JPH07119682B2 - Adsorption equilibrium measurement method and adsorption equilibrium measurement device - Google Patents
Adsorption equilibrium measurement method and adsorption equilibrium measurement deviceInfo
- Publication number
- JPH07119682B2 JPH07119682B2 JP9016788A JP9016788A JPH07119682B2 JP H07119682 B2 JPH07119682 B2 JP H07119682B2 JP 9016788 A JP9016788 A JP 9016788A JP 9016788 A JP9016788 A JP 9016788A JP H07119682 B2 JPH07119682 B2 JP H07119682B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- equilibrium
- weight
- pressure
- sample
- adsorption
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、所定の温度、所定の相対蒸気圧下で試料が含
みうる溶媒の吸着量を測定するいわゆる吸着平衡の測定
に係わり、その測定方法および測定装置に関するもので
ある。上記のような吸着量を知ることは例えばたばこ製
造業者が葉たばこの水分管理を行う上で重要であり、こ
のためにたばこ葉について溶媒として水を用いた場合の
吸着平衡の測定が行われている。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a so-called adsorption equilibrium measurement for measuring an adsorption amount of a solvent that a sample may contain under a predetermined temperature and a predetermined relative vapor pressure, and a measurement method thereof. And a measuring device. It is important to know the amount of adsorption as described above, for example, for tobacco manufacturers to control the water content of leaf tobacco, and for this reason the adsorption equilibrium is measured when water is used as a solvent for tobacco leaves. .
従来この種の装置として、試料重量を測定するための計
量手段を気密容器内に収容し、この気密容器および溶媒
蒸気を所望の温度に設定するとともに容器内の圧力を検
知しながら電磁弁を開閉して所定圧の溶媒蒸気を気密容
器内に導入し、気密容器内の試料についての吸着平衡の
測定を行うようにしたものがある。As a conventional device of this type, a weighing means for measuring the weight of a sample is housed in an airtight container, the airtight container and solvent vapor are set to a desired temperature, and a solenoid valve is opened and closed while detecting the pressure in the container. Then, a solvent vapor having a predetermined pressure is introduced into the airtight container, and the adsorption equilibrium of the sample in the airtight container is measured.
吸着平衡の測定時には、たばこ葉等の試料を気密容器内
の計量手段にセットした状態で所定の温度に設定すると
ともに気密容器内を真空にして試料を乾燥し、乾燥重量
を測定してある程度の重量平衡に達した時点で乾燥を終
了する。When measuring the adsorption equilibrium, set a predetermined temperature with the sample such as tobacco leaf set in the measuring means in the airtight container and dry the sample by vacuumizing the airtight container and measuring the dry weight to a certain degree. Drying is terminated when the weight balance is reached.
試料の乾燥が終了すると、所定の温度下において気密容
器内に水蒸気等の溶媒蒸気を導入するとともに容器内の
圧力と温度から計算した相対蒸気圧が予め設定された設
定相対蒸気圧になるように制御し、試料による吸着が略
平衡状態に達した時点で試料重量、相対蒸気圧および温
度を測定してこれらの測定値と乾燥時の乾燥重量とに基
づいて吸着等温線が求められる。When the sample is dried, a solvent vapor such as water vapor is introduced into the airtight container at a predetermined temperature, and the relative vapor pressure calculated from the pressure and temperature in the container is adjusted to a preset relative vapor pressure. When the adsorption by the sample is controlled and the equilibrium state is reached, the sample weight, the relative vapor pressure and the temperature are measured, and the adsorption isotherm is obtained based on these measured values and the dry weight during drying.
第10図は従来の試料乾燥過程における試料重量の変化と
重量平衡の判断を説明する図であり、従来乾燥時の重量
平衡の判定は次のように行われる。FIG. 10 is a view for explaining changes in sample weight and determination of weight balance in the conventional sample drying process, and determination of weight balance during conventional drying is performed as follows.
乾燥開始時(Aの時点)から経過する時間を計時すると
ともに試料重量の変化を測定し、この計時時間Tdaiが予
め設定されている重量安定時間Tda内、すなわち、 Tdai<Tda で、重量変化Δwが予め設定されている許容重量Wdaに
達した場合、すなわち、 Δw=Wda となったとき(Bの時点)、計時時間Tdaiと重量変化Δ
wをリセットし、さらに、この時点から計時を開始する
とともにそのときからの重量変化Δwを測定する。The time elapsed from the start of drying (point A) is measured and the change in sample weight is measured, and this measured time T dai is within the preset weight stabilization time T da , that is, T dai <T da , When the weight change Δw reaches the preset allowable weight W da , that is, when Δw = W da (time B), the time measurement T dai and the weight change Δ
w is reset, and further, the time measurement is started from this time point and the weight change Δw from that time point is measured.
そして同様の判定を順次行い、 Tdai≧Tda、および、Δw≦Wda の条件をともに満足したとき(Gの時点)平衡状態と判
定して乾燥を終了する。Then, the same determination is sequentially performed, and when both the conditions of T dai ≧ T da and Δw ≦ W da are satisfied (at the time of G), the equilibrium state is determined and the drying is finished.
第9図は従来の制御による吸着平衡の測定過程における
容器内部の相対蒸気圧と試料重量の経時変化を示す図で
あり、先ず容器内の相対蒸気圧Pが予め設定された設定
相対蒸気圧Ps以上になるように溶媒蒸気を容器内に導入
し、試料が溶媒蒸気を吸着して相対蒸気圧Pが設定相対
蒸気圧Psまで低下すると、そのつど溶媒蒸気の導入を行
って相対蒸気圧の制御が行われる。FIG. 9 is a diagram showing changes with time in relative vapor pressure inside the container and sample weight in the process of measuring adsorption equilibrium by conventional control. First, the relative vapor pressure P inside the container is set relative to the preset relative vapor pressure P. When the solvent vapor is introduced into the container so that it becomes s or more and the sample absorbs the solvent vapor and the relative vapor pressure P decreases to the set relative vapor pressure P s , the solvent vapor is introduced each time and the relative vapor pressure P Is controlled.
一方、吸着によって試料重量は経時的に変化するが、上
記のように相対蒸気圧の制御を行っている間に試料重量
を測定し、予め設定された重量安定時間Tkaの間の試料
重量の変化が予め設定された許容量以下になった時点で
吸着が平衡に達したと判定し、そのときの温度、圧力お
よび試料重量を平衡データとして測定する。On the other hand, although the sample weight changes with time due to adsorption, the sample weight is measured while the relative vapor pressure is controlled as described above, and the sample weight during the preset weight stabilization time T ka is When the change becomes equal to or less than a preset allowable amount, it is determined that the adsorption has reached equilibrium, and the temperature, pressure and sample weight at that time are measured as equilibrium data.
そして、上記平衡データの測定を予め設定されている複
数の設定相対蒸気圧について行い、測定した平衡データ
から平衡時の相対蒸気圧と吸着量を算出して所定の温度
における試料に対する吸着等温線が求められる。なお、
吸着量と相対蒸気圧は次のように求められる。Then, the equilibrium data is measured for a plurality of preset relative vapor pressures set in advance, and the adsorption isotherm for the sample at a predetermined temperature is calculated by calculating the relative vapor pressure and the adsorption amount at equilibrium from the measured equilibrium data. Desired. In addition,
The adsorption amount and the relative vapor pressure are obtained as follows.
試料の乾燥重量をWc、吸着平衡測定時の温度をTk、この
温度Tkにおける飽和蒸気圧をQ0、平衡データとして測定
した圧力および試料重量をそれぞれQ,Wkとすると、吸着
量Mと相対蒸気圧Pkは、 M=(Wk−Wc)/Wc×100 ………(1) Pk=Q/Q0×100 ………(2) によって求められる。If the dry weight of the sample is W c , the temperature at the time of adsorption equilibrium measurement is T k , the saturated vapor pressure at this temperature T k is Q 0 , and the pressure and sample weight measured as equilibrium data are Q and W k , respectively, the adsorption amount M relative vapor pressure P k is determined by M = (W k -W c) / W c × 100 ......... (1) P k = Q / Q 0 × 100 ......... (2).
上記のような従来の方法によれば、乾燥過程においては
第10図に示した点B,C,D,E,FおよびGのように不連続な
時点で平衡の判定が行われるため、例えば点Fの前後で
重量安定時間Tdaの時間差をもつ2点E′,F′間の重量
変化Δwが許容重量Wda以内であった場合でも、その重
量平衡を検出することができず、乾燥過程に余分な時間
を要していた。According to the conventional method as described above, since the equilibrium is determined at the discontinuous points such as points B, C, D, E, F and G shown in FIG. 10 in the drying process, for example, Even if the weight change Δw between the two points E ′ and F ′ having the time difference of the weight stabilization time T da before and after the point F is within the allowable weight W da , the weight equilibrium cannot be detected and the drying is performed. The process took extra time.
また、吸着平衡の測定過程においては、設定圧に対する
相対蒸気圧の制御を行いながら重量平衡の判定を行うよ
うにしているため、試料重量が平衡に近ずいた状態で溶
媒蒸気の導入が行われると、試料重量が平衡の条件を満
足して平衡に達したと判定される場合であっても、その
ときの相対蒸気圧と吸着量の平衡が乱されて正確な平衡
データが得られないという問題があった。Further, in the process of measuring the adsorption equilibrium, since the weight equilibrium is determined while controlling the relative vapor pressure with respect to the set pressure, the solvent vapor is introduced while the sample weight is close to equilibrium. Even when it is determined that the sample weight satisfies the equilibrium condition and reaches equilibrium, the equilibrium between the relative vapor pressure and the adsorption amount at that time is disturbed and accurate equilibrium data cannot be obtained. There was a problem.
また、このために試料重量が重量平衡から外れるとさら
に平衡に達するまでに時間がかかり、平衡データの測定
に長時間を要していた。Therefore, when the sample weight deviates from the weight equilibrium, it takes time to reach equilibrium, and it takes a long time to measure equilibrium data.
本発明は、吸着平衡測定装置において、気密容器内の相
対蒸気圧が予め設定された一定時間予め設定された許容
範囲内に維持された場合、その後溶媒蒸気の導入を停止
し、その後気密容器内の相対蒸気圧の平衡を判定すると
ともに予め設定された平衡重量許容値および平衡重量安
定時間にもとづいて重量平衡を判定して吸着平衡を判定
するようにした。The present invention, in the adsorption equilibrium measuring device, when the relative vapor pressure in the airtight container is maintained within a preset allowable range for a preset period of time, after that, the introduction of the solvent vapor is stopped, and then in the airtight container. The relative equilibrium of relative vapor pressure was determined, and the adsorption equilibrium was determined by determining the weight equilibrium based on the preset equilibrium weight tolerance and the equilibrium weight stabilization time.
また、前記試料の乾燥時に、予め設定された一定時間経
過の間の試料重量の変化が予め設定された許容量以内で
あった場合に平衡と判定する判断を、試料重量のサンプ
リング周期などの予め設定された一定の周期で行って重
量平衡を検知するようにした。Further, when the sample is dried, if the change in the sample weight during a predetermined period of time is within a preset allowable amount, it is determined in advance that equilibrium is determined, such as a sampling cycle of the sample weight. The weight equilibrium was detected by carrying out at a set fixed cycle.
また、本発明による吸着平衡測定装置は、第1図に示し
たように、前記気密容器内に圧力を検出する圧力検出手
段と、前記試料の重量を検出する重量検出手段と、上記
圧力検出手段および重量検出手段で検出された圧力デー
タおよび重量データを予め設定された一定の周期でサン
プリングするデータサンプリング手段と、上記データサ
ンプリング手段によって得られた検出データをサンプリ
ング順序に対応して記憶する記憶手段と、上記記憶手段
に記憶された圧力データおよび重量データのそれぞれに
ついて、予め設定された一定時間差に対応する新旧の検
出データを読み出し、その新旧の検出データの差と予め
設定された値とを比較をする比較手段と、試料乾燥後、
前記圧力検出手段の検出データが予め設定された値以上
になるまで溶媒蒸気の導入を行い、その後上記比較手段
の比較結果に基づいて溶媒蒸気の導入と停止を制御し、
その後、上記比較手段の圧力データについての比較結果
に基づいて相対蒸気圧の平衡を判定するとともに、上記
比較手段の重量データについての比較結果に基づいて重
量平衡を判定する制御手段とを備えたことを特徴とす
る。Further, the adsorption equilibrium measuring device according to the present invention, as shown in FIG. 1, has a pressure detecting means for detecting a pressure in the airtight container, a weight detecting means for detecting the weight of the sample, and the pressure detecting means. And a data sampling means for sampling the pressure data and the weight data detected by the weight detecting means at a preset constant cycle, and a storage means for storing the detection data obtained by the data sampling means in correspondence with the sampling order. For each of the pressure data and the weight data stored in the storage means, the old and new detection data corresponding to a preset constant time difference is read out, and the difference between the old and new detection data is compared with the preset value. Comparing means and after drying the sample,
The introduction of the solvent vapor is performed until the detection data of the pressure detection means becomes a preset value or more, and then the introduction and the stop of the solvent vapor are controlled based on the comparison result of the comparison means,
After that, the control means is provided for determining the equilibrium of the relative vapor pressure based on the comparison result of the pressure data of the comparison means and determining the weight balance based on the comparison result of the weight data of the comparison means. Is characterized by.
また、本発明による吸着平衡測定装置は、前記制御手段
が前記の機能の他に、前記気密容器の排気を行い、前記
比較手段の重量データについての比較結果に基づいて重
量平衡を判定し、この判定によって重量平衡を検知する
と上記気密容器の排気を停止する機能を有するものであ
ってもよい。Further, in the adsorption equilibrium measurement apparatus according to the present invention, in addition to the function of the control means, the airtight container is evacuated, and the weight equilibrium is determined based on the comparison result of the weight data of the comparison means. It may have a function of stopping the exhaust of the airtight container when the weight balance is detected by the determination.
本発明による測定方法および測定装置によると、相対蒸
気圧の平衡の判定および重量平衡の判定が行われるとき
は、相対蒸気圧が略安定した状態になっているととも
に、その後の溶媒蒸気の導入が行われない。According to the measuring method and the measuring apparatus of the present invention, when the relative vapor pressure equilibrium determination and the weight equilibrium determination are performed, the relative vapor pressure is in a substantially stable state, and the subsequent introduction of the solvent vapor is Not done
したがって、相対蒸気圧と吸着量との平衡が維持された
状態で吸着平衡の測定が行われるため、測定時に平衡が
乱されることがなく、速やかに吸着平衡の測定が行われ
る。Therefore, since the adsorption equilibrium is measured in a state where the equilibrium between the relative vapor pressure and the adsorption amount is maintained, the equilibrium is not disturbed during the measurement, and the adsorption equilibrium is promptly measured.
また、乾燥時には、所定の重量平衡の条件が満たされた
とき即座に重量平衡が検知されるため、乾燥を要する時
間が最小限になる。Further, at the time of drying, the weight balance is immediately detected when a predetermined weight balance condition is satisfied, so that the time required for drying is minimized.
第2図は本発明実施例の吸着平衡測定装置を示す図であ
り、図において、計測手段1は真空容器10とこの真空容
器10に連通され、試料に対する溶媒蒸気の吸着および脱
着を行うためのガス吸着室11とを有し、真空容器10はス
テンレス製、ガス吸着室11は特殊耐熱性透明ガラス製で
ある。FIG. 2 is a diagram showing an adsorption equilibrium measuring apparatus according to an embodiment of the present invention. In the figure, a measuring means 1 is connected to a vacuum container 10 and this vacuum container 10 for adsorbing and desorbing a solvent vapor on a sample. The vacuum container 10 is made of stainless steel, and the gas adsorption chamber 11 is made of special heat-resistant transparent glass.
真空容器10内には、吊り芯12を介してガス吸着室11内で
吊り下げられた試料容器13の重量を測定するための電子
計算器14が収容され、この電子計算器14からの信号は測
定制御部15に入力される。試料容器13は例えば乾燥たば
こ葉からなる試料Sを収容するためのもので、石英製で
ある。また、真空容器10の内壁には、真空容器10および
ガス吸着室11内の圧力を測定する圧力検出手段としての
圧力センサ16が設けられ、この圧力センサ16からの信号
は増幅器17を介して上記測定制御部15に入力される。An electronic calculator 14 for measuring the weight of the sample container 13 suspended in the gas adsorption chamber 11 via the suspension core 12 is accommodated in the vacuum container 10, and the signal from the electronic calculator 14 is It is input to the measurement control unit 15. The sample container 13 is for containing the sample S made of, for example, dried tobacco leaves, and is made of quartz. Further, the inner wall of the vacuum container 10 is provided with a pressure sensor 16 as a pressure detecting means for measuring the pressure inside the vacuum container 10 and the gas adsorption chamber 11, and a signal from this pressure sensor 16 is output via an amplifier 17 as described above. It is input to the measurement control unit 15.
一方、ガス吸着室11の内壁には、このガス吸着室11内の
温度を測定する温度センサ18が設けられ、この温度セン
サ18は例えば白金測温抵抗体からなり、この温度センサ
18が発生する信号は増幅器19を介して上記測定制御部15
に入力される。On the other hand, on the inner wall of the gas adsorption chamber 11, a temperature sensor 18 for measuring the temperature in the gas adsorption chamber 11 is provided. The temperature sensor 18 is composed of, for example, a platinum resistance temperature detector.
The signal generated by 18 is sent to the measurement control unit 15 via the amplifier 19.
Entered in.
以上により、測定制御部15は電子計算器14、圧力センサ
16および温度センサ18からの信号に基づいて吸着温線を
自動的に測定する。Due to the above, the measurement control unit 15 is configured such that the electronic calculator 14
The adsorption temperature line is automatically measured based on the signals from 16 and the temperature sensor 18.
上記真空容器10は下部に恒温液の導入口20a、上部に恒
温液の排出口20bを有するステンレス製の真空容器格納
ケース20により囲包され、真空容器10と真空容器格納ケ
ース20との間に恒温液の流路を形成している。The vacuum container 10 is surrounded by a stainless steel vacuum container storage case 20 having a constant temperature liquid inlet 20a at the bottom and a constant temperature liquid discharge port 20b at the top, and between the vacuum container 10 and the vacuum container storage case 20. It forms a flow path for the constant temperature liquid.
一方、ガス吸着室11は下部に恒温液の導入口21a、上記
に恒温液の排出口21bを有する外管21によって囲包さ
れ、ガス吸着室11と外管21との管には恒温液の流路を形
成している。On the other hand, the gas adsorption chamber 11 is surrounded by an outer tube 21 having a constant temperature liquid inlet port 21a and a constant temperature liquid outlet port 21b in the lower part, and the gas adsorption chamber 11 and the outer pipe 21 are filled with a constant temperature liquid liquid. It forms a flow path.
また、計測手段1は上記真空容器10に導入する溶媒蒸気
のもとになる溶媒Aを収容する液溜22に連結され、この
液溜22は管路P1およびP2を介して溶媒蒸気を収容するガ
ス溜23に連結されている。Further, the measuring means 1 is connected to a liquid reservoir 22 containing the solvent A which is the source of the solvent vapor introduced into the vacuum container 10, and the liquid reservoir 22 contains the solvent vapor via the conduits P1 and P2. It is connected to the gas sump 23.
管路P1と管路P2の間には電磁弁G1が設けられ、この電磁
弁G1の開閉により液溜22で発生された溶媒蒸気をガス溜
23に供給するのを制御している。ガス溜23は、分岐管路
P3および電磁弁G2を介して真空容器10に連結されるとと
もに分岐管路P3、電磁弁G3、管路P4およびP5を介してト
ラップ24に連結され、このトラップ24は油回転ポンプ25
と共に真空排気系2を構成している。なお、管路P5に
は、圧力センサ16の較正用として用いられる水銀マノメ
ータ26が管路P6を介して連結されている。A solenoid valve G1 is provided between the pipeline P1 and the pipeline P2, and the solvent vapor generated in the liquid reservoir 22 is opened and closed by opening and closing the solenoid valve G1.
It is controlling the supply to 23. Gas reservoir 23 is a branch line
It is connected to the vacuum container 10 via P3 and a solenoid valve G2, and is also connected to a trap 24 via a branch pipe line P3, a solenoid valve G3, and pipe lines P4 and P5, and this trap 24 is an oil rotary pump 25.
Together with this, the vacuum exhaust system 2 is configured. A mercury manometer 26 used for calibration of the pressure sensor 16 is connected to the conduit P5 via a conduit P6.
上記液溜22、ガス溜23および分岐管路P3は外管27,28お
よび29によってそれぞれ囲包されている。この外管27,2
8および29はそれらの下部あるいは底部に恒温液の導入
口27a,28aおよび29aを、上記に恒温液の排出口27b,28b
および29bをそれぞれ有し、外管27,28および29と、液溜
22、ガス溜23および分岐管路P3との間に恒温液の溜路を
それぞれ形成している。The liquid reservoir 22, the gas reservoir 23 and the branch pipe line P3 are surrounded by outer pipes 27, 28 and 29, respectively. This outer tube 27,2
8 and 29 have constant temperature liquid inlets 27a, 28a and 29a at the bottom or bottom thereof, and constant temperature liquid outlets 27b, 28b above.
And 29b respectively, and the outer tubes 27, 28 and 29, and the liquid reservoir.
A constant temperature liquid reservoir is formed between the gas reservoir 23, the gas reservoir 23 and the branch pipe P3.
上記恒温液の流路に供給する所定温度の恒温液は恒温槽
30により作られ、循環ポンプ31によって各流路に対して
導入、排出されて循環される。The constant temperature liquid of a predetermined temperature supplied to the constant temperature liquid flow path is a constant temperature tank.
It is made by 30 and is introduced into and discharged from each flow path by the circulation pump 31 and is circulated.
上記外管21,27,28および29は特殊耐熱性透明ガラスによ
って二重管構造に作られ、特に、外管27,28および29は
支持金具K1〜K4によって架台32に固定されている。な
お、架台32はキャスターC1およびC2によって可搬式とな
っている。The outer tubes 21, 27, 28 and 29 are made of a special heat-resistant transparent glass to have a double tube structure, and in particular, the outer tubes 27, 28 and 29 are fixed to the pedestal 32 by the support fittings K 1 to K 4 . . The pedestal 32 is made portable by the casters C1 and C2.
上記電子計量器14は、第3図に示すように、支点14aに
ついて揺動自在にされたレバー14bを有し、このレバー1
4bの一端には上述した試料容器13が吊り芯12を介して連
結されるとともに、他端は変位センサ14cに臨まされて
いる。また、レバー14bの変位センサ14c側の一端と支点
14aとの中間部には絶縁被覆銅線をボビン上に多層巻き
したフォースコイル14dが取付けられ、このフォースコ
イル14dはマグネット14eとヨーク14fとによって形成さ
れる磁気空隙Mg間に移動自在に臨まされている。As shown in FIG. 3, the electronic weighing instrument 14 has a lever 14b which is swingable about a fulcrum 14a.
The above-described sample container 13 is connected to one end of 4b through the hanging core 12, and the other end faces the displacement sensor 14c. Also, one end of the lever 14b on the displacement sensor 14c side and the fulcrum
A force coil 14d in which an insulation-coated copper wire is wound in multiple layers on a bobbin is attached to an intermediate portion of 14a, and this force coil 14d is movably faced between a magnetic gap Mg formed by a magnet 14e and a yoke 14f. ing.
上記変位センサ14cは荷重によるレバー14bの変位を検出
し、変位信号を絶縁被覆電線L1によりケース20の外側に
設けられた計測回路14gに入力する。計測回路14gは、変
位センサ14cからの信号により変位が零となるように絶
縁被覆電線L2,L3を通じてフォースコイル14dに流す電流
を制御し、その電流値を読み取り、試料Sの重量を計測
し、この計測結果を測定制御部15に出力する。The displacement sensor 14c detects the displacement of the lever 14b due to the load, and inputs the displacement signal to the measurement circuit 14g provided outside the case 20 by the insulating covered electric wire L 1 . Measurement circuit 14g controls the current flowing through the insulation coated wire L 2, L 3 as displaced by a signal from the displacement sensor 14c becomes zero force coil 14d, reads its current value, measures the weight of the sample S Then, the measurement result is output to the measurement control unit 15.
上記絶縁被覆電線L1〜L3の被覆は疎水性ふっ素樹脂であ
る四弗化エチレン樹脂によるピンホールのないコーティ
ングによって形成されており、被覆による溶媒蒸気の吸
着をなくして測定精度を高めている。なお、コーティン
グ厚さは10μm〜1000μmの間が望ましく、特に100μ
m〜300μmが最良である。Coating of the insulation coated wire L 1 ~L 3 is increased is formed by coating without pinholes tetrafluoroethylene resin is a hydrophobic fluorine resin, the measurement accuracy by eliminating the adsorption of the solvent vapor by coating . The coating thickness should be between 10μm and 1000μm, especially 100μm.
m to 300 μm is the best.
上記計測回路14gは第4図に示すように構成され、変位
センサ14cからの変位信号は、プリアンプ141,PID制御部
142、パワーアンプ143を経て磁気空隙Mgの磁界中に置か
れたフォースコイル14dに電流を流し、変位が零に自動
的に戻される。このときフォースコイル14dに流れる電
流は変位の元になっている重量に正確に比例し、レンジ
切換部144を経てAD変換器145に入り、ディジタル化され
た後、マイコン146でコントロールスイッチ147の指令に
応じた各種の演算その他が行われ、出力端148から測定
制御部15に出力する。The measuring circuit 14g is configured as shown in FIG. 4, and the displacement signal from the displacement sensor 14c is supplied to the preamplifier 141 and the PID controller.
An electric current is passed through the force coil 14d placed in the magnetic field of the magnetic gap Mg through the power amplifier 143 and the power amplifier 143, and the displacement is automatically returned to zero. At this time, the current flowing through the force coil 14d is exactly proportional to the weight that is the source of the displacement, enters the AD converter 145 through the range switching unit 144, is digitized, and then is commanded by the control switch 147 by the microcomputer 146. Various calculations according to the above are performed, and the result is output from the output terminal 148 to the measurement control unit 15.
測定制御部15はマイクロプロセッサ、メモリ、タイマー
等から構成され、計測回路14gからの重量信号、圧力セ
ンサ16からの圧力信号、温度センサ18からの温度信号を
予め設定されたサンプリング周期で取り込んで順次メモ
リに格納するとともにこれらの入力される信号あるいは
メモリに格納したデータにより前掲の式(1),(2)
による計算等を行い、後述説明する制御ロジックにより
吸着等温線の測定を行って、その結果を例えばプリンタ
等に出力する。The measurement control unit 15 is composed of a microprocessor, a memory, a timer, etc., and sequentially loads the weight signal from the measuring circuit 14g, the pressure signal from the pressure sensor 16, and the temperature signal from the temperature sensor 18 at a preset sampling cycle. The above equations (1) and (2) are stored according to the signals stored in the memory or these input signals or the data stored in the memory.
According to the control logic described later, the adsorption isotherm is measured and the result is output to, for example, a printer.
第8図は本発明の吸着平衡測定装置の他の実施例を示す
図であり、第2図に対応する要素には同じ符号を付して
示した。FIG. 8 is a diagram showing another embodiment of the adsorption equilibrium measuring device of the present invention, in which elements corresponding to those in FIG. 2 are designated by the same reference numerals.
この装置は、第2図の装置で使用している恒温液の代わ
りに、液溜22、ガス溜23および計測手段1を空気恒温槽
3内に収容して温度設定を行うようにしたものである。In this device, instead of the constant temperature liquid used in the device of FIG. 2, a liquid reservoir 22, a gas reservoir 23 and a measuring means 1 are housed in an air constant temperature bath 3 for temperature setting. is there.
空気恒温槽3は外壁34が保温材35で保温され、内部に
は、仕切り板33が設けられるとともに送風機36によって
常温恒温槽内の空気が循環される。The outer wall 34 of the air constant temperature bath 3 is kept warm by a heat insulating material 35, a partition plate 33 is provided inside the air constant temperature bath 3, and air in the room temperature constant temperature bath is circulated by a blower 36.
PID調節計42は、温度センサ39により空気恒温槽3内の
空気温度を測定し、設定された温度に制御するための信
号をサイリスタ41に送り、このサイリスタ41からヒータ
38にPID調節計42から出力された信号に応じた電流が流
される。これによって、空気恒温槽内の空気温度を30℃
〜80℃の範囲で調節することができる。The PID controller 42 measures the air temperature in the constant temperature air chamber 3 by the temperature sensor 39 and sends a signal for controlling the temperature to a set temperature to the thyristor 41.
A current corresponding to the signal output from the PID controller 42 is supplied to 38. As a result, the temperature of the air in the air bath is kept at 30 ° C.
It can be adjusted in the range of -80 ° C.
また、チラーユニット40から冷却用フロンガスを冷却コ
イル37に循環させ、空気恒温槽内の空気を冷却すると、
0℃〜30℃の温度範囲の調節を行うこともできる。Further, when the cooling CFC gas is circulated from the chiller unit 40 to the cooling coil 37 to cool the air in the constant temperature air chamber,
It is also possible to adjust the temperature range from 0 ° C to 30 ° C.
なお、前記第2図の各電磁弁G1,G2およびG3の代わり
に、耐熱性のある空気弁V1,V2およびV3が取付けられ、
この空気弁V1,V2およびV3は窒素ボンベ44からゲージ圧5
kg/cm2の窒素ガスを流すことにより駆動される。なお、
この窒素ガスは電磁弁G4,G5およびG6によって開閉制御
される。In place of the solenoid valves G1, G2 and G3 shown in FIG. 2, heat resistant air valves V1, V2 and V3 are attached,
The air valves V1, V2 and V3 are supplied from the nitrogen cylinder 44 with a gauge pressure of 5
It is driven by flowing nitrogen gas of kg / cm 2 . In addition,
This nitrogen gas is controlled to open and close by solenoid valves G4, G5 and G6.
また、この装置では、前記水銀マノメータ26の代わりに
真空計43が取付けられている。Further, in this apparatus, a vacuum gauge 43 is attached instead of the mercury manometer 26.
第2図の装置では、真空容器10と真空容器格納ケース20
がステンレス製で、ガラス吸着室11、液溜22、ガス溜2
3、管路P1〜P6およびこれらの外管21,27,28,29は特殊耐
熱性透明ガラス製であったが、この装置では、真空容器
10の底板をステンレス製とし、その底板に特殊耐熱性透
明ガラス製のカバーを取付け、Oリングで密封すること
により、真空容器10を構成しており、ガラス吸着室11と
液溜22は特殊耐熱性透明ガラス製で、その他のすべての
部分をステンレス製としている。In the apparatus shown in FIG. 2, the vacuum container 10 and the vacuum container storage case 20 are used.
Made of stainless steel, glass adsorption chamber 11, liquid reservoir 22, gas reservoir 2
3.Pipe lines P1 to P6 and their outer tubes 21, 27, 28, 29 were made of special heat-resistant transparent glass.
The bottom plate of 10 is made of stainless steel, a cover made of special heat-resistant transparent glass is attached to the bottom plate, and the vacuum container 10 is configured by sealing with an O-ring, and the glass adsorption chamber 11 and the liquid reservoir 22 have special heat resistance. Made of transparent glass and all other parts made of stainless steel.
なお、上記第8図の装置における測定制御は第2図のも
のと同様に行われるものであり、以後、吸着平衡測定装
置として第2図のものについて説明する。The measurement control in the apparatus of FIG. 8 is performed in the same manner as that of FIG. 2, and hereinafter, the adsorption equilibrium measuring apparatus of FIG. 2 will be described.
第5a図〜第5h図は測定制御部15による制御を示すフロー
チャートであり、第5a図はメインのシーケンス、第5b図
は乾燥、第5c図は吸着、第5d図は脱気、第5e図は設定圧
への制御、第5f図は蒸気導入、第5g図は排気、第5h図は
平衡データの測定の各シーケンスを示す。5a to 5h are flowcharts showing the control by the measurement control unit 15, FIG. 5a is the main sequence, FIG. 5b is drying, FIG. 5c is adsorption, FIG. 5d is degassing, and FIG. 5e. Shows the control to the set pressure, FIG. 5f shows the steam introduction, FIG. 5g shows the exhaust, and FIG. 5h shows the sequence of the equilibrium data measurement.
第5a図に示したように前記測定制御部15による制御は試
料を乾燥する乾燥シーケンスと溶媒蒸気の吸着を行う吸
着シーケンスに大きく分けられる。また、測定に先立っ
て溶媒を液溜22に収容するとともに試料容器13に試料を
セットし、真空排気系2、恒温槽30および循環ポンプ31
を駆動して恒温液の温度を所定の乾燥温度に設定する。As shown in FIG. 5a, the control by the measurement controller 15 is roughly divided into a drying sequence for drying the sample and an adsorption sequence for adsorbing the solvent vapor. In addition, the solvent is stored in the liquid reservoir 22 and the sample is set in the sample container 13 prior to the measurement, and the vacuum exhaust system 2, the constant temperature tank 30, and the circulation pump 31 are arranged.
Is driven to set the temperature of the constant temperature liquid to a predetermined drying temperature.
そして、測定制御部15の図示しない操作部から、後述説
明する共通定数、乾燥定数および乾燥シーケンスを起動
する乾燥スタートキーを入力すると、乾燥シーケンスが
開始される。Then, when a common constant, a drying constant, and a drying start key for activating a drying sequence, which will be described later, are input from an operation unit (not shown) of the measurement control unit 15, the drying sequence is started.
また、乾燥シーケンスが終了すると待機状態になり、吸
着測定時の温度設定を前記乾燥温度の設定と前記同様に
行って、蒸気導入定数、排気定数、設定圧に対する制御
定数および吸着平衡判定に関する定数の各定数と、吸着
シーケンスを起動する吸着スタートキー入力すると、吸
着シーケンスが開始され、吸着平衡の測定が行われる。Further, when the drying sequence is completed, a standby state is set, and the temperature setting at the time of adsorption measurement is performed in the same manner as the above-mentioned setting of the drying temperature, and the vapor introduction constant, the exhaust constant, the control constant for the set pressure, and the constant relating to the adsorption equilibrium determination. When each constant and the adsorption start key for activating the adsorption sequence are entered, the adsorption sequence is started and the adsorption equilibrium is measured.
なお、乾燥シーケンスおよび吸着シーケンスが開始され
ると、タイマーが起動され、このタイマーの計時内容と
共通定数として設定される後述サンプリング周期に基づ
いて割り込み処理が行われ、この割り込み処理によって
サンプリング周期毎に圧力データ、重量データおよび温
度データがサンプリングされて順次メモリに格納され
る。When the drying sequence and the adsorption sequence are started, the timer is started, and the interrupt processing is performed based on the timer content and the later-described sampling cycle set as a common constant. The pressure data, the weight data and the temperature data are sampled and sequentially stored in the memory.
ここで、入力される上記各定数を説明する。Here, the above-mentioned constants that are input will be described.
(定 数) 共通定数は、測定データのサンプリング周期Tdatと平衡
データの平均をとるためにサンプリングするサンプリン
グデータ数Ndatを示す定数である。(Constant) The common constant is a constant indicating the sampling period T dat of the measurement data and the number N dat of sampling data sampled to average the balanced data.
乾燥定数は、乾燥時の重量平衡判定の重量変化の許容範
囲と許容時間の範囲を設定する許容重量Wdaおよび重量
安定時間Tdaである。The drying constant is an allowable weight W da and a weight stabilization time T da that set the allowable range of the weight change and the allowable time range of the weight balance determination during drying.
脱気定数は、ガス溜23からのガスを排気する間に要する
待ち時間、液溜22内の溶媒中のガスを排気するのに要す
る待つ時間および脱気を行う回数のそれぞれを設定する
ガス溜排気時間Teg、液溜排気時間Te1および脱機回数Ne
である。The degassing constant is a gas pool that sets the waiting time required to exhaust the gas from the gas reservoir 23, the waiting time required to exhaust the gas in the solvent in the liquid reservoir 22, and the number of times of degassing. Exhaust time T eg , liquid reservoir exhaust time T e1 and number of times of desorption N e
Is.
蒸気導入定数は、液溜22からガス溜23へ溶媒蒸気を導入
する間の持ち時間TS1、ガス溜23から真空容器10へ溶媒
蒸気を導入する間の持ち時間Ts2、圧力センサ16の応答
性遅れ時間等を考慮して設定される圧力測定持ち時間T
sp、蒸気導入時の真空容器10内の相対蒸気圧と設定相対
蒸気圧の差に応じて制御手順を変える基準圧を設定する
圧力制御範囲Psaおよびこの制御手順を変更によって行
われる微制御の回数を限定する蒸気導入繰り返し数Nsで
ある。The vapor introduction constant is a holding time T S1 while introducing solvent vapor from the liquid reservoir 22 to the gas reservoir 23, a holding time T s2 while introducing solvent vapor from the gas reservoir 23 to the vacuum container 10, and a response of the pressure sensor 16. Pressure measurement holding time T that is set in consideration of gender delay time, etc.
sp , a control procedure that changes the control procedure depending on the difference between the relative vapor pressure in the vacuum vessel 10 and the set relative vapor pressure when introducing steam.The pressure control range P sa that sets the reference pressure and the fine control performed by changing this control procedure. The number of steam introduction repetitions N s that limits the number of times.
排気定数は、真空容器10からガス溜23へ溶媒蒸気へ排出
する間の持ち時間TO2、ガス溜23から溶媒蒸気を排出す
る間の持ち時間To3、前記蒸気導入定数同様に排気時の
真空容器10内の相対蒸気圧と設定相対蒸気圧の差に応じ
て制御手順を変える基準圧を設定する圧力制御範囲Poa
およびこの制御手順の変更によって行われる微制御の回
数を限定する排気繰り返し数Noである。The exhaust constant is a holding time T O2 while discharging the solvent vapor from the vacuum container 10 to the gas reservoir 23, a holding time T o3 while discharging the solvent vapor from the gas reservoir 23, and the vacuum at the time of exhausting similarly to the vapor introduction constant. Change the control procedure according to the difference between the relative vapor pressure in the container 10 and the set relative vapor pressure.Set the reference pressure Pressure control range Poa
And the number of exhaust cycles N o that limits the number of fine controls performed by changing this control procedure.
制定圧に対する制御定数は、吸着等温線を得るために予
め設定される複数(この実施例では最大15個)の設定相
対蒸気圧Ps、真空容器10内の相対蒸気圧の設定相対蒸気
圧からのいずれに対する許容範囲を段階的に小さく設定
する複数(この実施例では5個)の設定圧許容値Pa、蒸
気複数の設定許容値にそれぞれ対応して設定される許容
圧内安定時間Taおよび真空容器10内の相対蒸気圧が設定
相対蒸気圧より高くなった場合に強制的に排気するまで
の待ち時間を設定する許容圧外修正待ち時間Twである。The control constant for the established pressure is determined from a plurality of preset relative vapor pressures P s (up to 15 in this example) for obtaining the adsorption isotherm, and a set relative vapor pressure of the relative vapor pressure in the vacuum vessel 10. a plurality of setting stepwise reduced tolerance to any of the permissible pressure internal stabilization time T a to set pressure tolerance P a (in this embodiment five in the example), is correspondingly set to the vapor plurality of setting tolerance And a permissible outside pressure correction waiting time T w for setting a waiting time until forced evacuation when the relative vapor pressure in the vacuum container 10 becomes higher than the set relative vapor pressure.
吸着平衡判定に関する定数は、相対蒸気圧の平衡判定の
圧力変化の許容範囲を設定する平衡圧許容値Pka、重量
変化の許容範囲を設定する平衡重量許容値Wkaおよび許
容時間の範囲を設定する平衡安定時間Tkaである。The constants related to the adsorption equilibrium judgment are set as the equilibrium pressure allowable value P ka that sets the allowable range of pressure change for the relative vapor pressure equilibrium judgment, the equilibrium weight allowable value W ka that sets the allowable range of weight change, and the allowable time range. Is the equilibrium stabilization time T ka .
次に、第5b図〜第5h図に基づいて各シーケンス毎の制御
を説明する。Next, the control for each sequence will be described based on FIGS. 5b to 5h.
(乾燥シーケンス) 乾燥スタートキーの入力により、電磁弁G2,G3を開き電
磁弁G1を閉じて真空容器10とガス吸着室11およびガス溜
23内を10-3mmHgの減圧下に保持するとともに乾燥時間の
計時を開始する。(Drying sequence) By inputting the drying start key, the solenoid valves G2 and G3 are opened and the solenoid valve G1 is closed to close the vacuum container 10, the gas adsorption chamber 11 and the gas reservoir.
The inside of 23 is kept under a reduced pressure of 10 -3 mmHg and the measurement of the drying time is started.
そして、経過時間を示す乾燥時間カウント値Tkiが重量
安定時間Tdaとデータサンプリング時間(Ndat・Tda)と
の和より大となり、 Tki>(Tda+Ndat・Tdat) が満足されると重量平衡の判断を開始する。Then, the drying time count value T ki indicating the elapsed time becomes larger than the sum of the weight stabilization time T da and the data sampling time (N dat · T da ), and T ki > (T da + N dat · T dat ) is satisfied. Then, the judgment of weight balance is started.
第7図は実施例の乾燥過程における試料重量の変化と重
量平衡の判断を説明する図であり、この重量平衡の判断
は、現在の平均試料重量Wave0と現在から重量安定時間T
da前の平均試料重量Wave1の計算をそれぞれ行い、これ
ら現在と過去の平均試料重量Wave0,Wave1の差(絶対
値)が許容重量Wdaより小さくなって、 |Wave0−Wave1|<Wda が満足されるまで、各平均試料重量Wave0,Wave1の計算
とこの条件の判定を行う。なお、現在および過去の平均
試料重量Wave0,Wave1の計算においては、現在と重量安
定時間Tda前との各注目時点から過去のサンプリングデ
ータ数Ndat個の各データをメモリから読み出し、それぞ
れNdat個のデータに基づいて平均が求められる。FIG. 7 is a diagram for explaining the change of the sample weight and the judgment of the weight balance in the drying process of the example. The judgment of the weight balance is made by the present average sample weight W ave0 and the weight stabilization time T from the present.
The average sample weight W ave1 before da is calculated respectively, and the difference (absolute value) between these current and past average sample weights W ave0 and W ave1 becomes smaller than the allowable weight W da , and | W ave0 −W ave1 | Until <W da is satisfied, calculation of each average sample weight W ave0 and W ave1 and determination of this condition are performed. In the calculation of the current and past average sample weights W ave0 and W ave1 , the past sampling data number N dat pieces of data are read from the memory from the points of interest before and after the present and weight stabilization time T da , respectively. The average is calculated based on the N dat data.
上記のようにして、条件が満足されると、乾燥重量が平
衡に達したと判定され、そのときの平均重量Wave0を乾
燥重量Wcとするとともに、電磁弁G1,G2およびG3を閉じ
て乾燥シーケンスを終了する。As described above, when the conditions are satisfied, it is determined that the dry weight has reached equilibrium, and the average weight W ave0 at that time is set as the dry weight W c, and the solenoid valves G1, G2 and G3 are closed. Finish the drying sequence.
このようにすると、重量平衡に達した直後にその平衡状
態を検知できるため、前記第10図について説明した従来
のものに比べて乾燥過程に要する時間が短縮される。In this way, since the equilibrium state can be detected immediately after reaching the weight equilibrium, the time required for the drying process is shortened as compared with the conventional one described with reference to FIG.
(吸着シーケンス) 吸着シーケンスは、設定された複数の設定相対蒸気圧か
ら設定値の低い順、例えば、Ps1<Ps2<Ps3<…であれ
ば、Ps1,Ps2,Ps3,…の順に設定相対蒸気圧Psを順次選択
する。(Adsorption sequence) The adsorption sequence is performed from the set relative vapor pressures in ascending order of set value, for example, if P s1 <P s2 <P s3 <..., P s1 , P s2 , P s3 , ... Set the relative vapor pressure P s in order.
そして、溶媒中の溶存空気を脱気する脱気シーケンス、
真空容器内の相対蒸気圧Pを設定相対蒸気圧Psと設定圧
許容値Paによって決まる許容幅内に制御する設定圧への
制御シーケンス、そして、相対蒸気圧と重量の平衡の判
断を行って平衡データを測定する平衡データの測定シー
ケンスの各処理を、選択した設定相対蒸気圧について順
次行い、吸着等温線の測定が終了する。And a degassing sequence for degassing the dissolved air in the solvent,
The relative vapor pressure P in the vacuum vessel is controlled within a permissible range determined by the set relative vapor pressure P s and the set pressure permissible value P a , and the equilibrium between the relative vapor pressure and the weight is determined. Each process of the equilibrium data measurement sequence for measuring the equilibrium data is sequentially performed for the selected set relative vapor pressure, and the measurement of the adsorption isotherm is completed.
(脱気シーケンス) 脱気シーケンスが開始されると、脱気回数カウント値N
eiを更新しながら電磁弁の開閉を行って脱気回数Ne回だ
け脱気を行う。(Deaeration sequence) When the deaeration sequence starts, the deaeration count value N
While updating ei , the solenoid valve is opened and closed to degas only N e times.
上気毎回の脱気時には、電磁弁G1,G2を閉じるとともに
電磁弁G3をガス溜排気時間Tegだけ開いてガス溜23内の
ガスを排気し、次いで、電磁弁G2,G3を閉じるとともに
電磁弁G1を液溜脱気時間Te1開いて液溜22からガス溜23
に脱気を行うように制御される。At the time of degassing each time, the solenoid valves G1 and G2 are closed, the solenoid valve G3 is opened for the gas reservoir exhaust time T eg to exhaust the gas in the gas reservoir 23, and then the solenoid valves G2 and G3 are closed and the solenoid is closed. Open the valve G1 from the liquid reservoir 22 to the gas reservoir 23 by opening the liquid reservoir degassing time T e1.
Controlled to degas.
そして、上気の処理が終わると電磁弁G1,G2を閉じると
ともに電磁弁G3をガス溜排気時間Tegだけ開いてガス溜2
3の排気を行い、各電磁弁G1,G2,G3を閉じて脱気シーケ
ンスを終了する。Then, when the processing of the upper air is completed, the solenoid valves G1 and G2 are closed and the solenoid valve G3 is opened for the gas reservoir exhaust time T eg and the gas reservoir 2 is closed.
3 is exhausted, each solenoid valve G1, G2, G3 is closed and the degassing sequence is completed.
(設定圧への制御シーケンス) 設定圧への制御シーケンスは、設定圧許容値Pa,許容圧
内安定時間Taの選択を行い、各選択値について、真空容
器10内に溶媒蒸気を導入する蒸気導入シーケンスと所定
以上に相対蒸気圧が高くなった場合に排気を行う排気シ
ーケンスが、各設定圧許容値Pa毎に行われる。(Control sequence to set pressure) In the control sequence to set pressure, the set pressure allowable value P a and the allowable pressure stable time T a are selected, and the solvent vapor is introduced into the vacuum container 10 for each selected value. The vapor introduction sequence and the exhaust sequence for performing the exhaust when the relative vapor pressure becomes higher than a predetermined value are performed for each set pressure allowable value P a .
第6図はこの設定圧への制御シーケンス時および後述平
衡データの測定シーケンス時における相対蒸気圧と試料
重量の経時的変化の一例を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing an example of changes with time in relative vapor pressure and sample weight during the control sequence for the set pressure and during the measurement sequence of equilibrium data described later.
先ず、真空容器10内の相対蒸気圧Pが設定相対蒸気圧Ps
と設定圧許容値Pa差(許容圧の下限Ps−Pa)より低い場
合、すなわち、 P<(Ps−Pa) の場合は、蒸気導入シーケンスによりP>Psとなるよう
に溶媒蒸気の導入を行われる。First, the relative vapor pressure P in the vacuum vessel 10 is set relative vapor pressure P s.
And the set pressure allowable value P a difference (lower limit of allowable pressure P s −P a ), that is, when P <(P s −P a ), P> P s is set by the steam introduction sequence. The solvent vapor is introduced.
蒸気導入シーケンスによって真空容器10内の相対蒸気圧
PがP>Psとなるように設定されても、試料Sによって
溶媒蒸気が吸着されるため相対蒸気圧Pが低下してある
時間が経過するとP<Psとなるが、P<Psとなってから
の経過時間が許容圧外修正待ち時間Twを経過してもP<
Psとならない場合は、排気シーケンスによりP<Psとな
るように強制的に排気が行われる。なお、P<Psとなっ
てからの経過時間は、設定圧外修正待ち時間カウント値
Twiの更新によって計時されている。Even if the relative vapor pressure P in the vacuum container 10 is set to P> P s by the vapor introduction sequence, when the relative vapor pressure P is lowered because the solvent vapor is adsorbed by the sample S, the time elapses. P <P s , but even if the elapsed time after P <P s exceeds the allowable pressure outside correction waiting time T w , P <
If not a P s, forced exhaust is performed such that P <P s by the exhaust sequence. In addition, the elapsed time after P <P s is the value outside the set pressure correction waiting time count value.
Timed by updating T wi .
真空容器10内の相対蒸気圧Pが設定相対蒸気圧Psより低
くなったときからの経時時間は許容圧安定時間カウント
値Taiの更新によって計時されており、この経過時間が
許容圧内安定時間Taを上回らない間に相対蒸気圧Pが許
容圧下限Ps−Paより低くなった場合は、蒸気導入シーケ
ンスによって溶媒蒸気の導入が行われる(第6図のA
点)。The elapsed time from when the relative vapor pressure P in the vacuum container 10 becomes lower than the set relative vapor pressure P s is measured by updating the allowable pressure stabilization time count value T ai , and this elapsed time stabilizes within the allowable pressure. If the relative vapor pressure P is lower than the allowable pressure limit P s -P a while not exceeding the time T a, the introduction of solvent vapor is carried out by steam introduction sequence (of FIG. 6 a
point).
また、真空容器10内の相対蒸気圧Pが設定相対蒸気圧Ps
と許容圧下限Ps−Paの間にあるときすなわち、相対蒸気
圧Pが許容圧内の相対蒸気圧であるときの経過時間が許
容圧内安定時間Taを越えると、その設定圧許容値Paと許
容圧内安定時間Taに対する制御が終了し(第6図のB
点)、次の設定圧許容値Paと許容圧内安定時間Taに対す
る制御が上記同様に行われる。In addition, the relative vapor pressure P in the vacuum vessel 10 is set relative vapor pressure P s
Acceptable i.e. when is between pressure limit P s -P a, when the elapsed time when the relative vapor pressure P is a relative vapor pressure of the allowable pressure internal exceeds the allowable pressure internal stabilization time T a and the permissible its set pressure the value P a and the allowable pressure internal control over stabilization time T a finished (in FIG. 6 B
Point), the following control for the set pressure allowable value P a and the allowable pressure stable time T a is performed in the same manner as above.
そして、設定された最後の設定圧許容値Paと許容圧内安
定時間Taに対する制御が終了すると、設定圧への制御シ
ーケンスが終了する(第6図のC点)。When the control for the set last set pressure tolerance P a permissible pressure internal stabilization time T a is completed, the control sequence to the set pressure is completed (the six view point C).
(蒸気導入シーケンス) 蒸気導入シーケンスは、上記のように真空容器10内の相
対蒸気圧Pが設定相対蒸気圧Psより低いとき、すなわ
ち、P<Psのとき溶媒蒸気の導入を行う。(Steam introduction sequence) steam introduction sequence, when the relative vapor pressure P within the vacuum vessel 10 as described above is lower than the set relative vapor pressure P s, that is, the introduction of solvent vapor when P <P s.
設定相対蒸気圧Psと真空容器10内の相対蒸気圧Pの差Ps
−Pが圧力制御範囲Psaより高い時、すなわち、(Ps−
P)>Psaのときは電磁弁G1,G2を開くとともに電磁弁G3
を閉じて溶媒蒸気を導入する(以後、液溜22、ガス溜23
および真空容器10間に開通して行う導入を一括導入とい
う。)。The difference P s between the set relative vapor pressure P s and the relative vapor pressure P in the vacuum container 10
When P is higher than the pressure control range P sa , that is, (P s −
When P)> P sa , open solenoid valves G1 and G2 and open solenoid valve G3.
Closed and introduced solvent vapor (hereinafter, liquid reservoir 22, gas reservoir 23
In addition, the introduction performed by opening between the vacuum containers 10 is called collective introduction. ).
上記圧力差Ps−Pが圧力制御範囲Psaより低いとき、す
なわち、(Ps−P)<Psaのときは電磁弁G2,G3を閉じる
とともに電磁弁G1をガス溜導入時間Ts1だけ開いて液溜2
2からガス溜23を溶媒蒸気を導入し、さらに、電磁弁G1,
G3を閉じるとともに電磁弁G2を真空容器導入時間Ts2だ
け開いてガス溜23から真空容器10に溶媒蒸気を導入する
(以後、液溜22からガス溜23へ導入してガス溜23から真
空容器10へ導入する方法を分割導入という。)。その
後、電磁弁G1,G2,G3を閉じて圧力測定待ち時間Tsp経過
後に設定相対蒸気圧Psと相対蒸気圧Pの比較・判定を行
う。When the pressure difference P s -P is lower than the pressure control range P sa , that is, when (P s -P) <P sa , the solenoid valves G2 and G3 are closed and the solenoid valve G1 is closed for the gas reservoir introduction time T s1. Open and collect 2
Introduce solvent vapor from 2 to gas reservoir 23, and further solenoid valve G1,
While G3 is closed, the solenoid valve G2 is opened for the vacuum container introduction time T s2 to introduce solvent vapor from the gas reservoir 23 to the vacuum container 10 (hereinafter, introduced from the liquid reservoir 22 to the gas reservoir 23 and then from the gas reservoir 23 to the vacuum container). The method of introducing to 10 is called split introduction.) After that, the solenoid valves G1, G2, G3 are closed, and after the pressure measurement waiting time T sp has elapsed, the set relative vapor pressure P s and the relative vapor pressure P are compared and judged.
また、上記圧力差Ps−Pが圧力制御範囲Psaより低く、
かつ、上記分割導入を導入繰り返し数Ns回行ってもP>
Psを満足しない場合は、電磁弁G1,G2を開き電磁弁G3を
閉じて溶媒蒸気の導入(一括導入)を行う。Further, the pressure difference P s -P is lower than the pressure control range P sa ,
Moreover, even if the above-mentioned split introduction is repeated N s times, P>
When P s is not satisfied, the solenoid valves G1 and G2 are opened and the solenoid valve G3 is closed to introduce the solvent vapor (collective introduction).
そして相対蒸気圧Pが設定相対蒸気圧Psより高くなると
蒸気導入シーケンスを終了する。Then, when the relative vapor pressure P becomes higher than the set relative vapor pressure P s , the vapor introduction sequence is ended.
第11図は、前記一括導入と分割導入を行った場合の相対
蒸気圧と計時的変化の一例を示す図であり、同図の線l1
は一括導入、l2は分割導入の場合をそれぞれ示す。この
図からわかるように、相対蒸気圧は一括導入の場合は分
割導入の場合よりも急激に高い値になり、分割導入の場
合は略時間に比例して高くなる。FIG. 11 is a diagram showing an example of the relative vapor pressure and the time change when the batch introduction and the split introduction are performed, and the line l1 in the figure is shown.
Shows the case of batch introduction and l2 shows the case of divided introduction. As can be seen from this figure, the relative vapor pressure in the case of batch introduction becomes sharply higher than that in the case of split introduction, and in the case of split introduction, it rises almost in proportion to time.
したがって、上記のように設定相対蒸気圧Psと真空容器
10内の相対蒸気圧Pの差Ps−Pが高い場合は、一括導入
を行えば速く所定の蒸気圧に達させることができ、逆に
圧力差が小さい場合は分割導入を行うことにより、精度
の高い制御を行うことができる。Therefore, set relative vapor pressure P s and vacuum vessel as above.
When the difference P s -P of the relative vapor pressures P in 10 is high, it is possible to reach a predetermined vapor pressure quickly by performing batch introduction, and conversely, when the pressure difference is small, by performing split introduction, Highly precise control can be performed.
すなわち、前記圧力制御範囲Psaは、この一括導入と分
割導入の切換を行うための目安として設定されており、
これによって、短時間に精度の高い制御が行えるように
なっている。That is, the pressure control range P sa is set as a guide for switching between the batch introduction and the split introduction.
As a result, highly accurate control can be performed in a short time.
(排気シーケンス) 排気シーケンスは、前記のようにP>Psとなってからの
経時時間が許容圧外修正待ち時間Twを経過してもP<Ps
とならない場合に行われる。(Exhaust Sequence) In the exhaust sequence, P <P s even if the elapsed time after P> P s as described above passes the allowable out-of-pressure correction waiting time T w.
If not, it is done.
真空容器10内の相対蒸気圧Pと設定相対蒸気圧Psの差P
−Psが圧力制御範囲Poaより高い時、すなわち、(P−P
s)>Poaのときは電磁弁G2,G3を開くとともに電磁弁G1
を閉じて排気を行う。The difference P between the relative vapor pressure P in the vacuum container 10 and the set relative vapor pressure P s
When -P s is higher than the pressure control range Poa , that is, (P-P
s )> Po a When solenoid valves G2 and G3 are opened and solenoid valve G1
Close and exhaust.
上記圧力差P−Psが圧力制御範囲Poaより低いとき、す
なわち、(P−Ps)<Poaのときは電磁弁G1,G2を閉じる
とともに電磁弁G3をガス溜排気時間To3だけ開いてガス
溜23の排気を行い、さらに、電磁弁G1,G3を閉じるとと
もに電磁弁G2を真空容器排気時間To2だけ開いて真空容
器10からガス溜23に排気を行う。その後、電磁弁G1,G2,
G3を閉じて圧力測定待ち時間Tsp経過後に設定相対蒸気
圧Psと相対蒸気圧Pの比較・判定を行う。When the pressure difference P-P s is less than the pressure control range P oa, namely, (P-P s) <only gas reservoir evacuation time T o3 solenoid valve G3 closes the solenoid valve G1, G2 when the P oa The gas reservoir 23 is opened to exhaust the gas, and the solenoid valves G1 and G3 are closed, and the solenoid valve G2 is opened for the vacuum container exhaust time To2 to exhaust gas from the vacuum container 10 to the gas reservoir 23. After that, the solenoid valves G1, G2,
After G3 is closed and the pressure measurement waiting time T sp has elapsed, the set relative vapor pressure P s and the relative vapor pressure P are compared and judged.
また、上記圧力差P−Psが圧力制御範囲Poaより低く、
かつ、上記ガス溜23の排気と真空容器10の排気を排気繰
り返し数No回行ってもP<Psを満足しない場合は、電磁
弁G2,G3を開き電磁弁G1を閉じて排気を行う。Further, the pressure difference P-P s is lower than the pressure control range P oa,
And, if even if the exhaust emissions and the vacuum chamber 10 of the gas reservoir 23 exhaust repetition number N o times does not satisfy P <P s performs exhaust closes the solenoid valve G1 opens the solenoid valve G2, G3 .
そして相対蒸気圧Pが設定相対蒸気圧Psより低くなると
排気導入シーケンスを終了する。Then, when the relative vapor pressure P becomes lower than the set relative vapor pressure P s , the exhaust gas introduction sequence is ended.
なお、この排気シーケンスの場合も、前記第10図につい
て説明した一括導入および分割導入の場合と同様の理由
により、設定された圧力制御範囲Poaを基準に排気方法
を選択することにより短時間に精度の高い制御が行える
ようにしている。Even in the case of this exhaust sequence, for the same reason as in the case of the batch introduction and the split introduction described with reference to FIG. 10, it is possible to shorten the time by selecting the exhaust method based on the set pressure control range Poa. It enables highly accurate control.
(平衡データの測定シーケンス) 平衡データの測定シーケンスが行われるとき(第6図の
C線以後)には、上記蒸気導入シーケンスおよび排気シ
ーケンスによって前記設定圧への制御シーケンスが終了
しており、第6図に示したように真空容器10内の相対蒸
気圧Pが略平衡状態になっている。(Equilibrium Data Measurement Sequence) When the equilibrium data measurement sequence is performed (after the line C in FIG. 6), the control sequence to the set pressure is completed by the vapor introduction sequence and the exhaust sequence, As shown in FIG. 6, the relative vapor pressure P in the vacuum container 10 is in a substantially equilibrium state.
前記設定圧への制御シーケンスが終了して平衡データの
測定シーケンスに入ると経過時間カウント値Tkiの更新
によって経過時間が計時され、前記設定圧への制御シー
ケンスにおける最後の許容圧内安定時間Taと経過時間T
kiとの和が、平衡安定時間Tkaとデータサンプリング時
間(Ndat・Tdat)との和により大きくなったとき、すな
わち、 (Ta+Tki)>(Tka+Ndat・Tdat) を満足したとき、相対蒸気圧の平衡の判断が開始され
る。When the control sequence to the set pressure is completed and the equilibrium data measurement sequence is entered, the elapsed time is counted by updating the elapsed time count value T ki , and the last allowable stable pressure T within the control sequence to the set pressure is set. a and elapsed time T
When the sum with ki becomes larger due to the sum of the equilibrium stabilization time T ka and the data sampling time (N dat · T dat ), that is, (T a + T ki )> (T ka + N dat · T dat ). When satisfied, the relative vapor pressure equilibrium determination begins.
相対蒸気圧の平衡の判断は、現在の平均相対蒸気圧P
ave0と現在から平衡安定時間Tka前の平均相対蒸気圧P
ave1の計算をそれぞれ行い、これら現在と過去の平均相
対蒸気圧Pave0,Pave1の差(絶対値)が平衡圧許容値Pka
より小さくなって、 |Pave0−Pave1|<Pka が満足されるまで、各平均相対蒸気圧Pave0,Pave1の計
算とこの条件の判定を行う。Equilibrium of relative vapor pressure is judged by the current average relative vapor pressure P
ave0 and the average relative vapor pressure P from the present to the equilibrium stabilization time T ka
ave1 is calculated respectively, and the difference (absolute value) between these current and past average relative vapor pressures P ave0 and P ave1 is calculated as the equilibrium pressure allowable value P ka.
Until it becomes smaller and | P ave0 −P ave1 | <P ka is satisfied, calculation of each average relative vapor pressure P ave0 , P ave1 and determination of this condition are performed.
上記のようにして、条件が満足されると真空容器10内の
相対蒸気圧が平衡に達したと判定され、重量平衡の判断
が開始される。As described above, when the conditions are satisfied, it is determined that the relative vapor pressure in the vacuum container 10 has reached equilibrium, and the weight equilibrium determination is started.
重量平衡の判断は、現在の平均試料重量Wave0と平衡安
定時間Tka前の平均試料重量Wave1を計算し、この平均試
料重量Wave0,Wave1の差(絶対値)が平衡重量許容値Wka
より小さくなって、 |Wave0−Wave1|<Wka が満足されるまで、各平均試料重量Wave0,Wave1が計算
され判定される。Determination of the weight balance, the current average sample weight W Ave0 equilibrium stabilization time T ka previous average sample weight W ave1 calculated, this average sample weight W Ave0, difference W ave1 (absolute value) is the equilibrium weight tolerance W ka
Each average sample weight W ave0 , W ave1 is calculated and determined until it becomes smaller and | W ave0 −W ave1 | <W ka is satisfied.
そして、条件が満足されると平衡の判断を終了し、現在
の平均温度taveを計算するとともに、この平均温度
tave、現在の平均試料重量Wave0および現在の平均相対
蒸気圧Pave0をそれぞれ、吸着平衡測定時の温度Tk、平
衡重量Wkおよび平衡相対蒸気圧Pkと決定し、平衡データ
の測定シーケンスを終了する。Then, when the conditions are satisfied, the equilibrium judgment is ended, the current average temperature t ave is calculated, and this average temperature is calculated.
t ave , the current average sample weight W ave0 and the current average relative vapor pressure P ave0 are determined as the temperature T k , the equilibrium weight W k and the equilibrium relative vapor pressure P k during the adsorption equilibrium measurement, and the equilibrium data is measured. End the sequence.
なお、現在および過去の平均相対蒸気圧Pave0,Pave1平
均試料重量Wave0,Wave1の計算は、前記乾燥シーケンス
における平均試料重量Wave0,Wave1と同様に、各注目時
点から過去のサンプリングデータ数Ndat個の各データに
基づいて求められる。The calculation of current and historical average relative vapor pressure P Ave0, P ave1 average sample weight W Ave0, W ave1, like the average sample weight W Ave0, W ave1 in the drying sequence, past sampling from each attention point The number of data is calculated based on each N dat data.
前記吸着シーケンスについて説明したように、設定され
た複数の設定相対蒸気圧について順次上記シーケンス処
理が行われると、各設定相対蒸気圧近傍の平均相対蒸気
圧Pk、吸着平衡測定時の温度Tk,平衡重量Wkがそれぞれ
得られ、前掲の式(1),(2)に基づいて吸着等温線
が得られる。Wherein as described for the adsorption sequence and successively the sequence processing is performed for a plurality of setting a relative vapor pressure that is set, the average relative vapor pressure P k of each set relative vapor圧近near the temperature T k at adsorption equilibrium measuring Then, the equilibrium weight W k is obtained, and the adsorption isotherm is obtained based on the above equations (1) and (2).
以上説明したように本発明によれば、吸着平衡測定装置
において、気密容器内の相対蒸気圧が予め設定された一
定時間予め設定された許容範囲内に維持された場合溶媒
蒸気導入の制御を停止し、その後相対蒸気圧の平衡の判
定および重量平衡の判定を行うときに相対蒸気圧が略安
定した状態になるようにしたので、平衡データの測定時
に相対蒸気圧の変化によって平衡が乱されることがなく
正確にデータを得ることができるばかりか、測定時間を
短縮することができる。As described above, according to the present invention, in the adsorption equilibrium measurement device, the control of solvent vapor introduction is stopped when the relative vapor pressure in the airtight container is maintained within the preset allowable range for a preset period of time. After that, the relative vapor pressure was made to be in a substantially stable state when the relative vapor pressure equilibrium and the weight equilibrium were determined thereafter, so the equilibrium is disturbed by the change in the relative vapor pressure when measuring the equilibrium data. Not only can accurate data be obtained, but the measurement time can be shortened.
また、試料の乾燥時に、予め設定された一定時間経過の
間の試料重量の変化が予め設定された許容量以内であっ
た場合に平衡と判定する判断を、サンプリング同期毎に
逐次行って重量平衡を検知するようにしたので、所定の
重量平衡の条件が満たされたとき即座に重量平衡が検知
されるため、乾燥に要する時間を最小限にして測定時間
を短縮することができる。When drying the sample, if the change in the sample weight within a preset time period is within the preset allowable amount, the equilibrium judgment is sequentially performed for each sampling synchronization. Since the weight balance is detected immediately when the predetermined weight balance condition is satisfied, the time required for drying can be minimized and the measurement time can be shortened.
第1図は本発明の吸着平衡測定装置の構成図、 第2図は本発明による吸着平衡測定装置の一実施例を示
す図、 第3図は実施例における計測手段の詳細を示す図、 第4図は実施例における計測回路を示す図、 第5a図〜第5h図は実施例における制御を示すフローチャ
ート、 第6図は実施例における相対蒸気圧と試料重量の経時的
変化の一例を示す図、 第7図は実施例の乾燥過程における試料重量の変化と重
量平衡の判断を説明する図、 第8図は本発明による吸着平衡測定装置の他の実施例を
示す図、 第9図は従来の制御による相対蒸気圧と試料重量の経時
変化を示す図、 第10図は従来の乾燥過程における試料重量の変化と重量
平衡の判断を説明する図、 第11図は一括導入と分割導入を行った場合の相対蒸気圧
の計時的変化の一例を示す図である。 10……真空容器、11……ガス吸着室、14……電子計量
器、15……測定制御部、16…圧力センサ、18……温度セ
ンサ。FIG. 1 is a block diagram of an adsorption equilibrium measuring device of the present invention, FIG. 2 is a diagram showing an embodiment of an adsorption equilibrium measuring device of the present invention, and FIG. 3 is a diagram showing details of measuring means in the embodiment. FIG. 4 is a diagram showing a measuring circuit in the embodiment, FIGS. 5a to 5h are flow charts showing control in the embodiment, and FIG. 6 is a diagram showing an example of changes with time in relative vapor pressure and sample weight in the embodiment. FIG. 7 is a diagram for explaining changes in sample weight and determination of weight balance in the drying process of the embodiment, FIG. 8 is a view for showing another embodiment of the adsorption equilibrium measuring device according to the present invention, and FIG. 9 is conventional. Fig. 10 is a diagram showing changes in relative vapor pressure and sample weight over time under the control of Fig. 10, Fig. 10 is a diagram for explaining changes in sample weight and judgment of weight balance in the conventional drying process, and Fig. 11 shows batch introduction and divided introduction. FIG. 6 is a diagram showing an example of a time-dependent change in relative vapor pressure when . 10 ... vacuum container, 11 ... gas adsorption chamber, 14 ... electronic measuring instrument, 15 ... measurement control section, 16 ... pressure sensor, 18 ... temperature sensor.
Claims (4)
試料の重量平衡を検知するまで該試料を乾燥し、前記気
密容器内に溶媒蒸気を導入して前記試料による該溶媒蒸
気の吸着過程の平衡状態を検知して吸着等温線を測定す
る吸着平衡測定方法において、 試料乾燥後、上記気密容器内の相対蒸気圧が予め設定さ
れた相対蒸気圧以上になるまで該気密容器内に溶媒蒸気
を導入し、該気密容器内の相対蒸気圧が予め設定された
一定時間予め設定された許容範囲内に維持されるまで上
記溶媒蒸気の導入を繰り返し、その後溶媒蒸気の導入を
停止して気密容器内の相対蒸気圧の平衡を判定するとと
もに予め設定された平衡重量許容値および平衡重量安定
時間にもとづいて重量平衡を判定して吸着等温線を測定
するようにしたことを特徴とする吸着平衡測定方法。1. An airtight container containing a sample is evacuated to dry the sample until the weight balance of the sample is detected, and a solvent vapor is introduced into the airtight container to adsorb the solvent vapor by the sample. In the adsorption equilibrium measurement method for measuring the adsorption isotherm by detecting the equilibrium state of the process, after the sample is dried, the solvent in the airtight container until the relative vapor pressure in the airtight container becomes equal to or higher than the preset relative vapor pressure. The vapor is introduced, and the introduction of the solvent vapor is repeated until the relative vapor pressure in the airtight container is maintained within a preset allowable range for a preset period of time. Adsorption equilibrium characterized by determining the equilibrium of the relative vapor pressure in the container and determining the weight equilibrium based on the preset equilibrium weight tolerance and the equilibrium weight stabilization time to measure the adsorption isotherm. Measuring method.
試料の重量平衡を検知するまで該試料を乾燥し、前記気
密容器内に溶媒蒸気を導入して前記試料による該溶媒蒸
気の吸着過程の平衡状態を検知して吸着等温線を測定す
る吸着平衡測定方法において、 前記試料の乾燥時に、予め設定された一定時間経過の間
の試料重量の変化が予め設定された許容量以内であった
場合に平衡と判定する判断を、予め設定された一定の周
期で行って重量平衡を検知することを特徴とする吸着平
衡測定方法。2. An airtight container containing a sample is evacuated to dry the sample until the weight balance of the sample is detected, and a solvent vapor is introduced into the airtight container to adsorb the solvent vapor by the sample. In an adsorption equilibrium measuring method for detecting an adsorption isotherm by detecting an equilibrium state of a process, when the sample is dried, a change in sample weight during a preset time period is within a preset allowable amount. A method for measuring adsorption equilibrium, characterized in that the weight equilibrium is detected by making a determination that equilibrium has occurred in a preset fixed cycle.
着等温線を測定する装置であって、 前記気密容器内の圧力を検出する圧力検出手段と、 前記試料の重量を検出する重量検出手段と、 上記圧力検出手段および重量検出手段で検出された圧力
データおよび重量データを予め設定された一定の周期で
サンプリングするデータサンプリング手段と、 上記データサンプリング手段によって得られた検出デー
タをサンプリング順序に対応して記憶する記憶手段と、 上記記憶手段と記憶された圧力データおよび重量データ
のそれぞれについて、予め設定された一定時間差に対応
する新旧の検出データを読み出し、その新旧の検出デー
タの差を予め設定された値とを比較をする比較手段と、 試料乾燥後、前記圧力検出手段の検出データが予め設定
された値以上になるまで溶媒蒸気の導入を行い、その後
上記比較手段の比較結果に基づいて溶媒蒸気の導入と停
止を制御し、その後、上記比較手段の圧力データについ
ての比較結果に基づいて相対蒸気圧の平衡を判定すると
ともに、上記比較手段の重量データについての比較結果
に基づいて重量平衡を判定する制御手段と、 を備えたことを特徴とする吸着平衡測定装置。3. An apparatus for measuring an adsorption isotherm by the adsorption equilibrium measuring method according to claim 1, wherein the pressure detecting unit detects a pressure in the airtight container, and the weight detecting unit detects a weight of the sample. A data sampling means for sampling the pressure data and the weight data detected by the pressure detecting means and the weight detecting means at a preset constant cycle; and the detection data obtained by the data sampling means corresponding to the sampling order. For each of the pressure data and the weight data stored in the storage means, the old and new detection data corresponding to a preset fixed time difference is read out, and the difference between the new and old detection data is set in advance. After the sample is dried, the detection data of the pressure detection means is set in advance. The solvent vapor is introduced until it becomes equal to or more than the specified value, and then the introduction and stop of the solvent vapor are controlled based on the comparison result of the comparison means, and then the relative vapor is calculated based on the comparison result of the pressure data of the comparison means. An adsorption equilibrium measurement device comprising: a control unit that determines the pressure equilibrium and determines the weight equilibrium based on the comparison result of the weight data of the comparison unit.
い、前記比較手段の重量データについての比較結果に基
づいて重量平衡を判定し、この判定によって重量平衡を
検知すると上記気密容器の排気を停止するものであるこ
とを特徴とする請求項3記載の吸着平衡測定装置。4. The air-tight container is evacuated by the control means, the weight balance is judged based on a comparison result of the weight data of the comparison means, and when the weight balance is detected by this judgment, the air-tight container is evacuated. The adsorption equilibrium measuring device according to claim 3, characterized in that
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9016788A JPH07119682B2 (en) | 1988-04-14 | 1988-04-14 | Adsorption equilibrium measurement method and adsorption equilibrium measurement device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9016788A JPH07119682B2 (en) | 1988-04-14 | 1988-04-14 | Adsorption equilibrium measurement method and adsorption equilibrium measurement device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01262437A JPH01262437A (en) | 1989-10-19 |
| JPH07119682B2 true JPH07119682B2 (en) | 1995-12-20 |
Family
ID=13990928
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9016788A Expired - Fee Related JPH07119682B2 (en) | 1988-04-14 | 1988-04-14 | Adsorption equilibrium measurement method and adsorption equilibrium measurement device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07119682B2 (en) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012189425A (en) * | 2011-03-10 | 2012-10-04 | Japan Atomic Energy Agency | Measuring apparatus for element adsorption/desorption amount |
| US12000855B2 (en) * | 2021-05-10 | 2024-06-04 | University Of Wyoming | Automated apparatus for characterization of fluid-solid systems |
-
1988
- 1988-04-14 JP JP9016788A patent/JPH07119682B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01262437A (en) | 1989-10-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5637810A (en) | Apparatus and method for efficient determination of equilibrium adsorption isotherms at low pressures | |
| US6981426B2 (en) | Method and apparatus to measure gas amounts adsorbed on a powder sample | |
| JP2881242B2 (en) | Device for measuring adsorption and desorption and method for measuring adsorption and desorption | |
| TW522228B (en) | Vacuum sensor | |
| US4454748A (en) | Apparatus for measuring the content of hydrogen dissolved in a molten metal | |
| EP0083472B1 (en) | Automatic mass spectrometer inlet system | |
| US3262319A (en) | Method and apparatus for obtaining data for determining surface area and pore volume | |
| US5360743A (en) | Method for measuring a sample sorption and a sample cell void volume and wall adsorption using an adsorbate gas | |
| JPH07119682B2 (en) | Adsorption equilibrium measurement method and adsorption equilibrium measurement device | |
| US4972730A (en) | System for dosing and determining saturation pressure in a volumetric sorption analyzer | |
| CN207488217U (en) | The apparent thermal conductivity of multilayer insulant and outgassing rate test device | |
| US4709579A (en) | Measurement of moisture content | |
| CN109752442A (en) | A kind of high pressure gas Trace Components detection device and method based on absorption enrichment principle | |
| JP6161640B2 (en) | Apparatus and method for measuring a sorption process by calorimetry | |
| CN113740202B (en) | Volumetric adsorption measurement method and device | |
| CN119595489A (en) | A method for detecting the adsorption capacity of hydrogen adsorbent | |
| US4671099A (en) | Device for measuring the thermodynamic characteristics of a fluid | |
| CN112666041A (en) | Novel experimental method for detecting performance of adsorbent | |
| CN111751246A (en) | A gas supply method and device for detecting hydrogen content in solid metal | |
| US3943774A (en) | Precision temperature control | |
| KR20250103629A (en) | Carrier gas leak detection system and carrier gas leak detection method for leak detection of test specimen | |
| JPH0562934B2 (en) | ||
| Duisterwinkel et al. | Water sorption measured by sorption calorimetry | |
| JP2000292246A (en) | Automatic measuring apparatus for adsorption amount by gravimetric method | |
| JP2779913B2 (en) | Pore distribution measuring device and metering injector |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |