Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JPH07119895B2 - Beam splitter - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JPH07119895B2 - Beam splitter - Google Patents

Beam splitter

Info

Publication number
JPH07119895B2
JPH07119895B2 JP3130696A JP13069691A JPH07119895B2 JP H07119895 B2 JPH07119895 B2 JP H07119895B2 JP 3130696 A JP3130696 A JP 3130696A JP 13069691 A JP13069691 A JP 13069691A JP H07119895 B2 JPH07119895 B2 JP H07119895B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
beam splitter
film
prism
distance
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP3130696A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH04331910A (en
Inventor
良幸 大竹
豊 溝渕
広次 村木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hamamatsu Photonics KK
Original Assignee
Hamamatsu Photonics KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hamamatsu Photonics KK filed Critical Hamamatsu Photonics KK
Priority to JP3130696A priority Critical patent/JPH07119895B2/en
Publication of JPH04331910A publication Critical patent/JPH04331910A/en
Publication of JPH07119895B2 publication Critical patent/JPH07119895B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はビ−ムスプリッタに関す
るものであり、さらに詳しくは一定の波長の入射光に対
し透過光と反射光の強度比を変化させることができるよ
うにしたビ−ムスプリッタに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a beam splitter, and more particularly to a beam splitter capable of changing the intensity ratio of transmitted light and reflected light with respect to incident light having a constant wavelength. It is about the splitter.

【0002】[0002]

【従来の技術】ビ−ムスプリッタとは、入射光を二つに
分ける光学素子であり、種々の型があるが、その一つと
して一対の直角プリズムを用いたものが知られている。
これは、一対の直角プリズムの斜面どうしを張り合わ
せ、その斜面間に光の一部を反射し残りを透過させる膜
を形成させたものである。このタイプのビ−ムスプリッ
タ30を図6に示す。入射光35は、直角プリズム31
に入射すると反射・透過膜33で一部が反射され、残り
が透過して他の直角プリズム32に至る。そして、反射
光36がプリズム31より、また透過光37がプリズム
32より、互いに直角の方向に出射して、入射光の分離
が行われる。
2. Description of the Related Art A beam splitter is an optical element that divides incident light into two, and there are various types, and one of which uses a pair of right-angle prisms is known.
This is one in which the slanting surfaces of a pair of right-angle prisms are bonded together, and a film is formed between the slanting surfaces to reflect a part of light and transmit the rest. A beam splitter 30 of this type is shown in FIG. Incident light 35 is reflected by right-angle prism 31.
When the light is incident on, a part of the light is reflected by the reflection / transmission film 33, and the rest is transmitted to reach another rectangular prism 32. Then, the reflected light 36 is emitted from the prism 31 and the transmitted light 37 is emitted from the prism 32 in directions orthogonal to each other, and the incident light is separated.

【0003】かかるビ−ムスプリッタでは、斜面間に形
成される反射・透過膜として通常多層膜が用いられる。
この多層膜は、使用する入射光の波長、入射角度に合わ
せて所望の透過光と入射光の強度比を得られるように材
質、厚さ等が決められている。したがって、特定のビ−
ムスプリッタに対しては、透過率と反射率の比が入射光
の波長に対して一義的に決まってしまう。そこで、入射
光の波長および得ようとする透過率と反射率の比にあわ
せて反射・透過膜を変更した種々のビ−ムスプリッタが
作製され各種用途に供されている。
In such a beam splitter, a multilayer film is usually used as a reflection / transmission film formed between slopes.
The material and thickness of this multilayer film are determined so as to obtain a desired intensity ratio of transmitted light and incident light according to the wavelength and incident angle of incident light used. Therefore, the specific
For a splitter, the ratio of transmittance to reflectance is uniquely determined with respect to the wavelength of incident light. Therefore, various beam splitters in which the reflection / transmission film is changed according to the wavelength of incident light and the ratio of the transmittance and the reflectance to be obtained are manufactured and used for various purposes.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】このように、従来のビ
−ムスプリッタでは、入射光の波長に対して透過光と反
射光の強度比が決まってしまう。したがって、一定の波
長の入射光に対し透過光と反射光の強度比を変更したい
場合には、ビ−ムスプリッタ自体を交換しなければなら
なかった。また、強度比を一定に保ちつつ使用する入射
光の波長を変更する場合にも、ビ−ムスプリッタ自体を
交換しなければならなかった。このため、入射光の波長
および所望の反射光と透過光の強度比に対応した数のビ
−ムスプリッタを用意しておかなければならず、コスト
がかさんでいた。また、入射光の波長および得ようとす
る反射光と透過光の強度比を変更する度に、ビ−ムスプ
リッタを交換しなければならず、不便であった。
As described above, in the conventional beam splitter, the intensity ratio of transmitted light and reflected light is determined with respect to the wavelength of incident light. Therefore, when it is desired to change the intensity ratio of transmitted light and reflected light with respect to incident light having a constant wavelength, the beam splitter itself must be replaced. Further, when changing the wavelength of incident light to be used while keeping the intensity ratio constant, the beam splitter itself must be replaced. Therefore, it is necessary to prepare a number of beam splitters corresponding to the wavelength of the incident light and the desired intensity ratio of the reflected light and the transmitted light, which is expensive. Further, the beam splitter has to be replaced every time the wavelength of the incident light and the intensity ratio of the reflected light and the transmitted light to be obtained are changed, which is inconvenient.

【0005】一方、図6に示すような従来のビ−ムスプ
リッタでも、入射光の入射角を変更すれば、一定の入射
光の波長に対しても反射光と透過光の強度比を変更する
ことができる。しかし、この場合には、透過光および反
射光の出射方向が変化してしまうため受光素子の位置を
変更しなければならなかった。かかる位置変更は微妙な
ものであるため、面倒であり、位置変更のための装置が
複雑なものとなってしまう。
On the other hand, even in the conventional beam splitter as shown in FIG. 6, if the incident angle of the incident light is changed, the intensity ratio of the reflected light and the transmitted light is changed for a constant wavelength of the incident light. be able to. However, in this case, since the outgoing directions of the transmitted light and the reflected light change, the position of the light receiving element has to be changed. Since such a position change is delicate, it is troublesome and a device for changing the position becomes complicated.

【0006】更に、入射角を変更することなく反射光と
透過光の強度比を変化させる方法として、偏光ビ−ムス
プリッタと1/2波長板を組み合わせたものがある。こ
れは、偏光ビ−ムスプリッタと光源との間に1/2波長
板を配置し、1/2波長板を回転させることにより入射
光の偏光面を回転させ、偏光ビ−ムスプリッタからの透
過光(p偏光)と反射光(s偏光)の強度比を変化させ
るものである。しかし、かかる偏光ビ−ムスプリッタを
用いる場合には、入射光は直線偏光でなくてはならず、
また、1/2波長板と組み合わせて用いねばならず、装
置が大型・複雑化しコストがかさむことになっていた。
Further, as a method of changing the intensity ratio of the reflected light and the transmitted light without changing the incident angle, there is a combination of a polarization beam splitter and a 1/2 wavelength plate. This is because a half-wave plate is placed between the polarization beam splitter and the light source, and the half-wave plate is rotated to rotate the plane of polarization of the incident light so that the light is transmitted from the polarization beam splitter. The intensity ratio of light (p-polarized light) and reflected light (s-polarized light) is changed. However, when using such a polarization beam splitter, the incident light must be linearly polarized light,
In addition, the apparatus has to be used in combination with a half-wave plate, and the size and complexity of the apparatus have been increased, resulting in increased cost.

【0007】従って本発明の目的は、上述した問題点を
解決するためになされたもので、簡単な構成で、一定の
波長の入射光に対し透過光と反射光の強度比を変化させ
ることができるビ−ムスプリッタを提供することであ
る。
Therefore, an object of the present invention is to solve the above-mentioned problems, and it is possible to change the intensity ratio of transmitted light and reflected light with respect to incident light of a certain wavelength with a simple structure. It is to provide a beam splitter capable of doing so.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本発明のビームスプリッタは、それぞれの面と面を対向
配置した一対の光学ブロックと、該面と面との間の光ビ
ームの光路部分を除いた領域にのみ設けられた弾性体
と、該弾性体に該面と垂直な方向へ力を加える手段とを
有し、該面間距離を変化させることによって透過光と反
射光の強度比を変化させるようにしたことを特徴とす
る。
In order to achieve the above object, a beam splitter of the present invention comprises a pair of optical blocks each having a surface facing each other, and an optical path portion of a light beam between the surfaces. an elastic body provided only in a region excluding, and means for applying a force to the elastic body to said surface perpendicular direction, the intensity ratio of the reflected light and transmitted light by changing the said surface distance It is characterized by changing the.

【0009】ここで、光学ブロックの各々の面の間の光
ビームの光路部分には、光学ブロックより屈折率が低い
層が設けられており、その光学ブロックに入射した入射
光がその光学ブロックの該一の面に対し全反射条件を満
たしながら出射するようになっている。
Here, the light between each surface of the optical block is
A layer having a refractive index lower than that of the optical block is provided in the optical path portion of the beam so that the incident light entering the optical block is emitted to the one surface of the optical block while satisfying the total reflection condition. Has become.

【0010】この低屈折率層は、その光学ブロックの屈
折率より低い屈折率を有するのであれば、空気でもよ
い。
The low refractive index layer may be air as long as it has a refractive index lower than that of the optical block.

【0011】[0011]

【作用】入射光が、一方の光学ブロックに入射しその後
該一の面に対し全反射条件を満たしながら出射する場合
には、その面で全反射をする。しかし、このとき同時
に、エバネッセント波がその面の向こう側、すなわち、
その光学ブロックの外側に生じる。かかるエバネッセン
ト波の電界は、当該面から距離が離れるにしたがって指
数関数的に減少する性質を有する。しかして、他方の光
学ブロックの該一の面がその光学ブロックのその面に対
向させて配置されている。したがって、この面間距離に
対応した量の電界を有するエバネッセント波が該他方の
光学ブロックに捉えられ、透過光としてその光学ブロッ
ク内を伝搬し出射することになる。そして、この光学ブ
ロックに捉えられなかったエバネッセント波は、最初の
光学ブロックの該一の面で反射された反射光となってそ
の光学ブロック内を伝搬し出射する。
When incident light enters one optical block and then exits while satisfying the total reflection condition for the one surface, total reflection is performed on that surface. But at the same time, the evanescent wave is on the other side of the plane, that is,
It occurs outside the optical block. The electric field of the evanescent wave has a property of exponentially decreasing as the distance from the surface increases. Then, the one surface of the other optical block is arranged to face the surface of the optical block. Therefore, an evanescent wave having an electric field of an amount corresponding to the inter-plane distance is captured by the other optical block, propagates in the optical block as transmitted light, and is emitted. Then, the evanescent wave that is not captured by this optical block becomes reflected light reflected by the one surface of the first optical block, propagates in the optical block, and is emitted.

【0012】該一対の光学ブロックの各々の面の間に設
けられた弾性体にこれらの面に対して垂直な方向へ力を
加えると、この弾性体に弾性変形が生じ、光学ブロック
の面間距離を可逆的に変化させることができる。ここ
で、この面間距離に対応した電界を有するエバネッセン
ト波が透過光として伝搬することになり、反射光の強度
も変化する。したがって、透過光と反射光の強度比が変
化することになる。
When a force is applied to an elastic body provided between the respective surfaces of the pair of optical blocks in a direction perpendicular to these surfaces, the elastic body is elastically deformed, and the space between the surfaces of the optical blocks. The distance can be changed reversibly. Here, an evanescent wave having an electric field corresponding to this inter-plane distance propagates as transmitted light, and the intensity of reflected light also changes. Therefore, the intensity ratio of transmitted light and reflected light changes.

【0013】本発明では、このように面間距離の変更を
弾性体の弾性変形により行うことにしたので、面間距離
を連続的に変更することができる。ゆえに、面間距離を
微妙に変化させることにより、そのわずかな変動で指数
関数的に急激に減少するエバネッセント波の電界の変化
をとらえることが可能となり、透過光の強度を変化させ
ることができる。
According to the present invention, since the interplanar distance is changed by elastically deforming the elastic body as described above, the interplanar distance can be continuously changed. Therefore, by slightly changing the interplanar distance, it is possible to catch the change in the electric field of the evanescent wave that exponentially sharply decreases with a slight change, and it is possible to change the intensity of the transmitted light.

【0014】したがって、本発明のビ−ムスプリッタに
よれば、簡易な構成で一定波長の入射光に対して反射光
と透過光の強度比を変更させることができる。
Therefore, according to the beam splitter of the present invention, it is possible to change the intensity ratio of the reflected light and the transmitted light with respect to the incident light having a constant wavelength with a simple structure.

【0015】[0015]

【実施例】以下、本発明の実施例について図を参照して
詳細に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0016】図1は本発明の第一の実施例たるビ−ムス
プリッタ20を説明する図である。ビ−ムスプリッタ2
0は、それぞれの斜面1a及び2aを対向させて配置さ
れた一対の直角プリズム1及び2と、これら斜面間に設
けられたLB膜(Langmuir-Blodgett膜)3と、これら
プリズムを保持するためのホルダ−4とからなる。この
ホルダ−4は、支持枠10とこれに支持されてプリズム
1及び2をそれぞれ挟持する挟持部8b及び8aとから
なる。そして、この挟持部8aには支持枠10に螺合さ
れたネジ9が接合されている。
FIG. 1 is a diagram for explaining a beam splitter 20 which is a first embodiment of the present invention. Beam splitter 2
Reference numeral 0 denotes a pair of right-angle prisms 1 and 2 arranged with their respective slopes 1a and 2a facing each other, an LB film (Langmuir-Blodgett film) 3 provided between these slopes, and a prism for holding these prisms. It consists of holder-4. The holder 4 includes a support frame 10 and holding portions 8b and 8a supported by the support frame 10 and holding the prisms 1 and 2, respectively. A screw 9 screwed into the support frame 10 is joined to the holding portion 8a.

【0017】直角プリズム1及び2の斜面1a及び2a
の一方または両方には、光路となる中心部分を除きLB
膜3を形成してある。ホルダ−4の挟持部8b及び8a
が、プリズム1及び2の直角部分1b及び2bをそれぞ
れ挟持している。このうち、挟持部8bは、ホルダ−4
の支持枠10に固着されている。一方、挟持部8aはネ
ジ9に接合されており、このネジ9が支持枠10に形成
されたネジ孔に螺合されている。このネジ9はプリズム
の斜面1a及び2aに対し垂直な方向に延びており、そ
の回転により斜面1a及び2aに対し垂直な方向に移動
する。かかるネジ9及び挟持部8aの移動によりプリズ
ム2を介してLB膜3に引張力または圧縮力が加えられ
る。その結果、LB膜3が弾性変形し、斜面1aと2a
の距離を変化させることができる。この面間距離の変化
は、LB膜の弾性変形を利用しているものであるため、
可逆的であり、かつ、微妙な変化が可能である。
Slopes 1a and 2a of the right angle prisms 1 and 2
One or both of them have the LB except for the central part which becomes the optical path.
The film 3 is formed. Holding part 8b and 8a of holder-4
, Sandwiches the right-angled portions 1b and 2b of the prisms 1 and 2, respectively. Of these, the holding portion 8b is a holder-4.
It is fixed to the support frame 10 of. On the other hand, the holding portion 8a is joined to a screw 9, and the screw 9 is screwed into a screw hole formed in the support frame 10. The screw 9 extends in a direction perpendicular to the slopes 1a and 2a of the prism, and its rotation moves in a direction perpendicular to the slopes 1a and 2a. A tensile force or a compressive force is applied to the LB film 3 via the prism 2 by the movement of the screw 9 and the holding portion 8a. As a result, the LB film 3 is elastically deformed, and the slopes 1a and 2a are
The distance can be changed. This change in the interplanar distance uses the elastic deformation of the LB film,
It is reversible and capable of subtle changes.

【0018】ビ−ムスプリッタ20は、入射光5がプリ
ズム1にその入射面1cを通して入射し、斜面1aに至
るように配置される。また、入射光5が斜面1aにおい
て全反射条件を満たすように、プリズムの材質が選択さ
れている。すなわち、入射光5の波長に対し、プリズム
1の屈折率をn1、斜面1aおよび2aの間に形成され
た層の屈折率をn2とし、かつ、斜面1aへの入射光の
入射角をθ1とすると、下記の数式1となっている。な
お、本実施例においては、斜面1aと2aの間の光路部
分には何も設けられていないので、ビ−ムスプリッタ2
0を空気中に置いた場合にはそこには空気が満たされて
いることになる。ゆえに、n2は約1である。また、入
射光5がプリズム1の入射面1cに垂直に入射するよう
にビ−ムスプリッタ20が配置されているので、入射角
θ1は45度である。以上より、n1は下記の数式2を満
たすものでなければならない。そこで、本実施例におい
ては、プリズム1及び2として、屈折率n1が入射光の
広い波長の範囲に対して1.5より大きいBK7ガラス
(光学ガラスの一種であるホウケイ酸塩クラウンガラス
の一つ)を使用している。したがって、種々の波長の入
射光に対して全反射条件を満足させることができる。
The beam splitter 20 is arranged so that the incident light 5 enters the prism 1 through its incident surface 1c and reaches the inclined surface 1a. Further, the material of the prism is selected so that the incident light 5 satisfies the condition of total reflection on the slope 1a. That is, for the wavelength of the incident light 5, the refractive index of the prism 1 is n 1 , the refractive index of the layer formed between the slopes 1a and 2a is n 2 , and the incident angle of the incident light on the slope 1a is When θ 1 is set, the following formula 1 is obtained. In this embodiment, the beam splitter 2 has no light path portion between the slopes 1a and 2a.
When 0 is placed in the air, it is filled with air. Therefore, n 2 is about 1. Further, since the beam splitter 20 is arranged so that the incident light 5 is vertically incident on the incident surface 1c of the prism 1, the incident angle θ 1 is 45 degrees. From the above, n 1 must satisfy the following formula 2. Therefore, in this embodiment, as the prisms 1 and 2, a BK7 glass (a borosilicate crown glass which is a kind of optical glass) having a refractive index n 1 of greater than 1.5 in a wide wavelength range of incident light is used. One) is used. Therefore, it is possible to satisfy the total reflection condition with respect to incident light of various wavelengths.

【0019】[0019]

【数1】n1sinθ1>n2 [Formula 1] n 1 sin θ 1 > n 2

【0020】[0020]

【数2】n1>21/22=21/2 [Equation 2] n 1 > 2 1/2 n 2 = 2 1/2

【0021】本第一実施例によれば、LB膜3の弾性変
形に基づいてプリズムの斜面1aと2aの間の距離を変
化させ、透過光と反射光の強度比を変化させる。以下、
この原理について説明する。
According to the first embodiment, the distance between the inclined surfaces 1a and 2a of the prism is changed based on the elastic deformation of the LB film 3 to change the intensity ratio of transmitted light and reflected light. Less than,
This principle will be described.

【0022】入射光5が全反射条件を満たして斜面1a
に達すると、図3Aに示されるように、エバネッセント
波が斜面1aの向こう側、すなわちプリズム1の外側に
生じる。従って、プリズム2が存在しない場合には、入
射光5は、エバネッセント波を生じさせた後、反射光6
として再びプリズム1内を伝搬して出射面1dより射出
する。このエバネッセント波の電界Eは、図3Bに示さ
れるように斜面1aから離れるにしたがって指数関数的
に減少する性質を有し、下記の数式3で与えられる。こ
こで、xは斜面1aからの距離、E0は入射光5の電
界、n2はプリズム1の斜面1aの外側の屈折率、λは
入射光5の真空における波長である。
Incident light 5 satisfies the condition of total reflection and slope 1a
3A, an evanescent wave is generated on the other side of the slope 1a, that is, outside the prism 1, as shown in FIG. 3A. Therefore, when the prism 2 is not present, the incident light 5 causes the evanescent wave and then the reflected light 6
Then, the light propagates through the prism 1 again and exits from the exit surface 1d. The electric field E of the evanescent wave has a property of exponentially decreasing with distance from the slope 1a as shown in FIG. 3B, and is given by the following mathematical formula 3. Here, x is the distance from the inclined surface 1a, E 0 is the electric field of the incident light 5, n 2 is the refractive index outside the inclined surface 1a of the prism 1, and λ is the wavelength of the incident light 5 in vacuum.

【0023】[0023]

【数3】E=E0exp(−2πn2x/λ)[Equation 3] E = E 0 exp (−2πn 2 x / λ)

【0024】エバネッセント波が生じているところに、
図3Aに示されるように、プリズム2を近づけていく
と、その斜面2aにおいてエバネッセント波の一部がプ
リズム2に捉えられる。そして、プリズム2内を透過光
として伝搬して、出射面2cより出射することになる。
この透過光の電界は、斜面2aの位置におけるエバネッ
セント波の電界に等しい。したがって、透過光の電界
は、図3Bにおいて、xを斜面1a及び2aの間隔とし
た場合の電界Eと等しく、上記の数式3で与えられる。
また、透過光の強度I1は、電界の2乗に等しいため、
下記の数式4で与えられる。
Where an evanescent wave is generated,
As shown in FIG. 3A, when the prism 2 is moved closer, a part of the evanescent wave is captured by the prism 2 on the slope 2a. Then, the light propagates through the prism 2 as transmitted light and is emitted from the emission surface 2c.
The electric field of the transmitted light is equal to the electric field of the evanescent wave at the position of the slope 2a. Therefore, the electric field of the transmitted light is equal to the electric field E when x is the distance between the slopes 1a and 2a in FIG. 3B, and is given by the above mathematical expression 3.
Since the intensity I 1 of transmitted light is equal to the square of the electric field,
It is given by Equation 4 below.

【0025】[0025]

【数4】I1=|E|2=E0 2exp(−4πn2x/
λ)
## EQU4 ## I 1 = | E | 2 = E 0 2 exp (-4πn 2 x /
λ)

【0026】一方、透過光としてプリズム2に捉えられ
なかったエバネッセント波は、図3Aに示されるよう
に、反射光6としてプリズム1中を伝搬し出射面1dよ
り出射することになる。ここで、入射光の強度がI
0(=|E02)とすると、反射光の強度I2は、下記の
数式5で与えられる。したがって、透過光と反射光の強
度比I1/I2は、下記の数式6で与えられる。
On the other hand, the evanescent wave that is not captured by the prism 2 as transmitted light propagates in the prism 1 as reflected light 6 and is emitted from the emission surface 1d as shown in FIG. 3A. Here, the intensity of the incident light is I
Assuming that 0 (= | E 0 | 2 ), the intensity I 2 of the reflected light is given by Equation 5 below. Therefore, the intensity ratio I 1 / I 2 of the transmitted light and the reflected light is given by the following Equation 6.

【0027】[0027]

【数5】I2=I0−I1=E0 2{1−exp(−4πn2
x/λ)}
## EQU5 ## I 2 = I 0 -I 1 = E 0 2 {1-exp (-4πn 2
x / λ)}

【0028】[0028]

【数6】I1/I2=E0 2exp(−4πn2x/λ)/
0 2{1−exp(−4πn2x/λ)}=exp(−
4πn2x/λ)/{1−exp(−4πn2x/λ)}
## EQU6 ## I 1 / I 2 = E 0 2 exp (-4πn 2 x / λ) /
E 0 2 {1-exp (-4πn 2 x / λ)} = exp (-
4πn 2 x / λ) / {1-exp (-4πn 2 x / λ)}

【0029】このように、透過光と反射光の強度比は斜
面1a及び2aの間の距離xに従って変化する。つま
り、斜面間距離xを小さくすればするほど、透過光の強
度が大きくなり、反射光の強度が小さくなる。また、逆
に斜面間距離を大きくすればするほど、透過光の強度が
小さくなり、反射光の強度が大きくなる。
As described above, the intensity ratio of the transmitted light and the reflected light changes according to the distance x between the slopes 1a and 2a. That is, the smaller the inter-slope distance x, the greater the intensity of transmitted light and the less intensity of reflected light. On the contrary, the larger the distance between the slopes, the smaller the intensity of the transmitted light and the greater the intensity of the reflected light.

【0030】本発明においては、斜面1aおよび2aの
間に形成された弾性体たるLB膜3にネジ9の回転によ
り力を加えそれを弾性変形させることによって、斜面間
距離を変化させる。ネジ9を支持枠10に対し締め付け
る方向へ回転させると、透過光の強度が次第に大きくな
り、反射光の強度が小さくなる。逆に、ネジ9を支持枠
10に対し、弱める方向に回転させると透過光の強度が
次第に小さくなり、反射光の強度が大きくなる。
In the present invention, the distance between the slopes is changed by applying a force to the LB film 3 as an elastic body formed between the slopes 1a and 2a by the rotation of the screw 9 to elastically deform it. When the screw 9 is rotated in the tightening direction with respect to the support frame 10, the intensity of transmitted light gradually increases and the intensity of reflected light decreases. On the contrary, when the screw 9 is rotated in the weakening direction with respect to the support frame 10, the intensity of the transmitted light gradually decreases and the intensity of the reflected light increases.

【0031】本実施例においては、このように、LB膜
3の弾性変形によって斜面間距離を変動させることにし
たので、距離の微妙な調整が可能である。また、ネジ9
を用いて膜に力を与えることにしたので、連続的に力
を、ひいては面間距離を変化させることができる。ま
た、弾性変形は可逆的なものであるため、いったん圧縮
力を与えて圧縮させ斜面間距離を減少させた後、その力
を小さくしていけば、弾性膜は確実に延びて斜面間距離
を増大させることができる。さらに、加える力と圧縮量
は、弾性変形においては一対一で決定されるから、加え
る力を調整することで、斜面間距離を調整することがで
き、もって、所望の透過光と反射光の強度比が得られ
る。
In this embodiment, since the distance between the slopes is changed by the elastic deformation of the LB film 3 as described above, the distance can be finely adjusted. Also, screw 9
Since the force is applied to the film by using, it is possible to continuously change the force and thus the interplanar distance. In addition, since elastic deformation is reversible, once the compressive force is applied to compress and reduce the distance between the slopes, if the force is reduced, the elastic membrane will surely extend and reduce the distance between the slopes. Can be increased. Furthermore, since the applied force and the amount of compression are determined one-to-one in elastic deformation, it is possible to adjust the distance between the slopes by adjusting the applied force, and thus the desired intensity of transmitted light and reflected light. The ratio is obtained.

【0032】ここで、本実施例のLB膜3は、アラキジ
ン酸カドミウム((C1939COO)2Cd)より形成
されたラングミュア−ブロジェット膜(LB膜)であ
り、屈折率が1.52で、厚さは、例えば、2.75[n
m]である。かかるアラキジン酸カドミウムのLB膜3
は、適当な弾性係数を有するため、本発明のビ−ムスプ
リッタ20に用いると、ネジ9の回転に対応して、微妙
に弾性変形を起こす。したがって、プリズム1および2
の斜面1a・2a間の距離xを微妙に変化させることが
できる。よって、透過光7と反射光6の強度比を連続的
に変化させることができる。
Here, the LB film 3 of this embodiment is a Langmuir-Blodgett film (LB film) made of cadmium arachidate ((C 19 H 39 COO) 2 Cd), and has a refractive index of 1. 52, the thickness is, for example, 2.75 [n
m]. LB film 3 of such cadmium arachidate
Has a proper elastic coefficient, and therefore, when used in the beam splitter 20 of the present invention, elastically deforms subtly in response to the rotation of the screw 9. Therefore, prisms 1 and 2
The distance x between the slopes 1a and 2a can be subtly changed. Therefore, the intensity ratio of the transmitted light 7 and the reflected light 6 can be continuously changed.

【0033】本発明者らは、この図1のビ−ムスプリッ
タ20による透過光と反射光の強度比の変化の様子につ
いて以下の実験を行った。ここで、直角プリズム1、2
としては、直角をはさむ各面が一辺31[mm]の正方形で
あるBK7の直角プリズムを用いた。また、入射光の光
源としては、He−Neレ−ザを用いた。この光源によ
り得られる入射光の波長は632.8[nm]で、入射パワ
−は、3.2[mW]であった。アラキジン酸カドミウムの
LB膜を、図4Aに示されるように、プリズム1・2の
斜面1a及び2aのそれぞれの上に2.75[nm]の厚さ
に形成した。したがって、LB膜3の実際の厚さは、
5.5[nm]であった。
The inventors of the present invention conducted the following experiment on the change of the intensity ratio of the transmitted light and the reflected light by the beam splitter 20 of FIG. Here, right angle prisms 1, 2
For this, a right angle prism of BK7 in which each surface sandwiching a right angle is a square having a side of 31 [mm] is used. A He-Ne laser was used as a light source of incident light. The wavelength of incident light obtained by this light source was 632.8 [nm], and the incident power was 3.2 [mW]. An LB film of cadmium arachidate was formed to a thickness of 2.75 [nm] on each of the slopes 1a and 2a of the prisms 1 and 2 as shown in FIG. 4A. Therefore, the actual thickness of the LB film 3 is
It was 5.5 [nm].

【0034】かかる図1のビ−ムスプリッタにおいて、
ネジ9を最初に締めていき、次にゆるめていった。この
実験結果を表1及び図4Bに示す。
In the beam splitter shown in FIG. 1,
The screw 9 was tightened first and then loosened. The results of this experiment are shown in Table 1 and FIG. 4B.

【0035】[0035]

【表1】 [Table 1]

【0036】この表1及び図4Bから明かなように、ネ
ジを締めてLB膜3に与える圧縮力を大きくしていくと
透過率が増大し反射率が減少した。逆に、ネジをゆるめ
てLB膜3に与える圧縮力を小さくしていくと透過率が
減少し反射率が増大した。すなわち、ネジを回転させて
LB膜3に加える力を変化させることにより、透過光と
反射光の強度比が変化することが証明された。
As is clear from Table 1 and FIG. 4B, when the screw is tightened to increase the compressive force applied to the LB film 3, the transmittance is increased and the reflectance is decreased. On the contrary, when the screw was loosened and the compressive force applied to the LB film 3 was reduced, the transmittance decreased and the reflectance increased. That is, it was proved that the intensity ratio of the transmitted light and the reflected light was changed by rotating the screw and changing the force applied to the LB film 3.

【0037】次に本発明の第2実施例について図2を参
照して説明する。第2実施例にかかるビ−ムスプリッタ
20は、第1実施例のビ−ムスプリッタ20とほぼ同様
の構成から成る。なお、第1実施例の構成要素と同様の
構成要素については同一の参照番号を付して説明する。
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The beam splitter 20 according to the second embodiment has substantially the same configuration as the beam splitter 20 according to the first embodiment. The same components as those of the first embodiment will be described with the same reference numerals.

【0038】第2実施例のビ−ムスプリッタ20は、第
1実施例のビ−ムスプリッタ20と同様、一対の直角プ
リズム1及び2とこれを保持するホルダ−4とを有して
いる。弾性体たるLB膜3’がプリズムの斜面1aと2
aの両方または一方の上に設けられている。ここで、こ
のLB膜3’は、第1実施例のLB膜3とは異なり、斜
面1a及び/または2aの全面に形成されている。
The beam splitter 20 of the second embodiment has a pair of right-angled prisms 1 and 2 and a holder 4 for holding the prisms 1 and 2 as in the beam splitter 20 of the first embodiment. The LB film 3'which is an elastic body has the slopes 1a and 2 of the prism.
It is provided on both or one of a. Here, unlike the LB film 3 of the first embodiment, the LB film 3'is formed on the entire surface of the slopes 1a and / or 2a.

【0039】かかる場合には、入射光5がプリズム1と
LB膜3’の界面たる斜面1aで全反射をするように、
プリズム1およびLB膜3’の材料を選択する。たとえ
ば、プリズム1としてSFS1ガラス(光学ガラスの一
種であるフリントガラスの一つ)を、LB膜3’として
パーフルオロ型LB膜を用いる。SFS1ガラスは、広
い波長領域の入射光に対して屈折率nが1.9より大
きいものである。一方、パーフルオロ型LB膜3’と
は、第1実施例のアラキジン酸カドミウムのH−基をF
−基に置換したもの((C1939COO)Cd)
を使用して作製したLB膜である。パーフルオロ型LB
膜3’は、第1実施例のLB膜3とほぼ同程度の厚さを
有している。このLB膜3’は、光が十分透過するもの
である。また、その屈折率nは約1.3である。した
がって、入射光5が入射角45度で斜面1aに入射した
場合には、全反射条件(下記の数式7)を満足すること
になる。
In such a case, the incident light 5 is totally reflected by the inclined surface 1a which is the interface between the prism 1 and the LB film 3 '.
The materials of the prism 1 and the LB film 3'are selected. For example, SFS1 glass (one of flint glass which is a kind of optical glass) is used as the prism 1, and a perfluoro type LB film is used as the LB film 3 ′. The SFS1 glass has a refractive index n 1 larger than 1.9 with respect to incident light in a wide wavelength range. On the other hand, the perfluoro-type LB film 3'is the H-group of the cadmium arachidate as the F-group.
Substituted with a group ((C 19 F 39 COO) 2 Cd)
It is an LB film produced using. Perfluoro LB
The film 3'has approximately the same thickness as the LB film 3 of the first embodiment . The LB film 3'is a material through which light is sufficiently transmitted. The refractive index n 2 is about 1.3. Therefore, when the incident light 5 is incident on the slope 1a at an incident angle of 45 degrees, the total reflection condition (the following formula 7) is satisfied.

【0040】[0040]

【数7】n1>21/22 [Equation 7] n 1 > 2 1/2 n 2

【0041】したがって、入射光5が斜面1aに入射す
るとLB膜3’内にエバネッセント波が生じ、その一部
が斜面2aでプリズム2に捉えられ透過光7としてプリ
ズム2内を伝搬すると同時に、残りがプリズム1内を反
射光6として伝搬することになる。透過光7の電界は、
斜面2aにおけるエバネッセント波の電界に等しい。エ
バネッセント波の電界Eは、既述のように下記の数式8
で与えられる。したがって、斜面1aおよび2a間の距
離xに応じて透過光と反射光の強度比が変化することに
なる。
Therefore, when the incident light 5 is incident on the inclined surface 1a, an evanescent wave is generated in the LB film 3 ', and a part of the evanescent wave is caught by the prism 2 on the inclined surface 2a and propagates as transmitted light 7 in the prism 2 while remaining. Will propagate as reflected light 6 in the prism 1. The electric field of the transmitted light 7 is
It is equal to the electric field of the evanescent wave on the slope 2a. The electric field E of the evanescent wave is, as described above, the following Equation 8
Given in. Therefore, the intensity ratio of the transmitted light and the reflected light changes according to the distance x between the slopes 1a and 2a.

【0042】[0042]

【数8】E=E0exp(−2πn2x/λ)[Equation 8] E = E 0 exp (−2πn 2 x / λ)

【0043】本第2実施例においても、第1実施例と同
様、この斜面間距離は、LB膜3’に弾性変形を生じさ
せることによって変化させる。すなわち、本実施例のパ
−フルオロ型LB膜3’も適当な弾性係数を有するた
め、ホルダ−4のネジ9を回転させプリズム2を介して
これに力を加えることにより、弾性変形が生じ斜面間距
離xを微妙にかつ連続的に変化させることができる。こ
の距離の変化に応じて透過光と反射光の強度比が変化す
るのである。
In the second embodiment, as in the first embodiment, the distance between the slopes is changed by elastically deforming the LB film 3 '. That is, since the perfluoro type LB film 3'of this embodiment also has an appropriate elastic coefficient, elastic deformation occurs by rotating the screw 9 of the holder-4 and applying a force thereto via the prism 2 The distance x can be changed subtly and continuously. The intensity ratio of the transmitted light and the reflected light changes according to the change in the distance.

【0044】なお、本発明のビ−ムスプリッタは、上記
実施例に限定されず、種々の変形が可能である。たとえ
ば、プリズムの斜面間に設ける弾性体は、力を加えるこ
とにより弾性的に変形するものであれば良い。たとえ
ば、弾性材料からなる粒状物、例えばビ−ズを1個また
は複数個配置してもよい。
The beam splitter of the present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made. For example, the elastic body provided between the slopes of the prism may be any that can be elastically deformed by applying a force. For example, one or a plurality of beads, such as beads, made of an elastic material may be arranged.

【0045】また、プリズム1・2についても、直角プ
リズムに限られず、反射面たる平面1a及び入射面たる
平面2aを有するものであれば、さまざまな光学ブロッ
クが使用できる。例えば、ガラス板でもよい。
Further, the prisms 1 and 2 are not limited to the rectangular prism, and various optical blocks can be used as long as they have a flat surface 1a as a reflecting surface and a flat surface 2a as an incident surface. For example, a glass plate may be used.

【0046】さらに、全反射を起こさせるために斜面1
aと2aとの間に介在させるものは、空気やLB膜には
限定されず、プリズム1より低い屈折率の層であればよ
い。
Furthermore, in order to cause total reflection, the slope 1
What is interposed between a and 2a is not limited to the air or the LB film, and may be a layer having a refractive index lower than that of the prism 1.

【0047】また、プリズム1、2間に設けられた弾性
体に力を加える手段としても、ネジ9を回転させプリズ
ムを押すことによって弾性体に力を与えるものに限られ
ない。連続的に力を変化させることができるものであれ
ば良い。また、必要に応じて、不連続的に力を変化させ
るものによって弾性体に不連続的な変形を与えるのでも
良い。
Further, the means for applying a force to the elastic body provided between the prisms 1 and 2 is not limited to one that applies a force to the elastic body by rotating the screw 9 and pushing the prism. Anything that can continuously change the force may be used. If necessary, the elastic body may be discontinuously deformed by means of discontinuously changing force.

【0048】本発明のビ−ムスプリッタは、さらに、入
射光の波長が変化した場合に透過光と反射光の強度比を
一定に保つための制御装置に利用することができる。こ
の制御装置について図5を参照して説明する。
The beam splitter of the present invention can be further used in a control device for keeping the intensity ratio of transmitted light and reflected light constant when the wavelength of incident light changes. This control device will be described with reference to FIG.

【0049】この制御装置45は、光源41と間隔コン
トロ−ラ42と本発明のビ−ムスプリッタ20とから成
る。光源41は、ビ−ムスプリッタ20に光を入射させ
るものである。光源41からは、その波長についての情
報が間隔コントロ−ラ42に入力される。この間隔コン
トロ−ラ42にはあらかじめ入射光の波長とビ−ムスプ
リッタ20に加えるべき力との関係についてのルックア
ップテ−ブルが記憶されている。そして、この間隔コン
トロ−ラ42は、そのルックアップテ−ブルにしたがっ
てビ−ムスプリッタ20のホルダ−4上のネジ9を回転
させてその斜面1a・2aの間隔を変化させる。
The control device 45 comprises a light source 41, a space controller 42, and the beam splitter 20 of the present invention. The light source 41 causes light to enter the beam splitter 20. From the light source 41, information about the wavelength is input to the space controller 42. The space controller 42 stores in advance a look-up table regarding the relationship between the wavelength of incident light and the force to be applied to the beam splitter 20. The spacing controller 42 rotates the screw 9 on the holder 4 of the beam splitter 20 according to the lookup table to change the spacing between the slopes 1a and 2a.

【0050】かかる制御装置45によれば、入射光の波
長が変化しても、ビ−ムスプリッタの斜面間隔をそれに
あわせて調整することができる。したがって、異なる波
長の入射光に対しても透過光と反射光の強度比を一定に
維持することができる。
According to the control device 45, even if the wavelength of the incident light changes, the distance between the slopes of the beam splitter can be adjusted accordingly. Therefore, it is possible to maintain a constant intensity ratio of transmitted light and reflected light even for incident light of different wavelengths.

【0051】尚、本発明は上述した実施例に限定される
ことなく本発明の趣旨から逸脱することなく種々の変更
が可能となる。
The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

【0052】[0052]

【発明の効果】このように、本発明のビ−ムスプリッタ
によれば、一対の光学ブロックの相対向する斜面間に設
けられた弾性体に弾性変形を与えて、斜面間距離を可逆
的に変化させることにより、一定の波長の入射光に対し
透過光と反射光の強度比を変化させることができる。ま
た、弾性体に弾性変形を与えることによって一対のプリ
ズム間の距離を変化させるようにしたので、その距離を
微妙にかつ連続的に変化させることができ、よって、強
度比を微妙にかつ連続的に変化させることができる。更
に、このように距離をわずかに変化させることが可能で
あるため、短い波長領域の入射光に対してもその透過光
と反射光の強度比を変化させることができる。
As described above, according to the beam splitter of the present invention, the elastic body provided between the slopes of the pair of optical blocks facing each other is elastically deformed to reversibly reduce the distance between the slopes. By changing it, it is possible to change the intensity ratio of transmitted light and reflected light with respect to incident light having a constant wavelength. Further, the distance between the pair of prisms is changed by elastically deforming the elastic body, so that the distance can be changed subtly and continuously, and thus the intensity ratio can be changed subtly and continuously. Can be changed to. Further, since the distance can be slightly changed in this way, the intensity ratio of the transmitted light and the reflected light can be changed even for the incident light in the short wavelength region.

【0053】さらに、本発明のビ−ムスプリッタを用い
れば、入射光の波長が変動しても透過光と反射光の強度
比を一定に維持することができる制御装置を提供するこ
とができる。
Further, by using the beam splitter of the present invention, it is possible to provide a control device capable of maintaining the intensity ratio of transmitted light and reflected light constant even if the wavelength of incident light varies.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1実施例のビ−ムスプリッタの説明
図である。
FIG. 1 is an explanatory diagram of a beam splitter according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第2実施例のビ−ムスプリッタの説明
図である。
FIG. 2 is an explanatory diagram of a beam splitter according to a second embodiment of the present invention.

【図3A】本発明のビ−ムスプリッタの動作の説明図で
ある。
FIG. 3A is an explanatory diagram of the operation of the beam splitter of the present invention.

【図3B】全反射をなす境界面からの距離とエバネッセ
ント波の電界との関係を示す図である。
FIG. 3B is a diagram showing a relationship between a distance from a boundary surface that forms total reflection and an electric field of an evanescent wave.

【図4A】実験に供せられたビ−ムスプリッタのLB膜
の形成状態についての説明図である。
FIG. 4A is an explanatory diagram showing a formation state of an LB film of a beam splitter used in an experiment.

【図4B】透過率と反射率の変化の様子について示す実
験結果の図である。
FIG. 4B is a diagram of experimental results showing how the transmittance and reflectance change.

【図5】本発明のビ−ムスプリッタを用いた制御装置の
図である。
FIG. 5 is a diagram of a control device using the beam splitter of the present invention.

【図6】従来のビ−ムスプリッタの説明図である。FIG. 6 is an explanatory diagram of a conventional beam splitter.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 直角プリズム 2 直角プリズム 3 LB膜 3’ パ−フルオロ型LB膜 4 ホルダ− 9 ネジ 20 ビ−ムスプリッタ 45 制御装置 41 光源 42 間隔コントロ−ラ 1 Right Angle Prism 2 Right Angle Prism 3 LB Film 3'Perfluoro LB Film 4 Holder 9 Screw 20 Beam Splitter 45 Controller 41 Light Source 42 Spacing Controller

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 それぞれの面と面を対向配置した一対の
光学ブロックと、該面と面との間の光ビームの光路部分
を除く領域にのみ設けられた弾性体と、該弾性体に該面
と垂直な方向へ力を加える手段とを有し、該面間距離を
変化させることによって透過光と反射光の強度比を変化
させるようにしたことを特徴とするビームスプリッタ。
1. A pair of optical blocks, each surface of which is opposed to each other, an elastic body provided only in an area excluding an optical path portion of a light beam between the surfaces, and the elastic body. A beam splitter comprising: a means for applying a force in a direction perpendicular to a surface, wherein the intensity ratio between transmitted light and reflected light is changed by changing the distance between the surfaces.
【請求項2】 前記一対の光学ブロックの前記面と面と
の間の光ビームの光路部分に、前記一対の光学ブロック
の屈折率より低い屈折率を有する層を設けたことを特微
とする請求項1記載のビームスプリッタ。
2. A layer having a refractive index lower than that of the pair of optical blocks is provided in an optical path portion of a light beam between the surfaces of the pair of optical blocks. The beam splitter according to claim 1.
【請求項3】 前記弾性体がLB膜よりなることを特徴
とする請求項1または2記載のビームスプリッタ。
3. The beam splitter according to claim 1, wherein the elastic body is an LB film.
【請求項4】 前記光学ブロックが直角プリズムよりな
ることを特徴とする請求項1乃至3記載のビームスプリ
ッタ。
4. The beam splitter according to claim 1, wherein the optical block comprises a rectangular prism.
JP3130696A 1991-05-02 1991-05-02 Beam splitter Expired - Fee Related JPH07119895B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3130696A JPH07119895B2 (en) 1991-05-02 1991-05-02 Beam splitter

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3130696A JPH07119895B2 (en) 1991-05-02 1991-05-02 Beam splitter

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH04331910A JPH04331910A (en) 1992-11-19
JPH07119895B2 true JPH07119895B2 (en) 1995-12-20

Family

ID=15040438

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3130696A Expired - Fee Related JPH07119895B2 (en) 1991-05-02 1991-05-02 Beam splitter

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH07119895B2 (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4931235B2 (en) * 2007-07-09 2012-05-16 キヤノン株式会社 Imaging device
JP6627159B2 (en) * 2016-06-03 2020-01-08 国立研究開発法人産業技術総合研究所 Manufacturing method of light output control device
JPWO2018139486A1 (en) * 2017-01-26 2019-11-07 国立研究開発法人産業技術総合研究所 Laser light attenuator manufacturing apparatus, laser light attenuator manufactured by the manufacturing apparatus, and method of manufacturing the laser light attenuator

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS53115247A (en) * 1977-03-17 1978-10-07 Fujitsu Ltd Light intensity modulating and optical path changing device using prisms
JPS57120904A (en) * 1981-01-21 1982-07-28 Shimada Phys & Chem Ind Co Ltd Optical attenuator

Also Published As

Publication number Publication date
JPH04331910A (en) 1992-11-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2747349B2 (en) Lighting system for liquid crystal display system
US5410421A (en) Optical separator of polarizations and application to a display system
US7375887B2 (en) Method and apparatus for correcting a visible light beam using a wire-grid polarizer
US5491580A (en) High power multilayer stack quarter wave plate
CN106415951A (en) Systems and methods for a multi-beam laser device with variable beam parameter product
JP2016519327A (en) Polarization conversion system using geometric phase hologram
US6061138A (en) Optical exposure systems and processes for alignment of liquid crystals
WO2000034823A1 (en) Spatial light modulation apparatus and spatial light modulation method
JP3080693B2 (en) Polarizing beam splitter array
US11281069B2 (en) Optically contacted acousto-optic device and method of making the same
CN113330362A (en) Electronic compensation method and system for optical devices using liquid crystal-based microdisplay devices
US20110242639A1 (en) Method for accomplishing high-speed intensity variation of a polarized output laser beam
CN114730084A (en) Input coupler element, optical display system and electronic device
JPH07119895B2 (en) Beam splitter
JPH02179626A (en) Light wavelength converter
WO2017140044A1 (en) Holographic information recording and reproducing apparatus and method, and display device
US20170003532A1 (en) Optical device
JPH1090730A (en) Optical element, method of driving the optical element, and display device
CN1541477A (en) Projection display systems and lighting components
KR0179620B1 (en) Light intensity control device
JPH10221719A (en) Light deflection element
JPH01147527A (en) Liquid crystal device for laser scan
JPH0339712A (en) Light beam coupler
JPH04294322A (en) Optical device
JPS63309932A (en) Variable crosstalk characteristic optical switch

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees