に溶媒を留去し、
得られた残留物に酢酸エチル100mlおよび水100mlを加え
る。有機層を分取し、5%亜硫酸水素ナトリウム水溶液
100ml、水100mlおよび飽和食塩水100mlで順次洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒
を留去すれば、4−ブロモ−2−メトキシイミノ−3−
オキソチオ酪酸−S−メチルエステル(シンおよびアン
チ体の混合物)11.6g(収率80.0%)を得る。
(3)(i)4−ブロモ−2−メトキシイミノ−3−オ
キソチオ酪酸−S−メチルエステル(シンおよびアンチ
混合物)50.0gをアセトン250mlに溶解させ、−25〜−20
℃でチオ尿素7.5gを1時間を要して加える。同温度で2
時間反応させ、析出晶を濾取した後、アセトン50mlで洗
浄すれば、2−(2−アミノ−4−ヒドロキシ−2−チ
アゾリン−4−イル)−2−(シン)−メトキシイミノ
チオ酢酸−S−メチルエステルの臭化水素酸30.9g(収
率47.5%)を得る。
IR(KBr)cm-1;νC=O1650 (ii)上の(i)で得られた濾液を減圧下に濃縮し、得
られた残留物を酢酸エチル200mlに溶解させる。つい
で、水200mlで洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥する。0〜5℃で乾燥塩化水素2.0gを導入し、室温で
5時間反応させた後、水100mlで2回洗浄し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、得ら
れた残留物をアセトン120mlに溶解させ、−25〜−20℃
でチオ尿素3.0gを1時間を要して加える。同温度で2時
間反応させ、析出晶を濾取し、アセトン20mlで洗浄すれ
ば、2−(2−アミノ−4−ヒドロキシ−2−チアゾリ
ン−4−イル)−2−(シン)−メトキシイミノチオ酢
酸−S−メチルエステルの臭化水素酸塩10.1g(収率15.
5%)を得る。
IR(KBr)cm-1;νC=O1650 (4)2−(2−アミノ−4−ヒドロキシ−2−チアゾ
リン−4−イル)−2−(シン)−メトキシイミノチオ
酢酸−S−メチルエステルの臭化水素酸塩20.0gを無水
塩化メチレン100mlに懸濁させ、0〜5℃で塩素8.6gを
含む無水塩化メチレン溶液100mlを10分を要して滴下す
る。ついで、同温度で30分間反応させた後、析出晶を濾
取し、無水塩化メチレン20mlで2回洗浄すれば、融点12
0〜122℃(分解)を示す2−(2−アミノ−4−ヒドロ
キシ−2−チアゾリン−4−イル)−2−(シン)−メ
トキシイミノ酢酸クロリドの臭化水素酸塩14.6g(収率7
5.7%)を得る。
IR(KBr)cm-1;νC=O1780 実施例1 7β−アミノ−3−[(5−メチル−2H−テトラゾール
−2−イル)メチル]−Δ3−セフェム−4−カルボン
酸10.00gを無水塩化メチレン100mlに懸濁させ、0〜5
℃でトリメチルシリルクロリド9.16gを加え、さらに、
同温度でトリエチルアミン8.53gを30分を要して滴下
し、同温度で1時間反応させる。反応液を−30℃に冷却
し、2−(2−アミノ−4−ヒドロキシ−2−チアゾリ
ン−4−イル)−2−(シン)−メトキシイミノ酢酸ク
ロリドの臭化水素酸塩12.87gを−30〜−20℃で10分を要
して加えた後、0〜5℃で1.5時間反応させる。つい
で、水50mlを加えて水層を分取した後、アセトニトリル
50mlを加える。炭酸ナトリウムでpH2.7に調整し、不溶
物を濾別した後、濾液にジオキサン16mlを加え、23〜27
℃で1時間、さらに18〜22℃で1時間攪拌する。得られ
た結晶を濾取すれば、融点183〜185℃(分解)を示す7
β−[(Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−メトキシイミノアセトアミド]−3−[(5
−メチル−2H−テトラゾール−2−イル)メチル]−Δ
3−セフェム−4−カルボン酸のジオキサン付加体15.15
g(収率79.2%)を得る。
IR(KBr)cm-1;νC=O1770,1675〜1610 NMR(d‐DMSO)δ値; 2.47(3H,s,−CH3),3.46(2H,bs,C2−H),3.58(8H,
s, ),3.86(3H,s,−OCH3),5.15(1H,d,J=5Hz,C6−H),
5.64(2H,bs,C3−CH2),5.83(1H,dd,J=5Hz,8Hz,C7
H),6.74(1H,s,チアゾールC5−H),7.15(3H,bs,−N
H3 ),9.59(1H,d,J=8Hz,−CONH−) 実施例2 (1)7β−[(Z)−2−(2−アミノチアゾール−
4−イル)−2−メトキシイミノアセトアミド]−3−
[(5−メチル−2H−テトラゾール−2−イル)メチ
ル]−Δ3−セフェム−4−カルボン酸のジオキサン付
加体10.00gを水25mlに懸濁させ、18〜22℃で炭酸水素ナ
トリウム1.48gを10分を要して添加して溶解させる。つ
いで、塩化メチレン50mlを加えて10分間攪拌した後、水
層を分取する。再び塩化メチレン50mlを加えて10分間攪
拌した後、水層を分取する。ついで、アセトン38mlを加
えて2N−塩酸でpH5.0に調整し、活性炭500mgを添加して
10分間攪拌した後、セライト濾過する。濾滓をアセトン
7mlおよび水5mlの混合溶媒で洗浄し、濾液を23〜27℃で
2N−塩酸でpH2.7に調整した後、同温度で30分間、さら
に18〜22℃で30分間攪拌する。得られた結晶を濾過し、
50%アセトン5mlおよび水15mlで2回ずつ順次洗浄した
後乾燥すれば、融点149〜153℃(分解)を示す7β−
[(Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−
2−メトキシイミノアセトアミド]−3−[(5−メチ
ル−2H−テトラゾール−2−イル)メチル]−Δ3−セ
フェム−4−カルボン酸の1/4アセトン付加体6.86g(収
率78.9%)を得る。
IR(KBr)cm-1;νC=O1770,1690〜1610 NMR(d‐DMSO)δ値; 2.09(1.5H,s,1/4アセトン),2.47(3H,s,−CH3),3.46
(2H,bs,C2−H),3.85(3H,s,−OCH3),5.15(1H,d,J
=5Hz,C6−H),5.41(3H,bs,−NH3 ),5.64(2H,bs,C
3−CH2),5.81(1H,dd,J=5Hz,8Hz,C7−H),6.71(1H,
s,チアゾールC5−H),9.64(1H,d,J=8Hz,−CONH−) (2)(1)で得られた7β−[(Z)−2−(2−ア
ミノチアゾール−4−イル)−2−メトキシイミノアセ
トアミド]−3−[(5−メチル−2H−テトラゾール−
2−イル)メチル]−Δ3−セフェム−4−カルボン酸
の1/4アセトン付加体5.00gをメタノール10mlに懸濁さ
せ、18〜22℃で1時間攪拌する。得られた結晶を濾取
し、メタノール3.8mlで洗浄した後乾燥すれば、7β−
[(Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−
2−メトキシイミノアセトアミド]−3−[(5−メチ
ル−2H−テトラゾール−2−イル)メチル]−Δ3−セ
フェム−4−カルボン酸4.00g(収率82.3%)を得る。
NMR(d‐DMSO)δ値; 2.57(3H,s,−CH3),3.47(2H,bs,C2−H),3.86(3H,
s,−OCH3),5.15(1H,d,J=5Hz,C6−H),5.65(2H,bs,
C3−CH2),5.81(1H,dd,J=5Hz,8Hz,C7−H),6.73(1
H,s,チアゾールC5−H),6.92(3H,bs,−NH3 ),9.61
(1H,d,J=8Hz,−CONH−) 実施例3 (1)7β−[(Z)−2−(2−アミノチアゾール−
4−イル)−2−メトキシイミノアセトアミド]−3−
[(5−メチル−2H−テトラゾール−2−イル)メチ
ル]−Δ3−セフェム−4−カルボン酸のジオキサン付
加体10.00gを90%エタノール30mlに懸濁させ、23〜27℃
で濃塩酸2.1mlを加えて溶解させ、活性炭1.00gを加えて
10分間攪拌する。ついで、セライト濾過し、濾滓を90%
エタノール15mlで洗浄した後、濾液に濃塩酸2.1mlを加
えて23〜27℃で5時間攪拌する。得られた結晶を濾取
し、90%エタノール5mlで洗浄し乾燥すれば、融点156〜
158℃(分解)を示す7β−[(Z)−2−(2−アミ
ノチアゾール−4−イル)−2−メトキシイミノアセト
アミド]−3−[(5−メチル−2H−テトラゾール−2
−イル)メチル]−Δ3−セフェム−4−カルボン酸の
塩酸の塩酸塩6.84g(収率75.2%)を得る。
IR(KBr)cm-1;νC=O1770,1720,1680〜1620 NMR(d‐DMSO)δ値; 2.48(3H,s,−CH3),3.61(2H,bs,C2−H),3.99(3H,
s,−OCH3),5.20(1H,d,J=5Hz,C6−H),5.68(2H,bs,
C3−CH2),5.81(1H,dd,J=5Hz,8Hz,C7−H),6.41(3
H,bs,−NH3 ),6.97(1H,s,チアゾールC5−H),9.95
(1H,d,J=8Hz,−CONH−) (2)7β−[(Z)−2−(2−アミノチアゾール−
4−イル)−2−メトキシイミノアセトアミド]−3−
[(5−メチル−2H−テトラゾール−2−イル)メチ
ル]−Δ3−セフェム−4−カルボン酸の塩酸塩5.20gを
11mlのメタノールに溶解させ、25℃でプロピレンオキサ
イド1.17gを添加した後、23〜27℃で1.5時間攪拌する。
得られた結晶を濾取し、メタノール3mlで2回洗浄し乾
燥すれば、7β−[(Z)−2−(2−アミノチアゾー
ル−4−イル)−2−メトキシイミノアセトアミド]−
3−[(5−メチル−2H−テトラゾール−2−イル)メ
チル]−Δ3−セフェム−4−カルボン酸3.61g(収率7
4.7%)を得る。
なお、この化合物の物性(NMR)は、実施例2(2)で
得られたものと一致した。
実施例4 7β−[(Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−メトキシイミノアセトアミド]−3−[(5
−メチル−2H−テトラゾール−2−イル)メチル]−Δ
3−セフェム−4−カルボン酸のジオキサン付加体3.50g
を水21mlに懸濁させ、13〜17℃で炭酸水素ナトリウム52
0mgを10分を要して加えて溶解させる。ついで、2N−塩
酸でpH2.7に調整し、同温度で10分間攪拌する。得られ
た結晶を濾取し、水5mlで2回洗浄し乾燥すれば、7β
−[(Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
−2−メトキシイミノアセトアミド]−3−[(5−メ
チル−2H−テトラゾール−2−イル)メチル]−Δ3
セフェム−4−カルボン酸2.35g(収率79.4%)を得
る。
なお、この化合物の物性(NMR)は、実施例2(2)で
得られたものと一致した。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き 審査官 弘實 謙二 (56)参考文献 特開 昭57−99592(JP,A) 特開 昭56−61388(JP,A) 特開 昭52−83574(JP,A)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一般式 [式中、Xは、ハロゲン原子を表わす。] で表わされる化合物(シン異性体)またはその塩を化学
    で表わされる化合物もしくはその塩またはそれらの反応
    性誘導体と反応させた後、脱水反応に付し、ついでジオ
    キサンで処理して化学式 で表わされるジオキサン付加化合物(シン異性体)を単
    離し、この化合物からジオキサンを脱離させることを特
    徴とするつぎの化学式 で表わされる化合物(シン異性体)またはその塩の製造
    法。
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